JPH01137248A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH01137248A
JPH01137248A JP62296396A JP29639687A JPH01137248A JP H01137248 A JPH01137248 A JP H01137248A JP 62296396 A JP62296396 A JP 62296396A JP 29639687 A JP29639687 A JP 29639687A JP H01137248 A JPH01137248 A JP H01137248A
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幸登 中村
Tokuji Takahashi
高橋 徳治
Kazumi Furuta
和三 古田
Tomohide Mizukoshi
智秀 水越
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    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は塗布装置に係り、詳しくは非接触状態で走行
するウェブに塗布液を塗布する塗布装置に関する。
(技術の背景) このような塗布装置として、例えば特開昭51−387
37号公報に記載の如く、ウェブにエアバックロールか
ら所定圧の気体を噴出して浮上させ、非接触状態で走行
させながら、ウェブの表面に塗布液を塗布するものがあ
る。
この場合には、ウェブの走行中において張力変動等によ
りて、エアバックロールとウェブとの間隙(浮き量)が
変動することがある。また、塗布液のビードの形成を容
易にするために負圧室を備えるものにあっては、負圧室
の側壁とウェブの間隙が変化すると、負圧室の圧力に影
響を与えビード上面側と下面側部との空気圧力差が変化
し、ウェブが変動することがある。
(発明が解決しようとする問題点) これらの原因で幅方向に筋が入る塗布ムラが発生するこ
とがあり、この塗布ムラは写真感光材料のように均一な
膜厚の塗布が要求されるものでは、感度変動等を誘発し
て好ましくない、特にハロゲン化銀感光材料の場合には
、数十ミクロンの膜厚で均一の塗布が要求されるため、
生産性が高く、安定して均一に塗布する必要があり、し
かもユーザーに不良品が出回るのを未然に防止すること
が要求されている。
この発明は、かかる実情に鑑みなされたもので、エアー
バックロールとウェブの間隙を測定することによって、
ウェブの走行状態における変動を正確に知り、この測定
情報でウェブの変動を防止するように制御することが可
能になり、さらに測定情報の解析でウェブの変動原因を
知ることができ、塗布ムラの発生に有効に対処すること
が可能であると共に、製品管理が確実になり不良品の発
生を未然に防止することが可能な塗布装置を提供するこ
とを目的としている。
(問題点を解決するための手段) この発明は前記の問題点を解決するために、走行するウ
ェブにエアバックロールから気体を噴射し、ウェブを非
接触状態に支持し、このウェブの表面に塗布液のビード
を形成して塗布する塗布袋Mにおいて、前記ウェブに光
を照射して、その反射光からウェブとエアバックロール
との間隙を測定する光学式変位センサを備えることを特
徴としている。
この発明の光学式変位センサはウェブとエアバックロー
ルとの間隙を塗布液のビード形成部の近傍で測定するこ
とで、直接塗布される状態での測定が行なわれ、正確な
測定情報が得られ、好ましい。また、この発明の光学式
変位センサをエアバックロールの内部に備えられること
で、光をウェブ面に照射することができ、測定精度が向
上し、しかも取付構造が簡単になり好ましい。
(作用) この発明では、走行するウェブにエアバックロールから
所定圧の気体を噴射し、ウェブを非接触状態に支持し、
このウェブの表面に塗布液を塗布し、この塗布する際に
光学式変位センサで光をウェブに照射して、その反射光
からウェブとエアバックロールとの間隙を測定する。
この測定から走行するウェブの走行状態を正確に管理し
、さらに測定情報の解析からウェブの変動原因を知り、
塗布液を塗布する際に生じる幅方向の塗布ムラの発生に
有効に対処することが可能になる。
