JPH01165367A - 細胞培養容器とその内表面処理方法および装置 - Google Patents
細胞培養容器とその内表面処理方法および装置Info
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- JPH01165367A JPH01165367A JP32339387A JP32339387A JPH01165367A JP H01165367 A JPH01165367 A JP H01165367A JP 32339387 A JP32339387 A JP 32339387A JP 32339387 A JP32339387 A JP 32339387A JP H01165367 A JPH01165367 A JP H01165367A
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- C12M23/08—Flask, bottle or test tube
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- C12M25/00—Means for supporting, enclosing or fixing the microorganisms, e.g. immunocoatings
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、細胞培養容器とその内表面処理方法および装
置に関する。
置に関する。
(従来の技術)
近年、微生物、組繊細胞などを分裂増殖させるいわゆる
培養が広く行なわれ、特に付着性細胞の培養には、細胞
付着性を向上させる特殊処理をした種々の容器が用いら
れる。
培養が広く行なわれ、特に付着性細胞の培養には、細胞
付着性を向上させる特殊処理をした種々の容器が用いら
れる。
なかでも培養細胞の付着面積を多くし、培養効率を高め
るため、近時においては第1図にその一例を示すように
、ローラボトルと称される細口の口部1aを有する壜状
の容器1が用いられ、この容器1内に培地と細胞を入れ
て横置きし、これに回転を与えることで容器の胴部1b
の内周面全域に培養細胞を付着させるようになされたも
のがある。
るため、近時においては第1図にその一例を示すように
、ローラボトルと称される細口の口部1aを有する壜状
の容器1が用いられ、この容器1内に培地と細胞を入れ
て横置きし、これに回転を与えることで容器の胴部1b
の内周面全域に培養細胞を付着させるようになされたも
のがある。
一方、未処理のプラスチック製のボトル状容器の内表面
は、負電荷密度が低いため、内表面に細胞が付着しにく
\、そのため良好な着床がなされないという問題がある
。
は、負電荷密度が低いため、内表面に細胞が付着しにく
\、そのため良好な着床がなされないという問題がある
。
このようなプラスチックの表面の負電荷密度を増加させ
るための表面処理手段の一つにグロー放電によるプラズ
マ処理技術がある。このプラスチックは、一般には高温
下あるいは常温高磁場下のいずれかの条件において行な
われるが、対象となる容器がは点の低いプラスチック製
であると高温下でのプラズマによる処理手段では容器の
溶融や変形をきたすことになって適用することができず
、したがって常温高磁場下でのグロー放電によるプラズ
マ処理が有効な手段の一つとなる。
るための表面処理手段の一つにグロー放電によるプラズ
マ処理技術がある。このプラスチックは、一般には高温
下あるいは常温高磁場下のいずれかの条件において行な
われるが、対象となる容器がは点の低いプラスチック製
であると高温下でのプラズマによる処理手段では容器の
溶融や変形をきたすことになって適用することができず
、したがって常温高磁場下でのグロー放電によるプラズ
マ処理が有効な手段の一つとなる。
この常温高磁場でのグロー放電による表面処理技術は、
第4図に略示するように真空チャンバ2内に電極3,4
を対置し、これら電極3,4間に処理対象となる容器1
′を置く一方、側方から酸素、不活性ガス等の作動ガス
5を吹込み、電極3゜4間で放電を行なわせることによ
り活性化した作動ガスにより内表面の負電荷密度増加処
理を行なうことができる。
第4図に略示するように真空チャンバ2内に電極3,4
を対置し、これら電極3,4間に処理対象となる容器1
′を置く一方、側方から酸素、不活性ガス等の作動ガス
