JPH01136986A - 水性酸性電気メツキ浴 - Google Patents
水性酸性電気メツキ浴Info
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- JPH01136986A JPH01136986A JP63257423A JP25742388A JPH01136986A JP H01136986 A JPH01136986 A JP H01136986A JP 63257423 A JP63257423 A JP 63257423A JP 25742388 A JP25742388 A JP 25742388A JP H01136986 A JPH01136986 A JP H01136986A
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- JP
- Japan
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- bath
- zinc
- electroplating bath
- gloss
- acidic electroplating
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/22—Electroplating: Baths therefor from solutions of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、導電性塩及び界面活性剤のほか、表面光沢生
成剤を含有する水性酸性電気メッキ浴に関する。
成剤を含有する水性酸性電気メッキ浴に関する。
金属基質上に酸性水溶液から亜鉛又は亜鉛合金を電気メ
ッキにより析出させる際に、亜鉛メッキされた対象物に
好ましい装飾的外観を与えるため、多くの場合に光沢メ
ッキが要望される。
ッキにより析出させる際に、亜鉛メッキされた対象物に
好ましい装飾的外観を与えるため、多くの場合に光沢メ
ッキが要望される。
この場合は腐食防止と共に装飾効果もしばしば希望され
る。希望の効果を得るためには、電気メッキ浴が何らか
の補助剤を含有することが不可欠である。なぜならばそ
うしないと、酸性水溶液から曇って不規則な亜鉛被膜が
生成しやすいからである。酸性電気メッキ浴のためのこ
の助剤は、例えば浴の導電性を改善するために用いられ
る導電性塩、例えば塩化カリウム、塩化アンモニウム又
は塩化ナトリウムである。助剤の他の群はいわゆる光沢
生成剤であって、これは基礎光沢生成剤及び表面光沢生
成剤に分けられる。光沢生成剤には、例えばポリエチレ
ンイミン及びその誘導体、ならびに非イオン性及びアニ
オン性の界面活性剤が属する。しかし最適の光沢を得る
ためには、さらに酸性電気メッキ浴に追加の表面光沢生
成剤を添加せねばならない。このものは浴によく溶解し
ないので、界面活性剤を用いて可溶化せねばならない。
る。希望の効果を得るためには、電気メッキ浴が何らか
の補助剤を含有することが不可欠である。なぜならばそ
うしないと、酸性水溶液から曇って不規則な亜鉛被膜が
生成しやすいからである。酸性電気メッキ浴のためのこ
の助剤は、例えば浴の導電性を改善するために用いられ
る導電性塩、例えば塩化カリウム、塩化アンモニウム又
は塩化ナトリウムである。助剤の他の群はいわゆる光沢
生成剤であって、これは基礎光沢生成剤及び表面光沢生
成剤に分けられる。光沢生成剤には、例えばポリエチレ
ンイミン及びその誘導体、ならびに非イオン性及びアニ
オン性の界面活性剤が属する。しかし最適の光沢を得る
ためには、さらに酸性電気メッキ浴に追加の表面光沢生
成剤を添加せねばならない。このものは浴によく溶解し
ないので、界面活性剤を用いて可溶化せねばならない。
金属上に亜鉛を電気メッキにより析出させるためには、
導電性塩、光沢生成剤及び界面活性剤を含有する水性酸
