JPH01158771A - 双方向性スイッチング素子 - Google Patents
双方向性スイッチング素子Info
- Publication number
- JPH01158771A JPH01158771A JP62316923A JP31692387A JPH01158771A JP H01158771 A JPH01158771 A JP H01158771A JP 62316923 A JP62316923 A JP 62316923A JP 31692387 A JP31692387 A JP 31692387A JP H01158771 A JPH01158771 A JP H01158771A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- superconductor
- current
- type semiconductor
- sides
- control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Thyristors (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、双方向性スイッチング素子に関し、特にそ
の交流の位相制御に関するものである。
の交流の位相制御に関するものである。
第4図は例えば「電子工学要論」 (昭和50年。
国民科学社発行、 p、 193)に記載されている従
来の双方向性スイッチング素子の1つであるトライアッ
クを示す図であり、図において、1はP形半導体、2は
N形半導体、6はゲートである。
来の双方向性スイッチング素子の1つであるトライアッ
クを示す図であり、図において、1はP形半導体、2は
N形半導体、6はゲートである。
次にトライチックの動作について説明する。
トライチックは次の4つのモードでターンオンし、交流
を制御する。
を制御する。
(モードI)
T、がT2に対して電圧圧の場合で、正のゲート電圧に
よりターンオンする様式である。
よりターンオンする様式である。
ゲート電流はまずゲート端子GからP2層を通って端子
T2に流れるが、P2の横方向抵抗による電圧降下のた
めP2 N2接合の一部の、順バイアスが強められて、
ゲート電流はP2NZ接合を通って端子T2に流れるよ
うになり、GをゲートとするP IN+ Pz N2で
構成されるSCR,がり−ンオンする。
T2に流れるが、P2の横方向抵抗による電圧降下のた
めP2 N2接合の一部の、順バイアスが強められて、
ゲート電流はP2NZ接合を通って端子T2に流れるよ
うになり、GをゲートとするP IN+ Pz N2で
構成されるSCR,がり−ンオンする。
(モード■)
T1がT2に対して電圧圧の場合で、負のゲート電圧に
よりターンオンする様式である。
よりターンオンする様式である。
ゲート電流は主端子T2からP2に入り、NGを通って
ゲート端子に流出し、まずPINIP2NGにより構成
されるSCRをターンオンする。
ゲート端子に流出し、まずPINIP2NGにより構成
されるSCRをターンオンする。
これにより22層の電位が電極T1のそれとほぼ等しく
なり、PzNz接合が強く順バイアスされ、5CRI
がターンオンする。
なり、PzNz接合が強く順バイアスされ、5CRI
がターンオンする。
(モード■)
T1がT2に対して電圧負の場合で、負のゲート電圧に
よりターンオンする様式である。
よりターンオンする様式である。
ゲート信号によってPzNc接合が順バイアスされ、電
子がNG層から22層へ注入される。この電子がP2N
+接合に向かって拡散し、N1層に入って過剰キャリア
となるとN1層の電位が22層より一層低下し、PzN
+接合の順バイアスが強まり、22層からN1層への正
孔の注入が促される。この正孔はN、層を拡散してN、
PIl接合空乏層を通り、21層の過剰キャリアとなる
。
子がNG層から22層へ注入される。この電子がP2N
+接合に向かって拡散し、N1層に入って過剰キャリア
となるとN1層の電位が22層より一層低下し、PzN
+接合の順バイアスが強まり、22層からN1層への正
孔の注入が促される。この正孔はN、層を拡散してN、
PIl接合空乏層を通り、21層の過剰キャリアとなる
。
その結果、21層の電位が増し、PIN、l接合の順バ
イアスが強まり、結局Pz N+ PI N3からなる
5CR2がターンオンする。
イアスが強まり、結局Pz N+ PI N3からなる
5CR2がターンオンする。
(モード■)
T、がT2に対して電圧負の場合で、正のゲート電圧に
よりターンオンする様式である。
よりターンオンする様式である。
ゲート電流は端子Gから22層を通って主端子T2に向
かって流れるが、22層の横方向抵抗による電圧降下に
よりP2N2接合の一部が順バイアスされ、N2からP
2に電流の注入が起こる。
かって流れるが、22層の横方向抵抗による電圧降下に
よりP2N2接合の一部が順バイアスされ、N2からP
2に電流の注入が起こる。
その結果、モード■の機能と同様にしてS CR2がタ
ーンオンする。
ーンオンする。
従来の双方向性スイッチング素子であるトライチックは
以上のように構成されているので、以下のような問題点
があった。
以上のように構成されているので、以下のような問題点
があった。
1)各モードでターンオン機構が異なるため、ゲートト
リガの感度に差が生じる。
リガの感度に差が生じる。
2)主電極間の電圧極性の反転は、オフ状態にある一方
のpnpn構造部に対しては逆方向から順方向への電圧
極性の逆転となるため、その条件によってはゲート信号
がなくてもオン状態に移行してしまい、電流制御能力を
失うことがある(転流失敗)。
のpnpn構造部に対しては逆方向から順方向への電圧
