JPH0113373Y2 - - Google Patents
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- JPH0113373Y2 JPH0113373Y2 JP1982064695U JP6469582U JPH0113373Y2 JP H0113373 Y2 JPH0113373 Y2 JP H0113373Y2 JP 1982064695 U JP1982064695 U JP 1982064695U JP 6469582 U JP6469582 U JP 6469582U JP H0113373 Y2 JPH0113373 Y2 JP H0113373Y2
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- permanent magnet
- bypass member
- yokes
- yoke
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Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、電磁石装置、詳しくは、平生は永久
磁石の磁力によりヨークの吸着面にアーマチユア
を吸着して保持し、励磁用コイルに通電すること
によつて吸着面におけるアーマチユアの吸着力が
打ち消されてアーマチユアが吸着面より離間動作
する、いわゆる釈放型の電磁石装置に関する。
磁石の磁力によりヨークの吸着面にアーマチユア
を吸着して保持し、励磁用コイルに通電すること
によつて吸着面におけるアーマチユアの吸着力が
打ち消されてアーマチユアが吸着面より離間動作
する、いわゆる釈放型の電磁石装置に関する。
一般に、釈放型の電磁石装置は第1図に示すよ
うに構成されている。即ち、1対のヨーク1,2
間には、その後端近傍で永久磁石3が挟持されて
いると共にこのヨーク1,2の後端面および上記
永久磁石3に接して例えば鉄板等の強磁性体から
なるバイパス部材4が側磁路を形成するように設
けられており、また一方のヨーク1には通電時に
永久磁石3より発生した磁束を打ち消すように励
磁されるようにコイル5が嵌装されている。上記
1対のヨーク1,2の先端面1a,2aはアーマ
チユア6を吸着するための吸着面となつていて、
同吸着面1a,2aは高い吸着力を得るために高
い面精度で加工されている。
うに構成されている。即ち、1対のヨーク1,2
間には、その後端近傍で永久磁石3が挟持されて
いると共にこのヨーク1,2の後端面および上記
永久磁石3に接して例えば鉄板等の強磁性体から
なるバイパス部材4が側磁路を形成するように設
けられており、また一方のヨーク1には通電時に
永久磁石3より発生した磁束を打ち消すように励
磁されるようにコイル5が嵌装されている。上記
1対のヨーク1,2の先端面1a,2aはアーマ
チユア6を吸着するための吸着面となつていて、
同吸着面1a,2aは高い吸着力を得るために高
い面精度で加工されている。
一方、このヨーク1,2の吸着面1a,2aと
対向する位置にはアーマチユア6が配設されてお
り、同アーマチユア6はアーマチユア支持レバー
7の一端部にカシメ付け等によつて固設されたア
ーマチユア支持軸8に同アーマチユア6の支持孔
6aを嵌入させることによつて同支持軸8に回転
自在に配設されている。アーマチユア支持軸8の
上部には周溝8aが形成されており、同周溝8a
にEリングを嵌合させることによつてアマチユア
6の抜け落ちが防止されている。また、アーマチ
ユア支持レバー7の上記支持軸8の近傍には、ア
ーマチユア6の回転位置を規制するためのストツ
パー部7a,7bが形成されている。アーマチユ
ア支持レバー7の回動中心となる位置にはあおり
ガタを防止するため同支持レバー7の面と垂直な
方向に比較的長く形成された円筒形状の軸受部1
0が固設されており同軸受部10に図示しない固
定軸が嵌合されることによりアーマチユア支持レ
バー7は同固定軸を中心に回動自在になつてい
る。さらに、このアーマチユア支持レバー7は不
動部材との間にばね11が張設されていて、同ば
ね11の付勢力により時計方向の回動習性を与え
られている。このように構成された電磁石装置に
おいてはアーマチユア支持レバー7が図示しない
リセツト部材によつて上記ばね11による回動習
性に抗して反時計方向に回動させられることによ
り、アーマチユア6がヨーク1,2の吸着面1
a,2aに当接すると、永久磁石3の磁力により
吸着面1a,2aにアーマチユア6が吸着され、
同吸着力は上記ばね11の付勢力よりも大きいの
