JPH01159949A - 透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダ - Google Patents
透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダInfo
- Publication number
- JPH01159949A JPH01159949A JP62316272A JP31627287A JPH01159949A JP H01159949 A JPH01159949 A JP H01159949A JP 62316272 A JP62316272 A JP 62316272A JP 31627287 A JP31627287 A JP 31627287A JP H01159949 A JPH01159949 A JP H01159949A
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- Japan
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- transmission electron
- electron microscope
- ion
- mask
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、透過型電子顕微鏡（以後透過電顕と略す）結
合加速器用ホールダに係り、特にホールダに装着した試
料の特定の場所のみを選択してイオン照射することに好
適な透過電顕結合加速器用試料ホールダに関する。
合加速器用ホールダに係り、特にホールダに装着した試
料の特定の場所のみを選択してイオン照射することに好
適な透過電顕結合加速器用試料ホールダに関する。
昨今の新材料の研究、とりわけ、超電導材料や核融合炉
材料の研究においては、降伏応力や引っ張り強度といっ
たマクロな性質だけではなく、よりミクロな性質の解明
に対するニーズが高まりつつある。このような時代の要
請に対し、材料計測装置も急速な進歩を遂げ、現在では
原子サイズで、材料の構造等を測定する装置も開発され
ている。
材料の研究においては、降伏応力や引っ張り強度といっ
たマクロな性質だけではなく、よりミクロな性質の解明
に対するニーズが高まりつつある。このような時代の要
請に対し、材料計測装置も急速な進歩を遂げ、現在では
原子サイズで、材料の構造等を測定する装置も開発され
ている。
透過電顕結合加速器とは、加速器によって加速されたイ
オンを透過型電子顕微鏡（以後、透過電顕と呼ぶ。）の
中に装荷した試料（直径３ ｎｖｎ 、厚さ３００μｍ
以下）に照射し、照射による格子欠陥の生成、回復過程
をその場観察するための装置であるため、材料をとりわ
け、核融合炉材料等の研究には大変に有効な装置といえ
る。一般にこれらの研究では、条件の異なるイオン照射
により生成する格子欠陥挙動の違いから、材料の照射特
性を検証する手法が用いられている。
オンを透過型電子顕微鏡（以後、透過電顕と呼ぶ。）の
中に装荷した試料（直径３ ｎｖｎ 、厚さ３００μｍ
以下）に照射し、照射による格子欠陥の生成、回復過程
をその場観察するための装置であるため、材料をとりわ
け、核融合炉材料等の研究には大変に有効な装置といえ
る。一般にこれらの研究では、条件の異なるイオン照射
により生成する格子欠陥挙動の違いから、材料の照射特
性を検証する手法が用いられている。
透過電顕結合加速器は、現在、国内だけても５台設置さ
れており、数十ＫｅＶ程度のイオン発生器を透過電顕に
取り付けた装置も含めると、その数は倍以上となり、更
に今後ますます増加すると考えられる。これらの装置で
は、透過電顕に取り付けた試料全面に、均一にイオン照
射することによって、試料面積からイオン照射面積を求
め、照射量を把握していた。そのため、異なったいくつ
かの条件でイオン照射する場合には、照射のつど試料を
交換し、実験する必要があった。
れており、数十ＫｅＶ程度のイオン発生器を透過電顕に
取り付けた装置も含めると、その数は倍以上となり、更
に今後ますます増加すると考えられる。これらの装置で
は、透過電顕に取り付けた試料全面に、均一にイオン照
射することによって、試料面積からイオン照射面積を求
め、照射量を把握していた。そのため、異なったいくつ
かの条件でイオン照射する場合には、照射のつど試料を
交換し、実験する必要があった。
なお、加速器と透過型電子顕微鏡とを結合した装置に用
いる試料ホールダとして、特に、イオンビームと試料の
位置調整及び試料に照射されたイオン電流の測定を可能
ならしむるホールダとして。
