JPH0124251B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0124251B2 JPH0124251B2 JP10551280A JP10551280A JPH0124251B2 JP H0124251 B2 JPH0124251 B2 JP H0124251B2 JP 10551280 A JP10551280 A JP 10551280A JP 10551280 A JP10551280 A JP 10551280A JP H0124251 B2 JPH0124251 B2 JP H0124251B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- optical system
- optical
- detection device
- light beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 46
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 3
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
- G01M11/02—Testing optical properties
- G01M11/0228—Testing optical properties by measuring refractive power
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、光学系の球面屈折力、円柱屈折力及
びその軸方向、プリズム屈折力及びその基底方向
等、光学系の諸特性を自動的に測定する装置に関
する。本発明の以下に説明する原理及び実施例
は、主に眼鏡レンズの上記諸特性の測定に関する
ものであるが、これは本発明が眼鏡レンズの諸特
性を測定する、いわゆるレンズメータへの適用に
のみ限定されることを意味するものでなく、本発
明は、広く光学機器に使用されるレンズ光学系の
上記諸特性の測定にも利用できるものである。
びその軸方向、プリズム屈折力及びその基底方向
等、光学系の諸特性を自動的に測定する装置に関
する。本発明の以下に説明する原理及び実施例
は、主に眼鏡レンズの上記諸特性の測定に関する
ものであるが、これは本発明が眼鏡レンズの諸特
性を測定する、いわゆるレンズメータへの適用に
のみ限定されることを意味するものでなく、本発
明は、広く光学機器に使用されるレンズ光学系の
上記諸特性の測定にも利用できるものである。
近年、眼鏡レンズの球面屈折力、円柱屈折力及
びその軸方向等、眼鏡レンズの光学的諸特性を自
動的に測定する、いわゆる自動式レンズメーター
に関し、その測定原理及び装置が種々提案されて
いる。その一つとして、米国特許第3880525号が
ある。この米国特許による装置は、平行光を被検
レンズに対しその光軸に平行に入射させ、射出光
の偏りから被検レンズの光学的特性を決定しよう
とするもので、被検レンズの直後に、点開口を有
するマスクを、該点開口が被検レンズの光軸から
外れて位置するように配置し、該マスクから光軸
方向に所定距離だけ離して検出面を設け、マスク
の開口を通過した光束が検出面上に到達する点の
座標を検出して、この検出座標と、マスク上の開
口の座標との比較から、被検レンズ射出光の偏り
方向及び偏り量を計算して、被検レンズの光学的
特性を知るように構成されている。この場合、必
要な情報を得るためには、マスクの開口は、最低
３個必要である。
びその軸方向等、眼鏡レンズの光学的諸特性を自
動的に測定する、いわゆる自動式レンズメーター
に関し、その測定原理及び装置が種々提案されて
いる。その一つとして、米国特許第3880525号が
ある。この米国特許による装置は、平行光を被検
レンズに対しその光軸に平行に入射させ、射出光
の偏りから被検レンズの光学的特性を決定しよう
とするもので、被検レンズの直後に、点開口を有
するマスクを、該点開口が被検レンズの光軸から
外れて位置するように配置し、該マスクから光軸
方向に所定距離だけ離して検出面を設け、マスク
の開口を通過した光束が検出面上に到達する点の
座標を検出して、この検出座標と、マスク上の開
口の座標との比較から、被検レンズ射出光の偏り
方向及び偏り量を計算して、被検レンズの光学的
特性を知るように構成されている。この場合、必
要な情報を得るためには、マスクの開口は、最低
３個必要である。
この米国特許による装置では、マスク上の開口
と検出面上の到達点との間の点対点の対応関係を
正確に検出する必要があり、かつ各開口は必ず平
面的配置にして射出光束が非共面光束となるよう
にせねばならない。このために２次元平面の走査
を行なわねばならず、装置が全体として高価にな
らざるを得ない。また、最低３点の座標情報によ
り５元連立方程式を解く必要があり、演算機構も
複雑かつ高価になる。
