JPH01146895A - グリゼオール酸ジエステル誘導体 - Google Patents
グリゼオール酸ジエステル誘導体Info
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- Saccharide Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、優れた眼圧低下作用を有する新規なグリゼオ
ール酸ジエステル誘導体に関する。
ール酸ジエステル誘導体に関する。
(従来の技術)
グリゼオール酸ジエステル誘導体としては、特開昭第6
0−94992号公報及び特開昭第61−100593
号公報記載の以下の化合物が公知である。
0−94992号公報及び特開昭第61−100593
号公報記載の以下の化合物が公知である。
(上記式中、R1及びR=は前記と同意義を示し、R”
及びR6′はメチル基又はジフェニルメチル基を示す。
及びR6′はメチル基又はジフェニルメチル基を示す。
)
しかしながら、これらの化合物は眼圧低下作用を有しな
い。
い。
(当該発明が解決しようとする間厘点)本発明者等は、
眼圧低下作用を有するグリゼオール酸誘導体の合成とそ
の薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果
、既知のエステル誘導体とは構造を異にする新規なメチ
ルエステル誘導体、f、あ、ユ77.エユヶ2.。ユチ
7.基がタ芽キソレン環又は置換カルボニルオキシ基で
修飾された誘導体が良好な眼圧低下作用を有し、優れた
緑内症治療薬となりうろことを見出し、本発明を完成し
た。
眼圧低下作用を有するグリゼオール酸誘導体の合成とそ
の薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果
、既知のエステル誘導体とは構造を異にする新規なメチ
ルエステル誘導体、f、あ、ユ77.エユヶ2.。ユチ
7.基がタ芽キソレン環又は置換カルボニルオキシ基で
修飾された誘導体が良好な眼圧低下作用を有し、優れた
緑内症治療薬となりうろことを見出し、本発明を完成し
た。
[構成]
本発明の新規なグリゼオール酸ジエステル誘導体は、
[式中、R1及びR2は同−又は異なって、水素原子又
は保護されていてもよい水酸基を示し、R3及びR4は
同一で水素原子を示すか又はR3とR4が一緒になって
単結合を示し R5及びRGは同−又は異なって、 一般式 R’−COOCH(R8)−(I I )、R
’−0COOCH(R”)−(I I I )又は(式
中、R7及びR9は、同−又は異なって、炭素数1乃至
10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数3乃
至10個のシクロアルキル基を示し、R8及びR”は、
同−又は異なって、水素原子、炭素数1乃至10個の直
鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数3乃至10個の
シクロアルキル基を示し、R11は、炭素数1乃至10
個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基、炭素数3乃至10
個のシクロアルキル基又は炭素数6乃至1oのアリール
基を示す。)を有する基を示す。]を有する。
は保護されていてもよい水酸基を示し、R3及びR4は
同一で水素原子を示すか又はR3とR4が一緒になって
単結合を示し R5及びRGは同−又は異なって、 一般式 R’−COOCH(R8)−(I I )、R
’−0COOCH(R”)−(I I I )又は(式
中、R7及びR9は、同−又は異なって、炭素数1乃至
10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数3乃
至10個のシクロアルキル基を示し、R8及びR”は、
同−又は異なって、水素原子、炭素数1乃至10個の直
鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数3乃至10個の
シクロアルキル基を示し、R11は、炭素数1乃至10
個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基、炭素数3乃至10
個のシクロアルキル基又は炭素数6乃至1oのアリール
基を示す。)を有する基を示す。]を有する。
上記一般式(I)において、R1及びR′!−で定義さ
れた「保護されていてもよい水酸基」の「保護基」分と
しては、反応における保護基及び生体に投与す′る際の
プロドラッグ化のための保護基を示し、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル
、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル
、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカ
ノイル、バルミトイル、ステアロイルのようなアルキル
カルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、ト
リクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロ
ゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのよう
な低級アルコキシアルキルカルボニル基、(E)−2−
メチル−2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボ
ニル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル、α−ナフトイ
ル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、2
−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイルのようなハ
ロゲン化アリールカルボニル基、2,4.6−トリメチ
ルベンゾイル、4−トルオイルのような低級アルキル化
アリールカルボニル基、4−アニソイルのような低級ア
ルコキシ化アリールカルボニル基、4−二トロベンゾイ
ル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカ
ルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイルの
ような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル
基、4−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリー
ルカルボニル基等の芳香族アシル基;テトラヒドロピラ
ン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イ
ル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テト
ラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニ
ル又はテトラヒドロチオピラニル基;テトラヒドロフラ
ン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イルのよ
うなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニ
ル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロ
ピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチ
ルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル
、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシ
リル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシ
リル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエニルジイソ
プロピルシリルのような1乃至2個のア、リール基で置
換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル基;メト
キシメチル、1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、
エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメ
チル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低
級アルコキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルの
ような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,
2.2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロ
エトキシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシメ
チル等のアルコキシメチル基;1−エトキシエチル、1
−メチル−1−メトキシエチル、1−(イソプロポキシ
)エチルのような低級アルコキシ化エチル基、2,2.
2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基、2
−(フェニルゼレニル)エチルのようなアリールゼレニ
ル化エチル基等の置換エチル基;ベンジル、フェネチル
、3−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナ
フチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル
、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチ
ルのような1乃至3個のアリール基で置換された低級ア
ルキル基、4−メチルベンジル、2.4.6−トリメチ
ルベンジル、3,4.5−トリメチルベンジル、4−メ
トキシベンジル、4−メトキシフエニルジフェニルメチ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−ク
ロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジ
ル、4−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−
二トロフェニル)メチル、ピペロニルのような低級アル
キル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基で
アリール環が置換された1乃至3個のアリール基で置換
された低級アルキル基等のアラルキル基;メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル
、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシカル
ボニル基、2.2.2−トリクロロエトキシカルボニル
、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハ
ロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級
アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのよ
うなアルケニルオキシカルボニル基;ベンジルオキシカ
ルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3
,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキ
シカルボニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又
はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラル
キルオキシカルボニル基のような反応における保護基及
びピバオイルオキシメチルオキシカルボニルのような生
体に投与する際のプロドラッグ化のための生体内で加水
分解され易い保護基を示し、好適には脂肪族アシル基及
び芳香族アシル基である。
れた「保護されていてもよい水酸基」の「保護基」分と
しては、反応における保護基及び生体に投与す′る際の
プロドラッグ化のための保護基を示し、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル
、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル
、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカ
ノイル、バルミトイル、ステアロイルのようなアルキル
カルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、ト
リクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロ
ゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのよう
な低級アルコキシアルキルカルボニル基、(E)−2−
メチル−2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボ
ニル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル、α−ナフトイ
ル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、2
−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイルのようなハ
ロゲン化アリールカルボニル基、2,4.6−トリメチ
ルベンゾイル、4−トルオイルのような低級アルキル化
アリールカルボニル基、4−アニソイルのような低級ア
ルコキシ化アリールカルボニル基、4−二トロベンゾイ
ル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカ
ルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイルの
ような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル
基、4−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリー
ルカルボニル基等の芳香族アシル基;テトラヒドロピラ
ン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イ
ル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テト
ラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニ
ル又はテトラヒドロチオピラニル基;テトラヒドロフラ
ン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イルのよ
うなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニ
ル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロ
ピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチ
ルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル
、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシ
リル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシ
リル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエニルジイソ
プロピルシリルのような1乃至2個のア、リール基で置
換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル基;メト
キシメチル、1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、
エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメ
チル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低
級アルコキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルの
ような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,
2.2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロ
エトキシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシメ
チル等のアルコキシメチル基;1−エトキシエチル、1
−メチル−1−メトキシエチル、1−(イソプロポキシ
)エチルのような低級アルコキシ化エチル基、2,2.
