JPH01145104A - 高密度燒結体の製造法 - Google Patents
高密度燒結体の製造法Info
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- JPH01145104A JPH01145104A JP30393287A JP30393287A JPH01145104A JP H01145104 A JPH01145104 A JP H01145104A JP 30393287 A JP30393287 A JP 30393287A JP 30393287 A JP30393287 A JP 30393287A JP H01145104 A JPH01145104 A JP H01145104A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は、金属粉またはセラミック粉から高密度焼結
体を得る方法に関する。
体を得る方法に関する。
［従来技術］
セラミック粉を水を分散媒としてスラリーとし、ここに
解膠剤等を添加してスラリー性状を調整した後、このス
ラリーを石膏型に鋳込み、水の一部を石膏型に吸収させ
ることによってスラリーを固化して成形体とし、この成
形体に自然乾燥、調湿加熱等による乾燥処理を施して分
散媒を除去し、焼結工程に供しうる成形体とする方法は
、もっとも一般的な鋳込み成形法としてよく知られてい
る。
解膠剤等を添加してスラリー性状を調整した後、このス
ラリーを石膏型に鋳込み、水の一部を石膏型に吸収させ
ることによってスラリーを固化して成形体とし、この成
形体に自然乾燥、調湿加熱等による乾燥処理を施して分
散媒を除去し、焼結工程に供しうる成形体とする方法は
、もっとも一般的な鋳込み成形法としてよく知られてい
る。
分散媒としては種々なものが使用されるが、その除去手
段としては、一般的には加熱蒸発が採用され、また、分
散媒がパラフィンの場合には、加熱熱分解によっている
が、いずれも長時間を要するという点に難がある。
段としては、一般的には加熱蒸発が採用され、また、分
散媒がパラフィンの場合には、加熱熱分解によっている
が、いずれも長時間を要するという点に難がある。
一方、鋳込み成形、可塑成形あるいは、加圧成形などの
各種成形法によって得た多孔質成形体を高密度焼結体に
する有力な方法としては、熱間等方圧縮処理が知られて
いる。
各種成形法によって得た多孔質成形体を高密度焼結体に
する有力な方法としては、熱間等方圧縮処理が知られて
いる。
この方法は一般的には約５００〜２２００℃、約１００
〜３０００ｋｇ／ｃｎ（−Ｇの条件下にあるガスによっ
て成形体を等方圧縮しながら焼結を進行させるものであ
る。
〜３０００ｋｇ／ｃｎ（−Ｇの条件下にあるガスによっ
て成形体を等方圧縮しながら焼結を進行させるものであ
る。
この焼結を実施するにあたっては、ガスが成形体の空孔
に侵入することなく、ガス圧が成形体の空孔に及ぶよう
に、予め成形体に封孔処理をする必要がある。
に侵入することなく、ガス圧が成形体の空孔に及ぶよう
に、予め成形体に封孔処理をする必要がある。
その効果的な方法としては、特公昭５９−３５８７０号
あるいは西独特許３４０３９１７に記載されている方法
がある。
あるいは西独特許３４０３９１７に記載されている方法
がある。
このうち、前者に記載されている技術は、窒化ケイ素の
多孔質成形体上に、窒化ケイ素の焼結温度以下の温度（
１３００〜１６００℃）で高圧ガスに対する不透過膜に
添加しうる高融点ガラス、高融点ガラス形成物質または
高融点金属物質からなる第１物質の内側多孔質層、およ
び前記内側多孔質層における温度よりも低い温度（６０
０〜１１００℃）で高圧ガスに対する不透過膜に転化し
うる低融点ガラスまたは低融点ガラス形成物質からなる
第２物質の外側多孔質層を施した後、まず該多孔質成形
体に脱気処理を施し、次に前記外側多孔質層の高圧ガス
に対する不透過膜の形成に必要な温度ではあるが、内側
多孔質層が多孔質を維持する温度で加熱処理に供し、次
いで、内側多孔質層の高圧ガスに対する不透過膜の形成
に必要な温度まで、これらの層の外側のガス圧を層の内
側ガス圧よりも大きく維持しながら加熱した後、前記多
孔質成形体に温度１７００〜１８００℃、圧力２０００
〜３０００気圧の熱間等方加圧操作を施すという技術を
