JPH0113593Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0113593Y2 JPH0113593Y2 JP8592882U JP8592882U JPH0113593Y2 JP H0113593 Y2 JPH0113593 Y2 JP H0113593Y2 JP 8592882 U JP8592882 U JP 8592882U JP 8592882 U JP8592882 U JP 8592882U JP H0113593 Y2 JPH0113593 Y2 JP H0113593Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- cleaning
- cleaning agent
- float switch
- boiling tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 claims description 21
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 19
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 18
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- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
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- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案は、プリント基板などの各種電子機器
あるいは比較的小型の各種部品などを洗浄するた
めの洗浄装置に関し、特にフロートスイツチの誤
動作を防止するようにしたものである。
あるいは比較的小型の各種部品などを洗浄するた
めの洗浄装置に関し、特にフロートスイツチの誤
動作を防止するようにしたものである。
一般に、プリント基板などの各種電子機器、あ
るいは比較的小型の各種部品などを洗浄するため
に、トリクロルエチレン、トリクロルエタン、フ
ロン等の洗浄剤を用いた洗浄装置が使用されてい
る。従来の２槽式の洗浄装置を第１図に示す。
るいは比較的小型の各種部品などを洗浄するため
に、トリクロルエチレン、トリクロルエタン、フ
ロン等の洗浄剤を用いた洗浄装置が使用されてい
る。従来の２槽式の洗浄装置を第１図に示す。
一般に、この種の洗浄装置は、ヒータ１を備え
た沸騰槽２で発生させた洗浄剤の蒸気を、蒸気槽
３の上部にある水等の循環している冷却管４によ
り冷却凝縮し、この凝縮した洗浄剤を水分離器５
に送り洗浄剤に含まれている水を分離した後、浸
漬槽６内に供給し、浸漬槽６内の被洗浄物を洗浄
しつつ該洗浄剤は側壁７よりオーバーフローさせ
て、沸騰槽２に返すようにしている。ところで沸
騰槽２はヒータ１による洗浄剤の加熱のため液面
の位置の変化が大きく、特に洗浄剤の消費により
液面位置が下降し過ぎるとヒータ１による空だき
状態となつてヒータ１を破損する等の不具合があ
るため、この防止のために沸騰槽２のすぐ近くの
側面にはフロートスイツチ８が取りつけてあり、
沸騰槽２の洗浄剤液面の位置を一定の範囲内に維
持するようにしている。
た沸騰槽２で発生させた洗浄剤の蒸気を、蒸気槽
３の上部にある水等の循環している冷却管４によ
り冷却凝縮し、この凝縮した洗浄剤を水分離器５
に送り洗浄剤に含まれている水を分離した後、浸
漬槽６内に供給し、浸漬槽６内の被洗浄物を洗浄
しつつ該洗浄剤は側壁７よりオーバーフローさせ
て、沸騰槽２に返すようにしている。ところで沸
騰槽２はヒータ１による洗浄剤の加熱のため液面
の位置の変化が大きく、特に洗浄剤の消費により
液面位置が下降し過ぎるとヒータ１による空だき
状態となつてヒータ１を破損する等の不具合があ
るため、この防止のために沸騰槽２のすぐ近くの
側面にはフロートスイツチ８が取りつけてあり、
沸騰槽２の洗浄剤液面の位置を一定の範囲内に維
持するようにしている。
ところで、フロートスイツチ８は、その内部に
フロート９が浮かべてあり、このフロート９が上
下することにより、マイクロスイツチ等（図示せ
ず）を動作させ、沸騰槽２の洗浄剤の液面の位置
を調節する信号を出すようにしているが、フロー
トスイツチ８と沸騰槽２とを連通する下部配管部
１０が、設計上あまり太くすることができないた
め、洗浄作業によつて沸騰槽２内に残留している
フラツクスなどの油脂類や他の異物等が下部配管
部１０に付着したりつまつたりし、フロートスイ
ツチ８の正常な動作が妨げられることがあつた。
フロート９が浮かべてあり、このフロート９が上
下することにより、マイクロスイツチ等（図示せ
ず）を動作させ、沸騰槽２の洗浄剤の液面の位置
を調節する信号を出すようにしているが、フロー
トスイツチ８と沸騰槽２とを連通する下部配管部
１０が、設計上あまり太くすることができないた
め、洗浄作業によつて沸騰槽２内に残留している
フラツクスなどの油脂類や他の異物等が下部配管
部１０に付着したりつまつたりし、フロートスイ
ツチ８の正常な動作が妨げられることがあつた。
この考案は、前記の点に留意し、沸騰槽とフロ
ーストスイツチを連通する下部配管部につまりが
なく、フローストスイツチの正常な動作を行なわ
せることのできる洗浄装置を提供するもので、つ
ぎにこの考案をその実施例を示した第２図および
第３図について、詳細に説明する。
ーストスイツチを連通する下部配管部につまりが
なく、フローストスイツチの正常な動作を行なわ
せることのできる洗浄装置を提供するもので、つ
ぎにこの考案をその実施例を示した第２図および
第３図について、詳細に説明する。
第２図において、第１図と同じ記号は同一のも
のを示し、異なる点は、浸漬槽６の洗浄剤を側壁
７からオーバーフローさせて、沸騰槽２へ返すの
でなく、該洗浄剤を浸漬槽６の上部に設けたオー
