JPH011367A - 2値化画像の走査記録方法 - Google Patents
2値化画像の走査記録方法Info
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- JPH011367A JPH011367A JP62-156257A JP15625787A JPH011367A JP H011367 A JPH011367 A JP H011367A JP 15625787 A JP15625787 A JP 15625787A JP H011367 A JPH011367 A JP H011367A
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 13
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、光ビームの走査により、フィルム等の感光材
料に線画のような2値化画像を露光記録する方法に関し
、特に画像寸法をより正確に記録する方法に関する。
料に線画のような2値化画像を露光記録する方法に関し
、特に画像寸法をより正確に記録する方法に関する。
〈従来の技術〉
第8図は、汎用されるレーザ光を利用したマルチビーム
による2値化画像の走査記録装置の一例の概要を示す。
による2値化画像の走査記録装置の一例の概要を示す。
すなわち、レーザ光源21から発生されるレーザビーム
lは複数のビームスブリフタ22によって分割され、分
割された各ビームは音響光学変調器(以下、rAOMJ
と記す)23において、対応する2値化画像信号により
ON10 F F制御される。
lは複数のビームスブリフタ22によって分割され、分
割された各ビームは音響光学変調器(以下、rAOMJ
と記す)23において、対応する2値化画像信号により
ON10 F F制御される。
これらのビームのうち露光に供するビームは集光レンズ
24により集光され、シリンダ25上に巻回されたフィ
ルムなどの感光材料(以下、単に「フィルム」と記す)
26を照射する。シリンダ25は図のX方向(主走査方
向と称する)に回転すると同時にY方向(副走査方向と
称する)に駆動され、フィルム26に所要の2値化画像
が走査記録されるのである。
24により集光され、シリンダ25上に巻回されたフィ
ルムなどの感光材料(以下、単に「フィルム」と記す)
26を照射する。シリンダ25は図のX方向(主走査方
向と称する)に回転すると同時にY方向(副走査方向と
称する)に駆動され、フィルム26に所要の2値化画像
が走査記録されるのである。
ところで、このような2値化画像の記録に際しての重要
な要素として画像エツジの滑らかさと、その寸法精度が
あり、特にプリント回路パターン等においては問題とな
る。
な要素として画像エツジの滑らかさと、その寸法精度が
あり、特にプリント回路パターン等においては問題とな
る。
このため、従来では、1画素に対しビーム径を対応する
画素領域より大きくして、主・副走査方向に隣接する露
光域がかなり重複するように露光することにより、両像
エツジを滑らかにする方法が採用されている。
画素領域より大きくして、主・副走査方向に隣接する露
光域がかなり重複するように露光することにより、両像
エツジを滑らかにする方法が採用されている。
〈発明が解決しようとする問題点〉
第9図は、この重複露光方式を従来のマルチビーム走査
露光に採用したときの図で、各ビームの副走査方向の光
束分布の断面を模式図で表したものである。
露光に採用したときの図で、各ビームの副走査方向の光
束分布の断面を模式図で表したものである。
図において、各ビームは周知のようにW、〜w1て表さ
れるようなガウス分布をしており、ビーム全体の光量分
布はW、で示されるようになる。
れるようなガウス分布をしており、ビーム全体の光量分
布はW、で示されるようになる。
したがって、使用されるフィルム26を黒化させるため
の露光闇値がそのフィルムの感度のバラツキ等によりこ
の光量分布W、に対し相対的に第9図に示すようにe!
o、el□ e、と異なることにより、記録される画線
幅はda、d+ 、dzと変動することが判る。この変
動は、時には一画素領域分にも至り、精度を要するプリ
ント回路パターン等においては特に問題となる。
の露光闇値がそのフィルムの感度のバラツキ等によりこ
の光量分布W、に対し相対的に第9図に示すようにe!