極性の逆転となるため、その条件によってはゲート信号
がなくてもオン状態に移行してしまい、電流制御能力を
失うことがある(転流失敗)。
3)交流制御において制御信号が加えられるまで電流が
流れ続けるというタイプの交流制御はできない。
流れ続けるというタイプの交流制御はできない。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、電流の流れる方向によらず同じ感度で電流の
制御が行なえ、転流失敗することがなく、交流制御にお
いて制御信号が加えられるまで電流が流れ続けるという
タイプの交流制御ができる双方向性スイッチング素子を
得ることを目的とする。
たもので、電流の流れる方向によらず同じ感度で電流の
制御が行なえ、転流失敗することがなく、交流制御にお
いて制御信号が加えられるまで電流が流れ続けるという
タイプの交流制御ができる双方向性スイッチング素子を
得ることを目的とする。
この発明に係る双方向性スイッチング素子は、P形半導
体および超伝導体をN形半導体の両側に並列に接合、あ
るいはN形半導体および超伝導体をP形半導体の両側に
並列に接合し、上記超伝導体を超伝導状態から常伝導状
態に制御するための制御ラインを備えたものである。
体および超伝導体をN形半導体の両側に並列に接合、あ
るいはN形半導体および超伝導体をP形半導体の両側に
並列に接合し、上記超伝導体を超伝導状態から常伝導状
態に制御するための制御ラインを備えたものである。
この発明においては、P形半導体および超伝導体をN形
半導体の両側に接合、あるいはN形半導体および超伝導
体をP形半導体の両側に接合し、この超伝導体が制御ラ
インに信号を流すことにより超伝導状態から常伝導状態
に制御される構成とし、しかも、上記超伝導体はひとた
び超伝導状態が破れるとジュール熱が発生するため印加
電流が0になるまで超伝導状態にはならないから、電流
の流れる方向によらず同じ感度で電流の制御が行なえ、
転流失敗することがなく、交流制御において制御信号が
加えられるまで電流が流れ続けるというタイプの交流制
御ができる。
半導体の両側に接合、あるいはN形半導体および超伝導
体をP形半導体の両側に接合し、この超伝導体が制御ラ
インに信号を流すことにより超伝導状態から常伝導状態
に制御される構成とし、しかも、上記超伝導体はひとた
び超伝導状態が破れるとジュール熱が発生するため印加
電流が0になるまで超伝導状態にはならないから、電流
の流れる方向によらず同じ感度で電流の制御が行なえ、
転流失敗することがなく、交流制御において制御信号が
加えられるまで電流が流れ続けるというタイプの交流制
御ができる。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第1図は本発明の一実施例による双方向性スイッチング
素子を示す概念図であり、図において、1はP形半導体
、2はN形半導体、3はN形と接合している超伝導体で
ある。4はこの超伝導体3を超伝導状態から常伝導状態
に制御するための制御ラインで、絶縁物をはさんで超伝
導体3上に配置されている。5a、5bはこの制御ライ
ン4に印加すべき制御信号としてパルス電流を発生する
第1.第2のパルス発振器。そしてこの双方向性スイッ
チング素子には交流電圧を印加する。
素子を示す概念図であり、図において、1はP形半導体
、2はN形半導体、3はN形と接合している超伝導体で
ある。4はこの超伝導体3を超伝導状態から常伝導状態
に制御するための制御ラインで、絶縁物をはさんで超伝
導体3上に配置されている。5a、5bはこの制御ライ
ン4に印加すべき制御信号としてパルス電流を発生する
第1.第2のパルス発振器。そしてこの双方向性スイッ
チング素子には交流電圧を印加する。
本実施例に使用できる超伝導体としては、例えばYBa
CuO系、LaBaCuO系、La1rCuO系等のセ
ラミック酸化物超伝導体がある。
CuO系、LaBaCuO系、La1rCuO系等のセ
ラミック酸化物超伝導体がある。
次に本実施例の双方向性スイッチング素子の動作につい
て説明する。
て説明する。
T1がT2に対して電圧圧の場合、超伝導体3がともに
超伝導状態にあるときは、電流はT、かうT zの方向
に流れる。ここで第1のパルス発振器5aでパルス電流
を発生し、制御ラインにパルス電流を流すと、この電流
によって磁場が生じ、この磁場がT2側の超伝導体3の
臨界磁場をこえると超伝導体3は超伝導状態が破れ常伝
導状態になる。セラミック酸化物超伝導体は常伝導状態
では抵抗が極めて大きい。また一方N−Pは逆方向なの
でこの部分も抵抗が大きい。従って結局T1からT2へ
は電流が流れない。ひとたび超伝導状態が破れるとジュ
ール熱が発生するためパルス電流が流れていない時も超
伝導体3は常伝導状態のままである。この超伝導体3を
再び超伝導状態にするには一旦電圧がOにならなければ
ならない。
超伝導状態にあるときは、電流はT、かうT zの方向
に流れる。ここで第1のパルス発振器5aでパルス電流
を発生し、制御ラインにパルス電流を流すと、この電流
によって磁場が生じ、この磁場がT2側の超伝導体3の
臨界磁場をこえると超伝導体3は超伝導状態が破れ常伝
導状態になる。セラミック酸化物超伝導体は常伝導状態
では抵抗が極めて大きい。また一方N−Pは逆方向なの
でこの部分も抵抗が大きい。従って結局T1からT2へ
は電流が流れない。ひとたび超伝導状態が破れるとジュ
ール熱が発生するためパルス電流が流れていない時も超
伝導体3は常伝導状態のままである。この超伝導体3を
再び超伝導状態にするには一旦電圧がOにならなければ
ならない。
またT1がT2に対して電圧負の場合も、電流の向きが
変わるという以外は上記と同様の動作を行ない、電流の
