JPH01146895A - グリゼオール酸ジエステル誘導体 - Google Patents

グリゼオール酸ジエステル誘導体

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JPH01146895A
JPH01146895A JP30619987A JP30619987A JPH01146895A JP H01146895 A JPH01146895 A JP H01146895A JP 30619987 A JP30619987 A JP 30619987A JP 30619987 A JP30619987 A JP 30619987A JP H01146895 A JPH01146895 A JP H01146895A
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Masakatsu Kaneko
金子 正勝
Misako Kimura
木村 美佐子
Makoto Kamokari
鴨狩 誠
Tomihisa Yokoyama
富久 横山
Mitsuo Yamazaki
光郎 山崎
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Sankyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [目的] (産業上の利用分野) 本発明は、優れた眼圧低下作用を有する新規なグリゼオ
ール酸ジエステル誘導体に関する。
(従来の技術) グリゼオール酸ジエステル誘導体としては、特開昭第6
0−94992号公報及び特開昭第61−100593
号公報記載の以下の化合物が公知である。
(上記式中、R1及びR=は前記と同意義を示し、R”
及びR6′はメチル基又はジフェニルメチル基を示す。
) しかしながら、これらの化合物は眼圧低下作用を有しな
い。
(当該発明が解決しようとする間厘点)本発明者等は、
眼圧低下作用を有するグリゼオール酸誘導体の合成とそ
の薬理活性について永年に亘り鋭意研究を行なった結果
、既知のエステル誘導体とは構造を異にする新規なメチ
ルエステル誘導体、f、あ、ユ77.エユヶ2.。ユチ
7.基がタ芽キソレン環又は置換カルボニルオキシ基で
修飾された誘導体が良好な眼圧低下作用を有し、優れた
緑内症治療薬となりうろことを見出し、本発明を完成し
た。
[構成] 本発明の新規なグリゼオール酸ジエステル誘導体は、 [式中、R1及びR2は同−又は異なって、水素原子又
は保護されていてもよい水酸基を示し、R3及びR4は
同一で水素原子を示すか又はR3とR4が一緒になって
単結合を示し R5及びRGは同−又は異なって、 一般式 R’−COOCH(R8)−(I I )、R
’−0COOCH(R”)−(I I I )又は(式
中、R7及びR9は、同−又は異なって、炭素数1乃至
10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数3乃
至10個のシクロアルキル基を示し、R8及びR”は、
同−又は異なって、水素原子、炭素数1乃至10個の直
鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数3乃至10個の
シクロアルキル基を示し、R11は、炭素数1乃至10
個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基、炭素数3乃至10
個のシクロアルキル基又は炭素数6乃至1oのアリール
基を示す。)を有する基を示す。]を有する。
上記一般式(I)において、R1及びR′!−で定義さ
れた「保護されていてもよい水酸基」の「保護基」分と
しては、反応における保護基及び生体に投与す′る際の
プロドラッグ化のための保護基を示し、例えば、ホルミ
ル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル
、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、イソバレリル
、オクタノイル、ラウロイル、ミリストイル、トリデカ
ノイル、バルミトイル、ステアロイルのようなアルキル
カルボニル基、クロロアセチル、ジクロロアセチル、ト
リクロロアセチル、トリフルオロアセチルのようなハロ
ゲン化アルキルカルボニル基、メトキシアセチルのよう
な低級アルコキシアルキルカルボニル基、(E)−2−
メチル−2−ブテノイルのような不飽和アルキルカルボ
ニル基等の脂肪族アシル基;ベンゾイル、α−ナフトイ
ル、β−ナフトイルのようなアリールカルボニル基、2
−ブロモベンゾイル、4−クロロベンゾイルのようなハ
ロゲン化アリールカルボニル基、2,4.6−トリメチ
ルベンゾイル、4−トルオイルのような低級アルキル化
アリールカルボニル基、4−アニソイルのような低級ア
ルコキシ化アリールカルボニル基、4−二トロベンゾイ
ル、2−ニトロベンゾイルのようなニトロ化アリールカ
ルボニル基、2−(メトキシカルボニル)ベンゾイルの
ような低級アルコキシカルボニル化アリールカルボニル
基、4−フェニルベンゾイルのようなアリール化アリー
ルカルボニル基等の芳香族アシル基;テトラヒドロピラ
ン−2−イル、3−ブロモテトラヒドロピラン−2−イ
ル、4−メトキシテトラヒドロピラン−4−イル、テト
ラヒドロチオピラン−2−イル、4−メトキシテトラヒ
ドロチオピラン−4−イルのようなテトラヒドロピラニ
ル又はテトラヒドロチオピラニル基;テトラヒドロフラ
ン−2−イル、テトラヒドロチオフラン−2−イルのよ
うなテトラヒドロフラニル又はテトラヒドロチオフラニ
ル基;トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロ
ピルジメチルシリル、t−ブチルジメチルシリル、メチ
ルジイソプロピルシリル、メチルジ−t−ブチルシリル
、トリイソプロピルシリルのようなトリ低級アルキルシ
リル基、ジフェニルメチルシリル、ジフェニルブチルシ
リル、ジフェニルイソプロピルシリル、フエニルジイソ
プロピルシリルのような1乃至2個のア、リール基で置
換されたトリ低級アルキルシリル基等のシリル基;メト
キシメチル、1,1−ジメチル−1−メトキシメチル、
エトキシメチル、プロポキシメチル、イソプロポキシメ
チル、ブトキシメチル、t−ブトキシメチルのような低
級アルコキシメチル基、2−メトキシエトキシメチルの
ような低級アルコキシ化低級アルコキシメチル基、2,
2.2−トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロ
エトキシ)メチルのようなハロゲン化低級アルコキシメ
チル等のアルコキシメチル基;1−エトキシエチル、1
−メチル−1−メトキシエチル、1−(イソプロポキシ
)エチルのような低級アルコキシ化エチル基、2,2.