性電気メッキ浴が知られている（英国特許１１４９１０
６号、米国特許３７８７２９６号及び欧州特許１１５０
２０号参照）。表面光沢生成剤は、例えばベンズアルデ
ヒド誘導体例えば２−クロルベンズアルデヒド又は４−
メトキシベンズアルデヒド、又は芳香族もしくは複素環
族のケトンである。補助剤としてのこの群の代表的なも
のはベンジリデンアセトン（ベンザルアセトン）である
。しかしベンジリデンアセトン及びその同族体の重要な
欠点は、この化合物がそれに関与する多くの人に、アレ
ルギー反応例えば皮膚発赤及びかゆみを起こさせること
である。
導電性塩、光沢生成剤及び界面活性剤を含有する水性酸
性電気メッキ浴が知られている（英国特許１１４９１０
６号、米国特許３７８７２９６号及び欧州特許１１５０
２０号参照）。表面光沢生成剤は、例えばベンズアルデ
ヒド誘導体例えば２−クロルベンズアルデヒド又は４−
メトキシベンズアルデヒド、又は芳香族もしくは複素環
族のケトンである。補助剤としてのこの群の代表的なも
のはベンジリデンアセトン（ベンザルアセトン）である
。しかしベンジリデンアセトン及びその同族体の重要な
欠点は、この化合物がそれに関与する多くの人に、アレ
ルギー反応例えば皮膚発赤及びかゆみを起こさせること
である。
米国特許４５８２５７６号明細書によれば、脂肪族アル
デヒド又は置換オレフィンを基礎とする基礎光沢生成剤
のほかに少なくとも１種のアルカンスルホン酸又はアル
カノールスルホン酸を含有する水性電気メッキ浴から、
電気メッキにより錫、鉛又は錫−鉛合金を析出させる場
合に、表面光沢生成剤として１−ナツトアルデヒド又は
その誘導体を使用することが知られている。しかしこの
刊行物は、金属上に錫又は鉛を析出させるためここで使
用する表面光沢生成剤が、他の金属の電解析出にも適す
ることは全く示唆していない。
デヒド又は置換オレフィンを基礎とする基礎光沢生成剤
のほかに少なくとも１種のアルカンスルホン酸又はアル
カノールスルホン酸を含有する水性電気メッキ浴から、
電気メッキにより錫、鉛又は錫−鉛合金を析出させる場
合に、表面光沢生成剤として１−ナツトアルデヒド又は
その誘導体を使用することが知られている。しかしこの
刊行物は、金属上に錫又は鉛を析出させるためここで使
用する表面光沢生成剤が、他の金属の電解析出にも適す
ることは全く示唆していない。
本発明の課題は、亜鉛又は亜鉛合金を析出させるための
水性酸性電気メッキ浴中のベンジリデンアセトン又はそ
の誘導体を基礎とする表面光沢生成剤を、活性は既知の
表面光沢生成剤に劣らないが、人の健康に支障のない安
全な物質によって置き換えることであった。
水性酸性電気メッキ浴中のベンジリデンアセトン又はそ
の誘導体を基礎とする表面光沢生成剤を、活性は既知の
表面光沢生成剤に劣らないが、人の健康に支障のない安
全な物質によって置き換えることであった。
本発明は、本質的助剤として導電性塩及び界面活性剤の
ほか、表面光沢生成剤として次式％式％ Ｃ，Ｈ，、Ｃ８Ｈ，、Ｃ１又はＢｒを意味する）の化合
物の有効量を含有することを特徴とする、亜鉛又は亜鉛
とコバルト及び／又はニッケルとの合金を電解析出させ
るための水性酸性電気メッキ浴である。
ほか、表面光沢生成剤として次式％式％ Ｃ，Ｈ，、Ｃ８Ｈ，、Ｃ１又はＢｒを意味する）の化合
物の有効量を含有することを特徴とする、亜鉛又は亜鉛
とコバルト及び／又はニッケルとの合金を電解析出させ
るための水性酸性電気メッキ浴である。
本発明において表面光沢生成剤としての２−ヒドロキシ
−１−ナフトアルデヒドは、好ましくは０．０５〜３ｇ
／ｌ特に０．２〜０．７ｇ／ｌの量で用いられる。
−１−ナフトアルデヒドは、好ましくは０．０５〜３ｇ
／ｌ特に０．２〜０．７ｇ／ｌの量で用いられる。
水性酸性電気メッキ浴は、普通の組成であってよい。こ
れは例えば５０〜１５０ｇ／Ａ！の塩化亜鉛又は当量の
硫酸亜鉛を含有する。亜鉛とコバルト及び／又はニッケ