で、平生は、同吸着状態が保持されることにな
る。そして、この吸着状態において、上記励磁用
コイル5に通電が行なわれると、同コイル5の通
電によつて発生する磁束により、アーマチユア6
を吸着するためのヨーク1,2中の磁束が減少
し、このため、上記ばね11の付勢力によつてア
ーマチユア支持レバー7が時計方向に回動してア
ーマチユア6がヨーク1,2の吸着面1a,2a
より離間する。
対向する位置にはアーマチユア6が配設されてお
り、同アーマチユア6はアーマチユア支持レバー
7の一端部にカシメ付け等によつて固設されたア
ーマチユア支持軸8に同アーマチユア6の支持孔
6aを嵌入させることによつて同支持軸8に回転
自在に配設されている。アーマチユア支持軸8の
上部には周溝8aが形成されており、同周溝8a
にEリングを嵌合させることによつてアマチユア
6の抜け落ちが防止されている。また、アーマチ
ユア支持レバー7の上記支持軸8の近傍には、ア
ーマチユア6の回転位置を規制するためのストツ
パー部7a,7bが形成されている。アーマチユ
ア支持レバー7の回動中心となる位置にはあおり
ガタを防止するため同支持レバー7の面と垂直な
方向に比較的長く形成された円筒形状の軸受部1
0が固設されており同軸受部10に図示しない固
定軸が嵌合されることによりアーマチユア支持レ
バー7は同固定軸を中心に回動自在になつてい
る。さらに、このアーマチユア支持レバー7は不
動部材との間にばね11が張設されていて、同ば
ね11の付勢力により時計方向の回動習性を与え
られている。このように構成された電磁石装置に
おいてはアーマチユア支持レバー7が図示しない
リセツト部材によつて上記ばね11による回動習
性に抗して反時計方向に回動させられることによ
り、アーマチユア6がヨーク1,2の吸着面1
a,2aに当接すると、永久磁石3の磁力により
吸着面1a,2aにアーマチユア6が吸着され、
同吸着力は上記ばね11の付勢力よりも大きいの
で、平生は、同吸着状態が保持されることにな
る。そして、この吸着状態において、上記励磁用
コイル5に通電が行なわれると、同コイル5の通
電によつて発生する磁束により、アーマチユア6
を吸着するためのヨーク1,2中の磁束が減少
し、このため、上記ばね11の付勢力によつてア
ーマチユア支持レバー7が時計方向に回動してア
ーマチユア6がヨーク1,2の吸着面1a,2a
より離間する。
上記の釈放型電磁石装置において、上記コイル
5が通電されない状態のときと通電状態にあると
きとでのヨーク1,2を通過する磁束の変化につ
いて第2図A,Bによつて説明すると、永久磁石
3およびヨーク1,2を通過する磁束は2分され
ており、永久磁石3のN極>ヨーク1→アーマチ
ユア6→ヨーク2→永久磁石3のS極を通る磁束
により磁気回路12が形成され、永久磁石3のN
極→ヨーク1→バイパス部材4→ヨーク2→永久
磁石3のS極を通る磁束により磁気回路13が形
成されている。ヨーク1,2およびアーマチユア
6はパーマロイ等の高透磁率部材により形成さ
れ、バイパス部材4はヨーク1,2やアーマチユ
ア6の材料よりも磁気抵抗の高い、鉄板等の強磁
性体が形成されているので、コイル5に通電する
以前は、磁気回路12の方が磁気回路13よりも
磁気抵抗が低く、このため、永久磁石3より発し
た磁束は、第2図Aに実線と破線で示すように、
磁気回路12の方を磁気回路13よりも多く通
り、従つて、ヨーク1,2の吸着面1a,2aに
アーマチユア6が高い吸着力で吸着し保持され
る。コイル5が通電状態になると、コイル5には
永久磁石3が発生する磁束と逆向きの磁束が発生
するので、このとき上記磁気回路12の磁気抵抗
が磁気回路13の磁気抵抗よりも増大する。この
ため、第2図Bに示すように、アーマチユア6を
通る磁気回路12の磁束は減少し、バイパス部材
4を通る磁気回路13の磁束は増加するので、ヨ
ーク1,2の吸着面1a,2aにおけるアーマチ
ユア6の吸着力が減少し、アーマチユア6の吸着
状態が解除される。
5が通電されない状態のときと通電状態にあると
きとでのヨーク1,2を通過する磁束の変化につ
いて第2図A,Bによつて説明すると、永久磁石
3およびヨーク1,2を通過する磁束は2分され
ており、永久磁石3のN極>ヨーク1→アーマチ
ユア6→ヨーク2→永久磁石3のS極を通る磁束
により磁気回路12が形成され、永久磁石3のN
極→ヨーク1→バイパス部材4→ヨーク2→永久
磁石3のS極を通る磁束により磁気回路13が形
成されている。ヨーク1,2およびアーマチユア
6はパーマロイ等の高透磁率部材により形成さ