と検出面上の到達点との間の点対点の対応関係を
正確に検出する必要があり、かつ各開口は必ず平
面的配置にして射出光束が非共面光束となるよう
にせねばならない。このために２次元平面の走査
を行なわねばならず、装置が全体として高価にな
らざるを得ない。また、最低３点の座標情報によ
り５元連立方程式を解く必要があり、演算機構も
複雑かつ高価になる。
このような２次元平面検出に伴なう膨大な情報
処理の問題を解決できるものとしては、米国特許
第4180325号に記載された装置がある。この装置
は、マスク開口を通過した複数の光束を、透明部
分と不透明部分とからなる特殊パターンの回転円
板により断続的に遮り、各光束が検出器に到達す
る時間に差を持たせることにより、マスク上の開
口と検出面での光束との対応関係の判別を不要に
するように構成されている。しかし、この装置に
おいては、回転円板上のパターンは非常に複雑で
あり、かつその回転位置の検出が非常に重要な意
味を持ち、回転円板上のパターン精度及び回転位
置検出精度等、測定上及び製作上大きな問題を有
する。
処理の問題を解決できるものとしては、米国特許
第4180325号に記載された装置がある。この装置
は、マスク開口を通過した複数の光束を、透明部
分と不透明部分とからなる特殊パターンの回転円
板により断続的に遮り、各光束が検出器に到達す
る時間に差を持たせることにより、マスク上の開
口と検出面での光束との対応関係の判別を不要に
するように構成されている。しかし、この装置に
おいては、回転円板上のパターンは非常に複雑で
あり、かつその回転位置の検出が非常に重要な意
味を持ち、回転円板上のパターン精度及び回転位
置検出精度等、測定上及び製作上大きな問題を有
する。
さらに、円形マスクパターンを透過した投影光
束が被検レンズにより楕円形に変形されるか、或
いは円形のままその直径に変化を生ずることを検
出して、該被検レンズの屈折特性を検出する試み
もすでになされている。たとえば、米国特許第
4007990号明細書には、投影光束を円形に回転さ
せ、それと同期して回転するセンサーにより、そ
の半径方向位置の変化を検知することにより、被
検レンズの屈折特性を検出する装置が開示されて
いる。しかし、この提案された装置においては、
投影光束とセンサーとの対応関係が重要であり、
投影マスクの回転とセンサーの回転との間を正確
に同期させねばならない。
束が被検レンズにより楕円形に変形されるか、或
いは円形のままその直径に変化を生ずることを検
出して、該被検レンズの屈折特性を検出する試み
もすでになされている。たとえば、米国特許第
4007990号明細書には、投影光束を円形に回転さ
せ、それと同期して回転するセンサーにより、そ
の半径方向位置の変化を検知することにより、被
検レンズの屈折特性を検出する装置が開示されて
いる。しかし、この提案された装置においては、
投影光束とセンサーとの対応関係が重要であり、
投影マスクの回転とセンサーの回転との間を正確
に同期させねばならない。
本発明は、従来の装置におけるこのような問題
を解消し、リニアセンサーによる検出が可能で、
かつ検出部の構成も簡単な光学系の屈折特性測定
装置を提供することを目的とする。
を解消し、リニアセンサーによる検出が可能で、
かつ検出部の構成も簡単な光学系の屈折特性測定
装置を提供することを目的とする。
すなわち、本発明の特徴とするところは、被検
レンズからの光束を円形とそれに交わる少なくと
も１本の直線からなるパターンを通し、該マスク
から光軸方向に所定距離だけ離れた検出面におい
て、投影パターンのうち円型部分の少なくとも４
点と直線部分の少なくとも２点を検知し、その検
知資料に基づいて、投影光束の偏り又は変形量を
算出することによつて、被検レンズの屈折特性を
得ることにある。本発明によれば、検出される円
形部分の光束がマスクのどの部位に対応するかを
知る必要がなく、検知部の構造が従来の装置に比
し簡単になる。
レンズからの光束を円形とそれに交わる少なくと
も１本の直線からなるパターンを通し、該マスク
から光軸方向に所定距離だけ離れた検出面におい
て、投影パターンのうち円型部分の少なくとも４
点と直線部分の少なくとも２点を検知し、その検
知資料に基づいて、投影光束の偏り又は変形量を
算出することによつて、被検レンズの屈折特性を
得ることにある。本発明によれば、検出される円
形部分の光束がマスクのどの部位に対応するかを
知る必要がなく、検知部の構造が従来の装置に比
し簡単になる。
本発明の原理を第１図について説明すると、図
示した光学系には光源Ｌとこの光源Ｌからの光を
平行光束とするためのコリメーターレンズCLが
設けられ、この平行光束の光路内には、被検レン
ズTLがコリメーターレンズCLの光軸Ｏ外に、光
軸O′を有するように配置されている。そして、
この２つの光軸のズレ量EH、EVによりプリズム
量PH、PVを発生する。被検レンズTLは、２つの
異なる頂点屈折力D1、D2を有する主経線を有し、
