JPH01135518A - スルフォランによる吸収除害方法 - Google Patents

スルフォランによる吸収除害方法

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JPH01135518A
JPH01135518A JP62294770A JP29477087A JPH01135518A JP H01135518 A JPH01135518 A JP H01135518A JP 62294770 A JP62294770 A JP 62294770A JP 29477087 A JP29477087 A JP 29477087A JP H01135518 A JPH01135518 A JP H01135518A
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JP
Japan
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gas
organic solvents
organic solvent
sulfolane
sulforane
Prior art date
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Pending
Application number
JP62294770A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsuneo Kihamoto
恒夫 木波本
Minoru Isoda
磯田 実
Toshiyuki Akagi
赤木 敏之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Seika Chemicals Co Ltd
Original Assignee
Seitetsu Kagaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は例えば、半導体製造プロセスにおけるフォトレ
ジストの剥離工程で発生する有機溶剤含有度ガスから有
機溶剤を除去して該廃ガスを無害化する方法に関する。
(従来の技術) 半導体や集積回路を製造するプロセスでは基体からフォ
トレジスト膜を剥離除去する工程があるが、この工程で
は剥離剤として一般にフェノール系化合物や塩素系有機
溶剤を昇温しで使用するため、これら有機溶剤をPPm
オーダーで含む雰囲気ガスが発生する。
従って環境衛生上、また公害防止上の見地から、有機溶
剤のもつ毒性や臭気を除去する必要がおり、そのため現
在、発生した有機溶剤含有度ガスは局所吸引したものを
活性炭によって吸着除害する方法が一般的に採られてい
る。
しかしながら活性炭の除去能力が十分でないため吸着後
の気体が悪臭を発したり、活性炭の再生や、入替作業が
煩雑であったり、廃活性炭の処理を含め脱臭・除害に要
する費用も嵩むので有利な方法とはいえない。
(発明が解決しようとする問題点) 従来の活性炭を使用する有機溶剤の除去法では、吸着能
力の問題、再生操作の煩雑さや、廃活性炭の処理を含め
てその取扱いに要する費用が嵩むなどの問題点が多い。
本発明者らは活性炭による吸着除害法に代る新規な有機
溶剤の除去法について鋭意検討の結果、取扱いの簡単な
液体の吸収剤としてスルフオランを用い、これと各種有
機溶剤を含む気体とを気液接触させれば、気体中の有機
溶剤を効率よく吸収除去することができることを見出し
、本発明に到達した。有機溶剤を吸収した吸収液は蒸留
によりスルフオランと有機溶剤を分離して再使用できる
ので効果的かつ作業性にすぐれた除害法を提供すること
ができる。
(問題点を解決するための手段) で表わされるスルフオラン(テトラヒドロチオフェン−
1,1−ジオキサイド)を吸収液として用い、これと有
機溶剤を含む気体とを気液接触させ、気体中の有機溶剤
を吸収除去することを特徴とする除害方法である。
本発明ではスルフオランの有機化合物に対するすぐれた
溶解性を利用して気体中に存在する有機溶剤を効果的に
除去することができる。またスルフオランは高沸点(2
85℃)で比較的高温でも安定した化合物であるため吸
収した有機溶剤は蒸留することによって容易に分離でき
、回収されたスルフオランは再使用することが可能であ
る。
吸収剤として使用するスルフオランは純品では融点が2
7℃と高いため、水を5〜10重量%添加して融点を下
げ、水溶液の状態で使用するのが好ましい。
スルフオランは気体中に存在する高い濃度の有機溶剤も
吸収可能であるが、本発明では通常500ppm以下の
比較的低い濃度で含まれる有機溶剤の除去に適用してす
ぐれた効果を発揮する。
本発明で吸収の対象となり得る有機溶剤とは、常温でス
ルフオランと混和する化合物であればよく、特に限定さ
れるものではない。
その具体例を示せば、フェノール、チオフェノール、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、0−ジクロルベンゼン、
四塩化炭素、アセトン、シクロヘキサノン、メタノール
、エタノール、n−ブチルアルコール、グリセリン、エ
チレングリコール。
トリエチレングリコール、アニリン、エチレンジアミン
、ジェタノールアミンなどである。
これら有機溶剤を含む気体とスルフオランとを気液接触
させれば気体中の有機溶剤は制限閾値(以下TLVと称
す)以下の極微量にまで除去することができる。この発
明は空気雰囲気中に有機溶剤が含まれる場合の他、各種
のプロセスで発生する気体中に比較的少量の有機溶剤が
含まれている気体に適用してすぐれた効果をあげること
ができる。
スルフオランと気体例えば空気中に含まれる有機溶剤を
気液接触させる方法は特に限定されることはなく、スル
フオラン中に気体を直接バブリングざぜる方法の他、充
填塔、棚段塔、スプレー塔などの気液接触装置から適宜
、選択使用して気液向流接触させればよい。
(実施例) 以下実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例1〜3 100ppmのO−ジクロルベンゼンを含んだ空気、5
0pI)mのフェノールを含んだ空気、300ppmの
m−キシレンを含んだ空気を室温で下記の第1表に示し
た流量で、95重量%スルフオラン水溶液150gを入
れたそれぞれ別の吸収瓶に導いて気液接触させた。結果
は下の第1表のとおりであった。
なお、O−ジクロルベンゼン、フェノール、m−キシレ
ンのTLV値はそれぞれ50C1m、5DDm、110
0ppである。
実施例4 40 ppmのフェノールを含む空気を2−7分の流量
で95重量%スルフオラン水溶液75Kgを循環させて
いる充填塔式洗浄塔に導いて気液接触させた。
洗浄塔出口ガス中のフェノールを検知管にて測定を続け
た結果、310時間を経過するまでは検知せず(検知限
界0.4C1m)又、臭気もなかった。
312時間後に4ppmを検出し、TLV値である5p
pmに達したのはガス導入開始より360時間後であっ
た。
(発明の効果) 本発明によれば、従来の活性炭を用いる吸着法と比較し
て取扱いが簡便であるため、各種有機溶剤を含む気体か
ら容易かつ安全に有機溶剤を除去することができる。し
かもスルフオランの有機化合物に対するすぐれた溶解性
から非常に高い除去効果を上げることができる。
またスルフオラン自体、人体に対して低毒性で水棲生物
に対する毒性も極めて低いことも本発明のすぐれた点の
一つである。
代表者 増 1)裕 治 1 事件の表示 昭和62年特許願第294770号 2、発明の名称 スルフオランによる吸収除害方法 3、補正をする者 事件との関係     特許出願人 〒675−01 住所 兵庫県加古郡播磨町富西346番地の14、補正
の対象 5、補正の内容 (1)明細書第4頁第14行「水溶液の状態」を「含水
状態」と補正する。
(2)明細書第6頁第10行「95重量%スルフオラン
水溶液」を「スルフオラン(5重量%水分含有)」と補
正する。
(3)明細書第8頁第3行「95%重量スルフオラン水
溶液」を「スルフオラン(5重量%水分含有)」と補正
する。
以上