(実施例) 以下、この発明の塗布装置を添付図面に示す具体例に基
づき説明する。
第1図はこの発明の塗布装置の概略図である。
図において、符号lは塗布液が塗布される支持体である
ウェブで、エアバックロール2を介して高速搬送される
。このエアバックロール2には噴射孔2aが形成されて
おり、エアバックロール2内の所定圧の空気が、この噴
射孔2aからウェブ1に吹き付けられ、ウェブ1を非接
触状態に支持するようにしている。
エアバックロール2に近接して塗布液供給装置3が位置
しており、その液供給路4a、4bには流量ポンプ5a
、5bの駆動で種類の異なる塗布液が供給される。この
実施例では2種類の塗布液が供給されるが、i fff
i類以上何種類でもよい。液供給路4a、4bの上方に
は垂直の狭いスリット。
6a、6bが形成され、塗布液がこのスリット6a、6
bを通り、塗布液供給装置3のスライド面7上へ流出す
る。このスライド面7はエアバックロール2方向へ向い
傾斜しており、流出した塗布液は層をなして流下し、ス
ライド面7の下端部からウェブ1に塗布され、このスラ
イド面7の下端部とウェブ1と間には塗布液のビード8
が形成される。
このビード8の下面側には圧力調整ボックス9が設けら
れ、この圧力調整ボックス9で下面側空気圧力を小さく
して、ビード8を上から下に押し付け、塗布を確実にし
ている。
この塗布液は種々の溶液が用いられるが、特に写真感光
材料である親水性コロイド溶液で例えばゼラチン、ポリ
ビニールアルコールなどの親木性バインダーで、粘度4
〜40cpの低粘度の塗布組成物に好適である。また、
揮発性溶剤を含む塗相液は正圧によってスライド面にお
ける蒸発を抑制することができる。
また、前記のような親水性コロイド溶液を塗布するウェ
ブとしては、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチ
ルセルロース、ポリプロピレンなとのプラスチックフィ
ルムや紙等の写真感光材料用支持体が用いられる。
このウェブ1のエアバックロール2側面には、バック層
10が形成されており、このように塗布液が塗布された
ウェブ1の両面にハロゲン化銀写真感光材料を塗布する
ものでもよい。
エアバックロール2の内部には光学式変位センサ11が
備えられ、ウェブ1とエアバックロール2との間隙りを
、塗布液のビード8の形成部の近傍で測定するようにな
っている。
光学式変位センサ11は第2図乃至第6図に示すように
構成されている。即ち、光学式変位センサ11の支持筒
12はエアバックロール2に軸方向と直交する方向に装
着され、この支持筒12の先端部12 aはエアバック
ロール2のウェブ側2aにおいてその内面に当接し、後
端部12bにはキャップ13が螺着されている。
このキャップ13のフランジ部13aは、環状の例えば
ゴムで形成された弾性体14を介してエアバックロール
2のウェブ1側と反対側2bに当てがわれる。このキャ
ップ13は第4図に示すように、プレート15を介して
キャップ13のフランジ部13aに位置決めネジ16を
挿通してエアバックロール2に螺着し、さらにこの位置
決めネジ16の間に板バネ17を介して締付ネジ18が
挿通され、この締付ネジ18でエアバックロール2に締
付固定されている。
板バネ1フは一対の屈曲した足部17aを有しており、
この足部17aをプレート15に当接した状態で締付ネ
ジ18を締付けると屈曲し、これにより付勢力が与えら
れる。
キャップ13のフランジ部13aと、エアバックロール
2との外側面の間には、前記弾性体14によって締付状
態で所定の間l1lsが形成されており、板バネ17で
常にウェブ1の方向へ付勢された支持筒12の移動を許
容するようになっている。これらが光学式変位センサ1
1の押圧機構を構成しており、エアバックロール2のウ
ェブ側2aの変形に追従して移動可能に押圧保持されて
いる。
従って、塗布液供給装置3により、ウェブ1に塗布液が
塗布されるとき、塗布液の温度の影響でエアバックロー
ル2のウェブ側2aが変形すると、この変形に追従して
光学式変位センサ11の支持筒12が移動する。このた
め、エアバックロール2の測定面と光学式変位センサ1
1の測定面とがずれることが軽減され、ウェブ1とエア
バックロール2との間隙の測定精度が向上する。
さらに、キャップ13には配線19を接続するコネクタ