2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基、2
−(フェニルゼレニル)エチルのようなアリールゼレニ
ル化エチル基等の置換エチル基;ベンジル、フェネチル
、3−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナ
フチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル
、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチ
ルのような1乃至3個のアリール基で置換された低級ア
ルキル基、4−メチルベンジル、2.4.6−トリメチ
ルベンジル、3,4.5−トリメチルベンジル、4−メ
トキシベンジル、4−メトキシフエニルジフェニルメチ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−ク
ロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジ
ル、4−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−
二トロフェニル)メチル、ピペロニルのような低級アル
キル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基で
アリール環が置換された1乃至3個のアリール基で置換
された低級アルキル基等のアラルキル基;メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル
、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシカル
ボニル基、2.2.2−トリクロロエトキシカルボニル
、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハ
ロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級
アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのよ
うなアルケニルオキシカルボニル基;ベンジルオキシカ
ルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3
,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキ
シカルボニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又
はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラル
キルオキシカルボニル基のような反応における保護基及
びピバオイルオキシメチルオキシカルボニルのような生
体に投与する際のプロドラッグ化のための生体内で加水
分解され易い保護基を示し、好適には脂肪族アシル基及
び芳香族アシル基である。
R7、R8、R9、R”及びR”で定義された「炭素数
1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基」として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、S−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、1−エ
チルプロピル、ヘキシル、4−メチルペンチル、3−メ
チルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチ
ル、3.3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル
、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、
1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、2
−エチルブチル、ヘプチル、1−メチルヘキシル、2−
メチルヘキシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキ
シル、5−メチルヘキシル、1−プロピルブチル、4,
4−ジメチルペンチル、オクチル、1−メチルヘプチル
、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチ
ルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル
、1−プロピルブチル、2−エチルヘキシル、5,5−
ジメチルヘキシル、ノニル、3−メチルオクチル、4−
メチルオクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオク
チル、1−プロピルヘキシル、2−エチルヘプチル、6
,6−ジメチルへブチル、デシル、1−メチルノニル、
3−メチルノニル、8−メチルノニル、3−エチルオク
チル、3.7−シメチルオクチル、7.7−シメチルオ
クチルをあげることができるが、好適には炭素数1乃至
6の直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基」として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、S−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、1−エ
チルプロピル、ヘキシル、4−メチルペンチル、3−メ
チルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチ
ル、3.3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル
、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、
1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、2
−エチルブチル、ヘプチル、1−メチルヘキシル、2−
メチルヘキシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキ
シル、5−メチルヘキシル、1−プロピルブチル、4,
4−ジメチルペンチル、オクチル、1−メチルヘプチル
、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチ
ルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル
、1−プロピルブチル、2−エチルヘキシル、5,5−
ジメチルヘキシル、ノニル、3−メチルオクチル、4−
メチルオクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオク
チル、1−プロピルヘキシル、2−エチルヘプチル、6
,6−ジメチルへブチル、デシル、1−メチルノニル、
3−メチルノニル、8−メチルノニル、3−エチルオク
チル、3.7−シメチルオクチル、7.7−シメチルオ
クチルをあげることができるが、好適には炭素数1乃至
6の直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
R7、R8、R9、R”及びR”で定義された。
「炭素数3乃至10個のシクロアルキル基」としては、
例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル
、シクロノニル、シクロデシルのような3乃至10員飽
和環状炭化水素基を示し、好適には5乃至7員飽和環状
炭化水素基である。
例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル
、シクロノニル、シクロデシルのような3乃至10員飽
和環状炭化水素基を示し、好適には5乃至7員飽和環状
炭化水素基である。
R”で定義された「炭素数6乃至10個のアリール基」
としては、例えば、フェニル、ナフチルのような6乃至
10員環状芳香炭化水素基を示し。
としては、例えば、フェニル、ナフチルのような6乃至
10員環状芳香炭化水素基を示し。
好適には6員環状芳香炭化水素基である。
本発明の化合物(I)は、塩にすることができるが、そ
のような塩としては、好適には、弗化水素酸塩、塩酸塩
、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素
酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩及びメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホ
ン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスル
ホン酸塩。
のような塩としては、好適には、弗化水素酸塩、塩酸塩
、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素
酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩及びメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホ
ン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスル
ホン酸塩。
ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩のよ
うなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩
、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有
機酸塩をあげることができる。
うなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩
、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有
機酸塩をあげることができる。
本発明の化合物(I)は、分子内に不斉炭素を有し、各
々がS配位、R配位である立体異性体が存在するが、そ
の各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含
される。
々がS配位、R配位である立体異性体が存在するが、そ
の各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含
される。
化合物(I)において、好適な化合物としては、(1)
R’及びR2が同−又は異なって、水素原子又は脂肪族
アシル基又は芳香族アシル基で保護されていてもよい水
酸基である化合物 (2)R’及びR2が同−又は異なって、水素原子又は
水酸基である化合物 ′(3)R3及びR4が同一で水素原子を示すか又はR
3とR4が一緒になって単結合を示す化合物(4)R3
とR4が一緒になって単結合を示す化合物(5)R5及
びR6が同一で、 一般式 R’−COOCR(R8)−(I I )、R
’−0COOCH(R”)−(I I I )である化
合物 (fly) R’が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは
分枝鎖アルキル基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキ
ル基である化合物 (7)R8が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖若
しくは分枝鎖アルキル基である化合物(8)Rθが、水
素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若シくは分枝鎖アル
キル基である化合物(9)R’が、炭素数1乃至6個の
直鎖若しくは分枝鎖アルキル基である化合物 (10)R”が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖
若しくは分枝鎖アルキル基である化合物(11)R10
が、水素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基である化合物(12)R”が、フェニル基
、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又
は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基である化合物(
13) R” ”が、炭素数1乃至6個の直鎖若しぐは