そのうちの一つは、Xo−Yo座標系の、Xo座標
軸と角度θの角度を有する。被検レンズTLの後
方には、距離△ｌをおいて直径φの円形開口及び
直線部を有するマスクパターンＭが配置されてい
る。
示した光学系には光源Ｌとこの光源Ｌからの光を
平行光束とするためのコリメーターレンズCLが
設けられ、この平行光束の光路内には、被検レン
ズTLがコリメーターレンズCLの光軸Ｏ外に、光
軸O′を有するように配置されている。そして、
この２つの光軸のズレ量EH、EVによりプリズム
量PH、PVを発生する。被検レンズTLは、２つの
異なる頂点屈折力D1、D2を有する主経線を有し、
そのうちの一つは、Xo−Yo座標系の、Xo座標
軸と角度θの角度を有する。被検レンズTLの後
方には、距離△ｌをおいて直径φの円形開口及び
直線部を有するマスクパターンＭが配置されてい
る。
被検レンズTLを通過した光束は、そのレンズ
の屈折特性をもつてマスクパターンＭを通過する
ため、被検レンズTLから距離ｌはなれたＸ−Ｙ
平面上では、マスクパターンＭの円形パターンは
楕円像となる。このＸ−Ｙ平面上にリニアセンサ
ーＳを配置すれば、この楕円像の２点の座標
（X1、Y1）、（X4、Y4）を検出できる。そしてリ
ニアセンサーＳを回転して、S′の位置におけば、
同様に座標（X2、Y2）、（X3、Y3）を検出するこ
とができる。またマスクパターンＭの直線パター
ンは傾斜が変り、リニアセンサーＳ及びS′の位置
にあるとき（X5、Y5）、（X6、Y6）を検出するこ
とができる。
の屈折特性をもつてマスクパターンＭを通過する
ため、被検レンズTLから距離ｌはなれたＸ−Ｙ
平面上では、マスクパターンＭの円形パターンは
楕円像となる。このＸ−Ｙ平面上にリニアセンサ
ーＳを配置すれば、この楕円像の２点の座標
（X1、Y1）、（X4、Y4）を検出できる。そしてリ
ニアセンサーＳを回転して、S′の位置におけば、
同様に座標（X2、Y2）、（X3、Y3）を検出するこ
とができる。またマスクパターンＭの直線パター
ンは傾斜が変り、リニアセンサーＳ及びS′の位置
にあるとき（X5、Y5）、（X6、Y6）を検出するこ
とができる。
被検レンズTLに平行光線束を入射させ、該被
検レンズから光軸方向に△ｌだけ離れた位置に直
径φの円形パターン及び直線パターンを有するマ
スクを配置し、さらに被検レンズから光軸方向に
その最短焦点距離より短かい距離ｌだけ離して検
知面を設けた場合、被検レンズの２つの頂点屈折
力をD1、D2、円柱軸の角度θ、水平方向プリズ
ム量PH、垂直方向プリズム量PVとすると、検出
面における投影パターンの形状は次式で表わされ
る。
検レンズから光軸方向に△ｌだけ離れた位置に直
径φの円形パターン及び直線パターンを有するマ
スクを配置し、さらに被検レンズから光軸方向に
その最短焦点距離より短かい距離ｌだけ離して検
知面を設けた場合、被検レンズの２つの頂点屈折
力をD1、D2、円柱軸の角度θ、水平方向プリズ
ム量PH、垂直方向プリズム量PVとすると、検出
面における投影パターンの形状は次式で表わされ
る。
｛〔１−（ｄ＋△ｄ）D1／１−△ｄ・D1〕2tan2θ＋〔
１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕2｝（ｘ−ｄ・P
H／100）2＋｛〔１−（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ・D1
〕2 ＋〔１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕2tan2θ
｝（ｙ−ｄ・PV／100）22tanθ｛〔１−（ｄ＋△ｄ）D1
／１−△ｄ・D1〕2 −〔１−（ｄ＋△ｄ）D2／１−△ｄ・D2〕2｝（ｘ−d
PH／100）（ｙ−dPV／100） −（１＋tan2θ）〔１−（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ
・D1〕2〔１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕2・（
φ／２）2＝０……(1) またマスクパターンＭの直線部のマスク面上の
傾き（設計による定まる値）ａと測定面Ｘ−Ｙ上
の投影像の傾きa′の関係は次式で表わされる。
１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕2｝（ｘ−ｄ・P
H／100）2＋｛〔１−（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ・D1
〕2 ＋〔１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕2tan2θ
｝（ｙ−ｄ・PV／100）22tanθ｛〔１−（ｄ＋△ｄ）D1
／１−△ｄ・D1〕2 −〔１−（ｄ＋△ｄ）D2／１−△ｄ・D2〕2｝（ｘ−d
