JPH01172901A - 回折格子の製造方法 - Google Patents
回折格子の製造方法Info
- Publication number
- JPH01172901A JPH01172901A JP62331972A JP33197287A JPH01172901A JP H01172901 A JPH01172901 A JP H01172901A JP 62331972 A JP62331972 A JP 62331972A JP 33197287 A JP33197287 A JP 33197287A JP H01172901 A JPH01172901 A JP H01172901A
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- JP
- Japan
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- diffraction grating
- exposed
- intensity distribution
- ratio
- uniform
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、回折格子の製造方法に関するものである。
回折格子は、分光分野において分光器の分散素子として
用いられていたが、近年、光通信の分野においても半導
体レーザの共振器や、分波器の分散素子としても用いら
れている。
用いられていたが、近年、光通信の分野においても半導
体レーザの共振器や、分波器の分散素子としても用いら
れている。
この回折格子を作製する方法には、ルーリングエンジン
を用いた機械刻線方法が従来多く用いられていたが、近
年、ホログラフィック露光を用いた方法も用いられるよ
うになってきた。
を用いた機械刻線方法が従来多く用いられていたが、近
年、ホログラフィック露光を用いた方法も用いられるよ
うになってきた。
従来の技術
このホログラフィック露光法を用いた方法としては、平
面波と平面波を干渉させて作製させる方法や、発散波と
発散波を干渉させて作製する方法などがあった。
面波と平面波を干渉させて作製させる方法や、発散波と
発散波を干渉させて作製する方法などがあった。
平面直線ホログラフィック回折格子は、２つのレーザビ
ームを干渉させる際、平面波と平面波とを干渉させて露
光する方法が二′般に用いられて形成されていた。
ームを干渉させる際、平面波と平面波とを干渉させて露
光する方法が二′般に用いられて形成されていた。
また、発散波と発散波を干渉させてホログラフィック露
光を行う方法もあったが、双曲線の回折格子になり、平
面直線ホログラフィック回折格子の作製には用いられて
いなかった。
光を行う方法もあったが、双曲線の回折格子になり、平
面直線ホログラフィック回折格子の作製には用いられて
いなかった。
以下図面を参照しながら、上述した従来のホログラフィ
ック回折格子の製造方法の例について説明する。
ック回折格子の製造方法の例について説明する。
第５図および第６図は従来の平面直線ホログラフィック
回折格子の製造方法を示すものである。
回折格子の製造方法を示すものである。
第５図において、基板５１の上にホトレジスト５２を塗
布した後、三光束干渉法ホログラフィック露光により、
露光用レーザ５３からでた光束をハーフミラ−５４で２
つの光束に分離し、それぞれの光束を、スペシャルフィ
ルタ５５・５６でビームのノイズを除去された後、ビー
ムを拡大し、レンズ５７・５８で平行波に変換されミラ
ー５９および６０′で反射させて２光束を試料上で干渉
させ、所要の間隔をもった平面直線ホログラフインク回
折格子を得る。
布した後、三光束干渉法ホログラフィック露光により、
露光用レーザ５３からでた光束をハーフミラ−５４で２
つの光束に分離し、それぞれの光束を、スペシャルフィ
ルタ５５・５６でビームのノイズを除去された後、ビー
ムを拡大し、レンズ５７・５８で平行波に変換されミラ
ー５９および６０′で反射させて２光束を試料上で干渉
させ、所要の間隔をもった平面直線ホログラフインク回
折格子を得る。
（例えば、特開昭６１−１８９５０２号公報）第６図に
おいて、基板６１の上にホトレジスト６２を塗布した後
、三光束干渉法ホログラフィック露光により、露光用レ
ーザ６３からでた光束をレンズ６４で拡大し、放物面鏡
６５で平行光に変換され平面波ビームをミラー６６およ
び６７で反射させて２光束を試料上で干渉させる様に配
置されている。２つの平面波を基板上で干渉させて所要
の間隔をもった平面直線ホログラフィック回折格子４２
を得る。
おいて、基板６１の上にホトレジスト６２を塗布した後
、三光束干渉法ホログラフィック露光により、露光用レ
ーザ６３からでた光束をレンズ６４で拡大し、放物面鏡