開示している。
多孔質成形体上に、窒化ケイ素の焼結温度以下の温度（
１３００〜１６００℃）で高圧ガスに対する不透過膜に
添加しうる高融点ガラス、高融点ガラス形成物質または
高融点金属物質からなる第１物質の内側多孔質層、およ
び前記内側多孔質層における温度よりも低い温度（６０
０〜１１００℃）で高圧ガスに対する不透過膜に転化し
うる低融点ガラスまたは低融点ガラス形成物質からなる
第２物質の外側多孔質層を施した後、まず該多孔質成形
体に脱気処理を施し、次に前記外側多孔質層の高圧ガス
に対する不透過膜の形成に必要な温度ではあるが、内側
多孔質層が多孔質を維持する温度で加熱処理に供し、次
いで、内側多孔質層の高圧ガスに対する不透過膜の形成
に必要な温度まで、これらの層の外側のガス圧を層の内
側ガス圧よりも大きく維持しながら加熱した後、前記多
孔質成形体に温度１７００〜１８００℃、圧力２０００
〜３０００気圧の熱間等方加圧操作を施すという技術を
開示している。
ここで多孔質成形体表面に多孔質層を形成させるにあた
っては、まず、粉末を水に分散させてスラリーをつくり
、これに多孔質成形体を浸漬し、次いでこれを乾燥する
のであるが、内側と外側の２層の多孔質部分を形成させ
るために時間のかかる乾燥操作を２度繰り返す必要があ
る。
っては、まず、粉末を水に分散させてスラリーをつくり
、これに多孔質成形体を浸漬し、次いでこれを乾燥する
のであるが、内側と外側の２層の多孔質部分を形成させ
るために時間のかかる乾燥操作を２度繰り返す必要があ
る。
一方の西独特許３４０３９１７は、複雑形状の多孔質セ
ラミックスの高密度化の方法として次の７エ程からなる
方法を開示している。すなわち、ａ、予備成形した多孔
質セラミックス成形体を焼結助剤を含まない物質を溶剤
に分散させた懸濁液に、浸漬して第１のカプセル層を形
成する。
ラミックスの高密度化の方法として次の７エ程からなる
方法を開示している。すなわち、ａ、予備成形した多孔
質セラミックス成形体を焼結助剤を含まない物質を溶剤
に分散させた懸濁液に、浸漬して第１のカプセル層を形
成する。
ｂ９溶剤を蒸発させる。
Ｃ０このようにして得た成形体を、焼結可能な工ないし
複数の焼結助剤を含む物質を溶剤に分散させた第２の懸
濁液に浸漬して第２のカプセル層を形成する。
複数の焼結助剤を含む物質を溶剤に分散させた第２の懸
濁液に浸漬して第２のカプセル層を形成する。
ｄ、溶剤を蒸発させる。
ｅ、このようにして得た成形体を、高温、ｆ′ｊ１．護
ガス雰囲気で十分焼結する。
ガス雰囲気で十分焼結する。
ｆ、Ｍｔ密に焼結された表面を有する成形体を公知の方
法によって熱間等方加熱処理する。
法によって熱間等方加熱処理する。
ｇ１両カプセル層を機械的に除去する。
というものである。
この場合においても、多孔質成形体表面に多孔質層を２
層形成させるなめに、溶剤を蒸発除去する操作を２度繰
り返している。当然のことながら、多孔質層を形成する
場合には、形成する層の数だけ蒸発操作を繰り返す必要
がある。
層形成させるなめに、溶剤を蒸発除去する操作を２度繰
り返している。当然のことながら、多孔質層を形成する
場合には、形成する層の数だけ蒸発操作を繰り返す必要
がある。
このように、上述した一般的な鋳込み成形法と特公昭５
９−３５８７０号公報あるいは西独特許３４０３９１７
に開示された高密度焼結体製造法とを適用して、金属粉
またはセラミック粉の高密度焼結体を製造することもで
きる。第２図はこの製造法を示す工程図である。
９−３５８７０号公報あるいは西独特許３４０３９１７
に開示された高密度焼結体製造法とを適用して、金属粉
またはセラミック粉の高密度焼結体を製造することもで
きる。第２図はこの製造法を示す工程図である。
すなわち、この方法は、金属粉またはセラミック粉のス
ラリーを鋳込み成形して成形体を得る工程、この成形体
から蒸発等によって分散媒を除去する工程、成形体をス
ラリーに浸漬し、次いで乾燥するという操作を所定の厚
みまで繰り返して第１層の膜を形成し、さらに成形体を
スラリ〜に浸漬し、次いで乾燥する操作を所定の厚みに
達するまで繰り返して第２層の膜を形成する膜形成工程
と乾燥工程、膜を加熱する不透過膜形成工程、および熱
間等方圧縮工程よりなる。
ラリーを鋳込み成形して成形体を得る工程、この成形体
から蒸発等によって分散媒を除去する工程、成形体をス