o、el□ e、と異なることにより、記録される画線
幅はda、d+ 、dzと変動することが判る。この変
動は、時には一画素領域分にも至り、精度を要するプリ
ント回路パターン等においては特に問題となる。
そこで、従来は所要の画線幅になるように、レーザの光
量を加減して露光をすることも行われるが、プリント回
路基板の回路パターンにおけるように画像にポジとネガ
が混在する場合には、両方の画像について、その画線幅
を適切になるように対応することはむずかしい。
量を加減して露光をすることも行われるが、プリント回
路基板の回路パターンにおけるように画像にポジとネガ
が混在する場合には、両方の画像について、その画線幅
を適切になるように対応することはむずかしい。
本発明は、これらの問題に対し、画線幅を安定して制御
し、精度良く再現することを目的とする。
し、精度良く再現することを目的とする。
〈問題点を解決するための手段〉
本発明は、次のような方法でこの問題を解決した。
すなわち、本発明の2値化画像の走査記録方法は、画素
と1対1に対応する光ビームを画素信号の大きさに応じ
てON10 F F制iT!することにより、2値化画
像を感光材料に走査記録する方法において、各画素に対
応する光ビームの露光域が隣接画素に重複するように露
光を行う。
と1対1に対応する光ビームを画素信号の大きさに応じ
てON10 F F制iT!することにより、2値化画
像を感光材料に走査記録する方法において、各画素に対
応する光ビームの露光域が隣接画素に重複するように露
光を行う。
そして、各画素に対するドツトデータを光ビームON1
0 F F制御用の出力ドツトデータに変換するに際し
、各画素に対するドツトデータと、これに対して主走査
方向の前または後に隣接するいずれか一方の画素のドツ
トデータと、これらの2つのドツトデータに対して副走
査方向の前または後に隣接するいずれか一方の2つの画
素のドツトデータとの合計4つの画素(以下、「隣接4
画素Jと記す)のドツトデータに対して、 (a) 隣接4画素のドツトデータの論理積が“l”
のときにその変換対象の画素のドツトデータを光ビーム
ON用の出力ドツトデータに変換し、かっ、前記論理積
が“0”のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームOFF用の出力ドツトデータに変換するか、ま
たは、 (bJ 隣接4i!Ii素のドツトデータの論理和か
“1°゛のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームON用の出力ドツトデータに変換し、がっ、前
記論理和か“O”のときにその変換対象の画素のドツト
データを光ビームOFF用の出力ドツトデータに変換す
ることを特徴とする。
0 F F制御用の出力ドツトデータに変換するに際し
、各画素に対するドツトデータと、これに対して主走査
方向の前または後に隣接するいずれか一方の画素のドツ
トデータと、これらの2つのドツトデータに対して副走
査方向の前または後に隣接するいずれか一方の2つの画
素のドツトデータとの合計4つの画素(以下、「隣接4
画素Jと記す)のドツトデータに対して、 (a) 隣接4画素のドツトデータの論理積が“l”
のときにその変換対象の画素のドツトデータを光ビーム
ON用の出力ドツトデータに変換し、かっ、前記論理積
が“0”のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームOFF用の出力ドツトデータに変換するか、ま
たは、 (bJ 隣接4i!Ii素のドツトデータの論理和か
“1°゛のときにその変換対象の画素のドツトデータを
光ビームON用の出力ドツトデータに変換し、がっ、前
記論理和か“O”のときにその変換対象の画素のドツト
データを光ビームOFF用の出力ドツトデータに変換す
ることを特徴とする。
〈作用〉
本発明の構成による作用は、次のとおりである。
各画素について隣接4画素域単位で、上述の論理積また
は論理和により露光のON/OFF制御が行われる。し
たがって、各画素の露光域は、主および副走査方向での
前に隣接する画素に対する走査(計3回)が先に行われ
ているので合計隣接4画素のデータの論理演算により1
,2,3.4回の重複露光量の段階を存する。
は論理和により露光のON/OFF制御が行われる。し
たがって、各画素の露光域は、主および副走査方向での
前に隣接する画素に対する走査(計3回)が先に行われ
ているので合計隣接4画素のデータの論理演算により1
,2,3.4回の重複露光量の段階を存する。
〈実施例〉
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。
。
第1図は本発明を適用した実施例の光学系の概要を示す
図であり、また、第4図はドツトデータを演算処理する
画像信号処理回路の構成を示す図である。
図であり、また、第4図はドツトデータを演算処理する