れ、バイパス部材4はヨーク1,2やアーマチユ
ア6の材料よりも磁気抵抗の高い、鉄板等の強磁
性体が形成されているので、コイル5に通電する
以前は、磁気回路12の方が磁気回路13よりも
磁気抵抗が低く、このため、永久磁石3より発し
た磁束は、第2図Aに実線と破線で示すように、
磁気回路12の方を磁気回路13よりも多く通
り、従つて、ヨーク1,2の吸着面1a,2aに
アーマチユア6が高い吸着力で吸着し保持され
る。コイル5が通電状態になると、コイル5には
永久磁石3が発生する磁束と逆向きの磁束が発生
するので、このとき上記磁気回路12の磁気抵抗
が磁気回路13の磁気抵抗よりも増大する。この
ため、第2図Bに示すように、アーマチユア6を
通る磁気回路12の磁束は減少し、バイパス部材
4を通る磁気回路13の磁束は増加するので、ヨ
ーク1,2の吸着面1a,2aにおけるアーマチ
ユア6の吸着力が減少し、アーマチユア6の吸着
状態が解除される。
ここで、特にカメラ用の釈放型電磁石装置にお
いては、アーマチユア6を高い吸着力で保持する
と共に、コイル5の通電時にはできるだけ少ない
消費電力で上記吸着力を大きく減少させるように
し、同時に、電磁石装置の全体を小型化すること
が高い信頼性を得るために重要である。コイル5
の通電時に上記吸着力を大きく減少させるものと
して、上記バイパス部材4の果す役割は大きく、
電磁気学における磁束の式、Φ=μo×μe×F×
A/(Φ;磁束、μe;比透磁率、μo;真空中
の透磁率、F;起磁力、A;断面積、;磁気回
路の長さ)からも、コイル5で発生する磁束は上
記バイパス部材4を含む磁気回路13の透磁率に
比例することが明らかである。即ち、上記コイル
5の通電時のヨークの吸着力を大きく減少させる
には磁気回路13(以下側磁路という)の磁気抵
抗を減少させればよいが、一方で高い吸着力を得
ようとすると、第2図Aに示したように、アーマ
チユア6を通る磁気回路12に十分な磁束を流す
必要があるので磁気抵抗を不用意に減少させるこ
とはできない。しかも、コイル5に通電したとき
には、上記のようにバイパス部材4を通過する磁
束が増加するので、この増加した磁束で側磁路は
磁気飽和しないだけの余裕が必要となる。
いては、アーマチユア6を高い吸着力で保持する
と共に、コイル5の通電時にはできるだけ少ない
消費電力で上記吸着力を大きく減少させるように
し、同時に、電磁石装置の全体を小型化すること
が高い信頼性を得るために重要である。コイル5
の通電時に上記吸着力を大きく減少させるものと
して、上記バイパス部材4の果す役割は大きく、
電磁気学における磁束の式、Φ=μo×μe×F×
A/(Φ;磁束、μe;比透磁率、μo;真空中
の透磁率、F;起磁力、A;断面積、;磁気回
路の長さ)からも、コイル5で発生する磁束は上
記バイパス部材4を含む磁気回路13の透磁率に
比例することが明らかである。即ち、上記コイル
5の通電時のヨークの吸着力を大きく減少させる
には磁気回路13(以下側磁路という)の磁気抵
抗を減少させればよいが、一方で高い吸着力を得
ようとすると、第2図Aに示したように、アーマ
チユア6を通る磁気回路12に十分な磁束を流す
必要があるので磁気抵抗を不用意に減少させるこ
とはできない。しかも、コイル5に通電したとき
には、上記のようにバイパス部材4を通過する磁
束が増加するので、この増加した磁束で側磁路は
磁気飽和しないだけの余裕が必要となる。
以上の理由から、高い吸着力を得ると共に、コ
イル5の通電時に吸着力を大きく減少させようと
すると、強い永久磁石を用いると共にバイパス部
材4を大きくしなければならないが、バイパス部
材4の占める体積はカメラ内部のスペース上無視
できないものであるので、この側磁路を形成する
ためのバイパス部材4はできる限り小さいことが
望ましい。そこで、従来は、第3,4図に示すよ
うに、プレス加工の容易な1mm〜0.4mm程度の厚
みを持つ鉄板等の強磁性体からなるバイパス部材
14a,14b,14cを磁気飽和しないだけの
断面積が得られるように必要とする枚数を重ね
て、永久磁石3および同磁石を挟んだヨーク1,
2の上側面或いは下側面に当接させた状態で側磁
路が形成されるように接着させていた。しかし、
このようにバイパス部材14a,14b,14c
を接着させるようにしたものにおいては、例えば
第5図に拡大して示すように、ヨーク1,2や永
久磁石3の寸法精度および接着等のずれによつて
エアギヤツプ15a,15bを生じてバイパス部
材14a,14bの密着が不完全になり、側磁路
としての磁気抵抗が極端に増大するだけでなく、
そのばらつきも大きくなるという欠点があつた。