ルとの合金を金属基質上に析出させるときは、浴はさら
に１〜６０９／ｌの硫酸コバルト及び／又は硫酸ニッケ
ル、あるいは他の水溶性コバルト塩及び／又はニッケル
塩を含有する。浴の他の本質的成分は導電性塩である。
れは例えば５０〜１５０ｇ／Ａ！の塩化亜鉛又は当量の
硫酸亜鉛を含有する。亜鉛とコバルト及び／又はニッケ
ルとの合金を金属基質上に析出させるときは、浴はさら
に１〜６０９／ｌの硫酸コバルト及び／又は硫酸ニッケ
ル、あるいは他の水溶性コバルト塩及び／又はニッケル
塩を含有する。浴の他の本質的成分は導電性塩である。
適当な導電性塩は塩化カリウムで、これは１００〜２５
０９／ｌの量で水性酸性電気メッキ浴に含有される。他
の導電性塩の例は塩化アンモニウム又は塩化ナトリウム
で、これは普通は１０〜１５０ｇ／ｌの量で添加される
。
０９／ｌの量で水性酸性電気メッキ浴に含有される。他
の導電性塩の例は塩化アンモニウム又は塩化ナトリウム
で、これは普通は１０〜１５０ｇ／ｌの量で添加される
。
水性酸性電気メッキ浴の他の本質的成分は非イオン性又
はアニオン性の界面活性剤、ポリエチレンイミン、その
誘導体ならびに安息香酸ナトリウムである。適当な非イ
オン性界面活性剤の例は、英国特許１１４９１０６号明
細書により知られている。これは脂肪族アルコール例え
ハＣ８〜Ｃｌ８−アルコールへのエチレンオキシドの付
加生成物、あるいはフェノール又はアルキルフェノール
特ニノニルフェノールへのエチレンオキシドの付加生成
物である。この場合はアルコール又はフェノールの１モ
ルに対し、５〜１００モルのエチレンオキシドが付加さ
れる。
はアニオン性の界面活性剤、ポリエチレンイミン、その
誘導体ならびに安息香酸ナトリウムである。適当な非イ
オン性界面活性剤の例は、英国特許１１４９１０６号明
細書により知られている。これは脂肪族アルコール例え
ハＣ８〜Ｃｌ８−アルコールへのエチレンオキシドの付
加生成物、あるいはフェノール又はアルキルフェノール
特ニノニルフェノールへのエチレンオキシドの付加生成
物である。この場合はアルコール又はフェノールの１モ
ルに対し、５〜１００モルのエチレンオキシドが付加さ
れる。
適当なアニオン性界面活性剤は、例えば米国特許３７８
７２９６号明細書に記載されている。
７２９６号明細書に記載されている。
これは主として脂肪アルコール、脂肪アミン、Ｃ６〜Ｃ
ｔＯ−カルボン酸又はより長鎖の脂肪酸へのエチレンオ
キシドの付加及びそれに続くスルホン化により得られる
硫酸化ポリエーテルである。
ｔＯ−カルボン酸又はより長鎖の脂肪酸へのエチレンオ
キシドの付加及びそれに続くスルホン化により得られる
硫酸化ポリエーテルである。
エチレンオキシド及びプロピレンオキシドからのポリア
ルキレンオキシド又はブロック共重合体のスルホン化物
も、アニオン性界面活性剤として用いられる。アニオン
性界面活性剤の他の群は、欧州特許１１５０２０号明細
書により知られている。そこには例えば次式 （Ｒ１はＣ２〜Ｃ加−アルキル基、Ｘ及びＹは一８ｏ、
Ｈ又は−Ｓｏ３Ｍｅ 、 Ｍｅはアンモニウム、アルカ
リ、アルカリ土類もしくは亜鉛原子の当量、ｎは５〜５
０を意味する）で表わされるスルホン化又は硫酸化され
たアルキルフェノールエトキシレートが記載されている
。
ルキレンオキシド又はブロック共重合体のスルホン化物
も、アニオン性界面活性剤として用いられる。アニオン
性界面活性剤の他の群は、欧州特許１１５０２０号明細
書により知られている。そこには例えば次式 （Ｒ１はＣ２〜Ｃ加−アルキル基、Ｘ及びＹは一８ｏ、
Ｈ又は−Ｓｏ３Ｍｅ 、 Ｍｅはアンモニウム、アルカ
リ、アルカリ土類もしくは亜鉛原子の当量、ｎは５〜５
０を意味する）で表わされるスルホン化又は硫酸化され
たアルキルフェノールエトキシレートが記載されている
。
式■の化合物のほか、アニオン性界面活性剤としては、
ポリエーテル鎖が１〜２５個のプロピレンオキシド単位
又はブチレンオキシド単位を有するスルホン化又は硫酸