画像信号処理回路の構成を示す図である。
図示しないレーザ光源からのレーザビームL0はビーム
スプリッタ15で2つに分割され、直進したビームL、
はロッドレンズ1により一方向に拡散し、シリンドリカ
ルレンズ2は、拡散されたビームを平行光に変換する。
スプリッタ15で2つに分割され、直進したビームL、
はロッドレンズ1により一方向に拡散し、シリンドリカ
ルレンズ2は、拡散されたビームを平行光に変換する。
平行光は、アパーチャ3で各々のビーム内およびビーム
相互間の光量分布がほぼ−様なLA1〜I、□からなる
並列ビームLAとなる。また、ビームL2も反射ミラー
16で反射された後、ロッドレンズl′、シリンドリカ
ルレンズ2′、アパーチャ3′の光学系により、ビーム
L1と同様にLs+〜L、、、からなる並列ビームL、
となる。
相互間の光量分布がほぼ−様なLA1〜I、□からなる
並列ビームLAとなる。また、ビームL2も反射ミラー
16で反射された後、ロッドレンズl′、シリンドリカ
ルレンズ2′、アパーチャ3′の光学系により、ビーム
L1と同様にLs+〜L、、、からなる並列ビームL、
となる。
並列ビームLA、L、は、AOM4.4’に入り、そこ
で後述のように各ビームに対してON/OFF制御Il
される。並列ビームLa、Lmの内のON信号による個
々のビームが所要の露光ビームとすると(OFF信号に
よるものを露光ビームとしてもよい)、それらは図のよ
うにAOM4.4’に対して一定方向に偏向され、図示
しない集光レンズにより、第2図のようにフィルム上に
L AIZLAN’・・・L All′およびL□ +
Lst’・・・LIl、1′の光点として配列・集光さ
れる。
で後述のように各ビームに対してON/OFF制御Il
される。並列ビームLa、Lmの内のON信号による個
々のビームが所要の露光ビームとすると(OFF信号に
よるものを露光ビームとしてもよい)、それらは図のよ
うにAOM4.4’に対して一定方向に偏向され、図示
しない集光レンズにより、第2図のようにフィルム上に
L AIZLAN’・・・L All′およびL□ +
Lst’・・・LIl、1′の光点として配列・集光さ
れる。
そして、これらの光点はすべて画素に対応する露光領域
に対して主および副走査方向にほぼ2倍の大きさになっ
ている。また、光点L%の画素に対する露光域配列と光
点Lll′の画素に対する露光域配列とは副走査方向に
1画素分ずれており、LA′とり、 Fは主走査方向に
4画素分ずれている。
に対して主および副走査方向にほぼ2倍の大きさになっ
ている。また、光点L%の画素に対する露光域配列と光
点Lll′の画素に対する露光域配列とは副走査方向に
1画素分ずれており、LA′とり、 Fは主走査方向に
4画素分ずれている。
これは、レーザビームがいわゆる同波長のコヒーレント
光である場合、ビームどうしが同時に重複すると、その
間に干渉が起き、筋状に記録される欠陥が生じるため両
光点列間にいくらかの間隔をおいたものであり、この干
渉の影響が問題にならない用途においては両光点列をよ
り近づけたり、1列にすることも差し支えはない。
光である場合、ビームどうしが同時に重複すると、その
間に干渉が起き、筋状に記録される欠陥が生じるため両
光点列間にいくらかの間隔をおいたものであり、この干
渉の影響が問題にならない用途においては両光点列をよ
り近づけたり、1列にすることも差し支えはない。
なお、L、′およびLい′内の各光点は副走査方向に隣
接して藺いであるが、実際には干渉が起きない程度に離
間している。また、最近この干渉が生じないようにする
技術が確定されつつあり、この場合は上述のような離間
の必要はなく、L。
接して藺いであるが、実際には干渉が起きない程度に離
間している。また、最近この干渉が生じないようにする
技術が確定されつつあり、この場合は上述のような離間
の必要はなく、L。
′とL!l′が重複する状態での走査も可能である。
このLA’*LB′の配列による光点が各画素のドツト
データにより点滅しながら図の右方向(主走査方向)に
走査すると同時にフィルムが図の上方向に送られ、所要
の画像が順次に露光記録される。
データにより点滅しながら図の右方向(主走査方向)に
走査すると同時にフィルムが図の上方向に送られ、所要
の画像が順次に露光記録される。
第3図は並列ビームLA (またはLM)の光量分布
を第9図と対応して表した模式図である。
を第9図と対応して表した模式図である。
上述のように分割された各ビームは、すべてON信号と
して見た場合、第3図のW1〜W7で示すように全体的
に平坦な光量分布となっている。
して見た場合、第3図のW1〜W7で示すように全体的
に平坦な光量分布となっている。
次に、これら各ビームLA、LllのON/OFF制御
信号を発生させる画像信号処理回路の例を第4図に示す
。
信号を発生させる画像信号処理回路の例を第4図に示す
。
走査記録用の一連の各画素に対する2値化画像信号の作
成については各種のスキャナ(レーザブロンタ等)で既