ラリーに浸漬し、次いで乾燥するという操作を所定の厚
みまで繰り返して第１層の膜を形成し、さらに成形体を
スラリ〜に浸漬し、次いで乾燥する操作を所定の厚みに
達するまで繰り返して第２層の膜を形成する膜形成工程
と乾燥工程、膜を加熱する不透過膜形成工程、および熱
間等方圧縮工程よりなる。
［発明が解決しようとする問題点］
しかし、上述の高密度焼結体製造法においては、膜形成
のために類似の操作を４回も繰り返す必要があるという
不都合があり、一連の工程の中での類似操作の繰り返し
が多すぎ、操作自体が繁雑となるのみならず、処理に長
時間分装するという欠点、があった。
のために類似の操作を４回も繰り返す必要があるという
不都合があり、一連の工程の中での類似操作の繰り返し
が多すぎ、操作自体が繁雑となるのみならず、処理に長
時間分装するという欠点、があった。
この発明はこのような従来技術の問題点を解決するため
になされたもので、工程が簡素化できる高密度焼結体の
製造法を提供することを目的とする。
になされたもので、工程が簡素化できる高密度焼結体の
製造法を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段及び作用］この発明は、
従来個別に分かれていた工程、すなわち鋳込み成形体か
らの分散媒の蒸発または超臨界抽出、成形体表面の膜の
乾燥の諸工程を、超臨界抽出法の適用によって１工程で
完了させることを可能にしたものである。
従来個別に分かれていた工程、すなわち鋳込み成形体か
らの分散媒の蒸発または超臨界抽出、成形体表面の膜の
乾燥の諸工程を、超臨界抽出法の適用によって１工程で
完了させることを可能にしたものである。
本発明は、具体的には
（Ａ）金属粉またはセラミック粉を超臨界流体によって
抽出可能な物質に分散剤を添加した分散媒に分散させて
スラリーとし、このスラリーを鋳込み成形して分散媒お
び分散剤を含有する成形体を得る工程、 （Ｂ）金属粉またはセラミック粉を超臨界流体によって
抽出可能な物質に分散剤を添加した分散媒に分散させて
スラリーとし、このスラリーを前記成形体の表面全体に
塗布して膜を形成する工程、（Ｃ）前記成形体および前
記膜に含まれる分散媒中の抽出可能成分を前記超臨界流
体により抽出除去し多孔質の膜付成形体を形成する工程
、（Ｄ）この多孔質の膜付成形体を加熱して膜をガス不
透過膜とする工程、および、 （Ｅ）膜をガス不透過膜にした前記膜付成形体を熱間等
方加圧処理を施す工程 の５工程からなる金属粉またはセラミック粉の高密度焼
結体の製造法である。
抽出可能な物質に分散剤を添加した分散媒に分散させて
スラリーとし、このスラリーを鋳込み成形して分散媒お
び分散剤を含有する成形体を得る工程、 （Ｂ）金属粉またはセラミック粉を超臨界流体によって
抽出可能な物質に分散剤を添加した分散媒に分散させて
スラリーとし、このスラリーを前記成形体の表面全体に
塗布して膜を形成する工程、（Ｃ）前記成形体および前
記膜に含まれる分散媒中の抽出可能成分を前記超臨界流
体により抽出除去し多孔質の膜付成形体を形成する工程
、（Ｄ）この多孔質の膜付成形体を加熱して膜をガス不
透過膜とする工程、および、 （Ｅ）膜をガス不透過膜にした前記膜付成形体を熱間等
方加圧処理を施す工程 の５工程からなる金属粉またはセラミック粉の高密度焼
結体の製造法である。
本発明において金属粉またはセラミック粉とは、２％Ｎ
１−９８％Ｆｅ粉、５ＵＡ３１６粉。
１−９８％Ｆｅ粉、５ＵＡ３１６粉。
ステライト粉等の金属粉、アルミナ、炭化ケイ素、窒化
ケイ素、ジルコニア等のセラミック粉。
ケイ素、ジルコニア等のセラミック粉。
炭化タングステン−コバルト、窒化チタン−ニッケル等
の金属とセラミック複合粉を含めた粉末を指称している
。
の金属とセラミック複合粉を含めた粉末を指称している
。
また、ここで使用する超臨界流体としては、特に制約は
ないが、二酸化炭素、エタン、エチレン、モノクロロト
リフルオロメタンなど臨界温度が常温に近い物質が扱い
易いので好ましい。
ないが、二酸化炭素、エタン、エチレン、モノクロロト
リフルオロメタンなど臨界温度が常温に近い物質が扱い
易いので好ましい。
分散媒の主要部分となる超臨界流体によって抽出するこ
との可能な物質としては、メチルアルコール、エチルア
ルコール、ｎ−１０ビルアルコール、ｉ−プロピルアル