化された生成物も用いられる。スルホン化又は硫酸化さ
れたアルキルフェノールアルコキシレートの利点は、こ
れが著しく高い混濁点を有するため、亜鉛の電解析出を
、普通の２０〜３０℃の温度だけでなく、５０℃より高
い温度例えば７０℃で行うことも可能にすることである
。
ポリエーテル鎖が１〜２５個のプロピレンオキシド単位
又はブチレンオキシド単位を有するスルホン化又は硫酸
化された生成物も用いられる。スルホン化又は硫酸化さ
れたアルキルフェノールアルコキシレートの利点は、こ
れが著しく高い混濁点を有するため、亜鉛の電解析出を
、普通の２０〜３０℃の温度だけでなく、５０℃より高
い温度例えば７０℃で行うことも可能にすることである
。
非イオン性及びアニオン性の界面活性剤は基礎光沢生成
剤として作用すると共に、水に難溶な化合物のための可
溶化剤でもある。前記の活性剤ならびにフェノール−ホ
ルムアルデヒド縮合生成物又はナフタリンスルホン酸／
ホルムアルデヒド縮今生成物は、５〜２０１１／ｌ好ま
しくは８〜１３ｇ／ｌの量で電気メッキ浴に用いられる
。そのほか光沢生成補助剤として、安息香酸ナトリウム
が１〜８！ｌ／ｌ好ましくは２〜５ｇ／ｌの量で添加さ
れる。水性酸性電気メッキ浴のｐＨ価は、普通は４〜５
である。これは酸例えば硫酸又は塩酸を浴に添加するこ
とにより調整される。
剤として作用すると共に、水に難溶な化合物のための可
溶化剤でもある。前記の活性剤ならびにフェノール−ホ
ルムアルデヒド縮合生成物又はナフタリンスルホン酸／
ホルムアルデヒド縮今生成物は、５〜２０１１／ｌ好ま
しくは８〜１３ｇ／ｌの量で電気メッキ浴に用いられる
。そのほか光沢生成補助剤として、安息香酸ナトリウム
が１〜８！ｌ／ｌ好ましくは２〜５ｇ／ｌの量で添加さ
れる。水性酸性電気メッキ浴のｐＨ価は、普通は４〜５
である。これは酸例えば硫酸又は塩酸を浴に添加するこ
とにより調整される。
亜鉛又は亜鉛とコバルト及び／又はニッケルの合金を電
解析出させるための水性酸性電気メッキ浴は、本発明に
よれば表面光沢生成剤として式！の化合物を含有する。
解析出させるための水性酸性電気メッキ浴は、本発明に
よれば表面光沢生成剤として式！の化合物を含有する。
式■においてＲ１及びＲｔは同一でも異なってもよい。
式■の化合物は、例えば１−ナツトアルデヒド、２−ヒ
ドロキシ−１−ナフトアルデヒド、２−す７トアルデヒ
ド、２−メトキシ−１−す７トアルデヒド又は４−メト
キシ−１−ナフトアルデヒドである。２−ヒドロキシ−
１−ナフトアルデヒドを０．２〜０．７９７１の量で使
用することが特に好ましい。
ドロキシ−１−ナフトアルデヒド、２−す７トアルデヒ
ド、２−メトキシ−１−す７トアルデヒド又は４−メト
キシ−１−ナフトアルデヒドである。２−ヒドロキシ−
１−ナフトアルデヒドを０．２〜０．７９７１の量で使
用することが特に好ましい。
電気メッキ浴に、光沢生成補助剤としての安息香酸ナト
リウムを１〜ａｇ／Ｉｔの量で、そして表面光沢生成剤
としての２−ヒドロキシ−１−ナツトアルデヒドを０．
１〜１ ｆｌ／ｌ特に０．２〜０．７９／ｌの葉で添加
すると、亜鉛メッキにおいて特に有利な結果が得られる
。この組合わせは、特にアンモニウム塩不含の酸性亜鉛
電気メッキ浴の場合に推奨される。
リウムを１〜ａｇ／Ｉｔの量で、そして表面光沢生成剤
としての２−ヒドロキシ−１−ナツトアルデヒドを０．
１〜１ ｆｌ／ｌ特に０．２〜０．７９／ｌの葉で添加
すると、亜鉛メッキにおいて特に有利な結果が得られる
。この組合わせは、特にアンモニウム塩不含の酸性亜鉛
電気メッキ浴の場合に推奨される。
前記浴中で金属主として鉄又は鋼を、腐食を防止しかつ
高い光沢を付与するため電気メッキする。本発明の浴は
、工業的に用いられる電流密度において、品質が技術水
準のベンジリデンアセトンを使用した場合と等しい光沢
のある延性の亜鉛被膜を与える。表面光沢生成剤として
