JPH0117093B2 - - Google Patents
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- JPH0117093B2 JPH0117093B2 JP7173680A JP7173680A JPH0117093B2 JP H0117093 B2 JPH0117093 B2 JP H0117093B2 JP 7173680 A JP7173680 A JP 7173680A JP 7173680 A JP7173680 A JP 7173680A JP H0117093 B2 JPH0117093 B2 JP H0117093B2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 51
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0228—Testing optical properties by measuring refractive power
- G01M11/0235—Testing optical properties by measuring refractive power by measuring multiple properties of lenses, automatic lens meters
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学系の球面屈折力、円柱屈折力及
びその軸方向、プリズム屈折力及びその基底方向
等、光学系の諸特性を自動的に測定する装置に関
する。本発明の以下に説明する原理及び実施例
は、主に眼鏡レンズの上記諸特性の測定に関する
ものであるが、これは本発明が眼鏡レンズの諸特
性を測定する、いわゆるレンズメーターへの適用
にのみ限定されることを意味するものでなく、本
発明は、広く光学機器に使用されるレンズ光学系
の上記諸特性の測定にも利用できるものである。
びその軸方向、プリズム屈折力及びその基底方向
等、光学系の諸特性を自動的に測定する装置に関
する。本発明の以下に説明する原理及び実施例
は、主に眼鏡レンズの上記諸特性の測定に関する
ものであるが、これは本発明が眼鏡レンズの諸特
性を測定する、いわゆるレンズメーターへの適用
にのみ限定されることを意味するものでなく、本
発明は、広く光学機器に使用されるレンズ光学系
の上記諸特性の測定にも利用できるものである。
近年、眼鏡レンズの球面屈折力、円柱屈折力及
びその軸方向等、眼鏡レンズの光学的諸特性を自
動的に測定する、いわゆる自動式レンズメーター
に関し、その測定原理及び装置が種々提案されて
いる。その一つとして、米国特許第3880525号が
ある。この米国特許による装置は、平行光を被検
レンズに対しその光軸に平行に入射させ、射出光
の偏りから被検レンズの光学的特性を決定しよう
とするもので、被検レンズの直後に、点開口を有
するマスクを、該点開口が被検レンズの光軸から
外れて位置するように配置し、該マスクから光軸
方向に所定距離だけ離して光検出面を設け、マス
クの開口を通過した光束が光検出面上に到達する
点の座標を検出して、この検出座標と、マスク上
の開口の座標との比較から、被検レンズ射出光の
偏り方向及び偏り量を計算して、被検レンズの光
学的特性を知るように構成されている。この場
合、必要な情報を得るためには、マスクの開口
は、最低３個必要である。
びその軸方向等、眼鏡レンズの光学的諸特性を自
動的に測定する、いわゆる自動式レンズメーター
に関し、その測定原理及び装置が種々提案されて
いる。その一つとして、米国特許第3880525号が
ある。この米国特許による装置は、平行光を被検
レンズに対しその光軸に平行に入射させ、射出光
の偏りから被検レンズの光学的特性を決定しよう
とするもので、被検レンズの直後に、点開口を有
するマスクを、該点開口が被検レンズの光軸から
外れて位置するように配置し、該マスクから光軸
方向に所定距離だけ離して光検出面を設け、マス
クの開口を通過した光束が光検出面上に到達する
点の座標を検出して、この検出座標と、マスク上
