JPH01139620A - 新規な薄膜状重合体の製造方法 - Google Patents
新規な薄膜状重合体の製造方法Info
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- JPH01139620A JPH01139620A JP29878287A JP29878287A JPH01139620A JP H01139620 A JPH01139620 A JP H01139620A JP 29878287 A JP29878287 A JP 29878287A JP 29878287 A JP29878287 A JP 29878287A JP H01139620 A JPH01139620 A JP H01139620A
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Landscapes
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な薄膜状重合体及びその製造方法に関する
ものである。さらに詳しくいえば、本発明は、架橋剤や
感光性材料、電子デバイスの作製、ミクロリソグラフィ
ーにおける電子線レジスト材料などとして有用な光反応
性薄膜を作製し、それに光照射をすることにより重合体
薄膜を容易に製造する方法に関するものである。
ものである。さらに詳しくいえば、本発明は、架橋剤や
感光性材料、電子デバイスの作製、ミクロリソグラフィ
ーにおける電子線レジスト材料などとして有用な光反応
性薄膜を作製し、それに光照射をすることにより重合体
薄膜を容易に製造する方法に関するものである。
p−フ二二レンジアクリル酸の誘導体は結晶状態で光に
より重合し、結晶性ポリマーを生成する特異的な物質で
あるが結晶あるいは粉沫としての取り扱いが一般的であ
り加工が鰭かしく、薄膜状で利用する電子デバンスなど
への利用は困蕪であった。一般に一定の厚さ、一定の分
子配列を持った薄膜の作製方法としてはラングミュア−
ブロジェット法がある。この方法を用いて薄膜を作製す
るには分子内に単分子膜の形成可能な分子内に親木基と
疎水基を持った両親媒性化合物でなければならない、従
って、電子デバイスなどに利用出来る薄膜状重合体をラ
ングミュアープロジエツト法により郁iをるには、重合
性官能基を持った両親媒性化合物を用いなければならな
い。
より重合し、結晶性ポリマーを生成する特異的な物質で
あるが結晶あるいは粉沫としての取り扱いが一般的であ
り加工が鰭かしく、薄膜状で利用する電子デバンスなど
への利用は困蕪であった。一般に一定の厚さ、一定の分
子配列を持った薄膜の作製方法としてはラングミュア−
ブロジェット法がある。この方法を用いて薄膜を作製す
るには分子内に単分子膜の形成可能な分子内に親木基と
疎水基を持った両親媒性化合物でなければならない、従
って、電子デバイスなどに利用出来る薄膜状重合体をラ
ングミュアープロジエツト法により郁iをるには、重合
性官能基を持った両親媒性化合物を用いなければならな
い。
官能基を持った両親媒性化合物の合成は必ずしも容易で
はなく、また化合物によっては単分子膜の形成が可能で
ない。
はなく、また化合物によっては単分子膜の形成が可能で
ない。
そこで合成が容品で光反応性結晶であるp−フ二二レン
ジアクリル酸誘導体を用いて薄膜を作製することを試み
た結果、一般式 %式%(1) (式中のRは炭素数7−18の飽和アルキル基である。
ジアクリル酸誘導体を用いて薄膜を作製することを試み
た結果、一般式 %式%(1) (式中のRは炭素数7−18の飽和アルキル基である。
)で表わされる長鎖アルキルエステル基を持っp−フ二
二レしジアクリル酸ジエステルは適当な両親媒性化合物
と混合することによって、単分子膜の形成が可能であり
、その単分子膜は石英板などの基板に累積できることを
見い出し、本発明を完成するに至った。
二レしジアクリル酸ジエステルは適当な両親媒性化合物
と混合することによって、単分子膜の形成が可能であり
、その単分子膜は石英板などの基板に累積できることを
見い出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明、は、一般式
で表わされる重合体、及びこのものを、前記一般式(1
)で表わされるp−フェニレンジアクリル酸ジアルキル
エステルとアラキシン酸などの両親媒性化合物との混合
累積膜に光を照射することによって製造する方法を提供
するものである。
)で表わされるp−フェニレンジアクリル酸ジアルキル
エステルとアラキシン酸などの両親媒性化合物との混合
累積膜に光を照射することによって製造する方法を提供
するものである。