分枝鎖アルキル基である化合物 (14) R”及びR=が同−又は異なって、水素原子
又は脂肪族アシル基又は芳香族アシル基で保護されてい
てもよい水酸基であり、R3及びR4が同一で水素原子
を示すか又はR3とR4が一緒になって単結合を示し、
R5及びRGが同一で、一般式R’−COOCH(R8
)−(I I )、R9−0COOCI((R”°’)
−(III)対 P1冒H2− −rr−0 (IV) であり、R7が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基
であり、R8が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖
若しくは分枝鎖アルキル基であり、R9が、炭素数1乃
至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、Rlo
が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基であり、R”が、フェニル基、炭素数1乃
至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数5乃
至7個のシクロアルキル基である化合物(15)R”及
びR2が同−又は異なって、水素原子又は水酸基であり
、R3とR4が一緒になって単結合を示し、R5及びR
6が同一で、 一般式R’−COOCH(R”)−(I I )、R’
−0COOCH(R”)−(I I I )であり、R
7が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基であり、R
8が、水素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基であり、R9が、炭素数1乃至6個の直
鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、R10が、水素原
子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基であり、R”が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基である化合物 をあげることができる。
R’及びR2が同−又は異なって、水素原子又は脂肪族
アシル基又は芳香族アシル基で保護されていてもよい水
酸基である化合物 (2)R’及びR2が同−又は異なって、水素原子又は
水酸基である化合物 ′(3)R3及びR4が同一で水素原子を示すか又はR
3とR4が一緒になって単結合を示す化合物(4)R3
とR4が一緒になって単結合を示す化合物(5)R5及
びR6が同一で、 一般式 R’−COOCR(R8)−(I I )、R
’−0COOCH(R”)−(I I I )である化
合物 (fly) R’が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは
分枝鎖アルキル基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキ
ル基である化合物 (7)R8が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖若
しくは分枝鎖アルキル基である化合物(8)Rθが、水
素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若シくは分枝鎖アル
キル基である化合物(9)R’が、炭素数1乃至6個の
直鎖若しくは分枝鎖アルキル基である化合物 (10)R”が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖
若しくは分枝鎖アルキル基である化合物(11)R10
が、水素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基である化合物(12)R”が、フェニル基
、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又
は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基である化合物(
13) R” ”が、炭素数1乃至6個の直鎖若しぐは
分枝鎖アルキル基である化合物 (14) R”及びR=が同−又は異なって、水素原子
又は脂肪族アシル基又は芳香族アシル基で保護されてい
てもよい水酸基であり、R3及びR4が同一で水素原子
を示すか又はR3とR4が一緒になって単結合を示し、
R5及びRGが同一で、一般式R’−COOCH(R8
)−(I I )、R9−0COOCI((R”°’)
−(III)対 P1冒H2− −rr−0 (IV) であり、R7が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基
であり、R8が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖
若しくは分枝鎖アルキル基であり、R9が、炭素数1乃
至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、Rlo
が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基であり、R”が、フェニル基、炭素数1乃
至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数5乃
至7個のシクロアルキル基である化合物(15)R”及
びR2が同−又は異なって、水素原子又は水酸基であり
、R3とR4が一緒になって単結合を示し、R5及びR
6が同一で、 一般式R’−COOCH(R”)−(I I )、R’
−0COOCH(R”)−(I I I )であり、R
7が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基であり、R
8が、水素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基であり、R9が、炭素数1乃至6個の直
鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、R10が、水素原
子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基であり、R”が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基である化合物 をあげることができる。
本発明の代表的化合物としては、例えば、第1〜3表に
記載する化合物を拳けることができるが、本発明はこれ
らの化合物に限定されるものではない。
記載する化合物を拳けることができるが、本発明はこれ
らの化合物に限定されるものではない。
R5=R6=R7−COOCH(R8)−の場合化合物
R1R2R”9R4R’ R8番号 10HOH単結合 CH3−CH3− 20HOH単結合 CHgCHz−CH3−30HOH
単結合 CH3(CHす、−H−40HOH単結合 C
H3(CHz)ニー CH3−50HOH単結合 (
CH3)zCH−H−60HOl(単結合 (CH3)
zCH−CH3−70HOH単結合 (CHz)zCH
−CH3CHニー80HOH単結合 CH3(CH,)
、−H−化合物R1R” R−’、R4R7R8番号 90HOH単結合 CHa(CH:)z−CH3−10
0HOH単結合 CH,(CHすa−CH3CHニー1
1 0HOH単結合 (CH3)2CHCH:!−H
−120HOH単結合 (CH3):ICHCH:!−
CH3−130HOH単結合 (Clh):CHCh−
CH3CHニー140HOH単結合 (CH3)3C−
H−150HOH単結合 (CH3)3C−CH3−1
60HOH単結合 (CHa)3C−CH3CH2−1
70HH単結合 (CH3)3C−H−180HH単結
合 (CH3)3C−CH3−19HOH単結合 (C
H3)3C−H−20HOH単結合 (CH3):IC
−CH3−210HOHH(CH3)3C−H− 220HOHH(CH3hC−CHz−230HOHH
(CHahC−CH3CHニー240HOH単結合 C
Ha(CH:)4− H−化合物R’ R” R
3,R4R7R8番号 250HOH単結合 CH,(CHす4− CH3−
260HOH単結合 CH3(CHすs−H−270H
OH単結合 CHa(CH:)s−CH3−280HO
H単結合 CHa(CH:)s−CH?CHニー290
HOH単結合 CH3(CHすs−CH,(CHす。−
300HOH単結合 シクロへキシル−H−310H
OH単結合 シクロハ、キシル−CH3−320HO
H単結合 CHa(CHz)?−CH3−330HOH
単結合 CHg(Ch)?−CH3CH2−340HO
H単結合 CH,(CHす8−H−350HOH単結合
CH3(CHz)a−CH3−360HOH単結合
CH3−CHg (CI(=) 5−370HOH単結
合 CHヨCHz−CH3(CHa7−第1表 R’=R’=R9−OCOOCH(R”)−の場合化合
物R” R′LR?、R4R9R”番号 380HOH単結合 CH3−H− 390HOH単結合 CHa、CH,−H−400HO
H単結合 cHgcH=−CH3−410HOH単結合
CH,(CH,)、−H−420HOH単結合 CH
3(CHz)z−CH3−430HOH単結合 CH3
(CH:)ニー CH3CHニー440HOH単結合
(C1h):CH−H−450HOH単結合 (CH
3)2CH−CH3−460HOH単結合 (CH3)
:ICH−CHgCH2−470HH単結合 (CH3
):CH−CH3−480HH単結合 (CH3)1C
H−CHxCIh−49’ OHHH(Clh):C
H−CH3−50HOH単結合 (CHx)zCH−C
H3−策旦表 化合物番号R” R’ R3,R4R11510H
OH単結合 CH3− 52HOH単結合 CH3− 530HH単結合 CH3− 540HOHHCHa− 550HOHHCHヨCH,− 560HOH単結合 CH3CH2−570HOH
単結合 CH3(CHす2−58 0HOH
単結合 CHa(CH,)、−590HOH単結合
CH3(CH:)4−60 0
HOH単結合 シクロへキシル−610HO
H単結合 フェニル−620HH単結合
フェニルー上記例示化合物のうち、好適な化合
物としては、2゜3;4.5,6,8,9.II、12
,14,15,16,17,18,19,22,25,
27,30゜31.35,41,42,44,45,4
6,47,49,51,52,53,54,55及び5
6の化合物をあげることができる。
R1R2R”9R4R’ R8番号 10HOH単結合 CH3−CH3− 20HOH単結合 CHgCHz−CH3−30HOH
単結合 CH3(CHす、−H−40HOH単結合 C
H3(CHz)ニー CH3−50HOH単結合 (
CH3)zCH−H−60HOl(単結合 (CH3)
zCH−CH3−70HOH単結合 (CHz)zCH
−CH3CHニー80HOH単結合 CH3(CH,)
、−H−化合物R1R” R−’、R4R7R8番号 90HOH単結合 CHa(CH:)z−CH3−10
0HOH単結合 CH,(CHすa−CH3CHニー1
1 0HOH単結合 (CH3)2CHCH:!−H
−120HOH単結合 (CH3):ICHCH:!−
CH3−130HOH単結合 (Clh):CHCh−
CH3CHニー140HOH単結合 (CH3)3C−
H−150HOH単結合 (CH3)3C−CH3−1
60HOH単結合 (CHa)3C−CH3CH2−1
70HH単結合 (CH3)3C−H−180HH単結
合 (CH3)3C−CH3−19HOH単結合 (C
H3)3C−H−20HOH単結合 (CH3):IC
−CH3−210HOHH(CH3)3C−H− 220HOHH(CH3hC−CHz−230HOHH
(CHahC−CH3CHニー240HOH単結合 C
Ha(CH:)4− H−化合物R’ R” R
3,R4R7R8番号 250HOH単結合 CH,(CHす4− CH3−
260HOH単結合 CH3(CHすs−H−270H
OH単結合 CHa(CH:)s−CH3−280HO
H単結合 CHa(CH:)s−CH?CHニー290
HOH単結合 CH3(CHすs−CH,(CHす。−
300HOH単結合 シクロへキシル−H−310H
OH単結合 シクロハ、キシル−CH3−320HO
H単結合 CHa(CHz)?−CH3−330HOH
単結合 CHg(Ch)?−CH3CH2−340HO
H単結合 CH,(CHす8−H−350HOH単結合
CH3(CHz)a−CH3−360HOH単結合
CH3−CHg (CI(=) 5−370HOH単結
合 CHヨCHz−CH3(CHa7−第1表 R’=R’=R9−OCOOCH(R”)−の場合化合