2−トリクロロエチルのようなハロゲン化エチル基、2
−(フェニルゼレニル)エチルのようなアリールゼレニ
ル化エチル基等の置換エチル基;ベンジル、フェネチル
、3−フェニルプロピル、α−ナフチルメチル、β−ナ
フチルメチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル
、α−ナフチルジフェニルメチル、9−アンスリルメチ
ルのような1乃至3個のアリール基で置換された低級ア
ルキル基、4−メチルベンジル、2.4.6−トリメチ
ルベンジル、3,4.5−トリメチルベンジル、4−メ
トキシベンジル、4−メトキシフエニルジフェニルメチ
ル、2−ニトロベンジル、4−ニトロベンジル、4−ク
ロロベンジル、4−ブロモベンジル、4−シアノベンジ
ル、4−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス(2−
二トロフェニル)メチル、ピペロニルのような低級アル
キル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シアノ基で
アリール環が置換された1乃至3個のアリール基で置換
された低級アルキル基等のアラルキル基;メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル
、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキシカル
ボニル基、2.2.2−トリクロロエトキシカルボニル
、2−トリメチルシリルエトキシカルボニルのようなハ
ロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低級
アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基;
ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルのよ
うなアルケニルオキシカルボニル基;ベンジルオキシカ
ルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3
,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニト
ロベンジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキ
シカルボニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又
はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいアラル
キルオキシカルボニル基のような反応における保護基及
びピバオイルオキシメチルオキシカルボニルのような生
体に投与する際のプロドラッグ化のための生体内で加水
分解され易い保護基を示し、好適には脂肪族アシル基及
び芳香族アシル基である。
R7、R8、R9、R”及びR”で定義された「炭素数
1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基」として
は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、S−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イ
ソペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、1−エ
チルプロピル、ヘキシル、4−メチルペンチル、3−メ
チルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチ
ル、3.3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル
、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、
1,3−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、2
−エチルブチル、ヘプチル、1−メチルヘキシル、2−
メチルヘキシル、3−メチルヘキシル、4−メチルヘキ
シル、5−メチルヘキシル、1−プロピルブチル、4,
4−ジメチルペンチル、オクチル、1−メチルヘプチル
、2−メチルヘプチル、3−メチルヘプチル、4−メチ
ルヘプチル、5−メチルヘプチル、6−メチルヘプチル
、1−プロピルブチル、2−エチルヘキシル、5,5−
ジメチルヘキシル、ノニル、3−メチルオクチル、4−
メチルオクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオク
チル、1−プロピルヘキシル、2−エチルヘプチル、6
,6−ジメチルへブチル、デシル、1−メチルノニル、
3−メチルノニル、8−メチルノニル、3−エチルオク
チル、3.7−シメチルオクチル、7.7−シメチルオ
クチルをあげることができるが、好適には炭素数1乃至
6の直鎖又は分枝鎖アルキル基である。
R7、R8、R9、R”及びR”で定義された。
「炭素数3乃至10個のシクロアルキル基」としては、
例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル
、シクロノニル、シクロデシルのような3乃至10員飽
和環状炭化水素基を示し、好適には5乃至7員飽和環状
炭化水素基である。
R”で定義された「炭素数6乃至10個のアリール基」
としては、例えば、フェニル、ナフチルのような6乃至
10員環状芳香炭化水素基を示し。
好適には6員環状芳香炭化水素基である。
本発明の化合物(I)は、塩にすることができるが、そ
のような塩としては、好適には、弗化水素酸塩、塩酸塩
、臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素
酸塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸
塩及びメタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホ
ン酸塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスル
ホン酸塩。
ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩のよ
うなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハク酸塩
、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩等の有
機酸塩をあげることができる。
本発明の化合物(I)は、分子内に不斉炭素を有し、各
々がS配位、R配位である立体異性体が存在するが、そ
の各々、或いはそれらの混合物のいずれも本発明に包含
される。
化合物(I)において、好適な化合物としては、(1)
R’及びR2が同−又は異なって、水素原子又は脂肪族
アシル基又は芳香族アシル基で保護されていてもよい水
酸基である化合物 (2)R’及びR2が同−又は異なって、水素原子又は
水酸基である化合物 ′(3)R3及びR4が同一で水素原子を示すか又はR
3とR4が一緒になって単結合を示す化合物(4)R3