に行われているので、ここでは省略するが、これらは、
先ず副走査方向の画像信号配列としてコントローラ5お
よびアドレスカウンタ6により順次lライン毎にライン
メモリ7a。
成については各種のスキャナ(レーザブロンタ等)で既
に行われているので、ここでは省略するが、これらは、
先ず副走査方向の画像信号配列としてコントローラ5お
よびアドレスカウンタ6により順次lライン毎にライン
メモリ7a。
7bに書き込まれる。
次に、2×2マスク演算部8は、各画素毎にデータセレ
クタ9により読み出される隣接4画素データにより後記
のようにして所要の論理演算を行い、その結果を再び1
ライン毎にドットデータメモ’J10a(または10b
)にメモリさせる。
クタ9により読み出される隣接4画素データにより後記
のようにして所要の論理演算を行い、その結果を再び1
ライン毎にドットデータメモ’J10a(または10b
)にメモリさせる。
ドツトデータメモリ10aは第2図の並列ビームLA中
のドツトデータをメモリするものであり、ドツトデータ
メモ1月Obは並列ビームLs中のドツトデータをメモ
リするものであり、それぞれコントローラ5により個別
的に制flされる。
のドツトデータをメモリするものであり、ドツトデータ
メモ1月Obは並列ビームLs中のドツトデータをメモ
リするものであり、それぞれコントローラ5により個別
的に制flされる。
こうして、ラインメモリ7a、7bからの読み出し、演
算処理中に次の1ライン分のデータがラインメモリ7C
に書き込まれ、演算処理後にはラインメモリ7b、7c
に対して同じく読み出し、演算処理が行われるとともに
、次の1ライン分のデータがラインメモリ7aに書き込
まれるという繰り返し処理が行われる。
算処理中に次の1ライン分のデータがラインメモリ7C
に書き込まれ、演算処理後にはラインメモリ7b、7c
に対して同じく読み出し、演算処理が行われるとともに
、次の1ライン分のデータがラインメモリ7aに書き込
まれるという繰り返し処理が行われる。
ドツトデータメモリtabのデータはAOM4’に読み
出され、ドツトデータメモ’J10aのデータは遅延回
路11によりドツトデータメモ1月obより4画素分遅
れたデータとしてAOM4に読み出され、これらのデー
タによりAOM4.4’を介して分割された各レーザビ
ームが偏向変調され、フィルム上へのON10 F F
ビームとして照射され次に、2×2マスク演算部8によ
る画像幅のコントロールの動作について説明する。
出され、ドツトデータメモ’J10aのデータは遅延回
路11によりドツトデータメモ1月obより4画素分遅
れたデータとしてAOM4に読み出され、これらのデー
タによりAOM4.4’を介して分割された各レーザビ
ームが偏向変調され、フィルム上へのON10 F F
ビームとして照射され次に、2×2マスク演算部8によ
る画像幅のコントロールの動作について説明する。
今、n画素からなるlライン上(副走査方向)の画素の
位置座標を1,2,3.・・・、i、・・・・・・nと
し、主走査方向に同じ<1.2,3.・・・、j。
位置座標を1,2,3.・・・、i、・・・・・・nと
し、主走査方向に同じ<1.2,3.・・・、j。
・・・・・・nとし、i番目とj番目の交点にある画素
をD l jで表すものとする。
をD l jで表すものとする。
画素DIJに対応するビームは画素D +i+11j+
D i +J+H+ D +t*+l fj。1.を
含めた領域(隣接4画素の領域)を露光することになり
、それは作業前に予め選択設定される論理式により決定
される。
D i +J+H+ D +t*+l fj。1.を
含めた領域(隣接4画素の領域)を露光することになり
、それは作業前に予め選択設定される論理式により決定
される。
すなわち、その露光域は、論理積、
Dij’Dfi・Ilj’D遍(・−・嘗)D(轟・1
)(−・1)または、論理和、 D、、+D、東・肴1 j + D i (j+I
l + D (i ・1) (−・1)がパl“
のときは露光状態となり、“0”のときは非露光状態と
なる。
)(−・1)または、論理和、 D、、+D、東・肴1 j + D i (j+I
l + D (i ・1) (−・1)がパl“
のときは露光状態となり、“0”のときは非露光状態と
なる。
第5図および第6図は、説明のために主走査方向の1回
の走査露光ライン分の副走査方向幅を8ドツトとし、大
枠で囲んだパターンPを所要の画像として走査記録する
ときの模式図で、パターンP内の2値化ドツトデータは
“1”で、他は0′となっている。
の走査露光ライン分の副走査方向幅を8ドツトとし、大
枠で囲んだパターンPを所要の画像として走査記録する
ときの模式図で、パターンP内の2値化ドツトデータは
“1”で、他は0′となっている。
本実施例では先述のように露光用光点が画素幅の約2倍
となっており、したがって画素り、jが画像領域内にあ
る場合には、その前のD +r−n (;−n +Di