いる試料ホールダとして、特に、イオンビームと試料の
位置調整及び試料に照射されたイオン電流の測定を可能
ならしむるホールダとして。
次のものが挙げられる。
鈴木他、ニュークリア インス１へロメンツ アンド
メンツズ イン フイズインクス リサーチ Ｂ２４
／２５ （１９８７） ５９１ （Ｋ。
メンツズ イン フイズインクス リサーチ Ｂ２４
／２５ （１９８７） ５９１ （Ｋ。
５ｕｚｕｋｉ ｅｔ ａｌ Ｎｕｃｌ、、Ｉｎ５ｔｒ、
ａｎｄ Ｍｅｔｈ、 Ｂ ２４ ／２５ （１９８７
）５９１）（特にｐ５９３に記述が房る。） 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記従来技術は、以下の点において、問題を含むもので
ある。透過電顕結合加速器では、透過電顕内に装荷され
た試料の斜め上方から入射するイオン線によって、試料
には多数の格子欠陥が導入され、その様子を試料上方か
に入射する電子線の回折を利用して観察する。この際、
格子欠陥組織と照射損傷量との対応付けが必要であるが
、この点は、試料の全面に、均一にイオンを照射し、更
に試料に照射されるイオン電流を測定することによって
損傷量を換算する方式が用いられている。
ａｎｄ Ｍｅｔｈ、 Ｂ ２４ ／２５ （１９８７
）５９１）（特にｐ５９３に記述が房る。） 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記従来技術は、以下の点において、問題を含むもので
ある。透過電顕結合加速器では、透過電顕内に装荷され
た試料の斜め上方から入射するイオン線によって、試料
には多数の格子欠陥が導入され、その様子を試料上方か
に入射する電子線の回折を利用して観察する。この際、
格子欠陥組織と照射損傷量との対応付けが必要であるが
、この点は、試料の全面に、均一にイオンを照射し、更
に試料に照射されるイオン電流を測定することによって
損傷量を換算する方式が用いられている。
しかし本方式では、試料全面にイオンが照射されるため
に、異なった条件でいくつかの試料にイオン照射し、材
料の照射特性を検証したい場合には、照射の都度試料を
交換する必要がある。
に、異なった条件でいくつかの試料にイオン照射し、材
料の照射特性を検証したい場合には、照射の都度試料を
交換する必要がある。
これらのイオン照射実験（１回の照射時間は数分から数
十分）を効率的に実施するためには、試料の交換時間を
短縮する必要がある。しかし、試料の交換には、試料の
冷却（通常の実験では、試料は加熱されてイオン照射に
供される。）、試料室の大気開放、試料交換、試料ホー
ルダの電顕内挿入及び試料室の真空引き、試料の加熱と
いった一連の作業が必要であり、最低２時間は要する。
十分）を効率的に実施するためには、試料の交換時間を
短縮する必要がある。しかし、試料の交換には、試料の
冷却（通常の実験では、試料は加熱されてイオン照射に
供される。）、試料室の大気開放、試料交換、試料ホー
ルダの電顕内挿入及び試料室の真空引き、試料の加熱と
いった一連の作業が必要であり、最低２時間は要する。
即ち、数十分の照射に対し、試料交換に最低２時間も必
要であった。更に、イオンビーム条件の経時変化により
、試料交換中にイオンビーム条件が変化することも考え
られるため、精度の高いイオン照射実験を実施するため
にも、試料交換時間の短縮、更に言えば、試料交換する
ことなく、イオン照射実験が経続できることが最つとも
望ましい。
要であった。更に、イオンビーム条件の経時変化により
、試料交換中にイオンビーム条件が変化することも考え
られるため、精度の高いイオン照射実験を実施するため
にも、試料交換時間の短縮、更に言えば、試料交換する
ことなく、イオン照射実験が経続できることが最つとも
望ましい。
上記の点について、従来の試料ホールダでは考慮されて
おらず、効率の悪い実験を余なくされていた。
おらず、効率の悪い実験を余なくされていた。
本発明の目的は、透過電顕結合加速器用試料ホールダに
おいて、１試料により、異なった条件で数回のイオン照
射を可能ならしむる機能を付与する点にある。
おいて、１試料により、異なった条件で数回のイオン照
射を可能ならしむる機能を付与する点にある。
上記目的は、試料ホールダにおいて、試料装荷台に回転
機能若しくは移動機能を付与し、更に試料上方に固定マ
スクを装着することにより達成される。
機能若しくは移動機能を付与し、更に試料上方に固定マ
スクを装着することにより達成される。
また、試料装荷台を固定し、マスクを回転若しくは移動
させることによっても同様に達される。
させることによっても同様に達される。