の開口の座標との比較から、被検レンズ射出光の
偏り方向及び偏り量を計算して、被検レンズの光
学的特性を知るように構成されている。この場
合、必要な情報を得るためには、マスクの開口
は、最低３個必要である。
この米国特許による装置では、マスク上の開口
と光検出面上の到達点との間の点対点の対応関係
を正確に検出する必要があり、かつ各開口は必ず
平面的配置にして、射出光束が非共面光束となる
ようにせねばならない。このために２次元平面の
走査を行なわねばならず、装置が全体として高価
にならざるを得ない。また、最底３点の座標情報
により５元連立方程式を解く必要があり、演算機
構も複雑かつ高価になる。
と光検出面上の到達点との間の点対点の対応関係
を正確に検出する必要があり、かつ各開口は必ず
平面的配置にして、射出光束が非共面光束となる
ようにせねばならない。このために２次元平面の
走査を行なわねばならず、装置が全体として高価
にならざるを得ない。また、最底３点の座標情報
により５元連立方程式を解く必要があり、演算機
構も複雑かつ高価になる。
このような２次元平面検出に伴なう膨大な情報
処理の問題を解決できるものとしては、米国特許
第4180325号に記載された装置がある。この装置
は、マスク開口を通過した複数の光束を、透明部
分と不透明部分とからなる特殊パターンの回転円
板により断続的に遮り、各光束が光検出器に到達
する時間に差を持たせることにより、マスク上の
開口と光検出面での光束との対応関係の判別を不
要にするように構成されている。しかし、この装
置においては、回転円板上のパターンは非常に複
雑であり、かつその回転位置の検出が非常に重要
な意味を持ち、回転円板上のパターン精度及び回
転位置検出精度等、測定上及び製作上大きな問題
を有する。
処理の問題を解決できるものとしては、米国特許
第4180325号に記載された装置がある。この装置
は、マスク開口を通過した複数の光束を、透明部
分と不透明部分とからなる特殊パターンの回転円
板により断続的に遮り、各光束が光検出器に到達
する時間に差を持たせることにより、マスク上の
開口と光検出面での光束との対応関係の判別を不
要にするように構成されている。しかし、この装
置においては、回転円板上のパターンは非常に複
雑であり、かつその回転位置の検出が非常に重要
な意味を持ち、回転円板上のパターン精度及び回
転位置検出精度等、測定上及び製作上大きな問題
を有する。
本発明は、従来の装置における上述の問題を解
決し、検出及びその後の演算を比較的簡単に行な
うことができる光学的特性測定装置を提供するこ
とを目的とする。
決し、検出及びその後の演算を比較的簡単に行な
うことができる光学的特性測定装置を提供するこ
とを目的とする。
すなわち、本発明による光学的特性測定装置
は、被検レンズの後方に置かれるマスクが、互に
交差する少くとも２本の直線からなるパターンを
有し、光検出器にはリニアセンサーが設けられ、
マスクパターンの投影像は、該投影像とリニアセ
ンサーとの間に相対的回転を生じさせながらこれ
を検出し、その検出信号から、マスクパターンを
構成する直線の長さ及び傾き角の投影による変化
を算出することにより、被検光学系の光学特性を
知るようになつたことを特徴とする。光検出器に
は、二つのリニアセンサーを直交して配置しても
よい。
は、被検レンズの後方に置かれるマスクが、互に
交差する少くとも２本の直線からなるパターンを
有し、光検出器にはリニアセンサーが設けられ、
マスクパターンの投影像は、該投影像とリニアセ
ンサーとの間に相対的回転を生じさせながらこれ
を検出し、その検出信号から、マスクパターンを
構成する直線の長さ及び傾き角の投影による変化
を算出することにより、被検光学系の光学特性を
知るようになつたことを特徴とする。光検出器に
は、二つのリニアセンサーを直交して配置しても
よい。
被検レンズを通過した光を、互に交さする少く
とも２本の直線からなるパターンを有するマスク
に通した場合、この直線パターンは被検レンズの
屈折特性に応じて偏りを生ずる。すなわち、被検
レンズが球面屈折力を有する場合は、これら直線
のパターンは交さ角を変えることなく、その長さ