物R” R′LR?、R4R9R”番号 380HOH単結合 CH3−H− 390HOH単結合 CHa、CH,−H−400HO
H単結合 cHgcH=−CH3−410HOH単結合
CH,(CH,)、−H−420HOH単結合 CH
3(CHz)z−CH3−430HOH単結合 CH3
(CH:)ニー CH3CHニー440HOH単結合
(C1h):CH−H−450HOH単結合 (CH
3)2CH−CH3−460HOH単結合 (CH3)
:ICH−CHgCH2−470HH単結合 (CH3
):CH−CH3−480HH単結合 (CH3)1C
H−CHxCIh−49’ OHHH(Clh):C
H−CH3−50HOH単結合 (CHx)zCH−C
H3−策旦表 化合物番号R” R’ R3,R4R11510H
OH単結合 CH3− 52HOH単結合 CH3− 530HH単結合 CH3− 540HOHHCHa− 550HOHHCHヨCH,− 560HOH単結合 CH3CH2−570HOH
単結合 CH3(CHす2−58 0HOH
単結合 CHa(CH,)、−590HOH単結合
CH3(CH:)4−60 0
HOH単結合 シクロへキシル−610HO
H単結合 フェニル−620HH単結合
フェニルー上記例示化合物のうち、好適な化合
物としては、2゜3;4.5,6,8,9.II、12
,14,15,16,17,18,19,22,25,
27,30゜31.35,41,42,44,45,4
6,47,49,51,52,53,54,55及び5
6の化合物をあげることができる。
更に、好適な化合物としては、8,9,11,12,1
4,15,16゜17、18.19.22,31.45
,46,47,49,51,55及び56の化合物を本
発明のグリゼオール酸ジエステルは、以下に記載する方
法によって製造することができる。
4,15,16゜17、18.19.22,31.45
,46,47,49,51,55及び56の化合物を本
発明のグリゼオール酸ジエステルは、以下に記載する方
法によって製造することができる。
〔6〕
上記式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は前
記と同意義を示し、R”は、メチリデン、エチリデン、
イソプロピリデンのような低級アルキリデン基;ベンジ
リデンのようなアラルキリデン基又はメトキシエチリデ
ン、エトキシエチリデンのようなアルコキシエチリデン
基等のジヒドロキシ基の保護基を拳げることかでき、好
適にはインプロピリデンである。
記と同意義を示し、R”は、メチリデン、エチリデン、
イソプロピリデンのような低級アルキリデン基;ベンジ
リデンのようなアラルキリデン基又はメトキシエチリデ
ン、エトキシエチリデンのようなアルコキシエチリデン
基等のジヒドロキシ基の保護基を拳げることかでき、好
適にはインプロピリデンである。
第A:上TJIは、原料化合物(1)を溶媒中で脱酸剤
の存在下に、1当量の 一般式R’−COOCR(R8)−X (I
I )、R’−0COOCH(R”)−X (
I I I ) 又は(式中、R7、R8、R9、R”
及びR11は、前記と同意義を示し、Xは、塩素、臭素
、沃素のようなハロゲン原子7アセトキシ、プロピオニ
ルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ基、クロロ
アセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロ
アセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのような
ハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基、メトキシアセ
チルオキシのような低級アルコキシアルキルカルボニル
オキシ基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルオキシ
のような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族
アシルオキシ基;ベンゾイルオキシのようなアリールカ
ルボニルオキシ基、2−ブロモベンゾイルオキシ、4−
クロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリールカ
ルボニルオキシ基、2.4.6−トリメチルベンゾイル
オキシ、4−トルオイルオキシのような低級アルキル化
アリールカルボニルオキシ基、4−アニソイルオキシの
ような低級アルコキシ化アリールカルボニルオキシ基、
4−ニトロベンゾイルオキシ、2−ニトロベンゾイルオ
キシのようなニトロ化アリールカルボニルオキシ基等の
芳香族アシルオキシ基;トリクロロメチルオキシのよう
なトリハロゲノメチルオキシ基;メタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスル
ホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ
、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロ
ゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホ
ニルオキシ、P−トルエンスルホニルオキシのようなア
リールスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。)で示さ
れるエステル化試薬を反応させ、所望により、R1又は
R2の水酸基の保護基を除去し、8′−モノエステル体
(2)及び9′−モノエステル体(3)を製造する工程
である。
の存在下に、1当量の 一般式R’−COOCR(R8)−X (I
I )、R’−0COOCH(R”)−X (
I I I ) 又は(式中、R7、R8、R9、R”
及びR11は、前記と同意義を示し、Xは、塩素、臭素
、沃素のようなハロゲン原子7アセトキシ、プロピオニ
ルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ基、クロロ
アセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロ
アセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのような
ハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基、メトキシアセ
チルオキシのような低級アルコキシアルキルカルボニル
オキシ基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルオキシ
のような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族
アシルオキシ基;ベンゾイルオキシのようなアリールカ
ルボニルオキシ基、2−ブロモベンゾイルオキシ、4−
クロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリールカ
ルボニルオキシ基、2.4.6−トリメチルベンゾイル
オキシ、4−トルオイルオキシのような低級アルキル化
アリールカルボニルオキシ基、4−アニソイルオキシの
ような低級アルコキシ化アリールカルボニルオキシ基、
4−ニトロベンゾイルオキシ、2−ニトロベンゾイルオ
キシのようなニトロ化アリールカルボニルオキシ基等の
芳香族アシルオキシ基;トリクロロメチルオキシのよう
なトリハロゲノメチルオキシ基;メタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスル
ホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ
、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロ
ゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホ
ニルオキシ、P−トルエンスルホニルオキシのようなア
リールスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。)で示さ
れるエステル化試薬を反応させ、所望により、R1又は
R2の水酸基の保護基を除去し、8′−モノエステル体
(2)及び9′−モノエステル体(3)を製造する工程
である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセト
ニトリルのようなニトリル類及び上記溶媒の混合溶媒を
挙げることができる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセト
ニトリルのようなニトリル類及び上記溶媒の混合溶媒を
挙げることができる。
使用される脱酸剤としては、通常の反応において脱酸剤
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N、N−ジメ
チルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、■
。
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N、N−ジメ
チルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、■
。
5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5−エン、1
.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1゜8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン(
DBU)のような有機塩基類を拳げることかでき、特に
好適にはDBUである。
.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1゜8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン(
DBU)のような有機塩基類を拳げることかでき、特に
好適にはDBUである。
エステル化試薬の脱離基Xとしては、好適には塩素、臭
素、沃素のようなハロゲン原子であり、特に好適には沃
素原子である。
素、沃素のようなハロゲン原子であり、特に好適には沃
素原子である。
反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適には
、20℃乃至70℃であり、特に好適には室温である。
、20℃乃至70℃であり、特に好適には室温である。
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、脱酸剤の種類によって異なるが、通常1時間乃至
4日間である。
溶媒、脱酸剤の種類によって異なるが、通常1時間乃至
4日間である。
所望の水酸基保護基の脱保護の工程はその保護基の種類
によって異なるが、一般にこの分野の技術において周知
の方法によって以下の様に実施される。
によって異なるが、一般にこの分野の技術において周知
の方法によって以下の様に実施される。
水酸基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を使
用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応時
間は特に限定はないが、通常室温で10乃至18時間反
応させる。
用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応時
間は特に限定はないが、通常室温で10乃至18時間反
応させる。
水酸基の保護基が、アラルキルオキシカルボニル基又は
アラルキル基である場合には、通常、還元剤と接触させ
ることにより除去することができる。例えば、パラジウ
ム炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、常
温にて接触還元を行なうことにより達成される。反応は
溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び使用す
る還元剤等によって異なるが、通常は0℃乃至室温で、
5分乃至12時間である。
アラルキル基である場合には、通常、還元剤と接触させ
ることにより除去することができる。例えば、パラジウ
ム炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、常
温にて接触還元を行なうことにより達成される。反応は
溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び使用す