5を吹込み、電極3゜4間で放電を行なわせることによ
り活性化した作動ガスにより内表面の負電荷密度増加処
理を行なうことができる。
(発明が解決しようとする問題点)
しかるに上記従来のグロー放電によるプラズマ処理によ
ると、容器1′が第3図に示しているようにシャーレ等
の皿状のものであればその内表面全域に処理を行なうこ
とができるが、前記の第1図に示されるような細口の口
部1aを有するボトル状容器であると、第5図に示す断
面の太線部領域、すなわちボトル状容器の外面肩部から
胴部外周面、およびボトル状容器の底部内面の中央部分
の表面処理はなされても、細線部領域、すなわちボトル
状容器の肝心な胴部内表面への表面処理が殆んどできず
、内表面全域を均一に処理することができなくなって細
胞培養容器として満足し得る容器とはならないという問
題があった。
ると、容器1′が第3図に示しているようにシャーレ等
の皿状のものであればその内表面全域に処理を行なうこ
とができるが、前記の第1図に示されるような細口の口
部1aを有するボトル状容器であると、第5図に示す断
面の太線部領域、すなわちボトル状容器の外面肩部から
胴部外周面、およびボトル状容器の底部内面の中央部分
の表面処理はなされても、細線部領域、すなわちボトル
状容器の肝心な胴部内表面への表面処理が殆んどできず
、内表面全域を均一に処理することができなくなって細
胞培養容器として満足し得る容器とはならないという問
題があった。
これを改善するものとして、米国特許第4238568
号明細書に示される技術がある。このものはボトル状容
器の内表面全域に均一な表面処理が行なわれるようにす
るため、円筒状の胴部と、底板と、口部を含む上蓋との
3部品の結合構造とし、プラズマ処理段階においては上
記3部品を分解した状態として個々に行ない、処理後こ
れを組立て〜ボトル状容器とするものであるが、これに
よるとボトル状容器の製作にブロー成形等の一体成形に
よる安価で高能率の生産手段をとることができず、イン
ジェクション成形および溶着処理が必要となって高価に
なるうえ、組立工程を余分に要するためボトル状容器自
体が高価格になるという問題がある。
号明細書に示される技術がある。このものはボトル状容
器の内表面全域に均一な表面処理が行なわれるようにす
るため、円筒状の胴部と、底板と、口部を含む上蓋との
3部品の結合構造とし、プラズマ処理段階においては上
記3部品を分解した状態として個々に行ない、処理後こ
れを組立て〜ボトル状容器とするものであるが、これに
よるとボトル状容器の製作にブロー成形等の一体成形に
よる安価で高能率の生産手段をとることができず、イン
ジェクション成形および溶着処理が必要となって高価に
なるうえ、組立工程を余分に要するためボトル状容器自
体が高価格になるという問題がある。
本発明はこれに鑑み、予じめ一体成形された細口の口部
を有するボトル状容器であっても、内表面に適度の負電
荷密度を有する培養容器とし、また内表面に均一な負電
荷密度増加処理を行なうことができる表面処理方法およ
び装置を提供することを目的としてなされたものである
。
を有するボトル状容器であっても、内表面に適度の負電
荷密度を有する培養容器とし、また内表面に均一な負電
荷密度増加処理を行なうことができる表面処理方法およ
び装置を提供することを目的としてなされたものである
。
(問題点を解決するための手段)
上記従来技術の問題点を解決するため、本発明はブロー
成形等により一体に形成された細口の口部を有し、この
口部にキャップを密嵌自在とされたボトル状容器の内表
面にグロー放電による負電荷密度増加処理が施されてい
ることを特徴とする細胞培養容器を第1番目の発明とし
、真空チャンバ内において、ボトル状容器の口部から高
周波電極を挿入するとともに酸素、不活性ガス等の作動
ガスを供給し、高周波電極に通電してボトル状容器内で
グロー放電を行なわせ、ボトル状容器の内表面に負電荷
密度増加処理を施すことを特徴とする細胞培養容器の内
表面処理方法を第2番目の発明とし、真空チャンバと、
中空管材によりボトル状容器の口部から挿入し得る外径
を有するスパイラルコイル状に巻成された高周波電極と
を備え、この電極を構成する中空管材に酸素、不活性ガ
ス等の作動ガス供給系を接続するとともに、前記スパイ
ラルコイル状の高周波電極を構成する部分にガス噴出口
を開口してなり、前記電極を通じてボトル状容器内に作
動ガスを噴出させ、高周波電極への通電によりプラズマ