が屈折力の大きさに応じて変化する。また、被検
レンズが円柱屈折力を有していれば、直線パター
ンは、その長さだけでなく、交さ角も変化する。
この投影パターンが光検出部のリニアセンサーに
当るとき、被検レンズの光学的特性による投影パ
ターンの変化は、各直線の投影とリニアセンサー
との交点の位置の変化となつて現れる。この場
合、投影パターンとリニアセンサーとの間に相対
的回転を与えれば、投影パターンの直線の長さ及
び傾き角を算出することができ、その結果に基づ
いて、所要の演算を行ない、被検レンズの光学的
特性を知ることができる。投影パターンとリニア
センサーとの間の相対的回転を与えるためには、
リニアセンサーを光軸まわりに回転させるか、或
いはイメージローテータを用いればよい。
とも２本の直線からなるパターンを有するマスク
に通した場合、この直線パターンは被検レンズの
屈折特性に応じて偏りを生ずる。すなわち、被検
レンズが球面屈折力を有する場合は、これら直線
のパターンは交さ角を変えることなく、その長さ
が屈折力の大きさに応じて変化する。また、被検
レンズが円柱屈折力を有していれば、直線パター
ンは、その長さだけでなく、交さ角も変化する。
この投影パターンが光検出部のリニアセンサーに
当るとき、被検レンズの光学的特性による投影パ
ターンの変化は、各直線の投影とリニアセンサー
との交点の位置の変化となつて現れる。この場
合、投影パターンとリニアセンサーとの間に相対
的回転を与えれば、投影パターンの直線の長さ及
び傾き角を算出することができ、その結果に基づ
いて、所要の演算を行ない、被検レンズの光学的
特性を知ることができる。投影パターンとリニア
センサーとの間の相対的回転を与えるためには、
リニアセンサーを光軸まわりに回転させるか、或
いはイメージローテータを用いればよい。
本発明によれば、平面上の座標点の検出が必要
でなく、したがつて平面上の走査手段を必要とせ
ず、光検出をリニアセンサーのみによつて行なう
ことができるので、光検出部が従来公知のものに
比べて大巾に簡単になり、装置を廉価に構成でき
る。また、本発明の原理によれば、演算のための
方程式は簡単であり、演算部も簡略化できる。
でなく、したがつて平面上の走査手段を必要とせ
ず、光検出をリニアセンサーのみによつて行なう
ことができるので、光検出部が従来公知のものに
比べて大巾に簡単になり、装置を廉価に構成でき
る。また、本発明の原理によれば、演算のための
方程式は簡単であり、演算部も簡略化できる。
以下、本発明の原理及び実施例を図について説
明すると、まず第１図において、被検レンズLS
は、直角座標X0−Y0を有する平面に配置され、
第１円柱軸r1と第２円柱軸r2とを有し、その光学
中心O0が座標原点上にあり、第１円柱軸r1がX0
軸に対しθr1だけ傾斜しているものとする。X0−
Y0面から測定光軸方向に△ｄだけ離れて原点を
光軸上に置いた直交座標系Ｘ−Ｙを有するＸ−Ｙ
面があり、このＸ−Ｙ面にマスクＭが配置され
る。マスクＭには、互に交さする２本の直線Ａ、
Ｂからなるパターンが形成され、直線Ａ、Ｂの交
点をｉ、直線Ａの末端をｊ、直線Ｂの末端をｋと
する。直線ＡとＸ軸とのなす角をθ1とし、直線Ｂ
とＸ軸とのなす角をθ2、直線Ａの長さijをlA、直
線Ｂの長さikをlBとする。
明すると、まず第１図において、被検レンズLS
は、直角座標X0−Y0を有する平面に配置され、
第１円柱軸r1と第２円柱軸r2とを有し、その光学
中心O0が座標原点上にあり、第１円柱軸r1がX0
軸に対しθr1だけ傾斜しているものとする。X0−
Y0面から測定光軸方向に△ｄだけ離れて原点を
光軸上に置いた直交座標系Ｘ−Ｙを有するＸ−Ｙ
面があり、このＸ−Ｙ面にマスクＭが配置され
る。マスクＭには、互に交さする２本の直線Ａ、
Ｂからなるパターンが形成され、直線Ａ、Ｂの交
点をｉ、直線Ａの末端をｊ、直線Ｂの末端をｋと
する。直線ＡとＸ軸とのなす角をθ1とし、直線Ｂ
とＸ軸とのなす角をθ2、直線Ａの長さijをlA、直
線Ｂの長さikをlBとする。
Ｘ−Ｙ面から光軸方向に距離ｄだけ離して、原
点を光軸上に置いた直交座標系X′−Y′を有する