PH／100）（ｙ−dPV／100） −（１＋tan2θ）〔１−（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ
・D1〕2〔１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕2・（
φ／２）2＝０……(1) またマスクパターンＭの直線部のマスク面上の
傾き（設計による定まる値）ａと測定面Ｘ−Ｙ上
の投影像の傾きa′の関係は次式で表わされる。
｛１−（ｄ＋△ｄ）D1／１−△ｄ・D1・ａ−１−（ｄ＋
△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2・a′｝tan2θ ＋〔１−（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ・D1−１−（ｄ
＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕（１−ａ・a′）tanθ ＋〔１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2a′−１−
（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ・D1ａ〕＝０……(2) 従つて、式(1)に円形パターンの４個の測定値
（X1、Y1）、（X2、Y2）、（X3、Y3）、（X4、Y4）
を代入し、さらに式(2)に直線パターンのマスク面
上の傾きａと直線パターンの測定面Ｘ−Ｙ上の測
定値（X5、Y5）、（X6、Y6）から求められる傾き
a′とを代入することにより、上記方程式(1)、(2)を
解いて未知量D1、D2、θ、PV、PHを求めること
ができる。ここで円形パターンの４個の測定値は
該パターンの一部に集中して行わず、周方向に離
れた位置で行なうことが、また直線パターンはリ
ニアーセンサーと45゜で交わることが測定精度上
好ましいことは勿論である。なお、第１図におい
て、直線パターンの投影像の中心OPとリニアセ
ンサーを配置した検出平面のＸ−Ｙ座標系の中心
OXYとが一致した場合は、リニアセンサーの回転
中心と直線パターンの投影像の中心とが一致し、
直線パターン上の２点を検出できなくなるため直
線パターンの傾きを検出できない。これを解決す
るためには、第７図に示すように、２本の平行な
直線パターン７ａ，７ｂと円形パターン６ａとか
らなるマスクＭを使うことによつて解決できる。
すなわち、このマスクの投影像を第８図に示す。
第８図のように直線パターン７ａの像７a′中心
が、リニアセンサーＳ及びS′の回転中心に一致し
て（X7、Y7）座標のみしか検出できなくとも、
これと平行な直線パターン７ｂの投影像７b′はリ
ニアセンサーがＳの位置で（X9、Y9）座標を、
S′の位置で（X8、Y8）の座標を検出するため、
この直線パターン像７b′の傾き角は決定できるこ
とになる。
△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2・a′｝tan2θ ＋〔１−（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ・D1−１−（ｄ
＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2〕（１−ａ・a′）tanθ ＋〔１−（ｄ＋△ｄ）・D2／１−△ｄ・D2a′−１−
（ｄ＋△ｄ）・D1／１−△ｄ・D1ａ〕＝０……(2) 従つて、式(1)に円形パターンの４個の測定値
（X1、Y1）、（X2、Y2）、（X3、Y3）、（X4、Y4）
を代入し、さらに式(2)に直線パターンのマスク面
上の傾きａと直線パターンの測定面Ｘ−Ｙ上の測
定値（X5、Y5）、（X6、Y6）から求められる傾き
a′とを代入することにより、上記方程式(1)、(2)を
解いて未知量D1、D2、θ、PV、PHを求めること
ができる。ここで円形パターンの４個の測定値は
該パターンの一部に集中して行わず、周方向に離
れた位置で行なうことが、また直線パターンはリ
ニアーセンサーと45゜で交わることが測定精度上
好ましいことは勿論である。なお、第１図におい
て、直線パターンの投影像の中心OPとリニアセ
ンサーを配置した検出平面のＸ−Ｙ座標系の中心
OXYとが一致した場合は、リニアセンサーの回転
中心と直線パターンの投影像の中心とが一致し、
直線パターン上の２点を検出できなくなるため直
線パターンの傾きを検出できない。これを解決す
るためには、第７図に示すように、２本の平行な
直線パターン７ａ，７ｂと円形パターン６ａとか
らなるマスクＭを使うことによつて解決できる。
すなわち、このマスクの投影像を第８図に示す。
第８図のように直線パターン７ａの像７a′中心
が、リニアセンサーＳ及びS′の回転中心に一致し
て（X7、Y7）座標のみしか検出できなくとも、
これと平行な直線パターン７ｂの投影像７b′はリ
ニアセンサーがＳの位置で（X9、Y9）座標を、