コール、ｎ−ブチルアルコール、ｉ−ブチルアルコール
、Ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコールなどの
低級アルコール、アセトン、ステアリン酸、ステアリル
アルコール、パラフィンなどがある。
との可能な物質としては、メチルアルコール、エチルア
ルコール、ｎ−１０ビルアルコール、ｉ−プロピルアル
コール、ｎ−ブチルアルコール、ｉ−ブチルアルコール
、Ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコールなどの
低級アルコール、アセトン、ステアリン酸、ステアリル
アルコール、パラフィンなどがある。
（Ａ）工程の鋳込み成形に使用する鋳型としては、鋳型
へ分散媒を吸収させることによってスラリーの固化を達
成させる場合には、石膏あるいは多孔質樹脂などの吸液
性の鋳型を使用する。
へ分散媒を吸収させることによってスラリーの固化を達
成させる場合には、石膏あるいは多孔質樹脂などの吸液
性の鋳型を使用する。
また、これとは別に分散媒を凍結させることによりスラ
リーの固化を達成する場合には、非吸液性の材料によっ
て形成された鋳型を適用する。
リーの固化を達成する場合には、非吸液性の材料によっ
て形成された鋳型を適用する。
このような目的を達成するには、工具鋼のほか本、硬質
ゴム、アルミニウム、ステンレス、鋼などの材質のうち
から必要に応じて適宜選択して使用する。
ゴム、アルミニウム、ステンレス、鋼などの材質のうち
から必要に応じて適宜選択して使用する。
このＡ工程におけるスラリー濃度は、粉濃度で４０〜７
５％容積％とすることが好ましく、この範囲外、例えば
、４０容積％未満では分散媒除去後の成形体は密度が低
くなり収り扱いに耐えられない傾向を示し、その逆に濃
度が７５容積％超えると流動性が劣り鋳型内にうまく充
填できなくなる傾向が現れる。
５％容積％とすることが好ましく、この範囲外、例えば
、４０容積％未満では分散媒除去後の成形体は密度が低
くなり収り扱いに耐えられない傾向を示し、その逆に濃
度が７５容積％超えると流動性が劣り鋳型内にうまく充
填できなくなる傾向が現れる。
本発明では、分散媒に分散剤を０．５％を超え２０％以
下の範囲で添加することが必要である。
下の範囲で添加することが必要である。
これによってスラリーの流動性を効果的に向上させるこ
とが出来る。分散剤としてはグリセリントリオレエート
、天然魚油１合成界面活性剤、ベンゼンスルフォン酸、
オレイン酸、メチルオクタジエン、みつろう、ステアリ
ン酸等が使用できる。
とが出来る。分散剤としてはグリセリントリオレエート
、天然魚油１合成界面活性剤、ベンゼンスルフォン酸、
オレイン酸、メチルオクタジエン、みつろう、ステアリ
ン酸等が使用できる。
分散剤の添加量は、分散剤の種類によっても異なるが、
全分散媒中における割合が２０％を上限とする範囲にな
るようにすることが望ましい０分散剤割合が２０％を超
える量を添加しても分散効果に差はなく、むしろ超臨界
の二酸化炭素により抽出除去ができない物質が多くなり
好ましくない。
全分散媒中における割合が２０％を上限とする範囲にな
るようにすることが望ましい０分散剤割合が２０％を超
える量を添加しても分散効果に差はなく、むしろ超臨界
の二酸化炭素により抽出除去ができない物質が多くなり
好ましくない。
また、０．５％以下ではスラリーの粘性が上昇しスラリ
ーの鋳込みが困難となる。
ーの鋳込みが困難となる。
（Ｂ）工程のスラリーは、粉濃度で１０〜７５容積％と
する。この場合もスラリー濃度が、１０容積％未満では
分散媒の塗り重ね回数を多く要するようになり手間がか
かるし、一方、７５容積％超えるとスラリーの流動性が
悪く均一な膜形成が困難になる。
する。この場合もスラリー濃度が、１０容積％未満では
分散媒の塗り重ね回数を多く要するようになり手間がか
かるし、一方、７５容積％超えるとスラリーの流動性が
悪く均一な膜形成が困難になる。
また、この場合も（Ａ）工程の場合と同様に、分散媒に
分散剤を添加することが必要である。これによってスラ
リーの流動性を効果的に向上させることができる。
分散剤を添加することが必要である。これによってスラ
リーの流動性を効果的に向上させることができる。
膜は、（Ｅ）工程のあと焼結体からの除去が容易にでき