を発生させて該容器の内表面の負電荷密度を増加させる
ようにしたことを特徴とする細胞培養容器の内表面処理
装置を第3番目の発明とするものである。
成形等により一体に形成された細口の口部を有し、この
口部にキャップを密嵌自在とされたボトル状容器の内表
面にグロー放電による負電荷密度増加処理が施されてい
ることを特徴とする細胞培養容器を第1番目の発明とし
、真空チャンバ内において、ボトル状容器の口部から高
周波電極を挿入するとともに酸素、不活性ガス等の作動
ガスを供給し、高周波電極に通電してボトル状容器内で
グロー放電を行なわせ、ボトル状容器の内表面に負電荷
密度増加処理を施すことを特徴とする細胞培養容器の内
表面処理方法を第2番目の発明とし、真空チャンバと、
中空管材によりボトル状容器の口部から挿入し得る外径
を有するスパイラルコイル状に巻成された高周波電極と
を備え、この電極を構成する中空管材に酸素、不活性ガ
ス等の作動ガス供給系を接続するとともに、前記スパイ
ラルコイル状の高周波電極を構成する部分にガス噴出口
を開口してなり、前記電極を通じてボトル状容器内に作
動ガスを噴出させ、高周波電極への通電によりプラズマ
を発生させて該容器の内表面の負電荷密度を増加させる
ようにしたことを特徴とする細胞培養容器の内表面処理
装置を第3番目の発明とするものである。
(作 用)
ボトル状容器の内表面全域にグロー放電によるプラズマ
処理により適度の負電荷密度を有するものとしたので、
ボトル状容器では回転させることにより内部の細胞等が
ボトル状容器の内表面に確実に付着し、培養効率が高め
られる。
処理により適度の負電荷密度を有するものとしたので、
ボトル状容器では回転させることにより内部の細胞等が
ボトル状容器の内表面に確実に付着し、培養効率が高め
られる。
また本発明による方法および装置においては、高周波電
極をボトル状容器の口部から内部に挿入し、容器の内部
から放電を行なわせるので、ボトル状容器の内表面全域
に均一なプラズマ処理ができ、容器の内面形状の如何に
か\わらずデッドゾーンが生じない。
極をボトル状容器の口部から内部に挿入し、容器の内部
から放電を行なわせるので、ボトル状容器の内表面全域
に均一なプラズマ処理ができ、容器の内面形状の如何に
か\わらずデッドゾーンが生じない。
(実施例)
以下、本発明を第2図および第3図に示す実施例により
第4図と共通する部分には同一符号を用いて説明する。
第4図と共通する部分には同一符号を用いて説明する。
本発明による細胞培養容器の内表面処理方法は、第2図
に略示断面を示すように、真空チャンバ2内に処理すべ
きボトル状容器1の口部1aを下向きにして装入し、そ
の口部1aから高周波電極6を挿入するとともに、酸素
、不活性ガス等の作動ガスを供給して高周波電極6に通
電することによりこの電極6の周囲に高磁場7を発生さ
せ、真空チャンバ2内でグロー放電を起させてプラズマ
を発生させ、ボトル状容器1の内表面全域にわたって負
電荷密度を増加させる処理がなされる。
に略示断面を示すように、真空チャンバ2内に処理すべ
きボトル状容器1の口部1aを下向きにして装入し、そ
の口部1aから高周波電極6を挿入するとともに、酸素
、不活性ガス等の作動ガスを供給して高周波電極6に通
電することによりこの電極6の周囲に高磁場7を発生さ
せ、真空チャンバ2内でグロー放電を起させてプラズマ
を発生させ、ボトル状容器1の内表面全域にわたって負
電荷密度を増加させる処理がなされる。
したがって、容器が細口の口部1aを有するボトル状の
ものであっても、内表面の全域にわたってむらなく表面
処理することができ、ボトル状容器1を横置きして回転
を与えながら培養するためのローラボトルとして使用し
たとき容器の内表面全域に細胞を付着させることができ
る。
ものであっても、内表面の全域にわたってむらなく表面
処理することができ、ボトル状容器1を横置きして回転
を与えながら培養するためのローラボトルとして使用し
たとき容器の内表面全域に細胞を付着させることができ
る。
上記グロー放電を一層良好に行なわせかつ作動ガスの供
給系の構成を簡易化するため、高周波電極6は第2図に
使用状態を、第3図に一部を拡大して示すようになって
いる。すなわち、中空管材9を、ボトル状容器1の口部
1aから挿入し得る外径を有するようにスパイラルコイ
ル状に巻成してこのスパイラルコイル状電極部6aの先
端にガス噴出口10が開口され、中空管材9のボトル状
容器1の外部に位置する部位にガス供給管11が接続さ