本発明において単量体として用いるp−フェニレンジア
クリル酸ジアルキルエステルは、一般式(1)で示され
る構造を有し、式中のRは炭素数7−18の飽和アルキ
ル基である。このものは分子内に疎水基を有するが、親
木基がないので単分子膜を形成しないが、このものと飽
和脂肪酸あるいは飽和アルコール(炭素数15〜20)
と混合すると水面上や塩化カドミウム水溶液などの液面
上で安定な単分子膜を形成する。この単分子膜の形成は
、表面圧−占有面積曲線から容易に確認することが出来
る。
クリル酸ジアルキルエステルは、一般式(1)で示され
る構造を有し、式中のRは炭素数7−18の飽和アルキ
ル基である。このものは分子内に疎水基を有するが、親
木基がないので単分子膜を形成しないが、このものと飽
和脂肪酸あるいは飽和アルコール(炭素数15〜20)
と混合すると水面上や塩化カドミウム水溶液などの液面
上で安定な単分子膜を形成する。この単分子膜の形成は
、表面圧−占有面積曲線から容易に確認することが出来
る。
光反応性薄膜を作製するには、まずp−フェニレンジア
クリル酸ジアルキルエステルとアラキシン酸などの飽和
脂肪酸をモル比1:5〜1:1の割合でクロロホルム溶
液などの有機溶媒に溶解したのち、この溶液を蒸留水や
塩化カドミウム水溶液などの液面上に徐々に滴下して、
該液面上にp−フェニレンジアクリル酸ジアルキルエス
テルとアラキシン酸から成る単分子膜を形成させ、次い
でこの単分子膜を石英板などの基板上に移しとる操作を
繰り返る。このように作製した混合累積膜に光照射を行
なうと附加重合が起こり薄膜状の重合体が得られる。こ
の際の累積膜は、結晶状態のように特定の分子配列構造
を有し、光により容易に反応する0例えば、4層以上累
積した膜は、280nrnに吸収極大を有しており、キ
セノンランプなどで光照射することにより、二重結合間
で反応が起り、この吸収極大の吸光度は減少する。この
光照射した薄膜はゲルバーミエーシ目ンクロマトグラフ
ィーにより分子量を測定した結果、分子量1.000〜
10,000位の重合体であり、赤外吸収スペクトル、
紫外吸収スペクトルからシクロブタン環を主鎖に有する
構造であることが確認された。この重合体はクロロホル
ム、テトラヒドロフランなどの有機溶媒に可溶であるが
長時間照射すると膜は一般の有機溶媒に不溶となる。
クリル酸ジアルキルエステルとアラキシン酸などの飽和
脂肪酸をモル比1:5〜1:1の割合でクロロホルム溶
液などの有機溶媒に溶解したのち、この溶液を蒸留水や
塩化カドミウム水溶液などの液面上に徐々に滴下して、
該液面上にp−フェニレンジアクリル酸ジアルキルエス
テルとアラキシン酸から成る単分子膜を形成させ、次い
でこの単分子膜を石英板などの基板上に移しとる操作を
繰り返る。このように作製した混合累積膜に光照射を行
なうと附加重合が起こり薄膜状の重合体が得られる。こ
の際の累積膜は、結晶状態のように特定の分子配列構造
を有し、光により容易に反応する0例えば、4層以上累
積した膜は、280nrnに吸収極大を有しており、キ
セノンランプなどで光照射することにより、二重結合間
で反応が起り、この吸収極大の吸光度は減少する。この
光照射した薄膜はゲルバーミエーシ目ンクロマトグラフ
ィーにより分子量を測定した結果、分子量1.000〜
10,000位の重合体であり、赤外吸収スペクトル、
紫外吸収スペクトルからシクロブタン環を主鎖に有する
構造であることが確認された。この重合体はクロロホル
ム、テトラヒドロフランなどの有機溶媒に可溶であるが
長時間照射すると膜は一般の有機溶媒に不溶となる。
本発明の重合体は、単量体としてp−フェニレンジアク
リル酸ジアルキルエステルを用い、その累積膜に光を照
射して得られた薄膜状のものであって、主鎖にシクロブ
タン環を末端にケイ皮酸エステル残基を有している。こ
の薄膜状重合体はその機械的強度において、低分子有機
化合物の累積膜と比較するとすぐれており、電子デバイ
スの作製に適している。また、光反応性累積膜は、その
光照射過程における化学的、物理的変化を活がして、ミ
クロリソグラフィーにおけるレジスト材料などとして利
用可能である。
リル酸ジアルキルエステルを用い、その累積膜に光を照
射して得られた薄膜状のものであって、主鎖にシクロブ
タン環を末端にケイ皮酸エステル残基を有している。こ
の薄膜状重合体はその機械的強度において、低分子有機
化合物の累積膜と比較するとすぐれており、電子デバイ
スの作製に適している。また、光反応性累積膜は、その
光照射過程における化学的、物理的変化を活がして、ミ
クロリソグラフィーにおけるレジスト材料などとして利
用可能である。
実施例
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例1