光検出面X′−Y′を想定すると、マスクＭ上の直
線Ａ、Ｂは、光検出面X′−Y′上において投影直
線A′、B′となり、マスクＭ上の交点ｉ、ｊ、ｋ
に対応する点をそれぞれi′、j′、k′とする。また、
直線A′、B′がX′軸となす角をそれぞれθ1′、θ2′
と
し、線分i′−j′の長さをlA′、線分i′−k′の長さを
l′Bとする。此処で、tanθ1＝mA、tanθ2＝mB、
tanθ1′＝mA′、tanθ2′＝mB′と置き、直線Ａ、直線
Ｂのこの被検レンズLsによる結像点ないしは焦
線、すなわち、直線Ａ、Ｂのはさむ角θがθ＝
０、あるいはθ＝180゜となる点までのマスクＭか
らの距離をそれぞれZ1、Z2とすると、被検レンズ
LSの屈折力は、次の二次方程式として得られる。A ・B（mA−mB）（ｄ／Ｚ＋１）2 −〔A（mA−mB′）＋B（mA′−mB）〕（ｄ／Ｚ＋
１） ＋（mA′−mB′）＝０ …(1) 但し、 したがつて、(1)式の２根をそれぞれ1/Z1及び1/
Ｚ２とすると、Z1及びZ2は、被検レンズLSの第１焦
線及び第２焦線とマスク面との間の光軸方向の距
離を表わす。この場合、被検レンズLSの頂点屈折
力1/fr1、1/fr2は、被検レンズLSとマスクＭとの
距離△ｄから次の方程式で表わされる。
点を光軸上に置いた直交座標系X′−Y′を有する
光検出面X′−Y′を想定すると、マスクＭ上の直
線Ａ、Ｂは、光検出面X′−Y′上において投影直
線A′、B′となり、マスクＭ上の交点ｉ、ｊ、ｋ
に対応する点をそれぞれi′、j′、k′とする。また、
直線A′、B′がX′軸となす角をそれぞれθ1′、θ2′
と
し、線分i′−j′の長さをlA′、線分i′−k′の長さを
l′Bとする。此処で、tanθ1＝mA、tanθ2＝mB、
tanθ1′＝mA′、tanθ2′＝mB′と置き、直線Ａ、直線
Ｂのこの被検レンズLsによる結像点ないしは焦
線、すなわち、直線Ａ、Ｂのはさむ角θがθ＝
０、あるいはθ＝180゜となる点までのマスクＭか
らの距離をそれぞれZ1、Z2とすると、被検レンズ
LSの屈折力は、次の二次方程式として得られる。A ・B（mA−mB）（ｄ／Ｚ＋１）2 −〔A（mA−mB′）＋B（mA′−mB）〕（ｄ／Ｚ＋
１） ＋（mA′−mB′）＝０ …(1) 但し、 したがつて、(1)式の２根をそれぞれ1/Z1及び1/
Ｚ２とすると、Z1及びZ2は、被検レンズLSの第１焦
線及び第２焦線とマスク面との間の光軸方向の距
離を表わす。この場合、被検レンズLSの頂点屈折
力1/fr1、1/fr2は、被検レンズLSとマスクＭとの
距離△ｄから次の方程式で表わされる。
１／fr1＝１／Z1／△ｄ／Z1−１ …(2)
１／fr2＝１／Z2／△ｄ／Z2−１ …(3)
また、円柱軸の角度θr1およびθr2は、次式で表
わされる。
わされる。
θr2＝θr1＋90゜ …(4)
θr1＝tan-1〔mA・A・（１＋ｄ／Z1）−mA′／A（
１＋ｄ／Z1）−１〕…(5) θr1＝θr2＋90゜ …(6) θr2＝tan-1〔mA・A（１＋ｄ／Z2）−mA′／A（１
＋ｄ／Z2）−１〕…(7) 本発明は、これら直線Ａ、ＢのX′−Y′平面上
における投影像A′、B′の長さ及び傾き角を検出
することにより、上述の方程式に基づいて被検レ
ンズLSの屈折力を演算するものである。すなわ
ち、第２図において、X′−Y′平面上に原点を中
心として回転可能なリニアセンサーＳを配置し、
これを連続的に回転させると、センサーＳがP1
の位置にあるとき、投影像の交点i′が検出され、
P2の位置でk′が、またP3の位置でj′がそれぞれ検
出される。さらに、P4、P5…Po位置では直線
A′上の点α4、α5…αo及び直線B′上の点β4、β5…
βo
が検出され、これらの信号に基づいて直線投影像
の方程式及び線分の長さを得ることができる。こ
のように多数の検出点に基づいて演算を行なうこ
とにより、方程式の算出精度を高めることが可能
になる。マスクパターンは、２本の直線に限る必
要はなく、互に交差する３本又はそれ以上の直線
のパターンを用いてもよい。
１＋ｄ／Z1）−１〕…(5) θr1＝θr2＋90゜ …(6) θr2＝tan-1〔mA・A（１＋ｄ／Z2）−mA′／A（１