れば１層でもよいが、この除去操作が容易でない場合、
あるいはまた、内部と反応して焼結体表面の変質が問題
になる場合には２層とする。
れば１層でもよいが、この除去操作が容易でない場合、
あるいはまた、内部と反応して焼結体表面の変質が問題
になる場合には２層とする。
２層にするときには、まずその第１Ｊｌｌは、難焼結性
の不活性物質とし、第２層をガス不透過膜になりうる易
焼結物質とするが、ガス不透過膜をつくり易くするため
に焼結性の異なる２層で膜を構成してもよい。
の不活性物質とし、第２層をガス不透過膜になりうる易
焼結物質とするが、ガス不透過膜をつくり易くするため
に焼結性の異なる２層で膜を構成してもよい。
さらに、成形体とこの２層との間に不活性物質からなる
層をつくり３層構造としてもよい。
層をつくり３層構造としてもよい。
（Ｃ）工程は、成形体および膜の両方に含まれる分散媒
中の抽出可能成分を１工程で実施する。
中の抽出可能成分を１工程で実施する。
さ、らに、（Ｄ）工程は、常圧または真空中で行うが、
その雰囲気は成形体の材質によって定まり、例えば、窒
化ケイ素のように熱分解が問題になる場合では窒素ガス
によって加圧を行った状態で実施してもよい。
その雰囲気は成形体の材質によって定まり、例えば、窒
化ケイ素のように熱分解が問題になる場合では窒素ガス
によって加圧を行った状態で実施してもよい。
金属の場合では、アルゴン、窒素等の不活性ガスを使用
し、場合によってこれに水素を添加してもよい。
し、場合によってこれに水素を添加してもよい。
非酸化物系セラミックの場合には、不活性ガス雰囲気で
行うことが望ましいが、酸化物系セラミックの場合では
空気でもよい。
行うことが望ましいが、酸化物系セラミックの場合では
空気でもよい。
（Ｄ）工程を行うに先立って、必要に応じて（Ｃ）工程
で除去しきれなかった残留分散媒の加熱除去を行う工程
を入れてもよいし、また、（Ｄ）工程の途中で残留分散
媒の除去を行ってもよい。
で除去しきれなかった残留分散媒の加熱除去を行う工程
を入れてもよいし、また、（Ｄ）工程の途中で残留分散
媒の除去を行ってもよい。
このようにして形成するガス不透過膜は、工程Ｅの熱間
等方加圧の間、成形体の収縮に追従してガス不透過膜を
維持しつつ塑性変形する材質のうちから選択して使用す
る。
等方加圧の間、成形体の収縮に追従してガス不透過膜を
維持しつつ塑性変形する材質のうちから選択して使用す
る。
［発明の実施例］
以下、実施例に基づきこの発明を具体的に説明する。
５ｊｉＮ４粉９２重量部、Ｙ２Ｏ３粉６重量部、 Ａ
１２０３２重量部、パラフィン（融点６８℃）２０重量
部および分散剤としてオレイン酸３重量部（全分散媒に
対し１３％）を密閉タンク内に投入し、１００℃で２時
間撹拌してスラリーにした。ついでタンク内を減圧して
スラリーの脱気を行った。
１２０３２重量部、パラフィン（融点６８℃）２０重量
部および分散剤としてオレイン酸３重量部（全分散媒に
対し１３％）を密閉タンク内に投入し、１００℃で２時
間撹拌してスラリーにした。ついでタンク内を減圧して
スラリーの脱気を行った。
一方、７０ｍｍＸ１００市×１０市の平板状のキャビテ
ィを有するステンレス鋼製で冷却水配管を内蔵した鋳型
を２０℃の冷却水で冷却しておき、この鋳型に前記スラ
リーを４ｋｇ／ｃｎｆ（ゲージ圧）で鋳込み、成形体を
形成させた。
ィを有するステンレス鋼製で冷却水配管を内蔵した鋳型
を２０℃の冷却水で冷却しておき、この鋳型に前記スラ
リーを４ｋｇ／ｃｎｆ（ゲージ圧）で鋳込み、成形体を
形成させた。
次いで、８４重量部のＳｉ３Ｎ４．１２重１部のＹ２０
３．４重量部のＡｌ２Ｏ３からなる混合粉３５重量部を
ｉ−プロピルアルコール６５重呈部と混合して得なスラ
リーに浸漬し、１０分間空気中に保持し再び浸漬すると
いう操作を計５回繰り返して２層構造の膜を形成した。
３．４重量部のＡｌ２Ｏ３からなる混合粉３５重量部を
ｉ−プロピルアルコール６５重呈部と混合して得なスラ
リーに浸漬し、１０分間空気中に保持し再び浸漬すると
いう操作を計５回繰り返して２層構造の膜を形成した。
ついで、この成形体を圧力２００ｋｇ／ｃｎｔ（ゲージ
圧）、温度℃の超臨界状態の二酸化炭素により１．５時
間抽出を行ったところ、はぼ粉体重量に相当する重量に
なっていることが確認された。
圧）、温度℃の超臨界状態の二酸化炭素により１．５時