る還元剤等によって異なるが、通常は0℃乃至室温で、
5分乃至12時間である。
又、液体アンモニア中若しくはメタノール、エタノール
のようなアルコール中において、−78℃〜−20℃で
、金属リチウム若しくはナトリウムを作用させることに
よっても除去できる。
のようなアルコール中において、−78℃〜−20℃で
、金属リチウム若しくはナトリウムを作用させることに
よっても除去できる。
更に、塩化アルミニウムー沃化ナトリウム又はトリメチ
ルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド類
を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在下
に行なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、アセ
トニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの
混合溶媒が使用される。反応温度は出発物質等によって
異なるが、通常は0℃乃至50℃である。
ルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド類
を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在下
に行なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、アセ
トニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの
混合溶媒が使用される。反応温度は出発物質等によって
異なるが、通常は0℃乃至50℃である。
尚、反応基質が硫黄原子を有する場合においては、好適
には、塩化アルミニウムー沃化ナトリウムが用いられる
。
には、塩化アルミニウムー沃化ナトリウムが用いられる
。
水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルコキシカルボニル基である場合には、溶媒の存在
下に、塩基で処理することにより除去することかできる
。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないも
のであれば特に限定はないが、好適にはナトリウムメト
キシドのような金属アルコラード類、アンモニア水、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて
実施される。
はアルコキシカルボニル基である場合には、溶媒の存在
下に、塩基で処理することにより除去することかできる
。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないも
のであれば特に限定はないが、好適にはナトリウムメト
キシドのような金属アルコラード類、アンモニア水、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて
実施される。
使用される溶媒としては通常の加水分解反応に使用され
るものであれば特に限定はなく、水、メタノール、エタ
ノール、n−プロパツールのようなアルコール類若しく
はテトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
のような有機溶媒又は水と有機溶媒との混合溶媒が好適
である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩
基等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑制す
るために、通常は0℃乃至150℃で、■乃至10時間
である。
るものであれば特に限定はなく、水、メタノール、エタ
ノール、n−プロパツールのようなアルコール類若しく
はテトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
のような有機溶媒又は水と有機溶媒との混合溶媒が好適
である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩
基等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑制す
るために、通常は0℃乃至150℃で、■乃至10時間
である。
水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホン酸又
は酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類;テトラヒドロうラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる酸の種類等によって異なるが、通常
は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホン酸又
は酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類;テトラヒドロうラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる酸の種類等によって異なるが、通常
は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少な〈実施することができる
。
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少な〈実施することができる
。
反応終了後、本反応の目的化合物(2)又は(3)は常
法に従って、反応混合物から採取される。
法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製でき、単
一の(2)又は(3)を得ることができる。
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製でき、単
一の(2)又は(3)を得ることができる。
第fは、原料化合物(1)の7′位水酸基と9′位カル
ボキシ基の水酸基を、溶媒の存在又は非存在下に、酸触
媒の存在下、ジヒドロキシ基の保護基で保護し、化合物
(4)を製造する工程である。この工程においては、硫
酸銅、硫酸ナトリウム、炭化カルシウムのような脱水剤
やモレキュラーシーブを用いたり、共沸を利用して水を
除きながら行なうこともできる。
ボキシ基の水酸基を、溶媒の存在又は非存在下に、酸触
媒の存在下、ジヒドロキシ基の保護基で保護し、化合物
(4)を製造する工程である。この工程においては、硫
酸銅、硫酸ナトリウム、炭化カルシウムのような脱水剤
やモレキュラーシーブを用いたり、共沸を利用して水を
除きながら行なうこともできる。
ジヒドロキシ基の保護化工程に用いられる試薬としては
、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトンのよ
うな低級アルキルカルボニル化合物;ベンズアルデヒド
のようなアリールカルボニル化合物又はトリメチルオル
トギ酸エステル、トリエチルオルトギ酸エステルのよう
な低級アルキルオルトギ酸エステルを拳げることができ
、好適には低級アルキルカルボニル化合物であり、更に
好適にはアセトンである。
、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトンのよ
うな低級アルキルカルボニル化合物;ベンズアルデヒド
のようなアリールカルボニル化合物又はトリメチルオル
トギ酸エステル、トリエチルオルトギ酸エステルのよう
な低級アルキルオルトギ酸エステルを拳げることができ
、好適には低級アルキルカルボニル化合物であり、更に
好適にはアセトンである。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノ
ール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパツー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;アセトンのようなケトン類を挙げること
ができ、保護化の試薬としてアセトンが使用される場合
には溶媒を兼ねてアセトンが用いられる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノ
ール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパツー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;アセトンのようなケトン類を挙げること
ができ、保護化の試薬としてアセトンが使用される場合
には溶媒を兼ねてアセトンが用いられる。
使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸のような無機酸
又はパラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンス
テッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズのようなルイス酸
をあげることができ、好適には有機酸であり、更に好適
には有機強酸である。
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸のような無機酸
又はパラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンス
テッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズのようなルイス酸
をあげることができ、好適には有機酸であり、更に好適
には有機強酸である。
反応温度は一10℃乃至100℃で行なわれるが、好適
には、0℃乃至室温である。
には、0℃乃至室温である。
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、酸触媒の種類によって異なるが、通常10分間乃
至3日間である。
溶媒、酸触媒の種類によって異なるが、通常10分間乃
至3日間である。
反応終了後、本反応の目的化合物(4)は常法に従って
、反応混合物から採取できる。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。
、反応混合物から採取できる。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きるが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなア
ルカリ金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物等の
有機溶媒に不溶性の塩基を用いて中和し、不溶物を濾去
した後、溶媒を留去する操作をするのみで、特に単離精
製することなく、第A−3工程に付される。
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きるが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなア
ルカリ金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物等の
有機溶媒に不溶性の塩基を用いて中和し、不溶物を濾去
した後、溶媒を留去する操作をするのみで、特に単離精
製することなく、第A−3工程に付される。
1−ユy工程は、化合物(4)を、第A−1工程と同様
に処理して化合物(5)を製造する工程である。
に処理して化合物(5)を製造する工程である。
万へ二生二程は、化合物(5)のジヒドロキシ基の保護
基を、溶媒の存在又は非存在下に、酸触媒で除去し、更
に所望により、7′位水酸基を保護して、化合物(2)
を製造する工程である。
基を、溶媒の存在又は非存在下に、酸触媒で除去し、更
に所望により、7′位水酸基を保護して、化合物(2)
を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類:エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノ
ール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパツー
ル、n−ブタノール、インブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;アセトンのようなケトン類を挙げること
ができる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類:エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノ
ール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパツー
ル、n−ブタノール、インブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;アセトンのようなケトン類を挙げること
ができる。
使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸のような無機酸
又はパラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、クエン酸のような有機酸等
のブレンステッド酸をあげることができ、好適には有機
酸であり、更に好適にはトリフルオロ酢酸である。
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸のような無機酸
又はパラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、クエン酸のような有機酸等
のブレンステッド酸をあげることができ、好適には有機
酸であり、更に好適にはトリフルオロ酢酸である。
反応温度は一10℃乃至100℃で行なわれるが、好適
には、0℃乃至室温である。
には、0℃乃至室温である。
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、酸触媒の種類によって異なるが、通常10分間乃
至1日間である。
溶媒、酸触媒の種類によって異なるが、通常10分間乃
至1日間である。
反応終了後、本反応の目的化合物(2)は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
えΔユ旦工程は、化合物(2)又は(3)を原料として
、第A−1工程で使用したエステル化試薬と同−又は異
なったエステル化試薬を用い、第A−1工程と同様に処
理して本発明化合物(6)を製造する工程である。
、第A−1工程で使用したエステル化試薬と同−又は異
なったエステル化試薬を用い、第A−1工程と同様に処
理して本発明化合物(6)を製造する工程である。
β1
気二1〕
(7二−上記式中、R”、R’、R3、R4及び
R5は前記と同意義を示す。
(7二−上記式中、R”、R’、R3、R4及び
R5は前記と同意義を示す。
策l工程は1M料化合物(1)と、大過剰のエステル化
試薬を用い、第A−1工程と同様に処理して、8′位カ
ルボキシ基と9′位カルボキシ基が同一の基で保護され
た本発明化合物(7)を製造する工程である。
試薬を用い、第A−1工程と同様に処理して、8′位カ
ルボキシ基と9′位カルボキシ基が同一の基で保護され
た本発明化合物(7)を製造する工程である。
本発明の原料化合物は、公知化合物であり、例えば、特
開昭第60−94992号公報、特開昭第60−149
394号公報、特開昭第60−246396号公報及び
特開昭第61−100593号公報に記載の方法で製造
することができる。 又、本発明のエステル化試薬R’
−COOCH(RO)−X (I I )、
R9−0COOCH(R”)−X (I I I
) 又は(式中、R7、R8、R9、R”、R1l
及びXは前記と同意義を示す。)は、次のようにして製
造されるか、又は市販の試薬が用いられる。
開昭第60−94992号公報、特開昭第60−149
394号公報、特開昭第60−246396号公報及び
特開昭第61−100593号公報に記載の方法で製造
することができる。 又、本発明のエステル化試薬R’
−COOCH(RO)−X (I I )、
R9−0COOCH(R”)−X (I I I
) 又は(式中、R7、R8、R9、R”、R1l
及びXは前記と同意義を示す。)は、次のようにして製
造されるか、又は市販の試薬が用いられる。
R7CD>(+ R日CHO→
R/ C00C)((R8〕−X
(ID
COXり+ R1口CHO→
XCXC00C)−1(R1′)−×+ R”OH→R
”0COOC)−1(R1口) −X(III) (式中、R7、R8、R9、R10及びXは前記と同意
義を示す。) 即ち、カルボン酸R’C0OHの活性誘導体R7C0X
とアルデヒド化合物R8CHOを、溶媒中、塩基の存在
下、常法に従って反応させることによって、化合物(I
I)を製造できる。
”0COOC)−1(R1口) −X(III) (式中、R7、R8、R9、R10及びXは前記と同意
義を示す。) 即ち、カルボン酸R’C0OHの活性誘導体R7C0X
とアルデヒド化合物R8CHOを、溶媒中、塩基の存在
下、常法に従って反応させることによって、化合物(I
I)を製造できる。
ホスゲン誘導体COX、とアルデヒド化合物RIOCH
Oを、溶媒中、塩基の存在下、常法に従って反応させ、
更にアルコール化合物R’OHと常法に従って反応させ
ることによって、化合物(III)を製造できる。
Oを、溶媒中、塩基の存在下、常法に従って反応させ、
更にアルコール化合物R’OHと常法に従って反応させ
ることによって、化合物(III)を製造できる。
1こR31こ)−10+ F?11CHO→CH−、
CH(OH) −C(23−R”→、〕
co〉く2(式中、R”及びXは前
記と同意義を示す。)公知の方法[例えば、ケミカル・
ファーム・ブレティン、32巻、4316頁 (198
4年)、同22418頁 (1984年)、33巻、4
870頁 (1985年)記載の方法)に従って、アル
デヒド化合物R11CHOとアセトアルデヒドを、常法
に従って、アシロイン縮合させ、生成物に、溶媒中、ホ
スゲン誘導体を反応させる。生成物品メチル基を、常法
に従って、ハロゲン分子でラジカル反応によりハロゲン
化し、所望によりハロゲン原子をX基に置換し、[効果
] 正′ 、 土− 本化合物の眼圧降下作用の検討は、眼に異常のない雄性
ニューシーラント ホワイト児(体重約2.5kg)を
1群3羽として使用し実施した。動物は温度23℃、湿
度60%の飼育室にて飼育し、餌は制限給餌、水は自由
摂取させた。被検物質は本化合物を0.4%の塩化ナト
リウムを含有する50mMリン酸緩衝液(pH7,0)
に溶解し、その濃度を基本的には1%としたものを使用
した。
CH(OH) −C(23−R”→、〕
co〉く2(式中、R”及びXは前
記と同意義を示す。)公知の方法[例えば、ケミカル・
ファーム・ブレティン、32巻、4316頁 (198
4年)、同22418頁 (1984年)、33巻、4
870頁 (1985年)記載の方法)に従って、アル
デヒド化合物R11CHOとアセトアルデヒドを、常法
に従って、アシロイン縮合させ、生成物に、溶媒中、ホ
スゲン誘導体を反応させる。生成物品メチル基を、常法
に従って、ハロゲン分子でラジカル反応によりハロゲン
化し、所望によりハロゲン原子をX基に置換し、[効果
] 正′ 、 土− 本化合物の眼圧降下作用の検討は、眼に異常のない雄性
ニューシーラント ホワイト児(体重約2.5kg)を
1群3羽として使用し実施した。動物は温度23℃、湿
度60%の飼育室にて飼育し、餌は制限給餌、水は自由
摂取させた。被検物質は本化合物を0.4%の塩化ナト
リウムを含有する50mMリン酸緩衝液(pH7,0)
に溶解し、その濃度を基本的には1%としたものを使用
した。
兎の両眼を眼科用表面麻酔剤(0,4%ベノキシール:
参天製薬)を用いて点眼麻酔後、両眼の眼圧をP T
G (Pheumatonograph:Alcon)
にて測定した。
参天製薬)を用いて点眼麻酔後、両眼の眼圧をP T
G (Pheumatonograph:Alcon)
にて測定した。
その後、被検物質を左右いずれかの眼(実験眼)に50
%m点眼しく0.5%チモロールは30μm)、その6
0分後に再び同量を点眼した(合計2回)。
%m点眼しく0.5%チモロールは30μm)、その6
0分後に再び同量を点眼した(合計2回)。
一方、反対側の眼には点眼を行なわず対照眼とした。被
検物質の初回点眼後、30.60.90.120.15
0.180分後に両眼の眼圧を測定し、得た実測値を下
記の式に代入し被検物質の眼圧降下値を算出した。 眼
圧降下(mm)Ig) =対照眼眼圧値−実験眼眼圧値
)−(初回点眼直前の対照眼眼圧値−初回点眼直前の実
験眼眼圧値) そして、各測定時間の眼圧降下値の平均値を求め、0.
5%チモロールの値を1とした場合の被検物質の値を算
出した。
検物質の初回点眼後、30.60.90.120.15
0.180分後に両眼の眼圧を測定し、得た実測値を下
記の式に代入し被検物質の眼圧降下値を算出した。 眼
圧降下(mm)Ig) =対照眼眼圧値−実験眼眼圧値
)−(初回点眼直前の対照眼眼圧値−初回点眼直前の実
験眼眼圧値) そして、各測定時間の眼圧降下値の平均値を求め、0.
5%チモロールの値を1とした場合の被検物質の値を算
出した。
態、への 。
薬 剤 薬剤濃度 眼圧低下作用% チモ
ロール比 グリゼオール酸 1.0 −0.12グリゼ
オール酸 ジメチルエステル 0.033 −0.01実施例
1の化合物 0.002 0,77実施例2の
化合物 0.01 0.58実施例3の化合
物 0.01 0.50ユ 4の 八
〇、002 0.08上記の様に、本発明
の新規なグリゼオール酸ジエステル誘導体は、優れた眼
圧低下作用を有し、且つ、毒性もないので、緑内障の治
療剤として有用である。
ロール比 グリゼオール酸 1.0 −0.12グリゼ
オール酸 ジメチルエステル 0.033 −0.01実施例
1の化合物 0.002 0,77実施例2の
化合物 0.01 0.58実施例3の化合
物 0.01 0.50ユ 4の 八
〇、002 0.08上記の様に、本発明
の新規なグリゼオール酸ジエステル誘導体は、優れた眼
圧低下作用を有し、且つ、毒性もないので、緑内障の治
療剤として有用である。
本発明の化合物(I)の投与形態としては、溶液、懸濁
液、ゲル、軟膏または固形挿入剤の如き、眼への局所投
与に適した眼科用医薬組成物の形で投与されるのが好ま
しい。これらの組成物の処方は0.01乃至10%、特
に0.1乃至5%の本願発明化合物を含むことができる
。また本願発明化合物を単一の医薬として含む以外にマ
レイン酸チモロールのようなβ−ブロッカ−剤もしくは
副交感神経刺激興奮剤であるピロカルピンのような薬剤
を共に含むこともできる。
液、ゲル、軟膏または固形挿入剤の如き、眼への局所投
与に適した眼科用医薬組成物の形で投与されるのが好ま
しい。これらの組成物の処方は0.01乃至10%、特
に0.1乃至5%の本願発明化合物を含むことができる
。また本願発明化合物を単一の医薬として含む以外にマ
レイン酸チモロールのようなβ−ブロッカ−剤もしくは
副交感神経刺激興奮剤であるピロカルピンのような薬剤
を共に含むこともできる。
活性組成物を含む医薬製剤は、好便に無毒の医薬用無機
または有機担体を混合することができる。
または有機担体を混合することができる。
典型的な医薬的に受容し得る担体は、例えば水、低級ア
ルカノールまたはアルカノールのような水と混和する溶
剤と水との混合物、植物油、ポリアルキレングリコール
、石油を基剤とするシェリー、エチルセルロース、オレ
イン酸エチル、カルボキシメチルセルロース、ポリビニ
ルピロリドン、ミリスチン酸イソプロピル及びその他の
好便に使用する受容可能な担体である。また医薬製剤は
、乳化剤、防腐剤1、湿潤剤、賦形剤などのような無毒
の補助物質、例えばポリエチレングリコール200.3
00.400及び600、カーボワックス1,000.
1 、500.4 、000.6,000及び10,0
00、低温殺菌性を持つことが知られており且つ使用し
て無毒な、第四級アンモニウム化合物、フェニル水銀塩
のよう、 な抗菌剤、チメロサール、メチル及びプロ
ピルパラベン、ベンジルアルコール、フェニルエタノー
ル、食塩、ホウ酸ナトリウム、酢酸ナトリウムのような
緩衝剤成分、グルコン酸緩衝剤、及びソルビタンモノラ
ウレート、トリエタノールアミン、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノパルミチレート、ジオクチルナトリウム
スルホサクシネート、モノチオグリセロール、チオソル
ビトール、エチレンジアミン四酢酸などを含むこともで
きる。更に適当な眼科用賦形剤を本発明の目的の担体媒
質として使用することができ、それらには通常のリン酸
緩衝賦形剤系、等張性ホウ酸賦形剤、等優性食塩賦形剤
、等張性ホウ酸ナトリウム賦形剤などが含まれる。
ルカノールまたはアルカノールのような水と混和する溶
剤と水との混合物、植物油、ポリアルキレングリコール
、石油を基剤とするシェリー、エチルセルロース、オレ
イン酸エチル、カルボキシメチルセルロース、ポリビニ
ルピロリドン、ミリスチン酸イソプロピル及びその他の
好便に使用する受容可能な担体である。また医薬製剤は
、乳化剤、防腐剤1、湿潤剤、賦形剤などのような無毒
の補助物質、例えばポリエチレングリコール200.3
00.400及び600、カーボワックス1,000.