とR4が一緒になって単結合を示す化合物(5)R5及
びR6が同一で、 一般式 R’−COOCR(R8)−(I I )、R
’−0COOCH(R”)−(I I I )である化
合物 (fly) R’が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは
分枝鎖アルキル基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキ
ル基である化合物 (7)R8が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖若
しくは分枝鎖アルキル基である化合物(8)Rθが、水
素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若シくは分枝鎖アル
キル基である化合物(9)R’が、炭素数1乃至6個の
直鎖若しくは分枝鎖アルキル基である化合物 (10)R”が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖
若しくは分枝鎖アルキル基である化合物(11)R10
が、水素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基である化合物(12)R”が、フェニル基
、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又
は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基である化合物(
13) R” ”が、炭素数1乃至6個の直鎖若しぐは
分枝鎖アルキル基である化合物 (14) R”及びR=が同−又は異なって、水素原子
又は脂肪族アシル基又は芳香族アシル基で保護されてい
てもよい水酸基であり、R3及びR4が同一で水素原子
を示すか又はR3とR4が一緒になって単結合を示し、
R5及びRGが同一で、一般式R’−COOCH(R8
)−(I I )、R9−0COOCI((R”°’)
−(III)対 P1冒H2− −rr−0 (IV) であり、R7が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基
であり、R8が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖
若しくは分枝鎖アルキル基であり、R9が、炭素数1乃
至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、Rlo
が、水素原子又は炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝
鎖アルキル基であり、R”が、フェニル基、炭素数1乃
至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素数5乃
至7個のシクロアルキル基である化合物(15)R”及
びR2が同−又は異なって、水素原子又は水酸基であり
、R3とR4が一緒になって単結合を示し、R5及びR
6が同一で、 一般式R’−COOCH(R”)−(I I )、R’
−0COOCH(R”)−(I I I )であり、R
7が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基又は炭素数5乃至7個のシクロアルキル基であり、R
8が、水素原子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基であり、R9が、炭素数1乃至6個の直
鎖若しくは分枝鎖アルキル基であり、R10が、水素原
子又は炭素数1乃至3個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
基であり、R”が、炭素数1乃至6個の直鎖若しくは分
枝鎖アルキル基である化合物 をあげることができる。
本発明の代表的化合物としては、例えば、第1〜3表に
記載する化合物を拳けることができるが、本発明はこれ
らの化合物に限定されるものではない。
R5=R6=R7−COOCH(R8)−の場合化合物
R1R2R”9R4R’     R8番号 10HOH単結合 CH3−CH3− 20HOH単結合 CHgCHz−CH3−30HOH
単結合 CH3(CHす、−H−40HOH単結合 C
H3(CHz)ニー  CH3−50HOH単結合 (
CH3)zCH−H−60HOl(単結合 (CH3)
zCH−CH3−70HOH単結合 (CHz)zCH
−CH3CHニー80HOH単結合 CH3(CH,)
、−H−化合物R1R”  R−’、R4R7R8番号 90HOH単結合 CHa(CH:)z−CH3−10
0HOH単結合 CH,(CHすa−CH3CHニー1
1  0HOH単結合 (CH3)2CHCH:!−H
−120HOH単結合 (CH3):ICHCH:!−
CH3−130HOH単結合 (Clh):CHCh−
CH3CHニー140HOH単結合 (CH3)3C−
H−150HOH単結合 (CH3)3C−CH3−1
60HOH単結合 (CHa)3C−CH3CH2−1
70HH単結合 (CH3)3C−H−180HH単結
合 (CH3)3C−CH3−19HOH単結合 (C
H3)3C−H−20HOH単結合 (CH3):IC
−CH3−210HOHH(CH3)3C−H− 220HOHH(CH3hC−CHz−230HOHH
(CHahC−CH3CHニー240HOH単結合 C
Ha(CH:)4−  H−化合物R’  R”  R
3,R4R7R8番号 250HOH単結合 CH,(CHす4−  CH3−
260HOH単結合 CH3(CHすs−H−270H
OH単結合 CHa(CH:)s−CH3−280HO
H単結合 CHa(CH:)s−CH?CHニー290
HOH単結合 CH3(CHすs−CH,(CHす。−
300HOH単結合  シクロへキシル−H−310H
OH単結合  シクロハ、キシル−CH3−320HO
H単結合 CHa(CHz)?−CH3−330HOH
単結合 CHg(Ch)?−CH3CH2−340HO
H単結合 CH,(CHす8−H−350HOH単結合
 CH3(CHz)a−CH3−360HOH単結合 
CH3−CHg (CI(=) 5−370HOH単結
合 CHヨCHz−CH3(CHa7−第1表 R’=R’=R9−OCOOCH(R”)−の場合化合
物R”  R′LR?、R4R9R”番号 380HOH単結合 CH3−H− 390HOH単結合 CHa、CH,−H−400HO
H単結合 cHgcH=−CH3−410HOH単結合
 CH,(CH,)、−H−420HOH単結合 CH
3(CHz)z−CH3−430HOH単結合 CH3
(CH:)ニー  CH3CHニー440HOH単結合
 (C1h):CH−H−450HOH単結合 (CH
3)2CH−CH3−460HOH単結合 (CH3)
:ICH−CHgCH2−470HH単結合 (CH3
):CH−CH3−480HH単結合 (CH3)1C
H−CHxCIh−49’  OHHH(Clh):C
H−CH3−50HOH単結合 (CHx)zCH−C
H3−策旦表 化合物番号R”  R’  R3,R4R11510H
OH単結合  CH3− 52HOH単結合  CH3− 530HH単結合  CH3− 540HOHHCHa− 550HOHHCHヨCH,− 560HOH単結合   CH3CH2−570HOH