また、バイパス部材14bの比透磁率はエアギヤ
ツプ15bによつてできる磁気抵抗によつて減少
し、バイパス部材14bと14cとの間にわずか
なエアギヤツプ15cが存在する場合には、さら
にバイパス部材14cの比透磁率を低下させてし
まう。このようにしてバイパス部材14cが、も
はや側磁路としての役割をほとんど果さないとい
う結果になつてしまつた場合はさらにバイパス部
材14dを設けても全く無意味になる。
イル5の通電時に吸着力を大きく減少させようと
すると、強い永久磁石を用いると共にバイパス部
材4を大きくしなければならないが、バイパス部
材4の占める体積はカメラ内部のスペース上無視
できないものであるので、この側磁路を形成する
ためのバイパス部材4はできる限り小さいことが
望ましい。そこで、従来は、第3,4図に示すよ
うに、プレス加工の容易な1mm〜0.4mm程度の厚
みを持つ鉄板等の強磁性体からなるバイパス部材
14a,14b,14cを磁気飽和しないだけの
断面積が得られるように必要とする枚数を重ね
て、永久磁石3および同磁石を挟んだヨーク1,
2の上側面或いは下側面に当接させた状態で側磁
路が形成されるように接着させていた。しかし、
このようにバイパス部材14a,14b,14c
を接着させるようにしたものにおいては、例えば
第5図に拡大して示すように、ヨーク1,2や永
久磁石3の寸法精度および接着等のずれによつて
エアギヤツプ15a,15bを生じてバイパス部
材14a,14bの密着が不完全になり、側磁路
としての磁気抵抗が極端に増大するだけでなく、
そのばらつきも大きくなるという欠点があつた。
また、バイパス部材14bの比透磁率はエアギヤ
ツプ15bによつてできる磁気抵抗によつて減少
し、バイパス部材14bと14cとの間にわずか
なエアギヤツプ15cが存在する場合には、さら
にバイパス部材14cの比透磁率を低下させてし
まう。このようにしてバイパス部材14cが、も
はや側磁路としての役割をほとんど果さないとい
う結果になつてしまつた場合はさらにバイパス部
材14dを設けても全く無意味になる。
本考案の目的は、上記事情に鑑み、上記ヨーク
の永久磁石を保持した部分に、枠体形状のバイパ
ス部材を嵌装させることにより、低電力で駆動で
き、小型で大きな吸着力を得ることができると共
に、生産性を高くし、低コスト化を計ることがで
きる電磁石装置を提供することにある。
の永久磁石を保持した部分に、枠体形状のバイパ
ス部材を嵌装させることにより、低電力で駆動で
き、小型で大きな吸着力を得ることができると共
に、生産性を高くし、低コスト化を計ることがで
きる電磁石装置を提供することにある。
以下、本考案を図示の実施例によつて説明す
る。
る。
第6図は、本考案の一実施例を示す電磁石装置
の組立斜視図である。この電磁石装置は永久磁石
3を挟持したヨーク1,2の後端部20に、前記
従来のバイパス部材4の代りに、強磁性体によつ
て一体に形成されてなる箱型枠体のバイパス部材
21が装着されるようにしたものである。その他
の、アーマチユア6を回動自在に支持してなるア
ーマチユア支持レバー等の構成は第1図に示すも
のと同様であるので図示を省略する。即ち、直方
体形状に形成された箱型枠体のバイパス部材21
は内部に直方体形状の空間部22を有しており、
その前面の開口部22aは、上記ヨーク1,2の
後端部20が上記空間部22に比較的容易に嵌挿
されるように上記永久磁石3を挟持したヨーク
1,2の後端面20aよりも僅かに広く形成され
ている。
の組立斜視図である。この電磁石装置は永久磁石
3を挟持したヨーク1,2の後端部20に、前記
従来のバイパス部材4の代りに、強磁性体によつ
て一体に形成されてなる箱型枠体のバイパス部材
21が装着されるようにしたものである。その他
の、アーマチユア6を回動自在に支持してなるア
ーマチユア支持レバー等の構成は第1図に示すも
のと同様であるので図示を省略する。即ち、直方
体形状に形成された箱型枠体のバイパス部材21
は内部に直方体形状の空間部22を有しており、
その前面の開口部22aは、上記ヨーク1,2の
後端部20が上記空間部22に比較的容易に嵌挿
されるように上記永久磁石3を挟持したヨーク
1,2の後端面20aよりも僅かに広く形成され
ている。
一方、このバイパス部材21が装着される上記
ヨーク1,2の後端部20においては、ヨーク
1,2と永久磁石3とは接着剤により固着されて
いるものであるが、この固着に際してヨーク1,
2および永久磁石3の下面20bを面精度の高い
基準面に当て付けながら固着するか、或いは、固
着後に上記下面20bを研摩するなどして、ヨー
ク1,2と永久磁石3の固着後における下面20
bを、高精度に平担な面に仕上げている。
ヨーク1,2の後端部20においては、ヨーク
1,2と永久磁石3とは接着剤により固着されて
いるものであるが、この固着に際してヨーク1,
2および永久磁石3の下面20bを面精度の高い
基準面に当て付けながら固着するか、或いは、固
着後に上記下面20bを研摩するなどして、ヨー
ク1,2と永久磁石3の固着後における下面20
bを、高精度に平担な面に仕上げている。
このあと、上記ヨーク1,2の後端部20は、
第7図に示すように、上記バイパス部材21の開
口部22aより空間部に、上記後端面20aがバ
イパス部材21の内部後端面21aに衝合する位
置まで嵌合挿入され、同状態で上記後端部20と
バイパス部材21とが接着剤等により固着され
る。従つて、ヨーク1,2および永久磁石3は少
なくともその下面において平面性が高いため、極
めて僅かのエアギヤツプ或いは接着剤層を介して
バイパス部材21の内部下面21bに密着するこ
とになる。また、上記ヨーク1,2の後端面20
aをも高精度に研摩加工しておけば、この後端面
20aでもバイパス部材21の内部後端面21a
に密着されるものとなる。こうして、上記ヨーク
1,2の後端部20がバイパス部材21に密着し
て一体化されると、これによつて、バイパス部材
21の上記後端部20に密着した部分は全て側磁
路としての役割を果たすことになる。従つて、こ
の箱型枠体のバイパス部材21は永久磁石3およ
びヨーク1,2の後端部20を囲繞した状態で装
着されることにより、従来の板状のバイパス部材
に較べて密着性が高くかつ均一であり、部品精度
等のばらつきの影響を受けにくいものとなつてお
り、小型で効率よく側磁路が形成されることにな
る。
第7図に示すように、上記バイパス部材21の開
口部22aより空間部に、上記後端面20aがバ
イパス部材21の内部後端面21aに衝合する位
置まで嵌合挿入され、同状態で上記後端部20と
バイパス部材21とが接着剤等により固着され
る。従つて、ヨーク1,2および永久磁石3は少
なくともその下面において平面性が高いため、極
めて僅かのエアギヤツプ或いは接着剤層を介して
バイパス部材21の内部下面21bに密着するこ
とになる。また、上記ヨーク1,2の後端面20
aをも高精度に研摩加工しておけば、この後端面
20aでもバイパス部材21の内部後端面21a
に密着されるものとなる。こうして、上記ヨーク
1,2の後端部20がバイパス部材21に密着し
て一体化されると、これによつて、バイパス部材
21の上記後端部20に密着した部分は全て側磁
路としての役割を果たすことになる。従つて、こ
の箱型枠体のバイパス部材21は永久磁石3およ
びヨーク1,2の後端部20を囲繞した状態で装
着されることにより、従来の板状のバイパス部材
に較べて密着性が高くかつ均一であり、部品精度
等のばらつきの影響を受けにくいものとなつてお
り、小型で効率よく側磁路が形成されることにな
る。
第8図はこの考案の他の実施例を示す組立斜視
図である。すなわち、絞り加工等によつて箱型に
成形された強磁性体からなるバイパス部材23
は、内部に直方体形状の空間部24を有してお
り、前面に開口部24aが形成されている。そし
て、この開口部24aから空間部24にヨーク2
5,26および永久磁石27が、それぞれ単体
で、永久磁石27がヨーク25,26で挟まれた
形で嵌入される。その後、第9図AおよびBの組
立後の斜視図および断面図に矢印で示すように、
箱型のバイパス部材23に対して、開口部24a
を有する面以外の他の5つの面の方向から機械的
に高い圧縮力を加えることにより、箱形バイパス
部材23は、ヨーク25,26および永久磁石2
7の表面形状にならつて、カシメ固定される。
図である。すなわち、絞り加工等によつて箱型に
成形された強磁性体からなるバイパス部材23
は、内部に直方体形状の空間部24を有してお
り、前面に開口部24aが形成されている。そし
て、この開口部24aから空間部24にヨーク2
5,26および永久磁石27が、それぞれ単体
で、永久磁石27がヨーク25,26で挟まれた
形で嵌入される。その後、第9図AおよびBの組
立後の斜視図および断面図に矢印で示すように、
箱型のバイパス部材23に対して、開口部24a
を有する面以外の他の5つの面の方向から機械的
に高い圧縮力を加えることにより、箱形バイパス
部材23は、ヨーク25,26および永久磁石2
7の表面形状にならつて、カシメ固定される。
このようにして固着されたヨーク25,26お
よび永久磁石27は、バイパス部材23との各圧