間抽出を行ったところ、はぼ粉体重量に相当する重量に
なっていることが確認された。
この成形体を、熱間等方加圧装置にセットし、真空脱気
、多孔質膜の不透膜化、熱間等方加圧処理を行った。第
１図は前記一連の処理工程における加熱、加圧条件の推
移を示した図である。すなわち先ず、真空脱気操作は、
１０００℃で０．２Ｔｏｒｒ到達まで保持することによ
り行い、多孔質膜の不透膜化は、１８００℃、１０ｋｇ
／ｃｏ（（ゲージ圧）窒素雰囲気中で１０分間保持し、
また、熱間等方加圧処理は、１７５０℃、２０００ｋｇ
／Ｃｒ１ｌ（ゲージ圧）の窒素雰囲気中２時間保持した
。
、多孔質膜の不透膜化、熱間等方加圧処理を行った。第
１図は前記一連の処理工程における加熱、加圧条件の推
移を示した図である。すなわち先ず、真空脱気操作は、
１０００℃で０．２Ｔｏｒｒ到達まで保持することによ
り行い、多孔質膜の不透膜化は、１８００℃、１０ｋｇ
／ｃｏ（（ゲージ圧）窒素雰囲気中で１０分間保持し、
また、熱間等方加圧処理は、１７５０℃、２０００ｋｇ
／Ｃｒ１ｌ（ゲージ圧）の窒素雰囲気中２時間保持した
。
冷却後、サンドブラストにかけて膜を除去したが、この
ようにして得た焼結体の理論密度は９９．７％の高密度
となっていた。
ようにして得た焼結体の理論密度は９９．７％の高密度
となっていた。
［発明の効果コ
この発明は、金属粉またはセラミック粉のスラリーを鋳
込み成形して成形体を形成した後、その成形体表面に膜
を形成させ、抽出可能成分の抽出除去を行い、膜付き成
形体を加熱して前記膜をガス不透過膜とし、次いで、熱
間等方加圧処理を施すという工程を超臨界抽出を利用す
ることにより１工程で行うようにしたので、工程を簡略
化し得たという効果がある。
込み成形して成形体を形成した後、その成形体表面に膜
を形成させ、抽出可能成分の抽出除去を行い、膜付き成
形体を加熱して前記膜をガス不透過膜とし、次いで、熱
間等方加圧処理を施すという工程を超臨界抽出を利用す
ることにより１工程で行うようにしたので、工程を簡略
化し得たという効果がある。
また、従来、膜形成時に使用した溶媒は、蒸発によって
除去しており、この場合には膜の収縮を伴うので亀裂の
発生を抑制することが困難であったが、この発明のよう
に超臨界抽出を適用することにより亀裂の発生はなく健
全な膜を得られやすくなったという効果を有するもので
ある。
除去しており、この場合には膜の収縮を伴うので亀裂の
発生を抑制することが困難であったが、この発明のよう
に超臨界抽出を適用することにより亀裂の発生はなく健
全な膜を得られやすくなったという効果を有するもので
ある。
第１図は本発明の一実施例における成形体の加熱、加圧
条件の推移を示した図、第２図は従来技術の組み合わせ
による高密度焼結体の製造法を示す工程図である。
条件の推移を示した図、第２図は従来技術の組み合わせ
による高密度焼結体の製造法を示す工程図である。
Claims (3)
- （１）（Ａ）金属粉またはセラミック粉を超臨界流体に
よつて抽出可能な物質に分散剤を添加した分散媒に分散
させてスラリーとし、このスラリーを鋳込み成形して分
散媒おび分散剤を含有する成形体を得る工程、 （Ｂ）金属粉またはセラミック粉を超臨界流体によって
抽出可能な物質に分散剤を添加した分散媒に分散させて
スラリーとし、このスラリーを前記成形体の表面全体に
塗布して膜を形成する工程、（Ｃ）前記成形体および前
記膜に含まれる分散媒中の抽出可能成分を前記超臨界流
体により抽出除去し多孔質の膜付成形体を形成する工程
、 （Ｄ）この多孔質の膜付成形体を加熱して膜をガス不透
過膜とする工程、および、 （Ｅ）膜をガス不透過膜にした前記膜付成形体を熱間等
方加圧処理を施す工程の５工程からなることを特徴とす
る金属粉またはセラミック粉の高密度焼結体の製造法。 - （２）（Ａ）工程および（Ｂ）工程における分散媒の主
要部分である超臨界流体によつて抽出可能な物質がパラ
フィンであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の金属粉またはセラミック粉の高密度焼結体の製造法
。 - （３）（Ａ）工程および（Ｂ）工程において使用する分
散剤の添加量が全分散媒に対し０．５％を超え２０％以
