JPH01171030U - - Google Patents

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JPH01171030U
JPH01171030U JP6911688U JP6911688U JPH01171030U JP H01171030 U JPH01171030 U JP H01171030U JP 6911688 U JP6911688 U JP 6911688U JP 6911688 U JP6911688 U JP 6911688U JP H01171030 U JPH01171030 U JP H01171030U
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Japan
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semiconductor substrate
liquid
coating nozzle
coating
amount
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JP6911688U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の構成要部の一実施例を示す構
成図、第2図はレジスト滴下ノズルの半導体基板
中心からの距離lwと半導体基板の単位面積当た
りへのレジスト滴下量Mrの関係図、第3図は距
離lwとレジストのポンプ速度Prの関系図、第
4図は距離lwとレジスト滴下ノズルの移動速度
Vnの関係図を各々示す。 1:半導体基板、2:ウエハ・チヤツク・テー
ブル、3:レジスト滴下ノズル。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 半導体基材表面に滴下した液体を、該半導体基
    材を高速回転させることにより生じる遠心力で塗
    布する装置において、 半導体基材表面に対向して中心部から周辺部に
    相対的に移動する塗布ノズルと、 上記塗布ノズルの移動に連動して液体の滴下量
    を変化させる液量制御手段とを備えたことを特徴
    とする液体塗布装置。
JP6911688U 1988-05-24 1988-05-24 Pending JPH01171030U (ja)

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JPH01171030U true JPH01171030U (ja) 1989-12-04

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JP6911688U Pending JPH01171030U (ja) 1988-05-24 1988-05-24

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