JPH01137232U - - Google Patents

Description

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例の構成図、第２図は
本考案の他の実施例の構成図である。 １……パルスレーザ、３……ビームスプリツタ
、８ａ，８ｂ……液晶セル、１０ａ，１０ｂ……
刻印用パターン情報を反映したレーザ光、１６…
…ビーム合成器、１７……平行レーザ光。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ レーザ光源から射出される非直線偏光レーザ
   光からビームスプリツタで分離される二方向の直
   線偏光レーザ光のうち、第一の直線偏光レーザ光
   を外部から第一のパターン情報を与えた第一の透
   過形液晶セルに照射し、得られる刻印用の第一の
   レーザ光により加工面上に刻印するよう構成した
   レーザマーカにおいて、 前記レーザ光源、前記加工面を結ぶレーザ光軸
   と平行に、第二のパターン情報を与えた第二の透
   過形液晶セルを設け、前記第二の透過形液晶セル
   に第二の直線偏光レーザ光を照射し、得られる刻
   印用の第二のレーザ光で、第二の加工面上に刻印
   するように構成したことを特徴とするレーザマー
   カ。 ２ 実用新案登録請求第１項において、前記第一
   のレーザ光と前記第二のレーザ光とを、光学素子
   により平行ビームに合成し、同一の加工面上に刻
   印することを特徴とするレーザマーカ。