下の範囲であることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の金属粉またはセラミック粉の高密度焼結体の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30393287A JPH01145104A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 高密度燒結体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30393287A JPH01145104A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 高密度燒結体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01145104A true JPH01145104A (ja) | 1989-06-07 |
Family
ID=17927017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30393287A Pending JPH01145104A (ja) | 1987-11-30 | 1987-11-30 | 高密度燒結体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01145104A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5374391A (en) * | 1990-02-13 | 1994-12-20 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Molded ceramic articles and production method thereof |
| US5443615A (en) * | 1991-02-08 | 1995-08-22 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Molded ceramic articles |
| JP2016088842A (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-23 | 京セラ株式会社 | 通信機器外装部品およびこれを備えてなる通信機器 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63310776A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-19 | Nkk Corp | 高密度焼結体の製造法 |
-
1987
- 1987-11-30 JP JP30393287A patent/JPH01145104A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63310776A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-19 | Nkk Corp | 高密度焼結体の製造法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5374391A (en) * | 1990-02-13 | 1994-12-20 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Molded ceramic articles and production method thereof |
| US5443615A (en) * | 1991-02-08 | 1995-08-22 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Molded ceramic articles |
| JP2016088842A (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-23 | 京セラ株式会社 | 通信機器外装部品およびこれを備えてなる通信機器 |
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