fJ−11およびDtt−nJの画素の走査露光時にも
露光され得るので、合計最大4回の露光を受は得ること
になる。
となっており、したがって画素り、jが画像領域内にあ
る場合には、その前のD +r−n (;−n +Di
fJ−11およびDtt−nJの画素の走査露光時にも
露光され得るので、合計最大4回の露光を受は得ること
になる。
第5図(A)は論理和による場合、第6図(A)は論理
積による場合を表し、各画素内の数値は走査露光の結果
重複して露光される回数を表している。
積による場合を表し、各画素内の数値は走査露光の結果
重複して露光される回数を表している。
また、第5図(B)は同図(A)のE−E間の各画素毎
の露光量(または露光回数)をグラフとして表し、第6
図(B)は同図(A)のF −F間の各画素毎の露光量
(または露光回数)をグラフとして表したものである。
の露光量(または露光回数)をグラフとして表し、第6
図(B)は同図(A)のF −F間の各画素毎の露光量
(または露光回数)をグラフとして表したものである。
また、第7図は、第5図および第6図と比較のために、
前述の論理演算を行わずに各画素のデータのまま露光し
た場合の模式図である。
前述の論理演算を行わずに各画素のデータのまま露光し
た場合の模式図である。
図で明らかなように第5図(B)ではフィルムの露光闇
値が露光回数の3と4との間にあると、黒化される結果
画像領域は所要の画像領域と一致するが、3以下では結
果画像領域は所要画像領域より大きくなってしまい、ま
た、4より大きいと画像は記録されないことが判る。
値が露光回数の3と4との間にあると、黒化される結果
画像領域は所要の画像領域と一致するが、3以下では結
果画像領域は所要画像領域より大きくなってしまい、ま
た、4より大きいと画像は記録されないことが判る。
同じく、第6図(B)では露光闇値が露光回数0より大
きく1以下であれば、黒化される画像幅は所要の4画素
となるが、■より大きく2以下では3画素、2より大き
く3以下では1画素、3より大きいと画像は記録されな
いことが判る。
きく1以下であれば、黒化される画像幅は所要の4画素
となるが、■より大きく2以下では3画素、2より大き
く3以下では1画素、3より大きいと画像は記録されな
いことが判る。
これらに対し、第7図を見ると明らかなように、論理演
算を一切行わずに重複して走査露光を行うと、フィルム
の露光闇値が露光回数のどのレベルにあっても、所要の
パターンPと同し画像は記録できないことが判る。
算を一切行わずに重複して走査露光を行うと、フィルム
の露光闇値が露光回数のどのレベルにあっても、所要の
パターンPと同し画像は記録できないことが判る。
したがって、例えば2×2マスク演算の論理式を、フィ
ルム感度が低く露光闇値がビーム光星に対して相対的に
高い場合(例えば第5図(A)の露光回数3と4の間)
は論理和に、この逆の場合は論理積に設定することによ
り、常に所要寸法の画像が得られるように調節が可能に
なる。
ルム感度が低く露光闇値がビーム光星に対して相対的に
高い場合(例えば第5図(A)の露光回数3と4の間)
は論理和に、この逆の場合は論理積に設定することによ
り、常に所要寸法の画像が得られるように調節が可能に
なる。
本実施例は、画像エツジをより滑らかにするため、上述
のごと(アパーチャ3により分割ビームそれぞれの内部
の光量を−様なものとしたため、画像の寸法は露光回数
と露光闇値との兼ね合いにより上述のようにデジタル的
に特にコントロールしやすい利点があるが、従来のガウ
ス分布の分割ビームの場合に適用しても同様に画像寸法
のコントロールができる。
のごと(アパーチャ3により分割ビームそれぞれの内部
の光量を−様なものとしたため、画像の寸法は露光回数
と露光闇値との兼ね合いにより上述のようにデジタル的
に特にコントロールしやすい利点があるが、従来のガウ
ス分布の分割ビームの場合に適用しても同様に画像寸法
のコントロールができる。
また、画像パターンにネガ、ポジが混在していても、そ
の画素信号に対応してより正確に露光記録を行うことが
できる。
の画素信号に対応してより正確に露光記録を行うことが
できる。
なお、第2図において、分けられた並列ビームL、と並
列ビームL、の副走査方向のずれ量を1画素分としたが
、必ずしも正確である必要はない。
列ビームL、の副走査方向のずれ量を1画素分としたが
、必ずしも正確である必要はない。
また、隣接4画素は、主走査方向および副走査方向の各
々の後側に隣接するものとしたが、前側に隣接するもの
としてもよい。また、マルチビー1、露光だけでなく、
シングルビーム露光のlH合でも、露光域が重複する走
査露光方式であれば本発明により全く同じ効果が得られ
る。
々の後側に隣接するものとしたが、前側に隣接するもの
としてもよい。また、マルチビー1、露光だけでなく、
シングルビーム露光のlH合でも、露光域が重複する走
査露光方式であれば本発明により全く同じ効果が得られ
る。
〈発明の効果〉