流れを阻止しようと思うタイミングで第2のパルス発振
器5bによりパルス電流を制御ラインに流し、T1側の
超伝導体3の超伝導状態を破ればT2からT、に電流が
流れなくなる。
変わるという以外は上記と同様の動作を行ない、電流の
流れを阻止しようと思うタイミングで第2のパルス発振
器5bによりパルス電流を制御ラインに流し、T1側の
超伝導体3の超伝導状態を破ればT2からT、に電流が
流れなくなる。
第2図は上述の動作を示す図であり、図において斜線部
分が電流の流れる部分である。
分が電流の流れる部分である。
なお、上記実施例ではN形半導体の両側にP形半導体お
よび超伝導体を接合させたものを示したが、これは第3
図に示すようにP形半導体の両側にN形半導体および超
伝導体を接合させてもよく、上記実施例と同様の効果を
奏する。
よび超伝導体を接合させたものを示したが、これは第3
図に示すようにP形半導体の両側にN形半導体および超
伝導体を接合させてもよく、上記実施例と同様の効果を
奏する。
また本発明による双方向性スイッチング素子をサイリス
タと組み合わせて使用することにより、より様々な電流
制御を行なえることはいうまでもない。
タと組み合わせて使用することにより、より様々な電流
制御を行なえることはいうまでもない。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば双方向性スイッチング
素子において、両側にP形半導体および超伝導体を接合
しているN形半導体、あるいは両側にN形半導体および
超伝導体を接合しているP形半導体と、上記超伝導体の
伝導状態を制御するための制御ラインとを備えた構成と
したから、簡単な構造で、電流の制御が電流の流れる方
向によらず同じ感度で行なえ、確実に転流を行ない、従
来の双方向性スイッチング素子トライチックでは制御で
きないタイミングでの電流の制御が可能な双方向性スイ
ッチング素子が得られる効果がある。
素子において、両側にP形半導体および超伝導体を接合
しているN形半導体、あるいは両側にN形半導体および
超伝導体を接合しているP形半導体と、上記超伝導体の
伝導状態を制御するための制御ラインとを備えた構成と
したから、簡単な構造で、電流の制御が電流の流れる方
向によらず同じ感度で行なえ、確実に転流を行ない、従
来の双方向性スイッチング素子トライチックでは制御で
きないタイミングでの電流の制御が可能な双方向性スイ
ッチング素子が得られる効果がある。
第1図は本発明の一実施例による双方向性スイッチング
素子を示す図、第2図は第1図の動作を示す図、第3図
は本発明の他の実施例を示す図、第4図は従来の双方向
性スイッチング素子の1つであるトライアックを示す図
である。 1はP形半導体、2はN形半導体、3は超伝導体、4は
制御ライン、5はパルス発振器。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
素子を示す図、第2図は第1図の動作を示す図、第3図
は本発明の他の実施例を示す図、第4図は従来の双方向
性スイッチング素子の1つであるトライアックを示す図
である。 1はP形半導体、2はN形半導体、3は超伝導体、4は
制御ライン、5はパルス発振器。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (3)
- (1)両側にP形半導体および超伝導体を並列に接合し
ているN形半導体、あるいは両側にN形半導体および超
伝導体を並列に接合しているP形半導体と、 上記超伝導体の伝導状態を制御するための制御ラインと
を備えたことを特徴とする双方向性スイッチング素子。 - (2)上記制御ラインは、これにパルス電流を流すため
のパルス発振器が接続されていることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の双方向性スイッチング素子。 - (3)上記超伝導体は、セラミック酸化物系超伝導体で
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項
に記載の双方向性スイッチング素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62316923A JPH01158771A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 双方向性スイッチング素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62316923A JPH01158771A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 双方向性スイッチング素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01158771A true JPH01158771A (ja) | 1989-06-21 |
Family
ID=18082423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62316923A Pending JPH01158771A (ja) | 1987-12-15 | 1987-12-15 | 双方向性スイッチング素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01158771A (ja) |
-
1987
- 1987-12-15 JP JP62316923A patent/JPH01158771A/ja active Pending
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