ヘキサンから数回再結晶により精製したp−フ二二レン
ジアクリル酸ジーn−デジルエステルのクロロホルム溶
液(10−’M )とステアリルアルコールのクロロホ
ルム溶液(10−3M)をモル比1:5の割合で混合す
る。この溶液をラウダ社製フィルムバランス装置を用い
て、濃度10−”Mの塩化カドミウム水溶液(pH5,
3)の液面上に徐々に滴下して展開し、単分子膜を形成
させた。この際、p−フ二二レンジアクリル酸ジーn−
デシルエステルとアラキシン酸の混合系の表面圧−占有
面積曲線から20〜30dyn /cmで固体凝縮膜の
存在が確認されたので、該装置を25dyn /cmに
設定して、単分子膜を形成させた。
ジアクリル酸ジーn−デジルエステルのクロロホルム溶
液(10−’M )とステアリルアルコールのクロロホ
ルム溶液(10−3M)をモル比1:5の割合で混合す
る。この溶液をラウダ社製フィルムバランス装置を用い
て、濃度10−”Mの塩化カドミウム水溶液(pH5,
3)の液面上に徐々に滴下して展開し、単分子膜を形成
させた。この際、p−フ二二レンジアクリル酸ジーn−
デシルエステルとアラキシン酸の混合系の表面圧−占有
面積曲線から20〜30dyn /cmで固体凝縮膜の
存在が確認されたので、該装置を25dyn /cmに
設定して、単分子膜を形成させた。
次に、このようにして形成された単分子膜を垂直浸せき
法により石英板に移しとり、単分子膜10層から成る累
積膜を作製した。この累積膜は、280nmの波長域に
紫外スペクトルの吸収極大を有し、これにキセノンラン
プを用いて10分間光照射すると、二重結合間で反応が
起り、この吸収極大の吸光度は減少した。5分間光照射
後の累積膜をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーミ
ェーションクロマトグラフィーで分子量を調べてみると
2層3量体である。この低重合体に300nm以上の光
を更に長時間照射すると吸収極大は消失し、膜は一般の
有Ja溶媒に不溶となる。
法により石英板に移しとり、単分子膜10層から成る累
積膜を作製した。この累積膜は、280nmの波長域に
紫外スペクトルの吸収極大を有し、これにキセノンラン
プを用いて10分間光照射すると、二重結合間で反応が
起り、この吸収極大の吸光度は減少した。5分間光照射
後の累積膜をテトラヒドロフランに溶解し、ゲルパーミ
ェーションクロマトグラフィーで分子量を調べてみると
2層3量体である。この低重合体に300nm以上の光
を更に長時間照射すると吸収極大は消失し、膜は一般の
有Ja溶媒に不溶となる。
実施例2
ヘキサンから数回再結晶により精製したp−フ二二レし
ジアクリル酸ジーn−ドデシルエステルのクロロホルム
溶液(10−3M)とアラキシン酸のクロロホルム溶液
(10−3M )をモル比1:3の割合で混合する。こ
の溶液をラウダ社製フィルムバランス装置を用いて、濃
度10−3Mの塩化カドミウム水溶液(pH5,3)の
液面上に徐々に滴下して展開し、単分子膜を形成させた
。この際、p−フ二二レンジアクリル酸ジーn−ドデシ
ルエステルとアラキシン酸の混合系の表面圧−占有面積
曲線から20〜30dyn /cmで固体凝縮膜の存在
が確認されたので、該装装置を25dyn/cmに設定
して、単分子膜を形成させた。
ジアクリル酸ジーn−ドデシルエステルのクロロホルム
溶液(10−3M)とアラキシン酸のクロロホルム溶液
(10−3M )をモル比1:3の割合で混合する。こ
の溶液をラウダ社製フィルムバランス装置を用いて、濃
度10−3Mの塩化カドミウム水溶液(pH5,3)の
液面上に徐々に滴下して展開し、単分子膜を形成させた
。この際、p−フ二二レンジアクリル酸ジーn−ドデシ
ルエステルとアラキシン酸の混合系の表面圧−占有面積
曲線から20〜30dyn /cmで固体凝縮膜の存在
が確認されたので、該装装置を25dyn/cmに設定
して、単分子膜を形成させた。
次に、このようにして形成された単分子膜を垂直浸せき
法により石英板に移しとり、単分子膜10層から成る累
積膜を作製した。この累積膜は、紫外スペクトルにおい
て280nmに吸収極大を有し、これにキセノンランプ
を用いて10分間光照射すると、二重結合間で反応が起
り、この吸収極大の吸光度は減少した。5分間光照射後
の累積膜をテトラヒドロフランに溶解しゲルパーミェー
ションクロマトグラフィーで分子量を調べてみると分子
量1,000〜2,000である。この低重合体に30
0nm以上の光を更に長時間照射すると吸収極大は消失
し、千 膜は一般の有機溶媒に会溶となる。
法により石英板に移しとり、単分子膜10層から成る累
積膜を作製した。この累積膜は、紫外スペクトルにおい