＋ｄ／Z2）−１〕…(7) 本発明は、これら直線Ａ、ＢのX′−Y′平面上
における投影像A′、B′の長さ及び傾き角を検出
することにより、上述の方程式に基づいて被検レ
ンズLSの屈折力を演算するものである。すなわ
ち、第２図において、X′−Y′平面上に原点を中
心として回転可能なリニアセンサーＳを配置し、
これを連続的に回転させると、センサーＳがP1
の位置にあるとき、投影像の交点i′が検出され、
P2の位置でk′が、またP3の位置でj′がそれぞれ検
出される。さらに、P4、P5…Po位置では直線
A′上の点α4、α5…αo及び直線B′上の点β4、β5…
βo
が検出され、これらの信号に基づいて直線投影像
の方程式及び線分の長さを得ることができる。こ
のように多数の検出点に基づいて演算を行なうこ
とにより、方程式の算出精度を高めることが可能
になる。マスクパターンは、２本の直線に限る必
要はなく、互に交差する３本又はそれ以上の直線
のパターンを用いてもよい。
なお、マスクパターンの交点ｉについては、本
発明の原理がリニアセンサーＳに投影された直線
A′、B′上のいずれか２点を検出してこれら直線
A′、B′の方程式をもとめ、このもとめられた方
程式から、交点i′を演算によりもとめるものであ
るから、マスクパターンの交点ｉは現実に存在す
る必要はなく、仮想的に交点を有するようにマス
クパターンが形成されていてもよいことは自明の
ことである。
発明の原理がリニアセンサーＳに投影された直線
A′、B′上のいずれか２点を検出してこれら直線
A′、B′の方程式をもとめ、このもとめられた方
程式から、交点i′を演算によりもとめるものであ
るから、マスクパターンの交点ｉは現実に存在す
る必要はなく、仮想的に交点を有するようにマス
クパターンが形成されていてもよいことは自明の
ことである。
第３図は、本発明の実施例を示す概略図で、光
源１としてたとえば発光ダイオードが設けられ、
この光源１からの光はコリメータレンズ２により
平行光束として光軸３に沿つて投影される。光軸
３上には、被検レンズ４がその光学中心を光軸３
にほぼ合致させて配置されている。被検レンズ４
の後方には、該レンズ４を透過した光束を選択的
に透過させるマスク５が配置され、該マスク５を
透過した光束は、リレーレンズ６，７を経て、リ
ニアセンサー８に到達する。本例においては、リ
レーレンズ６，７の間にイメージローテータ９が
配置され、該イメージローテータ９はモーター１
０により連続的に回転させられる。リニアセンサ
ー８の検出信号は、増幅回路１１を経て演算回路
１２に与えられ、該演算回路１２は回転量検出装
置１４から得られるイメージローテータ９の回転
角信号とリニアセンサー８の検出信号とに基づい
て所要の演算を行ない、被検レンズ４の光学的特
性を算出して、表示装置１３に表示する。第４図
ａ，ｂは、マスク５上のパターンの一例を示すも
ので、該パターンは、互に平行な２本の直線１
４，１５と、これら直線１４，１５に直交する２
組の平行直線群１６，１７からなる。直線群１
６，１７の各々は比較的細い３本の直線からな
り、直線１４，１５の各々は比較的太い直線とし
て、センサー８による識別を容易にしている。ま
た、各直線の交差部は、第４図ｂに示すように、
細線からなる直線群が交差部で切断され、太線と
直接重ならないようにしてある。マスク上のパタ
ーンは、直線部を透明とし、残部を不透明にする
か、或いはその逆にするか、いずれでもよい。
源１としてたとえば発光ダイオードが設けられ、
この光源１からの光はコリメータレンズ２により
平行光束として光軸３に沿つて投影される。光軸
３上には、被検レンズ４がその光学中心を光軸３
にほぼ合致させて配置されている。被検レンズ４
の後方には、該レンズ４を透過した光束を選択的
に透過させるマスク５が配置され、該マスク５を
透過した光束は、リレーレンズ６，７を経て、リ
ニアセンサー８に到達する。本例においては、リ
レーレンズ６，７の間にイメージローテータ９が
配置され、該イメージローテータ９はモーター１
０により連続的に回転させられる。リニアセンサ
ー８の検出信号は、増幅回路１１を経て演算回路
１２に与えられ、該演算回路１２は回転量検出装