1 、500.4 、000.6,000及び10,0
00、低温殺菌性を持つことが知られており且つ使用し
て無毒な、第四級アンモニウム化合物、フェニル水銀塩
のよう、 な抗菌剤、チメロサール、メチル及びプロ
ピルパラベン、ベンジルアルコール、フェニルエタノー
ル、食塩、ホウ酸ナトリウム、酢酸ナトリウムのような
緩衝剤成分、グルコン酸緩衝剤、及びソルビタンモノラ
ウレート、トリエタノールアミン、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノパルミチレート、ジオクチルナトリウム
スルホサクシネート、モノチオグリセロール、チオソル
ビトール、エチレンジアミン四酢酸などを含むこともで
きる。更に適当な眼科用賦形剤を本発明の目的の担体媒
質として使用することができ、それらには通常のリン酸
緩衝賦形剤系、等張性ホウ酸賦形剤、等優性食塩賦形剤
、等張性ホウ酸ナトリウム賦形剤などが含まれる。
また医薬製剤は、薬剤を投与した後にほぼ完全な状態で
残存する固形挿入剤の形、または涙液に溶解するかまた
は他の方法で崩壊する生崩壊性挿入剤の形とすることも
できる。
残存する固形挿入剤の形、または涙液に溶解するかまた
は他の方法で崩壊する生崩壊性挿入剤の形とすることも
できる。
一般に本発明の化合物の体重kg当り約0.001乃至
約50mg、好ましくは約0.01乃至約20mgを使
用することができる。必要61日当り投与量により、投
与は単一または頻回投与とし、また単位投与とすること
ができる。
約50mg、好ましくは約0.01乃至約20mgを使
用することができる。必要61日当り投与量により、投
与は単一または頻回投与とし、また単位投与とすること
ができる。
以下に、実施例、参考例及び製剤例をあげて本発明を更
に具体的に説明する。
に具体的に説明する。
夾施舛1
グリゼオール酸1gにアセトニトリル100m1を加え
、攪拌下に、窒素気流中で1,8−ジアザビシクロ(5
,4,0〕−7−ウンデセン1.21gを加えた後、水
冷下にヨードメチル ピバレート2.56gを加えて、
室温で1時間攪拌した。溶媒を留去し、残留物に酢酸エ
チル60m1と希塩酸30m1に溶かし、酢酸エチル層
を分離後、希塩酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、及
び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗い、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、シリカゲル
クロマトグラフィー(酢酸エチル:アセトニトリル2:
1)で分離精製し、ベンゼンより凍結乾燥して目的化合
物970mg(60,5%)を得た。
、攪拌下に、窒素気流中で1,8−ジアザビシクロ(5
,4,0〕−7−ウンデセン1.21gを加えた後、水
冷下にヨードメチル ピバレート2.56gを加えて、
室温で1時間攪拌した。溶媒を留去し、残留物に酢酸エ
チル60m1と希塩酸30m1に溶かし、酢酸エチル層
を分離後、希塩酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、及
び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗い、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、シリカゲル
クロマトグラフィー(酢酸エチル:アセトニトリル2:
1)で分離精製し、ベンゼンより凍結乾燥して目的化合
物970mg(60,5%)を得た。
NMRスペクトル δ、ppm (DMSO−d6)8
.30.IN、S。
.30.IN、S。
8.17.IH,s(2又は8−H);6.54.IH
,s(1’ −H): 6.08.IH,dd(2,4,4,9)(3’ −H
):5.07.IH,d(2,0)(5’ −H);4
.63.2H,m(2’及び7’ −f();7.39
,2H,br 5(NH:):6.20.IH,d(4
,4)(2’ −0H):5.68〜5.77.5H,
m(CH2,7’ −0H);1−17 t 3Hv
s (CH* ) ;1.09,3H,5(CH3)。
,s(1’ −H): 6.08.IH,dd(2,4,4,9)(3’ −H
):5.07.IH,d(2,0)(5’ −H);4
.63.2H,m(2’及び7’ −f();7.39
,2H,br 5(NH:):6.20.IH,d(4
,4)(2’ −0H):5.68〜5.77.5H,
m(CH2,7’ −0H);1−17 t 3Hv
s (CH* ) ;1.09,3H,5(CH3)。
ビルオキシカルボニルオキシ エチル エステルグリゼ
オール酸380mgをジメチルスルホキシド1 、5m
lに溶かし、窒素気流中1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)−7−ウンデセン0.17m1を加え、更にア
セトニトリル1mlを加えた後、氷冷下1−ブロモエチ
ル イソプロピルオキシカルボキシレートを加え、室温
で3時間反応させた。アセトニトリルを留去し、残留物
を酢酸エチル20m1と氷を含む3%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に溶かし、酢酸エチル層を分離後、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し
、活性炭処理後、溶媒を留去すると、無色のほぼ単一ス
ポットの目的化合物が得られた。これをシリカゲルクロ
マトグラフィーで分離精製(酢酸エチル:アセトニトリ
ル5:2)して目的化合物120mg (18,8%)
を得た。
オール酸380mgをジメチルスルホキシド1 、5m
lに溶かし、窒素気流中1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)−7−ウンデセン0.17m1を加え、更にア
セトニトリル1mlを加えた後、氷冷下1−ブロモエチ
ル イソプロピルオキシカルボキシレートを加え、室温
で3時間反応させた。アセトニトリルを留去し、残留物
を酢酸エチル20m1と氷を含む3%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に溶かし、酢酸エチル層を分離後、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し
、活性炭処理後、溶媒を留去すると、無色のほぼ単一ス
ポットの目的化合物が得られた。これをシリカゲルクロ
マトグラフィーで分離精製(酢酸エチル:アセトニトリ
ル5:2)して目的化合物120mg (18,8%)
を得た。
NMRスペクトル δ、ppm(DMSO−d6)8.
31及び8.34.IH,各S。
31及び8.34.IH,各S。
8.17及び8.18.IH,m(2又は8−H) ;
6.50及び6,51.IH,各s(1’ −H);6
.09及び6.14.IH,各dd(2,4,5,4)
(3’ −H):5.03及び5.10.IH,各d(
2,4)(5’ −H);4.62.2H,m(2’及
び7’ −H);7.38,2H,br 5(NH!り
;6.67.2H,m(CH); 6.35及び6.19.IH,m(2’ −0H);5
.60.1)1.m(7’ −0H);4−65〜4−
83,2H9m(eH);1.17〜1.52,18H
,m(CHs)。
6.50及び6,51.IH,各s(1’ −H);6
.09及び6.14.IH,各dd(2,4,5,4)
(3’ −H):5.03及び5.10.IH,各d(
2,4)(5’ −H);4.62.2H,m(2’及
び7’ −H);7.38,2H,br 5(NH!り
;6.67.2H,m(CH); 6.35及び6.19.IH,m(2’ −0H);5
.60.1)1.m(7’ −0H);4−65〜4−
83,2H9m(eH);1.17〜1.52,18H
,m(CHs)。
少;丞ニル
グリゼオール酸3gをジメチルスルホキシド30m1に
溶かし、窒素気流中に1,8−ジアザビシクロ(5,4
,0l−7−ウンデセン2.4mlを加えた後、水冷下
にヨウ化(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
レン−4−イル)メチル7.6gを加えて、室温で4時
間反応させた。反応液に酢酸エチル300m1と水30
0m1を加え、有機層を分離後、再度水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥後、活性炭処理をして溶媒を留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(4%エタ
ノールを含む塩化メチレン)で分離精製し、塩化メチレ
ンより結晶化させる工と5.:より、目的化合物715
mg (15,0%)を得た。
溶かし、窒素気流中に1,8−ジアザビシクロ(5,4
,0l−7−ウンデセン2.4mlを加えた後、水冷下
にヨウ化(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
レン−4−イル)メチル7.6gを加えて、室温で4時
間反応させた。反応液に酢酸エチル300m1と水30
0m1を加え、有機層を分離後、再度水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥後、活性炭処理をして溶媒を留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(4%エタ
ノールを含む塩化メチレン)で分離精製し、塩化メチレ
ンより結晶化させる工と5.:より、目的化合物715
mg (15,0%)を得た。
NMRスペクトル δ、ppm(DMSO−d6)8.
33.LH,s。
33.LH,s。
8.17.LH,s(2又は8−H) ;6.52.L
H,s(1’ −H); 6.10.LH,dd(2,4,5,4)(3’ −H
):5.12.LH,d(2,4)(5’ −H);4
.59.LH,t(4,4)(2’ −H);4.64
.IH,d(9,3)(7’ −H);7.40,2H
,br 5(NHす; 6.28.LH,d(4,4)(2’ −0H):5.