式■の化合物の混合物を使用しうろこと、ならびに式■
の化合物を取扱い者に健康上の支障を与えない既知の基
礎−及び表面光沢生成剤と併用しうろことは当然である
。
高い光沢を付与するため電気メッキする。本発明の浴は
、工業的に用いられる電流密度において、品質が技術水
準のベンジリデンアセトンを使用した場合と等しい光沢
のある延性の亜鉛被膜を与える。表面光沢生成剤として
式■の化合物の混合物を使用しうろこと、ならびに式■
の化合物を取扱い者に健康上の支障を与えない既知の基
礎−及び表面光沢生成剤と併用しうろことは当然である
。
亜鉛を電解析出させるための水性酸性電気メッキ浴中で
の式■の化合物の活性を、以下に２種の浴について示す
。
の式■の化合物の活性を、以下に２種の浴について示す
。
浴１０組成：
塩化亜鉛 １００９／ｌ塩化カリ
ウム ２００９／ｌ硼 酸
２０９／ｌ市販のナフ
タリンスルホ−４／ ２１１／１ホルムアルデ
ヒド縮金物 安息香酸ナトリウム ２９／１ポリエチ
レングリコールエーテル １０、ＥＰＡ １１５０２０ ） 表に示す表面光沢生成剤 浴２の組成： 塩化亜鉛 １０（Ｌ９／ｌ塩化ア
ンモニウム １４０ｇ／ｌ安息香酸ナトリ
ウム ６ ｇ／ｌ市販のノニルフェノー
ルポリエチ ５１１／１ングリコ一ル単位２０） 単位１０、ＥｐＡｔ１５０２０） 表に示す表面光沢生成剤 浴１のｐＨは４．８、浴２のｐＨは４．５である。
ウム ２００９／ｌ硼 酸
２０９／ｌ市販のナフ
タリンスルホ−４／ ２１１／１ホルムアルデ
ヒド縮金物 安息香酸ナトリウム ２９／１ポリエチ
レングリコールエーテル １０、ＥＰＡ １１５０２０ ） 表に示す表面光沢生成剤 浴２の組成： 塩化亜鉛 １０（Ｌ９／ｌ塩化ア
ンモニウム １４０ｇ／ｌ安息香酸ナトリ
ウム ６ ｇ／ｌ市販のノニルフェノー
ルポリエチ ５１１／１ングリコ一ル単位２０） 単位１０、ＥｐＡｔ１５０２０） 表に示す表面光沢生成剤 浴１のｐＨは４．８、浴２のｐＨは４．５である。
ｐＨ価の調整は、希塩酸により行われる。鋼板の亜鉛メ
ッキはそれぞれ１０分間行われる。これは２５０ ｔｎ
ｌの電槽中で１アンペアを用いて約２３℃で行われる。
ッキはそれぞれ１０分間行われる。これは２５０ ｔｎ
ｌの電槽中で１アンペアを用いて約２３℃で行われる。
続いて青色クロム酸塩処理が行われる。得られた亜鉛被
膜の品質を下記衣に示す。電気メッキ被膜の光沢及び延
性は肉眼により評価した。数値は次の意味を有する。１
＝悪い、２＝少し悪い、６＝中程度、４＝良好、５＝き
わめて良好。
膜の品質を下記衣に示す。電気メッキ被膜の光沢及び延
性は肉眼により評価した。数値は次の意味を有する。１
＝悪い、２＝少し悪い、６＝中程度、４＝良好、５＝き
わめて良好。
２−ヒドロキシ−１−ナンドアルデヒドによる効果は、
きわめて良好なベンジリデンアセトンのそれと同等であ
ることが認められる。
きわめて良好なベンジリデンアセトンのそれと同等であ
ることが認められる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、本質的助剤として導電性塩及び界面活性剤のほか、
光沢生成剤として次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （Ｒ＾１及びＲ＾２はＨ、ＯＨ、ＣＨ＿３Ｏ、Ｃ＿２Ｈ
＿３Ｏ、ＣＨ＿３、Ｃ＿２Ｈ＿５、Ｃ＿３Ｈ＿７、Ｃｌ
又はＢｒを意味する）の化合物の有効量を含有すること
を特徴とする、亜鉛又は亜鉛とコバルト及び／又はニッ
ケルとの合金を電解析出させるための水性酸性電気メッ
キ浴。 ２、表面光沢生成剤として２−ヒドロキシ−１−ナフト
アルデヒドを含有することを特徴とする、第１請求項に
記載の電気メッキ浴。 ３、表面光沢生成剤を０．０５〜３ｇ／ｌの量で含有す
ることを特徴とする、第１又は第２請求項に記載の電気
メッキ浴。 ４、次式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中Ｒ＾１及びＲ＾２は第１請求項に記載の意味を有