本発明によれば、上述のように作用するので、感光材料
の感度にバラツキがあっても、それに応して2×2マス
ク演算を論理和または論理積に設定することにより、常
に画像寸法を精度良く記録することができる。また、ネ
ガ、ポジが混在していても高精度な記録ができる。
の感度にバラツキがあっても、それに応して2×2マス
ク演算を論理和または論理積に設定することにより、常
に画像寸法を精度良く記録することができる。また、ネ
ガ、ポジが混在していても高精度な記録ができる。
第1図は本発明の実施例の光学系の概要構成を示す図、
第2図は露光ビームの配列を示す図、第3図はビームの
光量分布図、第4図は画像信号処理回路のブロンク図、
第5図および第6図は論理演算の状態をパターンPに対
して示す図である。 また、第7回は第5図、第6図との比較のために論理演
算を行わずに各画素のデータのまま露光した場合の模式
図、第8図は従来のマルチビーム露光方式の一例を示す
図、第9図は第8図におけるビームの光量分布を示す図
である。 ■、1′・・・ロッドレンズ 2.2′・・・シリンドリカルレンズ 3.3′・・・アパーチャ 4.4′・・・AOM 5・・・コントローラ 6・・・アドレスカウンタ 7a、7b、7c・・・ラインメモリ (第1〜第3)
8・・・2×2マスク演算部 9・・・データセレクタ 10a、10b・・・ドントデータメモリ (第1〜第
3)11・・・遅延回路 15・・・ビームスプリッタ 16・・・反射ミラー 出願人 大日本スクリーン製造株式会社代理人 弁理士
杉 谷 勉 第1図 第2図 面系暢 aj乏會万回 第7図 方 陶 −Nの寸−〇トの
第2図は露光ビームの配列を示す図、第3図はビームの
光量分布図、第4図は画像信号処理回路のブロンク図、
第5図および第6図は論理演算の状態をパターンPに対
して示す図である。 また、第7回は第5図、第6図との比較のために論理演
算を行わずに各画素のデータのまま露光した場合の模式
図、第8図は従来のマルチビーム露光方式の一例を示す
図、第9図は第8図におけるビームの光量分布を示す図
である。 ■、1′・・・ロッドレンズ 2.2′・・・シリンドリカルレンズ 3.3′・・・アパーチャ 4.4′・・・AOM 5・・・コントローラ 6・・・アドレスカウンタ 7a、7b、7c・・・ラインメモリ (第1〜第3)
8・・・2×2マスク演算部 9・・・データセレクタ 10a、10b・・・ドントデータメモリ (第1〜第
3)11・・・遅延回路 15・・・ビームスプリッタ 16・・・反射ミラー 出願人 大日本スクリーン製造株式会社代理人 弁理士
杉 谷 勉 第1図 第2図 面系暢 aj乏會万回 第7図 方 陶 −Nの寸−〇トの
Claims (1)
- (1)画素と1対1に対応する光ビームを画素信号の大
きさに応じてON/OFF制御することにより、2値化
画像を感光材料に走査記録する方法において、 各画素に対するドットデータを光ビームON/OFF制
御用の出力ドットデータに変換するに際し、 各画素に対するドットデータと、これに対して主走査方
向の前または後に隣接するいずれか一方の画素のドット
データと、これらの2つのドットデータに対して副走査
方向の前または後に隣接するいずれか一方の2つの画素
のドットデータとの合計4つの画素のドットデータに対
して、 これら4つのドットデータの論理積が“1”のときにそ
の変換対象の画素のドットデータを光ビームON用の出
力ドットデータに変換し、かつ、前記論理積が“0”の
ときにその変換対象の画素のドットデータを光ビームO
FF用の出力ドットデータに変換するか、 または、前記4つのドットデータの論理和が“1”のと
きにその変換対象の画素のドットデータを光ビームON
用の出力ドットデータに変換し、かつ、前記論理和が“
0”のときにその変換対象の画素のドットデータを光ビ
ームOFF用の出力ドットデータに変換し、 各画素に対応する光ビームの露光域が前記隣接4画素に
対応する露光域を露光することを特徴とする2値化画像
の走査記録方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156257A JPS641367A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Scanning and recording method for binarization picture |
| US07/210,227 US4896169A (en) | 1987-06-23 | 1988-06-23 | Laser scan recording apparatus using aperture plates to form shifted rows of beams which are modulated and converged on photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62156257A JPS641367A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Scanning and recording method for binarization picture |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH011367A true JPH011367A (ja) | 1989-01-05 |