20がビス21で締付けられている。
光学式変位センサ11の支持筒12の内部には光源側ユ
ニット22がブラケット23を介して支持体24に備え
られ、この光源側ユニット22には半導体レーザ25、
投光レンズ26、スリット27が内蔵されている。この
半導体レーザ25の波長は例えば780nmが用いられ
、光量もウェブ1に塗布される塗布液に影響を与えない
ように調整される。半導体レーザ25からの光はこの投
光レンズ26、スリット27を介して、入射部を構成す
るプリズム28に入射され、このプリズム28からさら
にウェブ1の測定面へ入射され、ここで反射された反射
光は再びプリズム28を介して受光レンズ29で収束さ
れ、位置検出センサ30に入力される。
プリズム28は平面形状が大径の薄型のものが用いられ
ており、ホルダ31を密着係合されている。このホルダ
31は支持筒12及びエアバックロール2のウェブ側2
aに0リング32.33でシールして支持され、気密性
を確保している。
従って、エアバックロール2の内部に光学式変位センサ
11を備えても、エアバックロール2内の高圧空気が支
持筒12の先端部12mとエアバックロール2のウェブ
側2aの間から侵入しても、プリズム28のホルダ31
によフて気密性が確保されているため、エアバックロー
ル2の開口部2cや支持ri112の内部に漏れること
が防止される。
前記支持体24はプリズム28のホルダ31に固定され
、この支持体24の受部24aには第3図に示すように
フランジ34aを有する固定バー34が螺着されている
。この固定バー34は支持プレート35に押通して支持
されており、この固定バー34の回動で両者は近接方向
へ締付固定される。さらに、支持体24には前記半導体
レーザ25及び位置検出センサ30の駆動回路や制御回
路が設けられたプリント配線基板36.37が取付けら
れている。
位置検出センサ30はセンサホルダ38に支持され、位
置検出センサ30に入射される光の位置での出力状態を
位置検出回路39で検出し、その検出信号をCRT40
に人力して表示する。このCRT40に表示される波形
を第7図に示す。光学式変位センサ11はエアバックロ
ール2の長さにより複数個配置され、この実施例では5
個配置されており、第7図のa ”−’ eはその配置
位置を示している。さらに、このa〜eはエアバックロ
ール2とウェブ1との間隙、即ちビード間隙を示し、さ
らにこのa〜eでの撮幅がウェブ1の変動量を示してい
る。
第2図において、ウェブ1が例えば左側、即ちエアバッ
クロール2から離れると、位置検出センサ30への反射
光の入射位置が下側に移動する。
また、仮りに、ウェブ1が右側へ移動してエアバックロ
ール2に近接すると、位置検出センサ30への反射光の
入射位置が上側へ穆勤する。このウェブ1の変動に応じ
て、第7図のa Neで、そのウェブ1の変動量が垂直
方向へ表示されており、この実施例ではす、d、eの位
置でのウェブ1の変動が大きくなっている。
この位置検出センサ30として半導体装置検出素子(P
SD)が用いられているが、例えば固体撮像素子(CC
D)等で構成してもよい。さらに、この位置検出センサ
30は位置調整機構41でウェブ1の検出位置に応じて
移動させ、測定レンジが調整可能になつている。
この位置調整機構41を構成するカムプレート42は支
持体24の受部24aに支持ビン43を介して回動可能
に支持されている。このカムプレート42には切欠部4
2aが形成されており、この切欠部42aにはセンサホ
ルダ38に固定されたピン44が係合されている。従っ
て、位置検出センサ30はカムプレート42の作動によ
って水平方向へスライドし、このカムプレート42の移
動は一対の操作バー45.46によって行なわれる。l
操作バー45.46の一端部は支持体24の支持部24
bを貫通し、それぞれカムプレート42の支持ピン43
を挟んだ対称位置に当接し、他端部は支持プレート35
に挿通されている。この操′作レバー45.48のいず
れか一方、例えば右側を押動すると、カムプレート42
が左側へ回動し、左側を押動するとカムプレート42が
右側へ回動し、このカムプレート42に連動して位置検
出センサ30が移動し、測定位置の調整が行なわれる。
この位置検出センサ30の固定は位置規制バー47によ
って行なわれ、この位置規制バー47の一端部は支持体