即ち、試料装荷台とマスクに相対的な動きを生じさせる
ようにすれば良い。
ようにすれば良い。
試料上方に設置したマスクを通過した電子線及びイオン
線は試料に照射され、更に試料を透過した電子線は、試
料下方の螢光板に試料像を結像させる。螢光板で観察さ
れる試料像は電子線とイオン線が照射される部分だけで
あるため、試料像を観察しつつ試料を回転若しくは移動
させることによって、試料の特定の場所を選択して、そ
の部分のみイオン照射することができる。試料装荷台を
固定し、マスクを回転若しくは移動させる場合も同様で
ある。
線は試料に照射され、更に試料を透過した電子線は、試
料下方の螢光板に試料像を結像させる。螢光板で観察さ
れる試料像は電子線とイオン線が照射される部分だけで
あるため、試料像を観察しつつ試料を回転若しくは移動
させることによって、試料の特定の場所を選択して、そ
の部分のみイオン照射することができる。試料装荷台を
固定し、マスクを回転若しくは移動させる場合も同様で
ある。
以下、本発明の一実施例を、第１図〜第６図を用いて説
明する。第１図に、本実施例の試料装荷部の概要を、第
２図に本実施例の断面図を示す。
明する。第１図に、本実施例の試料装荷部の概要を、第
２図に本実施例の断面図を示す。
回転機能を有する試料装荷台１に設置された試料２は押
さえネジ３で試料装荷台に固定される。更に試料イオン
照射面側には、スリット５を有するマスク４がホールダ
に固定されている。一方、電子線は試料垂直上方（電子
線入射方位７）から、又、イオン線は、試料斜め上方（
イオン線入射方向８）からマスクに照射され、スリット
５を通過した電子線及びイオン線が試料へ照射される。
さえネジ３で試料装荷台に固定される。更に試料イオン
照射面側には、スリット５を有するマスク４がホールダ
に固定されている。一方、電子線は試料垂直上方（電子
線入射方位７）から、又、イオン線は、試料斜め上方（
イオン線入射方向８）からマスクに照射され、スリット
５を通過した電子線及びイオン線が試料へ照射される。
試料へ照射された電子線のうち試料薄膜部に照射された
ものは試料内で回折されつつ試料を透過し、投射レンズ
１０により螢光板１１上で試料像を結像する（第３図参
照）。螢光板上で結像した試料像として観察できる部分
は、スリットを通過した電子線に照射された部分である
。
ものは試料内で回折されつつ試料を透過し、投射レンズ
１０により螢光板１１上で試料像を結像する（第３図参
照）。螢光板上で結像した試料像として観察できる部分
は、スリットを通過した電子線に照射された部分である
。
第４図に、螢光板１３上で観察することができる試料像
を示す。スリン１〜・エツジ１４によってしきられた試
料像１５が観察される。試料台を回転すれば螢光板上で
観察される試料像も変化するが、もし試料上の電子線照
射位置とイオン線照射位置が同じ場所であれば、試料装
荷台の回転とともに変化する試料像は、同様に変化する
イオン照射位置を示していることになる。この場合、試
料像を観察しつつ試料装荷台を回転させれば、試料の特
定の部分を試料像の観察から任意に選択でき、その部分
のみイオン照射てきる。またイオン照射によって生成、
成長する格子欠陥１６のその場観察も可能にすることが
出来る。次に、その条件を以下に記す。
を示す。スリン１〜・エツジ１４によってしきられた試
料像１５が観察される。試料台を回転すれば螢光板上で
観察される試料像も変化するが、もし試料上の電子線照
射位置とイオン線照射位置が同じ場所であれば、試料装
荷台の回転とともに変化する試料像は、同様に変化する
イオン照射位置を示していることになる。この場合、試
料像を観察しつつ試料装荷台を回転させれば、試料の特
定の部分を試料像の観察から任意に選択でき、その部分
のみイオン照射てきる。またイオン照射によって生成、
成長する格子欠陥１６のその場観察も可能にすることが
出来る。次に、その条件を以下に記す。
第５図に試料部の断面図を示す。電子線とイオン線によ
って作る角度（以後、イオン入射角とよぶ。）１７をθ
、試料とマスクとの間隔１８をａ、イオン線と作る角度
が最小となる様にマスク面上にとった線上でのスリット
の長さ１９（以後、スリットの長さとよぶ。）をｂとす
れば、電子線照射面でかつイオン照射面である部分を試
料面上につくるためには、下記の関係を充たす必要があ
る。
って作る角度（以後、イオン入射角とよぶ。）１７をθ
、試料とマスクとの間隔１８をａ、イオン線と作る角度
が最小となる様にマスク面上にとった線上でのスリット
の長さ１９（以後、スリットの長さとよぶ。）をｂとす
れば、電子線照射面でかつイオン照射面である部分を試
