JPH071715B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPH071715B2 JPH071715B2 JP62291051A JP29105187A JPH071715B2 JP H071715 B2 JPH071715 B2 JP H071715B2 JP 62291051 A JP62291051 A JP 62291051A JP 29105187 A JP29105187 A JP 29105187A JP H071715 B2 JPH071715 B2 JP H071715B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal thin
- thin film
- frequency heating
- heating device
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、発熱体を有する高周波加熱装置に関するもの
である 従来の技術 従来のオーブン電子レンジや電気レンジなどでは、ドア
ガラスに強化ガラスや、SnO2膜や、ITO膜や金属薄膜
を、熱線反射膜として全面に付与したガラスが用いられ
てきた。
である 従来の技術 従来のオーブン電子レンジや電気レンジなどでは、ドア
ガラスに強化ガラスや、SnO2膜や、ITO膜や金属薄膜
を、熱線反射膜として全面に付与したガラスが用いられ
てきた。
発明が解決しようとする問題点 従来のオーブン電子レンジなどのドアに用いられてきた
強化ガラスは、赤外線特に波長3.0μｍ以上を吸収して
しまうため、加熱源から輻射により放出される赤外線の
3.0μｍ以上のエネルギーは、有効に調理に利用されて
いなかった。
強化ガラスは、赤外線特に波長3.0μｍ以上を吸収して
しまうため、加熱源から輻射により放出される赤外線の
3.0μｍ以上のエネルギーは、有効に調理に利用されて
いなかった。
また、SnO2膜やITO膜や金属薄膜を、熱線反射膜として
全面に付与したガラスでは、3.0μｍ以上の赤外線を反
射できるが、高周波をかけた際にガラス面が高温になっ
たり、スパ−クを起こしたりするうえに、金属薄膜は表
面が酸化されやすいという問題があった。
全面に付与したガラスでは、3.0μｍ以上の赤外線を反
射できるが、高周波をかけた際にガラス面が高温になっ
たり、スパ−クを起こしたりするうえに、金属薄膜は表
面が酸化されやすいという問題があった。
本発明はこのような従来の問題点を解決するものであ
り、可視光線を透過し加熱源から出た熱エネルギー特に
赤外線領域を反射し調理時の熱効率を上げスピード調理
を可能にし、かつマイクロ波調理の際にもガラス面が高
温になったり、スパークを起こしたりしない高周波加熱
装置を提供することを目的としている。
り、可視光線を透過し加熱源から出た熱エネルギー特に
赤外線領域を反射し調理時の熱効率を上げスピード調理
を可能にし、かつマイクロ波調理の際にもガラス面が高
温になったり、スパークを起こしたりしない高周波加熱
装置を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段 上記問題点を解決するために、本発明はドアガラスの庫
内面にAl、Ni、Ti、Crの群から選定した少なくとも１種
の金属薄膜を、最大長さが15mm以下の小領域に分割して
形成し、その表面にSiOの被膜を形成して成ることを特
徴としている。
内面にAl、Ni、Ti、Crの群から選定した少なくとも１種
の金属薄膜を、最大長さが15mm以下の小領域に分割して
形成し、その表面にSiOの被膜を形成して成ることを特
徴としている。
作用 上記の構成により、加熱源から出た輻射熱エネルギー特
に赤外線領域を反射するので、熱効率が上がりスピード
調理を可能にする。
に赤外線領域を反射するので、熱効率が上がりスピード
調理を可能にする。
実施例 以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
図の実施例は、ドアの強化ガラス（３）の庫内面にAlの
金属薄膜（１）を蒸着し、その上に、SiO2のコーティン
グ（２）を形成したものである。
金属薄膜（１）を蒸着し、その上に、SiO2のコーティン
グ（２）を形成したものである。
Alの金属薄膜を、直径2.0mmの円形の小領域となる様に
蒸着しその厚さは1.0μｍとする。そして強化ガラス
（３）上のAlの金属薄膜の領域の面積比率がガラスの全
面積に対して50％となる様に形成した場合の赤外線の反
射率は50％であり、オーブンに装着した時の庫内温度立
上り速さは、未装着の場合に比べて20％速くなった。
蒸着しその厚さは1.0μｍとする。そして強化ガラス
（３）上のAlの金属薄膜の領域の面積比率がガラスの全
面積に対して50％となる様に形成した場合の赤外線の反
射率は50％であり、オーブンに装着した時の庫内温度立
上り速さは、未装着の場合に比べて20％速くなった。
金属薄膜の最大長さを15mm以下の小領域に分割した理由
は、15mm以上の大きさにするとマイクロ波をかけた際に
スパークを起こしてしまうためである。
は、15mm以上の大きさにするとマイクロ波をかけた際に
スパークを起こしてしまうためである。
ドアガラスの庫内面に金属薄膜を形成した理由は、庫外
側に形成した場合には、波長3.0μｍ以上の赤外線領域
の輻射エネルギーは、ガラスに吸収されてしまい反射し
ないため調理に対する効果がないためである。
側に形成した場合には、波長3.0μｍ以上の赤外線領域
の輻射エネルギーは、ガラスに吸収されてしまい反射し
ないため調理に対する効果がないためである。
また、膜表面にSiO2の被膜を形成する理由は、金属薄膜
の耐食性が悪いため、SiO2によって被膜を形成し食品等
による汚染や腐食を防止し、かつ、表面硬度を向上させ
るためである。
の耐食性が悪いため、SiO2によって被膜を形成し食品等
による汚染や腐食を防止し、かつ、表面硬度を向上させ
るためである。
発明の効果 以上本発明によれば、加熱源から放射される熱エネルギ
ー特に赤外線領域を反射し、調理時の熱効率を上げ、ス
ピード調理を可能にすることができる。
ー特に赤外線領域を反射し、調理時の熱効率を上げ、ス
ピード調理を可能にすることができる。
かつ、マイクロ波調理を行う際にも、スパークの発生が
なく、SiO2層を設けることにより、金属薄膜の腐食を防
止し、表面硬度を上げることができ表面に傷がつきにく
くできる。
なく、SiO2層を設けることにより、金属薄膜の腐食を防
止し、表面硬度を上げることができ表面に傷がつきにく
くできる。
図は本発明の一実施例を示す高周波加熱調理器の断面図
である。 １……金属薄膜、２……SiO2層、３、５……強化ガラ
ス、４……パンチングメタル、６……オーブン箱体。
である。 １……金属薄膜、２……SiO2層、３、５……強化ガラ
ス、４……パンチングメタル、６……オーブン箱体。
Claims (1)
- 【請求項１】ドアガラスの庫内面に、Al、Ni、Ti、Crの
群から選定した少なくとも１種の金属薄膜を、最大長さ
が15mm以下の小領域に分割して形成し、その表面にSiO2
の被膜を形成した高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62291051A JPH071715B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62291051A JPH071715B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01132094A JPH01132094A (ja) | 1989-05-24 |
| JPH071715B2 true JPH071715B2 (ja) | 1995-01-11 |
Family
ID=17763798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62291051A Expired - Lifetime JPH071715B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH071715B2 (ja) |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62291051A patent/JPH071715B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01132094A (ja) | 1989-05-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |