JPH01147258U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01147258U JPH01147258U JP4099588U JP4099588U JPH01147258U JP H01147258 U JPH01147258 U JP H01147258U JP 4099588 U JP4099588 U JP 4099588U JP 4099588 U JP4099588 U JP 4099588U JP H01147258 U JPH01147258 U JP H01147258U
- Authority
- JP
- Japan
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- gas plasma
- sample
- plasma
- reaction product
- etched
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- Pending
Links
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 claims 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は、本考案の一実施例の要部平面図、第
２図は、第１図の―視断面図である。 １０……試料、２０……試料台、３０……試料
押え具、３１……反応生成物堆積面。
２図は、第１図の―視断面図である。 １０……試料、２０……試料台、３０……試料
押え具、３１……反応生成物堆積面。
Claims (1)
- ガスプラズマによるエツチング処理される試料
の周辺に配置される部材の反応生成物堆積面を前
記ガスプラズマのイオン衝撃受可能に形成したこ
とを特徴とするプラズマエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4099588U JPH01147258U (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4099588U JPH01147258U (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01147258U true JPH01147258U (ja) | 1989-10-11 |
Family
ID=31267447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4099588U Pending JPH01147258U (ja) | 1988-03-30 | 1988-03-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01147258U (ja) |
-
1988
- 1988-03-30 JP JP4099588U patent/JPH01147258U/ja active Pending