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スルフォランを吸収液として、これと有機溶剤の
    蒸気を含む気体とを気液接触させ、気体中に含まれる有
    機溶剤を吸収除去することを特徴とする吸収除害方法。
  2. (2)気体が空気である特許請求の範囲(1)記載の方
    法。
  3. (3)有機溶剤がフェノールである特許請求の範囲(1
    )記載の方法。
  4. (4)有機溶剤がO−ジクロルベンゼンである特許請求
    の範囲(4)記載の方法。
  5. (5)有機溶剤がm−キシレンである特許請求の範囲(
    1)記載の方法。
JP62294770A 1987-11-20 1987-11-20 スルフォランによる吸収除害方法 Pending JPH01135518A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5637442A (en) * 1991-10-22 1997-06-10 International Business Machines Corporation Method for treating photolithographic developer and stripper waste streams containing resist or solder mask and gamma butyrolactone or benzyl alcohol

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JPS5554021A (en) * 1978-10-18 1980-04-21 Fuji Kantetsu Kogyo Kk Recovery of organic solvent from mixed gas of organic solvent and air
JPS57209626A (en) * 1981-06-15 1982-12-23 Shell Int Research Method of removing co2 and h2s in case of existence from gas mixture
JPS5864116A (ja) * 1981-09-18 1983-04-16 チバ・ガイギ−・アクチエンゲゼルシヤフト 廃気から有機物質を回収する方法

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