縮面において略完全に密着した状態が得られる。
したがつて、従来の板状のバイパス部材に較べて
密着性が高く均一であり、小型で効率よい側磁路
が形成されることになる。さらに、この実施例の
場合、前記実施例で必要とされたヨーク、永久磁
石およびバイパス部材の接着や溶接等を省略する
ことができると共に、ヨーク、永久磁石、および
バイパス部材のそれ程高い部品精度を必要とする
ことがない。また、従来人手にたよつていた作業
を機械的に自動組立することも可能であり、装置
のバラツキを少なくすることができ、低コスト化
を計ることができる。
よび永久磁石27は、バイパス部材23との各圧
縮面において略完全に密着した状態が得られる。
したがつて、従来の板状のバイパス部材に較べて
密着性が高く均一であり、小型で効率よい側磁路
が形成されることになる。さらに、この実施例の
場合、前記実施例で必要とされたヨーク、永久磁
石およびバイパス部材の接着や溶接等を省略する
ことができると共に、ヨーク、永久磁石、および
バイパス部材のそれ程高い部品精度を必要とする
ことがない。また、従来人手にたよつていた作業
を機械的に自動組立することも可能であり、装置
のバラツキを少なくすることができ、低コスト化
を計ることができる。
なお、上記2つの実施例の場合、第10図Aに
示すように枠体形状のバイパス部材として、一面
に開口部28aを有し、他面に後端面28bを有
した箱型形状のものを示してきたが、第10図B
に示すように、両端が開口した直方体形状の貫通
孔29を有する筒型形状のものにしてもよいこと
はもちろんである。
示すように枠体形状のバイパス部材として、一面
に開口部28aを有し、他面に後端面28bを有
した箱型形状のものを示してきたが、第10図B
に示すように、両端が開口した直方体形状の貫通
孔29を有する筒型形状のものにしてもよいこと
はもちろんである。
以上述べたように、本考案によれば、ヨークの
永久磁石を保持した部分に、枠体形状のバイパス
部材を嵌装させることにより、バイパス部材と、
ヨークおよび永久磁石との密着性が高められ、バ
イパス効率が良好となり小型で大きな吸着力が得
られると共に、生産性を高め、低コスト化を計る
ことができる電磁石装置を提供することができ
る。
永久磁石を保持した部分に、枠体形状のバイパス
部材を嵌装させることにより、バイパス部材と、
ヨークおよび永久磁石との密着性が高められ、バ
イパス効率が良好となり小型で大きな吸着力が得
られると共に、生産性を高め、低コスト化を計る
ことができる電磁石装置を提供することができ
る。
第1図は、従来の電磁石装置の一例を示す組立
斜視図、第2図A,Bは、上記第1図に示す電磁
石装置の励磁用コイルの非通電状態と通電状態と
をそれぞれ説明する平面図、第3図は、上記第1
図に示す電磁石装置に補助バイパス部材を設けた
電磁石装置の側面図、第4図は、上記第3図に示
す電磁石装置の−線に沿う背面図、第5図
は、上記第4図を拡大した、従来の電磁石装置の
不具合を説明する背面図、第6図は、本考案の一
実施例を示す電磁石装置の組立斜視図、第7図は
上記第6図に示す電磁石装置の要部断面図、第8
図は本考案の他の実施例を示す組立斜視図、第9
図Aは第8図の実施例の組立例の組立後の斜視
図、第9図Bは第9図Aにおけるバイパス部材で
囲繞された部分の断面図、第10図A,Bは本考
案のバイパス部材の形状を説明するための断面図
である。 1,2,25,26……ヨーク、3,27……
永久磁石、4,21,23……バイパス部材、5
……励磁用コイル、6……アーマチユア。
斜視図、第2図A,Bは、上記第1図に示す電磁
石装置の励磁用コイルの非通電状態と通電状態と
をそれぞれ説明する平面図、第3図は、上記第1
図に示す電磁石装置に補助バイパス部材を設けた
電磁石装置の側面図、第4図は、上記第3図に示
す電磁石装置の−線に沿う背面図、第5図
は、上記第4図を拡大した、従来の電磁石装置の
不具合を説明する背面図、第6図は、本考案の一
実施例を示す電磁石装置の組立斜視図、第7図は
上記第6図に示す電磁石装置の要部断面図、第8
図は本考案の他の実施例を示す組立斜視図、第9
図Aは第8図の実施例の組立例の組立後の斜視
図、第9図Bは第9図Aにおけるバイパス部材で
囲繞された部分の断面図、第10図A,Bは本考
案のバイパス部材の形状を説明するための断面図
である。 1,2,25,26……ヨーク、3,27……
永久磁石、4,21,23……バイパス部材、5