れている。図において12はガス供給源、13は整合装
置8を介して高周波電極6に接続される高周波電源を示
す。したがって高周波電極6がスパイラルコイル状をな
しているため、電極の実長が長く、グロー放電を良好に
行なわせることができるとともに、この電極を通じて作
動ガスを供給することができるので、ガスの供給系の構
成が簡素化され、ボトル状容器1内へ高周波電極6を挿
入するのみでよいから、内表面処理作業の作業性も頗る
改善される。なおガス噴出口11は、スパイラルコイル
状電極6の先端に限らず、中途部に開口させてもよい。
給系の構成を簡易化するため、高周波電極6は第2図に
使用状態を、第3図に一部を拡大して示すようになって
いる。すなわち、中空管材9を、ボトル状容器1の口部
1aから挿入し得る外径を有するようにスパイラルコイ
ル状に巻成してこのスパイラルコイル状電極部6aの先
端にガス噴出口10が開口され、中空管材9のボトル状
容器1の外部に位置する部位にガス供給管11が接続さ
れている。図において12はガス供給源、13は整合装
置8を介して高周波電極6に接続される高周波電源を示
す。したがって高周波電極6がスパイラルコイル状をな
しているため、電極の実長が長く、グロー放電を良好に
行なわせることができるとともに、この電極を通じて作
動ガスを供給することができるので、ガスの供給系の構
成が簡素化され、ボトル状容器1内へ高周波電極6を挿
入するのみでよいから、内表面処理作業の作業性も頗る
改善される。なおガス噴出口11は、スパイラルコイル
状電極6の先端に限らず、中途部に開口させてもよい。
以上説明したように本発明による細胞培養容器は、その
内表面がグロー放電によるプラズマ処理により表面の負
電荷密度が増加されているので、細胞培養時に容器の内
表面への細胞の付着性が増し、高効率に細胞の培養を行
なうことができる。
内表面がグロー放電によるプラズマ処理により表面の負
電荷密度が増加されているので、細胞培養時に容器の内
表面への細胞の付着性が増し、高効率に細胞の培養を行
なうことができる。
また本発明による表面処理方法は、高周波電極を容器の
口部から容器内に挿入し、容器内に作動ガスを供給して
グロー放電によるプラズマ処理を行なうので、容器の形
状が細口の口部を有するボトル状容器であってもその内
表面全域にわたりむらなく負電荷密度増加処理ができ、
そのため容器の形状にか−わらず、内表面処理が行なえ
、しかも容器自体を予じめ成形したのちに内表面処理が
行なえるので容器の製造に何ら制約を受けることがなく
、容器のコストアップを招かずに高能率に培養容器を得
ることができる。さらに本発明による内表面処理装置は
、ボトル状容器の口部から内部に挿入する高周波電極を
バイブ材によりスパイラルコイル状に巻成した構成とし
、このバイブ材を通じて酸素、不活性ガス等の作動ガス
を供給するようにしたので、グロー放電を良好に行なわ
せることができると同時にガスの供給系の構成が簡単に
なり、装置全体の構成がシンプルになるなどの効果があ
る。
口部から容器内に挿入し、容器内に作動ガスを供給して
グロー放電によるプラズマ処理を行なうので、容器の形
状が細口の口部を有するボトル状容器であってもその内
表面全域にわたりむらなく負電荷密度増加処理ができ、
そのため容器の形状にか−わらず、内表面処理が行なえ
、しかも容器自体を予じめ成形したのちに内表面処理が
行なえるので容器の製造に何ら制約を受けることがなく
、容器のコストアップを招かずに高能率に培養容器を得
ることができる。さらに本発明による内表面処理装置は
、ボトル状容器の口部から内部に挿入する高周波電極を
バイブ材によりスパイラルコイル状に巻成した構成とし
、このバイブ材を通じて酸素、不活性ガス等の作動ガス
を供給するようにしたので、グロー放電を良好に行なわ
せることができると同時にガスの供給系の構成が簡単に
なり、装置全体の構成がシンプルになるなどの効果があ
る。
第1図は本発明による細胞培養容器の一例を示す断面図
、第2図は本発明による内表面処理方法を実施するため
の装置の一例を示す断面図、第3図は同高周波電極の一
部拡大図、第4図は従来のグロー放電装置を示す断面図
、第5図はこの装置による不具合い点を示す容器の断面
図である。 1・・・ボトル状容器、1a・・・口部、16・・・胴
部、2・・・真空チャンバ、6・・・高周波電極、9・
・・中空管材1.10・・・ガス噴出口、11・・・ガ
ス供給管。 出願人代理人 佐 藤 −雄