単結合   CH3(CHす2−58    0HOH
単結合   CHa(CH,)、−590HOH単結合
   CH3(CH:)4−60         0
HOH単結合      シクロへキシル−610HO
H単結合      フェニル−620HH単結合  
    フェニルー上記例示化合物のうち、好適な化合
物としては、2゜3;4.5,6,8,9.II、12
,14,15,16,17,18,19,22,25,
27,30゜31.35,41,42,44,45,4
6,47,49,51,52,53,54,55及び5
6の化合物をあげることができる。
更に、好適な化合物としては、8,9,11,12,1
4,15,16゜17、18.19.22,31.45
,46,47,49,51,55及び56の化合物を本
発明のグリゼオール酸ジエステルは、以下に記載する方
法によって製造することができる。
〔6〕 上記式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は前
記と同意義を示し、R”は、メチリデン、エチリデン、
イソプロピリデンのような低級アルキリデン基;ベンジ
リデンのようなアラルキリデン基又はメトキシエチリデ
ン、エトキシエチリデンのようなアルコキシエチリデン
基等のジヒドロキシ基の保護基を拳げることかでき、好
適にはインプロピリデンである。
第A:上TJIは、原料化合物(1)を溶媒中で脱酸剤
の存在下に、1当量の 一般式R’−COOCR(R8)−X      (I
 I )、R’−0COOCH(R”)−X    (
I I I ) 又は(式中、R7、R8、R9、R”
及びR11は、前記と同意義を示し、Xは、塩素、臭素
、沃素のようなハロゲン原子7アセトキシ、プロピオニ
ルオキシのようなアルキルカルボニルオキシ基、クロロ
アセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロ
アセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシのような
ハロゲン化アルキルカルボニルオキシ基、メトキシアセ
チルオキシのような低級アルコキシアルキルカルボニル
オキシ基、(E)−2−メチル−2−ブテノイルオキシ
のような不飽和アルキルカルボニルオキシ基等の脂肪族
アシルオキシ基;ベンゾイルオキシのようなアリールカ
ルボニルオキシ基、2−ブロモベンゾイルオキシ、4−
クロロベンゾイルオキシのようなハロゲン化アリールカ
ルボニルオキシ基、2.4.6−トリメチルベンゾイル
オキシ、4−トルオイルオキシのような低級アルキル化
アリールカルボニルオキシ基、4−アニソイルオキシの
ような低級アルコキシ化アリールカルボニルオキシ基、
4−ニトロベンゾイルオキシ、2−ニトロベンゾイルオ
キシのようなニトロ化アリールカルボニルオキシ基等の
芳香族アシルオキシ基;トリクロロメチルオキシのよう
なトリハロゲノメチルオキシ基;メタンスルホニルオキ
シ、エタンスルホニルオキシのような低級アルカンスル
ホニルオキシ基;トリフルオロメタンスルホニルオキシ
、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのようなハロ
ゲノ低級アルカンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホ
ニルオキシ、P−トルエンスルホニルオキシのようなア
リールスルホニルオキシ基等の脱離基を示す。)で示さ
れるエステル化試薬を反応させ、所望により、R1又は
R2の水酸基の保護基を除去し、8′−モノエステル体
(2)及び9′−モノエステル体(3)を製造する工程
である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類;ジ
メチルスルホキシドのようなスルホキシド類又はアセト
ニトリルのようなニトリル類及び上記溶媒の混合溶媒を
挙げることができる。
使用される脱酸剤としては、通常の反応において脱酸剤
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
にはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N−メチルモルホリン、ピリジン、4−(N、N−ジメ
チルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニリン、■
5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノナ−5−エン、1
.4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1゜8
−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン(
DBU)のような有機塩基類を拳げることかでき、特に
好適にはDBUである。
エステル化試薬の脱離基Xとしては、好適には塩素、臭
素、沃素のようなハロゲン原子であり、特に好適には沃
素原子である。
反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適には
、20℃乃至70℃であり、特に好適には室温である。
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、脱酸剤の種類によって異なるが、通常1時間乃至
4日間である。
所望の水酸基保護基の脱保護の工程はその保護基の種類
によって異なるが、一般にこの分野の技術において周知
の方法によって以下の様に実施される。
水酸基の保護基として、トリ低級アルキルシリル基を使
用した場合には、通常弗化テトラブチルアンモニウムの
ような弗素アニオンを生成する化合物で処理することに
より除去する。反応溶媒は反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサン
のようなエーテル類が好適である。反応温度及び反応時
間は特に限定はないが、通常室温で10乃至18時間反
応させる。
水酸基の保護基が、アラルキルオキシカルボニル基又は
アラルキル基である場合には、通常、還元剤と接触させ
ることにより除去することができる。例えば、パラジウ
ム炭素、白金、ラネーニッケルのような触媒を用い、常
温にて接触還元を行なうことにより達成される。反応は
溶媒の存在下に行なわれ、使用される反応溶媒としては
本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、メ
タノール、エタノールのようなアルコール類、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類、酢酸のよ
うな脂肪酸又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好
適である。反応温度及び反応時間は出発物質及び使用す
る還元剤等によって異なるが、通常は0℃乃至室温で、
5分乃至12時間である。
又、液体アンモニア中若しくはメタノール、エタノール
のようなアルコール中において、−78℃〜−20℃で
、金属リチウム若しくはナトリウムを作用させることに
よっても除去できる。
更に、塩化アルミニウムー沃化ナトリウム又はトリメチ
ルシリルイオダイドのようなアルキルシリルハライド類
を用いても除去することができる。反応は溶媒の存在下