て280nmに吸収極大を有し、これにキセノンランプ
を用いて10分間光照射すると、二重結合間で反応が起
り、この吸収極大の吸光度は減少した。5分間光照射後
の累積膜をテトラヒドロフランに溶解しゲルパーミェー
ションクロマトグラフィーで分子量を調べてみると分子
量1,000〜2,000である。この低重合体に30
0nm以上の光を更に長時間照射すると吸収極大は消失
し、千 膜は一般の有機溶媒に会溶となる。
実施例3
ヘキサンから再結晶により精製したp−フ二二レンジア
クリル酸ジーn−テトラデシルエステルのクロロホルム
溶液(10−3M ’)とアラキシン酸クロロホルム溶
液(10−’M )をモル比1:5で混合する。この溶
液をフィルムバランス装置を用いて再蒸留水の水面上に
徐々に滴下して展開し単分子膜を形成させた。この際、
該化合物の表面圧−占有面積曲線から20〜306yn
/cmで固体凝縮膜の存在が確認されたので、該装置を
25dyn /cmに設定して、単分子膜を形成させた
。
クリル酸ジーn−テトラデシルエステルのクロロホルム
溶液(10−3M ’)とアラキシン酸クロロホルム溶
液(10−’M )をモル比1:5で混合する。この溶
液をフィルムバランス装置を用いて再蒸留水の水面上に
徐々に滴下して展開し単分子膜を形成させた。この際、
該化合物の表面圧−占有面積曲線から20〜306yn
/cmで固体凝縮膜の存在が確認されたので、該装置を
25dyn /cmに設定して、単分子膜を形成させた
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは炭素数7〜18の飽和アルキル基である。 )で表わされるp−フェニレンジアクリル酸ジアルキル
エステルと飽和脂肪酸又は飽和アルコールを混合するこ
とにより作製した累積膜に光を照射することを特徴とす
る一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは炭素数7−18の飽和アルキル基である。 )で表わされる重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29878287A JPH01139620A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 新規な薄膜状重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29878287A JPH01139620A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 新規な薄膜状重合体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01139620A true JPH01139620A (ja) | 1989-06-01 |
| JPH0422930B2 JPH0422930B2 (ja) | 1992-04-20 |
Family
ID=17864148
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29878287A Granted JPH01139620A (ja) | 1987-11-26 | 1987-11-26 | 新規な薄膜状重合体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01139620A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61257947A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-15 | Agency Of Ind Science & Technol | 新規な低重合体及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-11-26 JP JP29878287A patent/JPH01139620A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61257947A (ja) * | 1985-05-10 | 1986-11-15 | Agency Of Ind Science & Technol | 新規な低重合体及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0422930B2 (ja) | 1992-04-20 |
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