……励磁用コイル、6……アーマチユア。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 永久磁石と、 この永久磁石の一方の極に後端部を連結された
第1のヨークと、 上記永久磁石の他方の極に後端部を連結された
第2のヨークと、 上記第1、第2のヨークの先端面に、上記永久
磁石の磁力によつて吸着されるアーマチユアと、 上記第1、第2のヨークの内少なくとも一方に
巻装され、通電されることにより上記永久磁石の
磁力による吸着力を減少させて、上記第1、第2
のヨークの先端面より上記アーマチユアを離間さ
せる励磁用コイルとを具備する電磁石装置におい
て、 上記第1、第2のヨークの後端部及び上記永久
磁石の、少なくとも側面及び上下面を覆うよう
に、枠体形状に成型された強磁性体からなるバイ
パス部材をカシメにより外嵌させたことを特徴と
する電磁石装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6469582U JPS58168105U (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 電磁石装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6469582U JPS58168105U (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 電磁石装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58168105U JPS58168105U (ja) | 1983-11-09 |
| JPH0113373Y2 true JPH0113373Y2 (ja) | 1989-04-19 |
Family
ID=30074711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6469582U Granted JPS58168105U (ja) | 1982-04-30 | 1982-04-30 | 電磁石装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58168105U (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001307919A (ja) * | 2000-04-24 | 2001-11-02 | Genesis:Kk | ハイブリッド型磁石 |
| JP2002025819A (ja) * | 2000-05-01 | 2002-01-25 | Genesis:Kk | ハイブリッド形磁石を用いた磁力式吸着装置 |
| JP2002110418A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-12 | Genesis:Kk | 吸引基本構造体 |
| JP5969244B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-08-17 | 東洋ゴム工業株式会社 | 発電素子 |
| JP5986773B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-09-06 | 東洋ゴム工業株式会社 | 発電素子 |
| JP5894832B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2016-03-30 | 東洋ゴム工業株式会社 | 発電素子 |
| JP6093573B2 (ja) * | 2013-01-07 | 2017-03-08 | 東洋ゴム工業株式会社 | 発電素子のカバー |
| JP6153451B2 (ja) * | 2013-11-07 | 2017-06-28 | 東洋ゴム工業株式会社 | 発電素子 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5844574Y2 (ja) * | 1978-04-18 | 1983-10-08 | 株式会社白金製作所 | 電磁石の構造 |
-
1982
- 1982-04-30 JP JP6469582U patent/JPS58168105U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58168105U (ja) | 1983-11-09 |
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