に行なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、アセ
トニトリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの
混合溶媒が使用される。反応温度は出発物質等によって
異なるが、通常は0℃乃至50℃である。
尚、反応基質が硫黄原子を有する場合においては、好適
には、塩化アルミニウムー沃化ナトリウムが用いられる
水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香族アシル基又
はアルコキシカルボニル基である場合には、溶媒の存在
下に、塩基で処理することにより除去することかできる
。塩基としては、化合物の他の部分に影響を与えないも
のであれば特に限定はないが、好適にはナトリウムメト
キシドのような金属アルコラード類、アンモニア水、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸
塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカ
リ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノールを用いて
実施される。
使用される溶媒としては通常の加水分解反応に使用され
るものであれば特に限定はなく、水、メタノール、エタ
ノール、n−プロパツールのようなアルコール類若しく
はテトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類
のような有機溶媒又は水と有機溶媒との混合溶媒が好適
である。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる塩
基等によって異なり特に限定はないが、副反応を抑制す
るために、通常は0℃乃至150℃で、■乃至10時間
である。
水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、テトラヒドロ
ピラニル基、テトラヒドロフラニル基又は置換されたエ
チル基である場合には、通常溶媒中で酸で処理すること
により除去することができる。使用される酸としては、
好適には塩酸、酢酸−硫酸、p−トルエンスルホン酸又
は酢酸等である。使用される溶媒としては本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、メタノール、エ
タノールのようなアルコール類;テトラヒドロうラン、
ジオキサンのようなエーテル類又はこれらの有機溶媒と
水との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間は
出発物質及び用いる酸の種類等によって異なるが、通常
は0℃乃至50℃で、10分乃至18時間である。
水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基であ
る場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル基、
芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合
の除去反応の条件と同様にして塩基と処理することによ
り脱離させることができる。尚、アリルオキシカルボニ
ルの場合は、特にパラジウム及びトリフェニルホスフィ
ン若しくはニッケルテトラカルボニルを使用して除去す
る方法が簡便で、副反応が少な〈実施することができる
反応終了後、本反応の目的化合物(2)又は(3)は常
法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製でき、単
一の(2)又は(3)を得ることができる。
第fは、原料化合物(1)の7′位水酸基と9′位カル
ボキシ基の水酸基を、溶媒の存在又は非存在下に、酸触
媒の存在下、ジヒドロキシ基の保護基で保護し、化合物
(4)を製造する工程である。この工程においては、硫
酸銅、硫酸ナトリウム、炭化カルシウムのような脱水剤
やモレキュラーシーブを用いたり、共沸を利用して水を
除きながら行なうこともできる。
ジヒドロキシ基の保護化工程に用いられる試薬としては
、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アセトンのよ
うな低級アルキルカルボニル化合物;ベンズアルデヒド
のようなアリールカルボニル化合物又はトリメチルオル
トギ酸エステル、トリエチルオルトギ酸エステルのよう
な低級アルキルオルトギ酸エステルを拳げることができ
、好適には低級アルキルカルボニル化合物であり、更に
好適にはアセトンである。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノ
ール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパツー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;アセトンのようなケトン類を挙げること
ができ、保護化の試薬としてアセトンが使用される場合
には溶媒を兼ねてアセトンが用いられる。
使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸のような無機酸
又はパラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレンス
テッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズのようなルイス酸
をあげることができ、好適には有機酸であり、更に好適
には有機強酸である。
反応温度は一10℃乃至100℃で行なわれるが、好適
には、0℃乃至室温である。
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、酸触媒の種類によって異なるが、通常10分間乃
至3日間である。
反応終了後、本反応の目的化合物(4)は常法に従って
、反応混合物から採取できる。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きるが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水
素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩;水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、水素化カリウムのようなア
ルカリ金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物等の
有機溶媒に不溶性の塩基を用いて中和し、不溶物を濾去
した後、溶媒を留去する操作をするのみで、特に単離精
製することなく、第A−3工程に付される。
1−ユy工程は、化合物(4)を、第A−1工程と同様
に処理して化合物(5)を製造する工程である。
万へ二生二程は、化合物(5)のジヒドロキシ基の保護
基を、溶媒の存在又は非存在下に、酸触媒で除去し、更
に所望により、7′位水酸基を保護して、化合物(2)