、第2図は本発明による内表面処理方法を実施するため
の装置の一例を示す断面図、第3図は同高周波電極の一
部拡大図、第4図は従来のグロー放電装置を示す断面図
、第5図はこの装置による不具合い点を示す容器の断面
図である。 1・・・ボトル状容器、1a・・・口部、16・・・胴
部、2・・・真空チャンバ、6・・・高周波電極、9・
・・中空管材1.10・・・ガス噴出口、11・・・ガ
ス供給管。 出願人代理人 佐 藤 −雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ブロー成形等により一体に形成された細口の口部を
有し、この口部にキャップを密嵌自在とされたプラスチ
ック製ボトル状容器の内表面にグロー放電による負電荷
密度増加処理が施されていることを特徴とする細胞培養
容器。 2、前記容器は、転動可能な胴部を有する特許請求の範
囲第1項に記載の細胞培養容器。 3、真空チャンバ内において、ボトル状容器の口部から
高周波電極を挿入するとともに酸素、不活性ガス等の作
動ガスを供給し、高周波電極に通電してボトル状容器内
でグロー放電を行なわせ、ボトル状容器内の内表面に負
電荷密度増加処理を施すことを特徴とする細胞培養容器
の内表面処理方法。 4、真空チャンバと、中空管材によりボトル状容器の口
部から挿入し得る外径を有するスパイラルコイル状に巻
成された高周波電極とを備え、この電極を構成する中空
管材に酸素、不活性ガス等の作動ガス供給系を接続する
とともに、前記スパイラルコイル状の高周波電極を構成
する部分にガス噴出口を開口してなり、前記電極を通じ
てボトル状容器内に作動ガスを噴出させ、高周波電極へ
の通電によりプラズマを発生させて該容器の内表面に負
電荷密度増加処理を施すようにしたことを特徴とする細
胞培養容器の内表面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32339387A JPH01165367A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 細胞培養容器とその内表面処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32339387A JPH01165367A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 細胞培養容器とその内表面処理方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01165367A true JPH01165367A (ja) | 1989-06-29 |
| JPH0513627B2 JPH0513627B2 (ja) | 1993-02-23 |
Family
ID=18154231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32339387A Granted JPH01165367A (ja) | 1987-12-21 | 1987-12-21 | 細胞培養容器とその内表面処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01165367A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0698756A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Nissho Corp | 付着性細胞培養用バツグ |
-
1987
- 1987-12-21 JP JP32339387A patent/JPH01165367A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0698756A (ja) * | 1992-09-18 | 1994-04-12 | Nissho Corp | 付着性細胞培養用バツグ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0513627B2 (ja) | 1993-02-23 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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