S′の位置で（X8、Y8）の座標を検出するため、
この直線パターン像７b′の傾き角は決定できるこ
とになる。
以下、本発明の実施例を図について説明する
と、まず第２図において、光源１からの光はコリ
メータレンズ２により平行光束となり被検レンズ
３に入射する。被検レンズ３は、その光学的中心
をコリメータレンズ２の光軸から所定距離だけず
らせて配置され、入射光束は、被検レンズ３の屈
折力に応じて偏向させられる。被検レンズ３の直
後には、第３図に示すように円形開口４ａ及び直
線部４ｂを有するマスク４が配置され、被検レン
ズ３からの光束を選択的に透過させる。被検レン
ズ３から光軸方向にその最短焦点距離以内におい
て、リニアセンサー５が配置され、このリニアセ
ンサー５の直前には、第４図に示すような２本の
直線状スリツト６ａ，６ｂを有するマスク６が配
置される。リニアセンサー５は、光軸まわりに回
転自在であり、モーター７により回転させられ
る。リニアセンサー５は、その回転中、スリツト
６ａ，６ｂに合致する位置で、マスク４の円形開
口４ａ及び直線部４ｂを通つた光束のうち、それ
ぞれ３点を検知し、合計６個の点情報を与える。
リニアセンサー５からの検知信号は、増巾器８を
経て演算回路９に与えられ、所要の演算により得
られた被検レンズ３の屈折力を示す値が、表示装
置１０に表示される。リニアセンサー５の検知と
スリツト６ａ，６ｂとの対応関係を明瞭にするた
めには、スリツト６ａ，６ｂをそれぞれ別に設
け、それらを順に光路中に挿入して測定を行なえ
ばよい。
と、まず第２図において、光源１からの光はコリ
メータレンズ２により平行光束となり被検レンズ
３に入射する。被検レンズ３は、その光学的中心
をコリメータレンズ２の光軸から所定距離だけず
らせて配置され、入射光束は、被検レンズ３の屈
折力に応じて偏向させられる。被検レンズ３の直
後には、第３図に示すように円形開口４ａ及び直
線部４ｂを有するマスク４が配置され、被検レン
ズ３からの光束を選択的に透過させる。被検レン
ズ３から光軸方向にその最短焦点距離以内におい
て、リニアセンサー５が配置され、このリニアセ
ンサー５の直前には、第４図に示すような２本の
直線状スリツト６ａ，６ｂを有するマスク６が配
置される。リニアセンサー５は、光軸まわりに回
転自在であり、モーター７により回転させられ
る。リニアセンサー５は、その回転中、スリツト
６ａ，６ｂに合致する位置で、マスク４の円形開
口４ａ及び直線部４ｂを通つた光束のうち、それ
ぞれ３点を検知し、合計６個の点情報を与える。
リニアセンサー５からの検知信号は、増巾器８を
経て演算回路９に与えられ、所要の演算により得
られた被検レンズ３の屈折力を示す値が、表示装
置１０に表示される。リニアセンサー５の検知と
スリツト６ａ，６ｂとの対応関係を明瞭にするた
めには、スリツト６ａ，６ｂをそれぞれ別に設
け、それらを順に光路中に挿入して測定を行なえ
ばよい。
第５図は、本発明の別の実施例を示すもので、
リニアセンサー５は、マスク４から離して配置さ
れ、それらの間には、リニアセンサー５を５′で
示すように等価的に被検レンズ３の最短焦点距離
内に置くためのリレーレンズ１１，１２が配置さ
れ、これらリレーレンズ１１，１２間に、投影像
を光軸まわりに回転させるためのイメージローテ
ータ１３が配置されている。本例においては、イ
メージローテータ１３を少くとも２つの異つた回
転位置に置いて測定を行なうことにより、少くと
も６個処における投影像の検知が可能である。
リニアセンサー５は、マスク４から離して配置さ
れ、それらの間には、リニアセンサー５を５′で
示すように等価的に被検レンズ３の最短焦点距離
内に置くためのリレーレンズ１１，１２が配置さ
れ、これらリレーレンズ１１，１２間に、投影像
を光軸まわりに回転させるためのイメージローテ
ータ１３が配置されている。本例においては、イ
メージローテータ１３を少くとも２つの異つた回
転位置に置いて測定を行なうことにより、少くと
も６個処における投影像の検知が可能である。
第６図は本発明のさらに別の実施例を示すもの
で、光源１は、２個の発光波長の異る発光ダイオ
ード１ａ，１ｂからなり、これら発光ダイオード
１ａ，１ｂからの光は、波長選択特性を有するハ
ーフミラー１４ａによりコリメータレンズ２に向
けられる。また、マスク４とリニアセンサー５と
の間の光路は、波長選択特性を有するハーフミラ
ー１５ａにより２個の光路に分割され、さらに同
様なハーフミラー１６ａにより合体されて、リニ
アセンサー５に到達する。分割された各光路の各
各には、それぞれリレーレンズ１１，１２が配置
され、そのうちの１つの光路には、投影像を光軸
まわりに異つた角度だけ回転させるイメージロー
テータ１３が配置されている。この配置において
は、発光ダイオード１ａ，１ｂを順に点灯させる
ことにより、前述の実施例と同様な測定が可能に
なる。
で、光源１は、２個の発光波長の異る発光ダイオ
ード１ａ，１ｂからなり、これら発光ダイオード