を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類:エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;メタノ
ール、エタノール、n−プロパツール、イソプロパツー
ル、n−ブタノール、インブタノール、イソアミルアル
コールのようなアルコール類;ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類;ジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類;アセトンのようなケトン類を挙げること
ができる。
使用される酸触媒としては、通常の反応において酸触媒
として使用されるものであれば特に限定はないが、好適
には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸のような無機酸
又はパラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸、クエン酸のような有機酸等
のブレンステッド酸をあげることができ、好適には有機
酸であり、更に好適にはトリフルオロ酢酸である。
反応温度は一10℃乃至100℃で行なわれるが、好適
には、0℃乃至室温である。
反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される
溶媒、酸触媒の種類によって異なるが、通常10分間乃
至1日間である。
反応終了後、本反応の目的化合物(2)は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
えΔユ旦工程は、化合物(2)又は(3)を原料として
、第A−1工程で使用したエステル化試薬と同−又は異
なったエステル化試薬を用い、第A−1工程と同様に処
理して本発明化合物(6)を製造する工程である。
β1 気二1〕                     
   (7二−上記式中、R”、R’、R3、R4及び
R5は前記と同意義を示す。
策l工程は1M料化合物(1)と、大過剰のエステル化
試薬を用い、第A−1工程と同様に処理して、8′位カ
ルボキシ基と9′位カルボキシ基が同一の基で保護され
た本発明化合物(7)を製造する工程である。
本発明の原料化合物は、公知化合物であり、例えば、特
開昭第60−94992号公報、特開昭第60−149
394号公報、特開昭第60−246396号公報及び
特開昭第61−100593号公報に記載の方法で製造
することができる。 又、本発明のエステル化試薬R’
−COOCH(RO)−X      (I I )、
R9−0COOCH(R”)−X    (I I I
 ) 又は(式中、R7、R8、R9、R”、R1l 
及びXは前記と同意義を示す。)は、次のようにして製
造されるか、又は市販の試薬が用いられる。
R7CD>(+  R日CHO→ R/ C00C)((R8〕−X (ID COXり+ R1口CHO→ XCXC00C)−1(R1′)−×+ R”OH→R
”0COOC)−1(R1口) −X(III) (式中、R7、R8、R9、R10及びXは前記と同意
義を示す。) 即ち、カルボン酸R’C0OHの活性誘導体R7C0X
とアルデヒド化合物R8CHOを、溶媒中、塩基の存在
下、常法に従って反応させることによって、化合物(I
I)を製造できる。
ホスゲン誘導体COX、とアルデヒド化合物RIOCH
Oを、溶媒中、塩基の存在下、常法に従って反応させ、
更にアルコール化合物R’OHと常法に従って反応させ
ることによって、化合物(III)を製造できる。
1こR31こ)−10+  F?11CHO→CH−、
CH(OH) −C(23−R”→、〕       
         co〉く2(式中、R”及びXは前
記と同意義を示す。)公知の方法[例えば、ケミカル・
ファーム・ブレティン、32巻、4316頁 (198
4年)、同22418頁 (1984年)、33巻、4
870頁 (1985年)記載の方法)に従って、アル
デヒド化合物R11CHOとアセトアルデヒドを、常法
に従って、アシロイン縮合させ、生成物に、溶媒中、ホ
スゲン誘導体を反応させる。生成物品メチル基を、常法
に従って、ハロゲン分子でラジカル反応によりハロゲン
化し、所望によりハロゲン原子をX基に置換し、[効果
] 正′  、 土− 本化合物の眼圧降下作用の検討は、眼に異常のない雄性
ニューシーラント ホワイト児(体重約2.5kg)を
1群3羽として使用し実施した。動物は温度23℃、湿
度60%の飼育室にて飼育し、餌は制限給餌、水は自由
摂取させた。被検物質は本化合物を0.4%の塩化ナト
リウムを含有する50mMリン酸緩衝液(pH7,0)
に溶解し、その濃度を基本的には1%としたものを使用
した。
兎の両眼を眼科用表面麻酔剤(0,4%ベノキシール:
参天製薬)を用いて点眼麻酔後、両眼の眼圧をP T 
G (Pheumatonograph:Alcon)
にて測定した。
その後、被検物質を左右いずれかの眼(実験眼)に50
%m点眼しく0.5%チモロールは30μm)、その6
0分後に再び同量を点眼した(合計2回)。
一方、反対側の眼には点眼を行なわず対照眼とした。被
検物質の初回点眼後、30.60.90.120.15
0.180分後に両眼の眼圧を測定し、得た実測値を下
記の式に代入し被検物質の眼圧降下値を算出した。 眼
圧降下(mm)Ig) =対照眼眼圧値−実験眼眼圧値
)−(初回点眼直前の対照眼眼圧値−初回点眼直前の実
験眼眼圧値) そして、各測定時間の眼圧降下値の平均値を求め、0.
5%チモロールの値を1とした場合の被検物質の値を算
出した。
態、への  。
薬 剤    薬剤濃度  眼圧低下作用%   チモ
ロール比 グリゼオール酸   1.0    −0.12グリゼ
オール酸 ジメチルエステル 0.033   −0.01実施例
1の化合物  0.002    0,77実施例2の
化合物  0.01     0.58実施例3の化合
物  0.01     0.50ユ  4の 八  
  〇、002     0.08上記の様に、本発明
の新規なグリゼオール酸ジエステル誘導体は、優れた眼
圧低下作用を有し、且つ、毒性もないので、緑内障の治
療剤として有用である。
本発明の化合物(I)の投与形態としては、溶液、懸濁
液、ゲル、軟膏または固形挿入剤の如き、眼への局所投
与に適した眼科用医薬組成物の形で投与されるのが好ま
しい。これらの組成物の処方は0.01乃至10%、特
に0.1乃至5%の本願発明化合物を含むことができる
。また本願発明化合物を単一の医薬として含む以外にマ
レイン酸チモロールのようなβ−ブロッカ−剤もしくは
副交感神経刺激興奮剤であるピロカルピンのような薬剤
を共に含むこともできる。
活性組成物を含む医薬製剤は、好便に無毒の医薬用無機
または有機担体を混合することができる。
典型的な医薬的に受容し得る担体は、例えば水、低級ア
ルカノールまたはアルカノールのような水と混和する溶
剤と水との混合物、植物油、ポリアルキレングリコール
、石油を基剤とするシェリー、エチルセルロース、オレ
イン酸エチル、カルボキシメチルセルロース、ポリビニ
ルピロリドン、ミリスチン酸イソプロピル及びその他の
好便に使用する受容可能な担体である。また医薬製剤は
、乳化剤、防腐剤1、湿潤剤、賦形剤などのような無毒
の補助物質、例えばポリエチレングリコール200.3
00.400及び600、カーボワックス1,000.