| JPS641367A JPS641367A (en) | 1989-01-05 |
| JPH0481913B2 JPH0481913B2 (ja) | 1992-12-25 |
Family
ID=15623841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62156257A Granted JPS641367A (en) | 1987-06-23 | 1987-06-23 | Scanning and recording method for binarization picture |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4896169A (ja) |
| JP (1) | JPS641367A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225924A (en) * | 1989-04-07 | 1993-07-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Optical beam scanning system |
| US5119113A (en) * | 1990-10-11 | 1992-06-02 | International Business Machines Corporation | Spot-defined exposure system for a laser printer |
| US5635976A (en) * | 1991-07-17 | 1997-06-03 | Micronic Laser Systems Ab | Method and apparatus for the production of a structure by focused laser radiation on a photosensitively coated substrate |
| JPH0735994A (ja) * | 1993-07-22 | 1995-02-07 | Asahi Optical Co Ltd | レーザ描画装置 |
| US5745150A (en) * | 1993-08-11 | 1998-04-28 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Laser drawing apparatus having drawing beams in a common place aligned with a lens meridian |
| US5608444A (en) * | 1994-06-10 | 1997-03-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Image scanning/recording apparatus and method |
| JP3532167B2 (ja) * | 2001-06-01 | 2004-05-31 | 株式会社オーディオテクニカ | レーザー墨出し器におけるレーザーライン光照射方法および装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4053898A (en) * | 1974-09-13 | 1977-10-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Laser recording process |
| US4496956A (en) * | 1982-07-19 | 1985-01-29 | Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. | Aperture mask for image scanning and recording system |
-
1987
- 1987-06-23 JP JP62156257A patent/JPS641367A/ja active Granted
-
1988
- 1988-06-23 US US07/210,227 patent/US4896169A/en not_active Expired - Fee Related
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