１ａ，１ｂからの光は、波長選択特性を有するハ
ーフミラー１４ａによりコリメータレンズ２に向
けられる。また、マスク４とリニアセンサー５と
の間の光路は、波長選択特性を有するハーフミラ
ー１５ａにより２個の光路に分割され、さらに同
様なハーフミラー１６ａにより合体されて、リニ
アセンサー５に到達する。分割された各光路の各
各には、それぞれリレーレンズ１１，１２が配置
され、そのうちの１つの光路には、投影像を光軸
まわりに異つた角度だけ回転させるイメージロー
テータ１３が配置されている。この配置において
は、発光ダイオード１ａ，１ｂを順に点灯させる
ことにより、前述の実施例と同様な測定が可能に
なる。
第１図は本発明の原理を説明するための光学系
の斜視図、第２図は本発明の一実施例を示す概略
図、第３図及び第４図は第２図の実施例に用いら
れるマスクの正面図、第５図及び第６図は本発明
のそれぞれ異つた実施例を示す第２図と同様な
図、第７図は他の実施例のマスクの正面図、第８
図は第７図に示すマスクの投影像である。 １……光源、３……被検レンズ、４，６……マ
スク、５……リニアセンサー。
の斜視図、第２図は本発明の一実施例を示す概略
図、第３図及び第４図は第２図の実施例に用いら
れるマスクの正面図、第５図及び第６図は本発明
のそれぞれ異つた実施例を示す第２図と同様な
図、第７図は他の実施例のマスクの正面図、第８
図は第７図に示すマスクの投影像である。 １……光源、３……被検レンズ、４，６……マ
スク、５……リニアセンサー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被検光学系に対し光束を投影する光源と、前
記光源からの光を平行光束とするコリメータ手段
と、このコリメータ手段の光軸に垂直に配置され
たマスクと、前記コリメータ手段とマスクとの間
に被検光学系を配する手段と、前記マスクに対し
光軸方向に所定距離だけ離れて配置された検出装
置と、前記検出装置により得られた情報を演算し
て被検光学系の光学特性を求める演算装置とから
なり、前記マスクは該被検光学系を透過した光束
を選択的に透過させるマスクパターンを有し、該
マスクパターンは円とそれに交る少くとも１本の
直線からなるパターンを有し、前記検出装置は前
記光軸に直角な面上の互に交差する少くとも２軸
においてマスク投影パターンを検出するリニアセ
ンサーからなり、マスクの投影パターンのうち前
記円形部分の少くとも４点と前記直線部分の少く
とも２点について前記投影像を検出して、その検
出情報を前記演算装置に与えるようになつた光学
系の屈折特性測定装置。 ２ 前記第１項において、前記マスクと前記検出
装置との間には、前記マスクからの光束を少くと
も２分割する光路分割器と分割された光路を再び
合体させて前記検出装置に導びく光路分割器とが
設けられ、分割された光路の一方には投影パター
ンを光軸まわりに回転させるイメージローテータ
が配置された光学系の屈折特性測定装置。 ３ 前記第２項において、光路分割器は波長選択
特性を有する光学系の屈折特性測定装置。 ４ 前記第１項ないし第３項のいずれかにおい
て、光源は発光波長の異る少くとも２個の発光装
置と波長選択特性を有する光路分割器とからなる
光学系の屈折特性測定装置。 ５ 前記第１項ないし第４項のいずれかにおい
て、検出装置は固定配置された自己走査型リニア
センサーを有する光学系の屈折特性測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10551280A JPS5729922A (en) | 1980-07-31 | 1980-07-31 | Measuring device for refractive characteristic of optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10551280A JPS5729922A (en) | 1980-07-31 | 1980-07-31 | Measuring device for refractive characteristic of optical system |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5729922A JPS5729922A (en) | 1982-02-18 |
| JPH0124251B2 true JPH0124251B2 (ja) | 1989-05-10 |
Family
ID=14409646