24の図示しない支持部に挿通され、他端部は支持プレ
ート35に螺着され、後端側から工具で回動すると、そ
の先端がセンサホルダ38を押圧して位置の規制を行な
う。
このようにして、ウェブ1の走行中にウェブlとエアバ
ックロール2との間の間隙りが測定されて、第7図に示
すようにCRT40に間1tDtLの変動が表示され、
容易かつ正確にウェブ1の間隙及びウェブ1の変動を知
ることができる。
従って、このCRT40に示されるウェブ1の変動を解
析することにより、ウェブ1の変動の発生原因が、例え
ば張力変動によって、或いは速度変動によって、さらに
はビード上面側及び下面側の空気圧力差の生じる等の原
因を知ることができる。このため、これらの原因に応じ
た対策を採用することができ、例えば張力変動の場合に
は、ウェブの巻取圧を調整する。ビード上面側及び下面
側の空気圧尤度の生じる等の原因による場合には、圧力
を常に一定にするようにする等の対策を取ることができ
、安定したウェブ1の走行が可能になる。
(発明の効果) この発明において、ウェブに光を照射して、その反射光
からウェブとエアバックロールとの間隙を測定する光学
式変位センサを備えるから、走行するウェブにエアバッ
クロールから所定圧の気体を噴射し、ウェブを非接触状
態で支持してウェブに塗布液を塗布する際に、エアバッ
クロールとウェブとの間隙の変化を知ることができる。
このように、エアーバックロールとウェブの間隙を測定
することによって、ウェブの走行状態を正確に知ること
ができ、この測定情報でウェブの゛変動を防止するよう
に制御することが可能になる。また、測定情報の解析で
、ウェブの変動の発生原因を知ることができ、これによ
りウエブノ変動を有効に抑えることができ、塗布ムラの
発生原因に応じて有効に対処して改善することが可能に
なる。さらに、製品管理が確実になり、不良品の発生を
未然に防止することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明塗布装置の概略図、第2図は光学式変
位センサの横断面図、第3図は光学式変位センサの縦断
面図、第4図は光学式変位センサの側面図、第5図はキ
ャップの取付状態を示す一部斜視図、第6図は第3図の
Vl−Vl断面図、第7図は測定波形を示す図である。 図中符号1はウェブ、2はエアバックロール、3は塗布
液供給装置、9は圧力調整ボックス、11は光学式変位
センサである。 第1図 第6図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)走行するウェブにエアバックロールから気体を噴
    射し、ウェブを非接触状態に支持し、このウェブの表面
    に塗布液のビードを形成して塗布する塗布装置において
    、前記ウェブに光を照射して、その反射光からウェブと
    エアバックロールとの間隙を測定する光学式変位センサ
    を備えることを特徴とする塗布装置。
  2. (2)前記光学式変位センサはウェブとエアバックロー
    ルとの間隙を前記塗布液のビード形成部の近傍で測定す
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の塗布装
    置。
  3. (3)前記光学式変位センサはエアバックロールの内部
    に備えられることを特徴とする特許請求の範囲第1項又
    は第2項記載の塗布装置。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53130061A (en) * 1977-04-19 1978-11-13 Naado Kenkiyuushiyo Kk Measuring method of film thickness in emulsion layer
JPS5763164A (en) * 1980-10-02 1982-04-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Coating device
JPS62163773A (ja) * 1986-01-16 1987-07-20 Fuji Photo Film Co Ltd 塗布方法

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