料面上につくるためには、下記の関係を充たす必要があ
る。
ｂ）ａｔａｎＯ・（１）
また、イオン線のみ照射された部分で、その部分が試料
台の回転によって電子線照射面とならないためには、（
この条件を充たすことによって、特定の場所として選択
していなかった場所で、既にイオン照射を受けた場所が
、試料像として観察されることはない。）試料装荷台の
回転軸から、スリットまでの最短距離２０をＣとして、
以下の式を満足する必要がある。
台の回転によって電子線照射面とならないためには、（
この条件を充たすことによって、特定の場所として選択
していなかった場所で、既にイオン照射を受けた場所が
、試料像として観察されることはない。）試料装荷台の
回転軸から、スリットまでの最短距離２０をＣとして、
以下の式を満足する必要がある。
２ｃ）ａｔａｎＯ・・１２）
第６図は、式（１）、 （２）を満足する実施例を示す
。
。
試料とマスクの間隔を、０．２ ｒｔｎｌ、イオン線の
入射角を３３° （（株）日立製作所の所有する透過電
顕結合加速器では入射角３３°である）とすれば、式（
ＬＬ （２）からスリットの長さｂは、０．１３ｎｗｎ
以上、回転軸からスリットまでの距離Ｃは、０．０６ｎ
ｗｎ以上が必要である。一方、試料は、現在の透過電顕
の規格から直径を３ｍとすると、スリットの長さｂは、 １ｎ ０ 、１３ ｍ＋ ＜ ｂ ＜ ０ 、０６
ｒｍ＋ ＝ １ 、４−４ ｇｎ０．１３ｎｗｎ以上
、１；４４ｎｗｎ以下が必要で、最大値（ｂ＝１．４４
ｎｗｎ）をとった場合、電子線照射面積に対する、電子
線及びイオン線がともに照射される面積の割合は、８０
％以上となる。更に第６図においで通常の試料は、中央
部のみ薄膜となっているため、電子線が透過する部分で
、イオン線が照射される部分は、１００％と考えられる
。即ち、螢光板で観察される試料像においては、その部
分がイオン線の照射部分と考えても良いことがわがる。
入射角を３３° （（株）日立製作所の所有する透過電
顕結合加速器では入射角３３°である）とすれば、式（
ＬＬ （２）からスリットの長さｂは、０．１３ｎｗｎ
以上、回転軸からスリットまでの距離Ｃは、０．０６ｎ
ｗｎ以上が必要である。一方、試料は、現在の透過電顕
の規格から直径を３ｍとすると、スリットの長さｂは、 １ｎ ０ 、１３ ｍ＋ ＜ ｂ ＜ ０ 、０６
ｒｍ＋ ＝ １ 、４−４ ｇｎ０．１３ｎｗｎ以上
、１；４４ｎｗｎ以下が必要で、最大値（ｂ＝１．４４
ｎｗｎ）をとった場合、電子線照射面積に対する、電子
線及びイオン線がともに照射される面積の割合は、８０
％以上となる。更に第６図においで通常の試料は、中央
部のみ薄膜となっているため、電子線が透過する部分で
、イオン線が照射される部分は、１００％と考えられる
。即ち、螢光板で観察される試料像においては、その部
分がイオン線の照射部分と考えても良いことがわがる。
以上のことから、本実施例では、螢光板で観察される試
料像がイオン照射部を示し、その試料像を観察しつつ試
料装荷台を回転させることによってイオン照射する特定
の場所が選択することを可能ならしむるものと言える。
料像がイオン照射部を示し、その試料像を観察しつつ試
料装荷台を回転させることによってイオン照射する特定
の場所が選択することを可能ならしむるものと言える。
又試料上のイオン照射面積は試料装荷台の回転にかかわ
らず一定であり、その値は、スリットの形状から容易に
求めることが可能である。
らず一定であり、その値は、スリットの形状から容易に
求めることが可能である。
第２の実施例について説明する。第１の実施例における
回転機能を有する試料装荷台を試料ホールダに固定し、
一方、試料装荷台に装荷した試料の照射面側に設置した
マスクを回転させることによって、試料の特定の場所を
選択してイオン照射することができる。但しこの場合、
スリットの形状が円形の場合を除いて、スリットの幅す
が変化し、回転させる角度によって（１）式を満足させ
ない場合が発生する。また試料のイオン照射面積が回転
によって変化する。更に、（２）式で定義した条件は、
この場合適用出来ない。
回転機能を有する試料装荷台を試料ホールダに固定し、
一方、試料装荷台に装荷した試料の照射面側に設置した
マスクを回転させることによって、試料の特定の場所を
選択してイオン照射することができる。但しこの場合、
スリットの形状が円形の場合を除いて、スリットの幅す
が変化し、回転させる角度によって（１）式を満足させ
ない場合が発生する。また試料のイオン照射面積が回転
によって変化する。更に、（２）式で定義した条件は、
この場合適用出来ない。
第３の実施例について説明する。第１の実施例における
試料装荷台において、回転機能ではなく移動機能を付与