する）の化合物を、表面光沢生成剤として電気メッキ浴
に０．０５〜３ｇ／ｌの量で使用する方法。 ５、補助光沢生成剤としての安息香酸ナトリウムを１〜
８ｇ／ｌの量で、そして表面光沢生成剤としての２−ヒ
ドロキシ−１−ナフトアルデヒドを０．１〜１ｇ／ｌの
量で含有することを特徴とする、第１請求項に記載の電
気メッキ浴。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873735055 DE3735055A1 (de) | 1987-10-16 | 1987-10-16 | Waessriges, saures, galvanisches bad |
| DE3735055.2 | 1987-10-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01136986A true JPH01136986A (ja) | 1989-05-30 |
Family
ID=6338456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63257423A Pending JPH01136986A (ja) | 1987-10-16 | 1988-10-14 | 水性酸性電気メツキ浴 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0311971A1 (ja) |
| JP (1) | JPH01136986A (ja) |
| DE (1) | DE3735055A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2052932A1 (en) * | 1990-12-20 | 1992-06-21 | Donald H. Becking | Electroplating composition and process |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4137133A (en) * | 1977-12-15 | 1979-01-30 | M&T Chemicals Inc. | Acid zinc electroplating process and composition |
| FR2417556A1 (fr) * | 1978-02-17 | 1979-09-14 | Popescu Francine | Nouveaux brillanteurs pour zingage electrolytique acide |
| US4251331A (en) * | 1980-01-17 | 1981-02-17 | Columbia Chemical Corporation | Baths and additives for the electroplating of bright zinc |
-
1987
- 1987-10-16 DE DE19873735055 patent/DE3735055A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-10-11 EP EP88116840A patent/EP0311971A1/de not_active Withdrawn
- 1988-10-14 JP JP63257423A patent/JPH01136986A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0311971A1 (de) | 1989-04-19 |
| DE3735055A1 (de) | 1989-04-27 |
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