1 、500.4 、000.6,000及び10,0
00、低温殺菌性を持つことが知られており且つ使用し
て無毒な、第四級アンモニウム化合物、フェニル水銀塩
のよう、  な抗菌剤、チメロサール、メチル及びプロ
ピルパラベン、ベンジルアルコール、フェニルエタノー
ル、食塩、ホウ酸ナトリウム、酢酸ナトリウムのような
緩衝剤成分、グルコン酸緩衝剤、及びソルビタンモノラ
ウレート、トリエタノールアミン、ポリオキシエチレン
ソルビタンモノパルミチレート、ジオクチルナトリウム
スルホサクシネート、モノチオグリセロール、チオソル
ビトール、エチレンジアミン四酢酸などを含むこともで
きる。更に適当な眼科用賦形剤を本発明の目的の担体媒
質として使用することができ、それらには通常のリン酸
緩衝賦形剤系、等張性ホウ酸賦形剤、等優性食塩賦形剤
、等張性ホウ酸ナトリウム賦形剤などが含まれる。
また医薬製剤は、薬剤を投与した後にほぼ完全な状態で
残存する固形挿入剤の形、または涙液に溶解するかまた
は他の方法で崩壊する生崩壊性挿入剤の形とすることも
できる。
一般に本発明の化合物の体重kg当り約0.001乃至
約50mg、好ましくは約0.01乃至約20mgを使
用することができる。必要61日当り投与量により、投
与は単一または頻回投与とし、また単位投与とすること
ができる。
以下に、実施例、参考例及び製剤例をあげて本発明を更
に具体的に説明する。
夾施舛1 グリゼオール酸1gにアセトニトリル100m1を加え
、攪拌下に、窒素気流中で1,8−ジアザビシクロ(5
,4,0〕−7−ウンデセン1.21gを加えた後、水
冷下にヨードメチル ピバレート2.56gを加えて、
室温で1時間攪拌した。溶媒を留去し、残留物に酢酸エ
チル60m1と希塩酸30m1に溶かし、酢酸エチル層
を分離後、希塩酸、5%炭酸水素ナトリウム水溶液、及
び飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗い、有機層を硫酸
マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した後、シリカゲル
クロマトグラフィー(酢酸エチル:アセトニトリル2:
1)で分離精製し、ベンゼンより凍結乾燥して目的化合
物970mg(60,5%)を得た。
NMRスペクトル δ、ppm (DMSO−d6)8
.30.IN、S。
8.17.IH,s(2又は8−H);6.54.IH
,s(1’ −H): 6.08.IH,dd(2,4,4,9)(3’ −H
):5.07.IH,d(2,0)(5’ −H);4
.63.2H,m(2’及び7’ −f();7.39
,2H,br 5(NH:):6.20.IH,d(4
,4)(2’ −0H):5.68〜5.77.5H,
m(CH2,7’ −0H);1−17 t 3Hv 
s (CH* ) ;1.09,3H,5(CH3)。
ビルオキシカルボニルオキシ エチル エステルグリゼ
オール酸380mgをジメチルスルホキシド1 、5m
lに溶かし、窒素気流中1,8−ジアザビシクロ(5,
4,0)−7−ウンデセン0.17m1を加え、更にア
セトニトリル1mlを加えた後、氷冷下1−ブロモエチ
ル イソプロピルオキシカルボキシレートを加え、室温
で3時間反応させた。アセトニトリルを留去し、残留物
を酢酸エチル20m1と氷を含む3%炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に溶かし、酢酸エチル層を分離後、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で洗った後、硫酸マグネシウムで乾燥し
、活性炭処理後、溶媒を留去すると、無色のほぼ単一ス
ポットの目的化合物が得られた。これをシリカゲルクロ
マトグラフィーで分離精製(酢酸エチル:アセトニトリ
ル5:2)して目的化合物120mg (18,8%)
を得た。
NMRスペクトル δ、ppm(DMSO−d6)8.
31及び8.34.IH,各S。
8.17及び8.18.IH,m(2又は8−H) ;
6.50及び6,51.IH,各s(1’ −H);6
.09及び6.14.IH,各dd(2,4,5,4)
(3’ −H):5.03及び5.10.IH,各d(
2,4)(5’ −H);4.62.2H,m(2’及
び7’ −H);7.38,2H,br 5(NH!り
;6.67.2H,m(CH); 6.35及び6.19.IH,m(2’ −0H);5
.60.1)1.m(7’ −0H);4−65〜4−
83,2H9m(eH);1.17〜1.52,18H
,m(CHs)。
少;丞ニル グリゼオール酸3gをジメチルスルホキシド30m1に
溶かし、窒素気流中に1,8−ジアザビシクロ(5,4
,0l−7−ウンデセン2.4mlを加えた後、水冷下
にヨウ化(5−メチル−2−オキソ−1,3−ジオキソ
レン−4−イル)メチル7.6gを加えて、室温で4時
間反応させた。反応液に酢酸エチル300m1と水30
0m1を加え、有機層を分離後、再度水洗した後、硫酸
マグネシウムで乾燥後、活性炭処理をして溶媒を留去し
た。残留物をシリカゲルクロマトグラフィー(4%エタ
ノールを含む塩化メチレン)で分離精製し、塩化メチレ
ンより結晶化させる工と5.:より、目的化合物715
mg (15,0%)を得た。
NMRスペクトル δ、ppm(DMSO−d6)8.