することによって第１の実施例と同様に、試料の特定の
場所を選択して、その部分のみイオン照射することが可
能となる。
試料装荷台において、回転機能ではなく移動機能を付与
することによって第１の実施例と同様に、試料の特定の
場所を選択して、その部分のみイオン照射することが可
能となる。
第４の実施例は、第２の実施例におけるマスクについて
、回転機能ではなく移動機能を付与することを特徴とす
る。移動機能とすることによってスリン１−の幅及び試
料のイオン照射面積が、マスクの移動にともなって変化
することはない。
、回転機能ではなく移動機能を付与することを特徴とす
る。移動機能とすることによってスリン１−の幅及び試
料のイオン照射面積が、マスクの移動にともなって変化
することはない。
電子線及びイオン線が、試料装荷台に装着した試料に対
しともに垂直に入射させることを可能とする機能を透過
電顕結合加速器に付与することによって、以下のことが
可能となる。
しともに垂直に入射させることを可能とする機能を透過
電顕結合加速器に付与することによって、以下のことが
可能となる。
第７図に示すように、たれえは試料イオン照射面上方に
設置された電磁レンズ２１によって逆方向に偏向され、
その結果平行となった電子線及びイオン線が試料へ照射
された場合、電子線とイオン線とが作る角度はＯ−０と
なるため、（１）、（２）式の条件が不要となる。この
場合には、スリットの長さ、スリットの位置の制約がす
べて消失する。
設置された電磁レンズ２１によって逆方向に偏向され、
その結果平行となった電子線及びイオン線が試料へ照射
された場合、電子線とイオン線とが作る角度はＯ−０と
なるため、（１）、（２）式の条件が不要となる。この
場合には、スリットの長さ、スリットの位置の制約がす
べて消失する。
さらに、マスクと試料との間隔を短かくする必要もなく
なるため、試料ホールダに設置するのではなく電顕内に
マスクを設置する場合が考えられる。
なるため、試料ホールダに設置するのではなく電顕内に
マスクを設置する場合が考えられる。
即ち、試料部上力の電顕内に設置された、電子線及びイ
オン線マスクを通過した電子線及びイオン線を試料へ照
射し、そしてマスクあるいは試料を回転あるいは移動さ
せることによって、試料の特定の場所を選択してイオン
照射することを可能にすることが出来る。
オン線マスクを通過した電子線及びイオン線を試料へ照
射し、そしてマスクあるいは試料を回転あるいは移動さ
せることによって、試料の特定の場所を選択してイオン
照射することを可能にすることが出来る。
本発明によれば、試料の特定の場所を選択し、その場所
だけをイオン照射することができるため、照射場所を移
動させることによって、異なった条件でのイオン照射を
１試料でできる様になり、試料交換頻度を１／１０以下
に、即ち、使用する試料数を１７１０以下交換に要する
時間を２０時間以上短縮ならしむる効果がある。
だけをイオン照射することができるため、照射場所を移
動させることによって、異なった条件でのイオン照射を
１試料でできる様になり、試料交換頻度を１／１０以下
に、即ち、使用する試料数を１７１０以下交換に要する
時間を２０時間以上短縮ならしむる効果がある。
第１図は、本発明の第１の実施例の構成を示す平面図、
第２図は、第１図のＩ−Ｔ線断面図、第３図は、第１の
実施例の原理を説明するための、透過電顕結合加速器の
試料部、結像部を示した図、第４図は、本発明の実施例
を用いることによって螢光板上で観察される試料像の模
式図、第５図及び第６図は、電子線及びイオン線に照射
される本発明の実施例の試料部を示した図、第７図は、
平行となって試料へ照射されるイオン線及び電子線を示
した図。 １・・・試料装荷台、２・・試料、３・・押さえネジ、
４・・・マスク、５・・・スリット、６・・・試料台回
転系、７・・・電子線入射方位、８・・・イオン線入射
方位、９・・・電子線、１０・・・投射レンズ、１１・
・・螢光板、１２イオン線、１３・・螢光板、１４・・
スリット・エツジ、１５・・・試料像、１６・・・格子
欠陥、１７・・・イオン入射角、１８・・・試料とマス
クの間隔、１９・・・スリットの長さ、２０・・・回転
軸とスリン１〜の最短距離、２１・・・電磁レンズ。 ４−一−マスク δ−−−４ｔン芹入
鯉方欲茶３図 １Ｚ−・−イオン４麿 １Ｉ− ｔ３−Ｖ を級 ／＋−−−ズ９外、Ｔ−ル゛ 一４〜外水 ７、−あＪス面 ＄５１￥１ １デ −−−スリットの４２さ ２、−−一 巨り転軸とスジ７Ｌ４欠匡Ｅ角ｌ第 ４
口 第７ 図
第２図は、第１図のＩ−Ｔ線断面図、第３図は、第１の
実施例の原理を説明するための、透過電顕結合加速器の