置１４から得られるイメージローテータ９の回転
角信号とリニアセンサー８の検出信号とに基づい
て所要の演算を行ない、被検レンズ４の光学的特
性を算出して、表示装置１３に表示する。第４図
ａ，ｂは、マスク５上のパターンの一例を示すも
ので、該パターンは、互に平行な２本の直線１
４，１５と、これら直線１４，１５に直交する２
組の平行直線群１６，１７からなる。直線群１
６，１７の各々は比較的細い３本の直線からな
り、直線１４，１５の各々は比較的太い直線とし
て、センサー８による識別を容易にしている。ま
た、各直線の交差部は、第４図ｂに示すように、
細線からなる直線群が交差部で切断され、太線と
直接重ならないようにしてある。マスク上のパタ
ーンは、直線部を透明とし、残部を不透明にする
か、或いはその逆にするか、いずれでもよい。
第５図は本発明の他の実施例を示すもので、本
例においては、リニアセンサー８は、被検レンズ
４の焦点距離内に配置され、光軸３まわりにモー
ター３０により回転駆動させられる。リニアセン
サー８の回転角は検出装置３４により検出され、
その検出信号は、増幅回路３１を経たセンサー８
の検出信号と共に演算回路３２に与えられ、演算
の結果が表示装置３３に表示される。
例においては、リニアセンサー８は、被検レンズ
４の焦点距離内に配置され、光軸３まわりにモー
ター３０により回転駆動させられる。リニアセン
サー８の回転角は検出装置３４により検出され、
その検出信号は、増幅回路３１を経たセンサー８
の検出信号と共に演算回路３２に与えられ、演算
の結果が表示装置３３に表示される。
以上述べたように、本発明によれば、互に交差
する２本の直線からなるマスクパターンを用い、
パターン投影像とセンサーとの間に相対的回転を
与えながらパターン投影像の検出を行なうので、
リニアセンサーによる検出が可能になり、検出後
の演算処理も簡単になるという効果が得られる。
する２本の直線からなるマスクパターンを用い、
パターン投影像とセンサーとの間に相対的回転を
与えながらパターン投影像の検出を行なうので、
リニアセンサーによる検出が可能になり、検出後
の演算処理も簡単になるという効果が得られる。
第１図は本発明の原理を説明するためのレンズ
メーターの光学系の概略斜視図、第２図はリニア
センサーによる検出の原理を示す斜視図、第３図
は本発明の一実施例を示すレンズメーターの光学
系の概略図、第４図ａ，ｂはマスクパターンの一
例を示す図、第５図は他の実施例を示す第４図と
同様な図である。 １……光源、２……コリメーターレンズ、４…
…被検レンズ、５……マスク、８……リニアセン
サー、９……イメージローテータ、１２……演算
回路。
メーターの光学系の概略斜視図、第２図はリニア
センサーによる検出の原理を示す斜視図、第３図
は本発明の一実施例を示すレンズメーターの光学
系の概略図、第４図ａ，ｂはマスクパターンの一
例を示す図、第５図は他の実施例を示す第４図と
同様な図である。 １……光源、２……コリメーターレンズ、４…
…被検レンズ、５……マスク、８……リニアセン
サー、９……イメージローテータ、１２……演算
回路。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検光学系に対し光束を投影する光源と、前
記光源と被検光学系との間に設けられ、前記光源
からの光束を平行な光束とする装置と、前記被検
光学系の後方に設けられ該光学系を透過した光束
を選択的に透過させるマスクと、前記マスクに対
し光軸方向に所定距離だけ離れて配置された光検
出装置と、前記光検出装置により得られた情報を
演算して被検光学系の光学特性を求める演算装置
とからなり、前記マスクは互に交差する少くとも
２本の直線からなるパターンを有し、前記光検出
装置は光軸を通り該光軸に対し直角なリニアセン
サーを有し、マスクパターン投影像とリニアセン
サーとを相対的に回転させながら前記パターンの
投影像の変化を検出するようになつたことを特徴
とする光学系の光学特性測定装置。 ２ 前記第１項において、前記光検出装置は前記
光軸まわりに回転可能に配置されたリニアセンサ