33.LH,s。
8.17.LH,s(2又は8−H) ;6.52.L
H,s(1’ −H); 6.10.LH,dd(2,4,5,4)(3’ −H
):5.12.LH,d(2,4)(5’ −H);4
.59.LH,t(4,4)(2’ −H);4.64
.IH,d(9,3)(7’ −H);7.40,2H
,br 5(NHす; 6.28.LH,d(4,4)(2’ −0H):5.
64.LH,d(9,3)(7’ −0H);5.03
,21(,5(CH2,) ;4’、95,2H,5(
CH2) ; 2、18,3H,5(CH3) ; 2.17,3H,5(CH3)。
夾施侭4 7′−−ス  シ iゼ −レ 8’  9’ −”゛
ピバロイルオキシメチルエステル 7′−デスオキシグリゼオール酸450mgをジメチル
スルホキシド2.5mlに溶かし窒素気流中に1,8−
ジアザビシクロ(5,4,0) −7−ウンデセン0゜
22m1 、及びアセトニトリル2mlを加えた後、水
冷下ヨードメチル ピバレート410mgを加え室温で
3時間、更に5℃で16時間反応させた。アセトニトリ
ルを留去し、残留物を酢酸エチル50m1と3%炭酸水
素ナトリウム水溶液50m1に溶かし、酢酸エチル層を
分取し、水層をさらに酢酸エチル20m1で抽出し、酢
酸エチル層を合せて、硫酸マグネシウムで乾燥後、活性
炭処理し、溶媒を留去して、はぼ単一のスポットの結晶
性物質を得た。ベンゼンより凍結乾燥して290mg 
(40,2%)の目的化合物を得た。
NMRスペクトル δ、 ppm(DMSO−d6)8
.29.ll−1,s。
8.18.IH,s(2又は8−H) ;6.46. 
LH,s(1’ −H) ;6.03.IH,dd(2
,4,4,9)(3’ −H):5.03.IH,d(
2,4)(5’ −H);4.59.LH,t(4,4
,4,9)(2’ −)1):2.90.IH,d(1
7,1)(7’ −H);3.30.LH,d(17,
1)(7’ −H);7.39,2H,br 5(Nl
2);5.99.IH,d(3,9)(2’ −0H)
;5.66〜5.80.4H,m(CH2)。
艮用例1L引艮赳と 実施例1の化合物        0.002gリン酸
二ナトリウム       0.716gリン酸−ナト
リウム       0.728g塩化ナトリウム  
       0.400gp−ヒドロキシ安息香酸メ
チル  0.026gP−ヒドロキシ安店、香酸プロピ
ル 0.014.−滅菌精製水           
適量水酸化ナトリウム        適量全量 10
0m1 pH7,0として、常法により点眼液を調製した。
製剤例IL引1赳と 実施例2の化合物        0.002gリン酸
二ナトリウム       0.500gリン酸−ナト
リウム       1.100g塩化ナトリウム  
       0.300g塩化ペンザトニウム   
    0.010g滅菌精製水          
 適量全量 100m1 pH7,0として常法により点眼液を調製した。
製剤例1.引乱赳り 実施例4の化合物        0.002gリン酸
二ナトリウム       0.400やリン酸−ナト
リウム       1.000V。
塩化ナトリウム         0.690g10%
塩化ベンザルコニウム溶液  100μl滅菌精製水 
          適量全量 100m1 pH7,0として常法により点眼液を調製した。
出 願 人   三共株式会社 代理人 弁理士 樫 出 庄 治

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1及びR^2は同一又は異なって、水素原
    子又は保護されていてもよい水酸基を示し、R^3及び
    R^4は同一で水素原子を示すか又はR^3とR^4が
    一緒になって単結合を示し、R^5及びR^6は同一又
    は異なって、 一般式R^7−COOCH(R^8)−(II)、R^9
    −OCOOCH(R^1^0)−(III)又は▲数式、
    化学式、表等があります▼(IV) (式中、R^7及びR^9は、同一又は異なって、炭素
    数1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭
    素数3乃至10個のシクロアルキル基を示し、R^6及
    びR^1^0は、同一又は異なって、水素原子、炭素数
    1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル基又は炭素
    数3乃至10個のシクロアルキル基を示し、R^1^1
    は、炭素数1乃至10個の直鎖若しくは分枝鎖アルキル
    基、炭素数3乃至10個のシクロアルキル基又は炭素数
    6乃至10のアリール基を示す。)を有する基を示す。 ]で表わされる化合物及びその塩。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1991011451A1 (fr) * 1990-01-26 1991-08-08 Sankyo Company, Limited Analogue de l'acide griseolique et inhibiteur de lak le contenant
WO2000012098A1 (en) * 1998-09-01 2000-03-09 Yamasa Corporation Medicinal compositions for treating eye diseases
US6936596B2 (en) 2000-09-08 2005-08-30 Toa Eiyo Ltd. Adenosine derivatives and use thereof

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