バーフロー口１１より流出させ、管路１３を介し
してフロートスイツチ８の上部に設けた洗浄剤流
入口１２より流入させ、フロートスイツチ８内を
通過させて、下部配管部１０を経て、沸騰槽２へ
返すようにしたことである。
のを示し、異なる点は、浸漬槽６の洗浄剤を側壁
７からオーバーフローさせて、沸騰槽２へ返すの
でなく、該洗浄剤を浸漬槽６の上部に設けたオー
バーフロー口１１より流出させ、管路１３を介し
してフロートスイツチ８の上部に設けた洗浄剤流
入口１２より流入させ、フロートスイツチ８内を
通過させて、下部配管部１０を経て、沸騰槽２へ
返すようにしたことである。
こうすることにより、洗浄剤は絶えずフロート
スイツチ８内を洗浄剤流入口１２から、下部配管
部１０を経て沸騰槽２へ流れ動くことにより、従
つて、下部配管部１０に沸騰槽２内に残留してい
るフラツクスなどの油脂類や他の異物が付着する
ことはなく、また、下部配管部１０に目づまりの
恐れのあるフイルタを設けなくともフロートスイ
ツチ８は正常な動作を行うことができる。
スイツチ８内を洗浄剤流入口１２から、下部配管
部１０を経て沸騰槽２へ流れ動くことにより、従
つて、下部配管部１０に沸騰槽２内に残留してい
るフラツクスなどの油脂類や他の異物が付着する
ことはなく、また、下部配管部１０に目づまりの
恐れのあるフイルタを設けなくともフロートスイ
ツチ８は正常な動作を行うことができる。
第３図は、本考案の別の実施例を示しており、
浸漬槽６内の洗浄剤を一部はオーバーフロー口１
１から流出させ、残りの洗浄剤は側壁７よりオー
バーフローさせ沸騰槽２へ返すようにしている。
オーバーフローする洗浄剤の流出量が多量となる
場合の実施例である。
浸漬槽６内の洗浄剤を一部はオーバーフロー口１
１から流出させ、残りの洗浄剤は側壁７よりオー
バーフローさせ沸騰槽２へ返すようにしている。
オーバーフローする洗浄剤の流出量が多量となる
場合の実施例である。
なお、前記の実施例は、２槽式の洗浄装置につ
いて述べたが、１槽式の洗浄装置や２槽以上の複
数の洗浄槽や浸漬槽の備わつた洗浄装置について
も適用できるのはもちろんのことである。
いて述べたが、１槽式の洗浄装置や２槽以上の複
数の洗浄槽や浸漬槽の備わつた洗浄装置について
も適用できるのはもちろんのことである。
以上のように、この考案の洗浄装置によると、
洗浄剤を浸漬槽上部に設けたオーバーフロー口よ
り流出させ、フロートスイツチ上部に設けた洗浄
剤流入口より流入させてフロートスイツチ内を通
過させて、下部配管部より沸騰槽へ返すようにし
ているため、下部配管部がフラツクスなどの油脂
類や他の異物が付着して目づまりすることはなく
フロートスイツチが正常な動作を行うことができ
る。
洗浄剤を浸漬槽上部に設けたオーバーフロー口よ
り流出させ、フロートスイツチ上部に設けた洗浄
剤流入口より流入させてフロートスイツチ内を通
過させて、下部配管部より沸騰槽へ返すようにし
ているため、下部配管部がフラツクスなどの油脂
類や他の異物が付着して目づまりすることはなく
フロートスイツチが正常な動作を行うことができ
る。
第１図は従来の洗浄装置の縦断面概略説明図、
第２図はこの考案の洗浄装置の１実施例の縦断面
概略説明図、第３図はこの考案の洗浄装置の別の
実施例の縦断面概略説明図である。 １……ヒータ、２……沸騰槽、３……蒸気槽、
４……冷却管、５……水分離器、６……浸漬槽、
７……側壁、８……フロートスイツチ、９……フ
ロート、１０……下部配管部、１１……オーバー
フロー口、１２…洗浄剤流入口、１３……管路。
第２図はこの考案の洗浄装置の１実施例の縦断面
概略説明図、第３図はこの考案の洗浄装置の別の
実施例の縦断面概略説明図である。 １……ヒータ、２……沸騰槽、３……蒸気槽、
４……冷却管、５……水分離器、６……浸漬槽、
７……側壁、８……フロートスイツチ、９……フ
ロート、１０……下部配管部、１１……オーバー
フロー口、１２…洗浄剤流入口、１３……管路。
Claims (1)
- 沸騰槽より発生し、蒸気槽で凝縮させられた後
水分離器で水と分離された洗浄剤を、該水分離器
から、あるいは該水分離器から、前記沸騰槽以外
の浸漬槽あるいは洗浄槽を経てフロートスイツチ
の上部より流入させる管路を浸漬槽とフロートス
イツチ室とを接続し、該フロートスイツチ内を経
て下部配管部より前記沸騰槽へ返すようにしたこ
とを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8592882U JPS58187196U (ja) | 1982-06-08 | 1982-06-08 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8592882U JPS58187196U (ja) | 1982-06-08 | 1982-06-08 | 洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58187196U JPS58187196U (ja) | 1983-12-12 |
| JPH0113593Y2 true JPH0113593Y2 (ja) | 1989-04-20 |
Family
ID=30094767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8592882U Granted JPS58187196U (ja) | 1982-06-08 | 1982-06-08 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58187196U (ja) |
-
1982
- 1982-06-08 JP JP8592882U patent/JPS58187196U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58187196U (ja) | 1983-12-12 |
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