試料部、結像部を示した図、第４図は、本発明の実施例
を用いることによって螢光板上で観察される試料像の模
式図、第５図及び第６図は、電子線及びイオン線に照射
される本発明の実施例の試料部を示した図、第７図は、
平行となって試料へ照射されるイオン線及び電子線を示
した図。 １・・・試料装荷台、２・・試料、３・・押さえネジ、
４・・・マスク、５・・・スリット、６・・・試料台回
転系、７・・・電子線入射方位、８・・・イオン線入射
方位、９・・・電子線、１０・・・投射レンズ、１１・
・・螢光板、１２イオン線、１３・・螢光板、１４・・
スリット・エツジ、１５・・・試料像、１６・・・格子
欠陥、１７・・・イオン入射角、１８・・・試料とマス
クの間隔、１９・・・スリットの長さ、２０・・・回転
軸とスリン１〜の最短距離、２１・・・電磁レンズ。 ４−一−マスク δ−−−４ｔン芹入
鯉方欲茶３図 １Ｚ−・−イオン４麿 １Ｉ− ｔ３−Ｖ を級 ／＋−−−ズ９外、Ｔ−ル゛ 一４〜外水 ７、−あＪス面 ＄５１￥１ １デ −−−スリットの４２さ ２、−−一 巨り転軸とスジ７Ｌ４欠匡Ｅ角ｌ第 ４
口 第７ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダであつ
て、 回転機能若しくは移動機能を有する試料装荷台と、 該試料装荷台に装荷した試料のイオン照射面側上方に、
スリットを有するマスクと、 を有することを特徴とする透過型電子顕微鏡結合加速器
用試料ホールダ。 ２、特許請求の範囲第１項において、前記マスクは固定
されていることを特徴とする透過型電子顕微鏡結合加速
器用試料ホールダ。 ３、透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダであつ
て、 試料装荷台と、 該試料装荷台に装荷した試料のイオン照射面側上方に、
スリットを有し、かつ回転機能若しくは移動機能を有す
るマスクと を有することを特徴とする透過型電子顕微鏡結合加速器
用試料ホールダ。 ４、特許請求の範囲第３項において、前記試料装荷台は
固定されていることを特徴とする透過型電子顕微鏡結合
加速器用試料ホールダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62316272A JPH01159949A (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 | 透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62316272A JPH01159949A (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 | 透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01159949A true JPH01159949A (ja) | 1989-06-22 |
Family
ID=18075254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62316272A Pending JPH01159949A (ja) | 1987-12-16 | 1987-12-16 | 透過型電子顕微鏡結合加速器用試料ホールダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01159949A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH031244U (ja) * | 1989-02-23 | 1991-01-09 | ||
| JP2006098189A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Jeol Ltd | 試料作製方法および試料作製装置 |
-
1987
- 1987-12-16 JP JP62316272A patent/JPH01159949A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH031244U (ja) * | 1989-02-23 | 1991-01-09 | ||
| JP2006098189A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Jeol Ltd | 試料作製方法および試料作製装置 |
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