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10551280A Granted JPS5729922A (en) | 1980-07-31 | 1980-07-31 | Measuring device for refractive characteristic of optical system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5729922A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58130440A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-03 | Seiko Epson Corp | 磁気デイスク |
| JPS5927237A (ja) * | 1982-08-06 | 1984-02-13 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 光学系の検査装置 |
| JPS5928639A (ja) * | 1982-08-10 | 1984-02-15 | Tokyo Optical Co Ltd | レンズメ−タ−及びレンズメ−タ−用タ−ゲツト板 |
| JPS5928640A (ja) * | 1982-08-10 | 1984-02-15 | Tokyo Optical Co Ltd | レンズメ−タ−及びそれに使用されるタ−ゲツト板 |
| JPS6091241A (ja) * | 1983-10-26 | 1985-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の屈折率測定装置 |
-
1980
- 1980-07-31 JP JP10551280A patent/JPS5729922A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5729922A (en) | 1982-02-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5559840B2 (ja) | 画像センサのチルトを求めるための方法 | |
| US8913234B2 (en) | Measurement of the positions of centres of curvature of optical surfaces of a multi-lens optical system | |
| JP4531965B2 (ja) | 振れ検出装置、振れ検出装置付き回転レーザ装置及び振れ検出補正装置付き位置測定設定システム | |
| US4281926A (en) | Method and means for analyzing sphero-cylindrical optical systems | |
| US5059022A (en) | Device for measuring radius of curvature and a method thereof | |
| US4410268A (en) | Apparatus for automatically measuring the characteristics of an optical system | |
| JPS6233541B2 (ja) | ||
| JP3921004B2 (ja) | 変位傾斜測定装置 | |
| JPH02165029A (ja) | 光導波路の光軸の位置を調べる方法および装置 | |
| US4627722A (en) | Method and apparatus for optically measuring three-dimensional coordinates | |
| JPH0124251B2 (ja) | ||
| JPH0365488B2 (ja) | ||
| US7212294B2 (en) | Method for determination of the level of two or more measurement points, and an arrangement for this purpose | |
| EP4649285A1 (en) | Method of calibration of a total station and total station thereof | |
| JPS581120A (ja) | テレセントリツク光線を発生する装置および物体の寸法または位置を測定する方法 | |
| JPS60142204A (ja) | 物体の寸法計測方法 | |
| JP3876097B2 (ja) | 三次元位置及び姿勢検出センサ | |
| CN110609289B (zh) | 一种运动性能测试装置 | |
| JPH0117093B2 (ja) | ||
| JPS6341017B2 (ja) | ||
| JPH0310898B2 (ja) | ||
| JPH08166209A (ja) | 多面鏡評価装置 | |
| JPH0580611B2 (ja) | ||
| JPH03186709A (ja) | 光学式形状測定方法 | |
| JP2675051B2 (ja) | 光学式非接触位置測定装置 |