64.LH,d(9,3)(7’ −0H);5.03
,21(,5(CH2,) ;4’、95,2H,5(
CH2) ; 2、18,3H,5(CH3) ; 2.17,3H,5(CH3)。
H,s(1’ −H); 6.10.LH,dd(2,4,5,4)(3’ −H
):5.12.LH,d(2,4)(5’ −H);4
.59.LH,t(4,4)(2’ −H);4.64
.IH,d(9,3)(7’ −H);7.40,2H
,br 5(NHす; 6.28.LH,d(4,4)(2’ −0H):5.
64.LH,d(9,3)(7’ −0H);5.03
,21(,5(CH2,) ;4’、95,2H,5(
CH2) ; 2、18,3H,5(CH3) ; 2.17,3H,5(CH3)。
夾施侭4
7′−−ス シ iゼ −レ 8’ 9’ −”゛
ピバロイルオキシメチルエステル 7′−デスオキシグリゼオール酸450mgをジメチル
スルホキシド2.5mlに溶かし窒素気流中に1,8−
ジアザビシクロ(5,4,0) −7−ウンデセン0゜
22m1 、及びアセトニトリル2mlを加えた後、水
冷下ヨードメチル ピバレート410mgを加え室温で
3時間、更に5℃で16時間反応させた。アセトニトリ
ルを留去し、残留物を酢酸エチル50m1と3%炭酸水
素ナトリウム水溶液50m1に溶かし、酢酸エチル層を
分取し、水層をさらに酢酸エチル20m1で抽出し、酢
酸エチル層を合せて、硫酸マグネシウムで乾燥後、活性
炭処理し、溶媒を留去して、はぼ単一のスポットの結晶
性物質を得た。ベンゼンより凍結乾燥して290mg
(40,2%)の目的化合物を得た。
ピバロイルオキシメチルエステル 7′−デスオキシグリゼオール酸450mgをジメチル
スルホキシド2.5mlに溶かし窒素気流中に1,8−
ジアザビシクロ(5,4,0) −7−ウンデセン0゜
22m1 、及びアセトニトリル2mlを加えた後、水
冷下ヨードメチル ピバレート410mgを加え室温で
3時間、更に5℃で16時間反応させた。アセトニトリ
ルを留去し、残留物を酢酸エチル50m1と3%炭酸水
素ナトリウム水溶液50m1に溶かし、酢酸エチル層を
分取し、水層をさらに酢酸エチル20m1で抽出し、酢
酸エチル層を合せて、硫酸マグネシウムで乾燥後、活性
炭処理し、溶媒を留去して、はぼ単一のスポットの結晶
性物質を得た。ベンゼンより凍結乾燥して290mg
(40,2%)の目的化合物を得た。
NMRスペクトル δ、 ppm(DMSO−d6)8
.29.ll−1,s。
.29.ll−1,s。
8.18.IH,s(2又は8−H) ;6.46.
LH,s(1’ −H) ;6.03.IH,dd(2
,4,4,9)(3’ −H):5.03.IH,d(
2,4)(5’ −H);4.59.LH,t(4,4
,4,9)(2’ −)1):2.90.IH,d(1
7,1)(7’ −H);3.30.LH,d(17,
1)(7’ −H);7.39,2H,br 5(Nl
2);5.99.IH,d(3,9)(2’ −0H)
;5.66〜5.80.4H,m(CH2)。
LH,s(1’ −H) ;6.03.IH,dd(2
,4,4,9)(3’ −H):5.03.IH,d(
2,4)(5’ −H);4.59.LH,t(4,4
,4,9)(2’ −)1):2.90.IH,d(1
7,1)(7’ −H);3.30.LH,d(17,
1)(7’ −H);7.39,2H,br 5(Nl
2);5.99.IH,d(3,9)(2’ −0H)
;5.66〜5.80.4H,m(CH2)。
艮用例1L引艮赳と
実施例1の化合物 0.002gリン酸
二ナトリウム 0.716gリン酸−ナト
リウム 0.728g塩化ナトリウム
0.400gp−ヒドロキシ安息香酸メ
チル 0.026gP−ヒドロキシ安店、香酸プロピ
ル 0.014.−滅菌精製水
適量水酸化ナトリウム 適量全量 10
0m1 pH7,0として、常法により点眼液を調製した。
二ナトリウム 0.716gリン酸−ナト
リウム 0.728g塩化ナトリウム
0.400gp−ヒドロキシ安息香酸メ
チル 0.026gP−ヒドロキシ安店、香酸プロピ
ル 0.014.−滅菌精製水
適量水酸化ナトリウム 適量全量 10
0m1 pH7,0として、常法により点眼液を調製した。
製剤例IL引1赳と
実施例2の化合物 0.002gリン酸
二ナトリウム 0.500gリン酸−ナト
リウム 1.100g塩化ナトリウム
0.300g塩化ペンザトニウム
0.010g滅菌精製水
適量全量 100m1 pH7,0として常法により点眼液を調製した。
二ナトリウム 0.500gリン酸−ナト
リウム 1.100g塩化ナトリウム
0.300g塩化ペンザトニウム
0.010g滅菌精製水
適量全量 100m1 pH7,0として常法により点眼液を調製した。
製剤例1.引乱赳り
実施例4の化合物 0.002gリン酸
二ナトリウム 0.400やリン酸−ナト
リウム 1.000V。
二ナトリウム 0.400やリン酸−ナト
リウム 1.000V。
塩化ナトリウム 0.690g10%
塩化ベンザルコニウム溶液 100μl滅菌精製水
適量全量 100m1 pH7,0として常法により点眼液を調製した。
塩化ベンザルコニウム溶液 100μl滅菌精製水
適量全量 100m1 pH7,0として常法により点眼液を調製した。
出 願 人 三共株式会社
代理人 弁理士 樫 出 庄 治
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1及びR^2は同一又は異なって、水素原
子又は保護されていてもよい水酸基を示し、R^3及び
R^4は同一で水素原子を示すか又はR^3とR^4が
一緒になって単結合を示し、R^5及びR^6は同一又
は異なって、 一般式R^7−COOCH(R^8)−(II)、R^9
−OCOOCH(R^1^0)−(III)又は▲数式、
化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^7及びR^9は、同一又は異なって、炭素
数1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭
素数3乃至10個のシクロアルキル基を示し、R^6及
びR^1^0は、同一又は異なって、水素原子、炭素数
1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素
数3乃至10個のシクロアルキル基を示し、R^1^1
は、炭素数1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基、炭素数3乃至10個のシクロアルキル基又は炭素数
6乃至10のアリール基を示す。)を有する基を示す。 ]で表わされる化合物及びその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30619987A JPH07106983B2 (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | グリゼオール酸ジエステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30619987A JPH07106983B2 (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | グリゼオール酸ジエステル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01146895A true JPH01146895A (ja) | 1989-06-08 |
| JPH07106983B2 JPH07106983B2 (ja) | 1995-11-15 |
Family
ID=17954195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30619987A Expired - Lifetime JPH07106983B2 (ja) | 1987-12-02 | 1987-12-02 | グリゼオール酸ジエステル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07106983B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991011451A1 (fr) * | 1990-01-26 | 1991-08-08 | Sankyo Company, Limited | Analogue de l'acide griseolique et inhibiteur de lak le contenant |
| WO2000012098A1 (en) * | 1998-09-01 | 2000-03-09 | Yamasa Corporation | Medicinal compositions for treating eye diseases |
| US6936596B2 (en) | 2000-09-08 | 2005-08-30 | Toa Eiyo Ltd. | Adenosine derivatives and use thereof |
-
1987
- 1987-12-02 JP JP30619987A patent/JPH07106983B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1991011451A1 (fr) * | 1990-01-26 | 1991-08-08 | Sankyo Company, Limited | Analogue de l'acide griseolique et inhibiteur de lak le contenant |
| WO2000012098A1 (en) * | 1998-09-01 | 2000-03-09 | Yamasa Corporation | Medicinal compositions for treating eye diseases |
| US6387889B1 (en) | 1998-09-01 | 2002-05-14 | Yamasa Corporation | Medicinal compositions for treating eye diseases |
| US6936596B2 (en) | 2000-09-08 | 2005-08-30 | Toa Eiyo Ltd. | Adenosine derivatives and use thereof |
| US7132409B2 (en) | 2000-09-08 | 2006-11-07 | Toa Eiyo Ltd. | Adenosine derivatives and use thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07106983B2 (ja) | 1995-11-15 |
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