ーからなる光学系の光学特性測定装置。 ３ 前記第１項において、前記光検出装置は光軸
を通り該光軸に対し直角に配置された一本のリニ
アセンサーからなり、前記マスクと前記光検出装
置との間に投影像を光軸まわりに回転させるイメ
ージローテータが設けられた光学系の光学特性測
定装置。 ４ 前記第１項ないし第３項のいずれかにおい
て、前記光検出装置が被検光学系の焦点距離内に
配置されたと光学的に同等になるように、前記マ
スクと前記光検出装置との間にリレー光学系が設
けられた光学系の光学特性測定装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7173680A JPS56168139A (en) | 1980-05-29 | 1980-05-29 | Optical characteristic measuring device for optical system |
| US06/257,271 US4410268A (en) | 1980-04-28 | 1981-04-24 | Apparatus for automatically measuring the characteristics of an optical system |
| DE19813116671 DE3116671A1 (de) | 1980-04-28 | 1981-04-27 | Instrument zum automatischen bestimmen der kennwerte eines optischen systems |
| FR8108404A FR2481452B1 (fr) | 1980-04-28 | 1981-04-28 | Appareil et procede pour effectuer la mesure automatique des caracteristiques d'un systeme optique |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7173680A JPS56168139A (en) | 1980-05-29 | 1980-05-29 | Optical characteristic measuring device for optical system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56168139A JPS56168139A (en) | 1981-12-24 |
| JPH0117093B2 true JPH0117093B2 (ja) | 1989-03-29 |
Family
ID=13469098
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7173680A Granted JPS56168139A (en) | 1980-04-28 | 1980-05-29 | Optical characteristic measuring device for optical system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56168139A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016022344A (ja) * | 2014-07-24 | 2016-02-08 | 株式会社三共 | 遊技機 |
-
1980
- 1980-05-29 JP JP7173680A patent/JPS56168139A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016022344A (ja) * | 2014-07-24 | 2016-02-08 | 株式会社三共 | 遊技機 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56168139A (en) | 1981-12-24 |
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