６５で平行光に変換され平面波ビームをミラー６６およ
び６７で反射させて２光束を試料上で干渉させる様に配
置されている。２つの平面波を基板上で干渉させて所要
の間隔をもった平面直線ホログラフィック回折格子４２
を得る。
（例えば、特開昭６１−２８１５２９号公報）しかしな
がら上記のような製造方法では、レーザビームの光束は
、スペシャルフィルタで一旦ノイズが除去されている場
合も、露光が行われる基板上ではスペシャルフィルタの
後の光学系によってスペックルノイズが発生□し、均一
な格子を得るのがむずかしいという問題があった。
がら上記のような製造方法では、レーザビームの光束は
、スペシャルフィルタで一旦ノイズが除去されている場
合も、露光が行われる基板上ではスペシャルフィルタの
後の光学系によってスペックルノイズが発生□し、均一
な格子を得るのがむずかしいという問題があった。
第７図は従来の発散波と発散波を干渉させて作製する回
折格子の製造方法を示すものである。
折格子の製造方法を示すものである。
第７図において、基板７１の上にホトレジスト７２を塗
布した後、三光束干渉法ホログラフィック露光により、
露光用レーザ７３から°でた光束をハーフミラ−７４で
２つの光束に分離し、それぞれの光束を、ミラー７５お
よび７６で反射させてレンズ７７・７８でビームを拡大
し、２光束を試料上で干渉させ、ホログラフィック回折
格子を得る。
布した後、三光束干渉法ホログラフィック露光により、
露光用レーザ７３から°でた光束をハーフミラ−７４で
２つの光束に分離し、それぞれの光束を、ミラー７５お
よび７６で反射させてレンズ７７・７８でビームを拡大
し、２光束を試料上で干渉させ、ホログラフィック回折
格子を得る。
（例えば、特開昭６１−１８９５０２号公報）この発散
波と発散波を干渉させて作製した回折格子は第８図の８
１に示すように、双曲線の格子となり平面直線ホログラ
フィック回折格子の作製には用いられていなかった。
波と発散波を干渉させて作製した回折格子は第８図の８
１に示すように、双曲線の格子となり平面直線ホログラ
フィック回折格子の作製には用いられていなかった。
〔例えば、イー、ダブルオーエルエフ、プログリース
イン オプティクス（Ｂ、 ＷＯＬＦ、 Ｐｒｏｇｒｅ
ｓｓｉｎ ０ｐｔｉｃｓ） Ｘ ＩＶのＰ２Ｏ５）発
明が解決しようとする問題点 本発明は上記問題点を考慮し、簡単な光学系でしかも、
スペックルノイズのない均一な平面直線ホログラフィッ
ク回折格子を作製する製造方法を提供するものである。
イン オプティクス（Ｂ、 ＷＯＬＦ、 Ｐｒｏｇｒｅ
ｓｓｉｎ ０ｐｔｉｃｓ） Ｘ ＩＶのＰ２Ｏ５）発
明が解決しようとする問題点 本発明は上記問題点を考慮し、簡単な光学系でしかも、
スペックルノイズのない均一な平面直線ホログラフィッ
ク回折格子を作製する製造方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明のホログラフィック
回折格子の製造方法は゛、露光用レーザ光と、前記露光
用レーザ光を２つの光束に分けるハーフミラ−と、前記
２つに分けられた各々の光束を反射させて２光束を試料
上で干渉させるための２）Ｊｌのミラーと、前記ミラー
より反射されたレーザ光のノイズを取ると共に光束を発
散光に拡大するためのピンホールとレンズより成る２組
のスペシャルフィルタとを具備し、前記２つのスペシャ
ルフィルタのピンホールの間隔Ｃの中点と被露光物の間
の距離Ｈと被露光物の大きさ（径あるいは長辺）Ｌとの
比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャルフィルタのピンホー
ルの間隔Ｃと前記被露光物の大きさＬとの比Ｃ／Ｌとの
積Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２以上であり、かつ、被露光物に
あたるレーザの強度分布がピークの値に対して８０％以
上の均一な強度分布になるようにした回折格子の製造方
法である。
回折格子の製造方法は゛、露光用レーザ光と、前記露光
用レーザ光を２つの光束に分けるハーフミラ−と、前記
２つに分けられた各々の光束を反射させて２光束を試料
上で干渉させるための２）Ｊｌのミラーと、前記ミラー
より反射されたレーザ光のノイズを取ると共に光束を発
散光に拡大するためのピンホールとレンズより成る２組
のスペシャルフィルタとを具備し、前記２つのスペシャ
ルフィルタのピンホールの間隔Ｃの中点と被露光物の間
の距離Ｈと被露光物の大きさ（径あるいは長辺）Ｌとの
比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャルフィルタのピンホー
ルの間隔Ｃと前記被露光物の大きさＬとの比Ｃ／Ｌとの
積Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２以上であり、かつ、被露光物に
あたるレーザの強度分布がピークの値に対して８０％以
上の均一な強度分布になるようにした回折格子の製造方
法である。
作用
本発明は上記した、特別な条件に設定した発散光と発散
光とを、被露光物の大きさに応じて双曲線が直線とみな
せるような特別な配置に設定して干渉させることによっ
て、スペックルノイズのない均一で高効率なホログラフ
ィック回折格子を得ることができる。
光とを、被露光物の大きさに応じて双曲線が直線とみな
せるような特別な配置に設定して干渉させることによっ
て、スペックルノイズのない均一で高効率なホログラフ
ィック回折格子を得ることができる。
実施例
以下本発明の一実施例のホログラフィック回折格子の製
造方法について図面を参照しながら説明する。
造方法について図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例を示すホログラフィック回折格
子の製造方法を示す図である。
子の製造方法を示す図である。
第１図において一辺がＬの正方形の基板１の上にホトレ
ジスト２を塗布した後、露光用レーザ光３と、前記露光
用レーザ光を２つの光束に分けるハーフミラ−４と、前
記２つに分けられた各々の光束を反射させて２光束を試
料上で干渉させるための２組のミラー５・６と、前記ミ
ラーより反射されたレーザ光のノイズを取ると共に光束
を発散光に拡大するためのピンホールとレンズより成る
２組のスペシャルフィルタ７・８とから成っている。
ジスト２を塗布した後、露光用レーザ光３と、前記露光
用レーザ光を２つの光束に分けるハーフミラ−４と、前
記２つに分けられた各々の光束を反射させて２光束を試
料上で干渉させるための２組のミラー５・６と、前記ミ
ラーより反射されたレーザ光のノイズを取ると共に光束
を発散光に拡大するためのピンホールとレンズより成る
２組のスペシャルフィルタ７・８とから成っている。
前述の構成において、基板１・上のレジスト２には２つ
の発散波によって干渉縞ができ、二光束干渉法ホログラ
フィック露光により、所要の間隔をもった正弦波状のホ
ログラフィック回折格子を得る。
の発散波によって干渉縞ができ、二光束干渉法ホログラ
フィック露光により、所要の間隔をもった正弦波状のホ
ログラフィック回折格子を得る。
前述のように、本発明においては、スペシャルフィルタ
でビームのノイズが除去された後は、露光部までに光学
系がなく、干渉縞の中にスペックルノイズが発生するこ
とはない。
でビームのノイズが除去された後は、露光部までに光学
系がなく、干渉縞の中にスペックルノイズが発生するこ
とはない。
前記２つのスペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃの
中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径あるいは長
辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャルフ
ィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大きさＬ
との比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２以上であり
、がっ、被露光物にあたるレーザの強度分布がピークの
値に対して８０％以上の均一な強度分布になるようにし
たものである。
中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径あるいは長
辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャルフ
ィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大きさＬ
との比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２以上であり
、がっ、被露光物にあたるレーザの強度分布がピークの
値に対して８０％以上の均一な強度分布になるようにし
たものである。
第２図は、２つのスペシャルフィルタのピンホールの間
隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径ある
いは長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシ
ャルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大
きさＬとの比Ｃ／Ｌの関係で、回折格子の溝間隔につい
て調べたものである。
隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径ある
いは長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシ
ャルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大
きさＬとの比Ｃ／Ｌの関係で、回折格子の溝間隔につい
て調べたものである。
中央部の溝間隔ｄと径あるいは長辺の大きさＬの端にお
ける溝間隔りの差の割合（ｄ−Ｄ／Ｄ）×１００％の値
が１％以下になる点を結んだものである。この曲線はＨ
／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２の値になり、これ以上では１％以下
の誤差におさまり、はぼ直線の回折格子として使用して
も問題はない。
ける溝間隔りの差の割合（ｄ−Ｄ／Ｄ）×１００％の値
が１％以下になる点を結んだものである。この曲線はＨ
／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２の値になり、これ以上では１％以下
の誤差におさまり、はぼ直線の回折格子として使用して
も問題はない。
例えば、光分波器としてレンズと組み合わせて使用した
場合、焦点距離が５ｍｍのもので、１％の誤差であれは
１０μｍ以下の誤差に抑えることができ、光ファイバに
集光することができる。
場合、焦点距離が５ｍｍのもので、１％の誤差であれは
１０μｍ以下の誤差に抑えることができ、光ファイバに
集光することができる。
また、第３図に示すようにレーザの強度分布はガウス分
布になり、均一な回折格子を得るためにはレーザの強度
は８０％以上の均一な分布であることが必要である。
布になり、均一な回折格子を得るためにはレーザの強度
は８０％以上の均一な分布であることが必要である。
８０％以上の均一な分布では、５０％以上の回折効率を
得ることができる。
得ることができる。
前述のような、２つのスペシャルフィルタのピンホール
の間隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径
あるいは長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのス
ペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物
の大きさＬとの比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２
以上であり、かつ、被露光物にあたるレーザの強度分布
がピークの値に対して８０％以上の均一な強度分布にな
るようにした発散波と発散波とで形成される干渉縞は、
−Ｊｌ＝常にきれいな干渉縞で、かつ、均一で高効率な
平面直線回折格子が得られる。
の間隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径
あるいは長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのス
ペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物
の大きさＬとの比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２
以上であり、かつ、被露光物にあたるレーザの強度分布
がピークの値に対して８０％以上の均一な強度分布にな
るようにした発散波と発散波とで形成される干渉縞は、
−Ｊｌ＝常にきれいな干渉縞で、かつ、均一で高効率な
平面直線回折格子が得られる。
以下、本発明の詳細な説明する。
被露光物の大きさしの１辺が３０＋ｕの正方形のガラス
基板上に、ポジ型のホトレジストを５００Ｏｒｐｍの回
転スピードで約１．５μｍ塗布した後、４４１．６ｎｍ
の波長のＨｅ−Ｃｄレーザ光によりホログラフィック露
光を行った。
基板上に、ポジ型のホトレジストを５００Ｏｒｐｍの回
転スピードで約１．５μｍ塗布した後、４４１．６ｎｍ
の波長のＨｅ−Ｃｄレーザ光によりホログラフィック露
光を行った。
スペシャルフィルタの対物レンズは４０倍を用いて３０
度の角度で１４０ｍｍのビーム径に拡大した２つの発散
波を、前記２つのスペシャルフィルタのピンホールの間
隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈを６００ｆｌとし、
Ｃを４００ ｍｓとした。
度の角度で１４０ｍｍのビーム径に拡大した２つの発散
波を、前記２つのスペシャルフィルタのピンホールの間
隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈを６００ｆｌとし、
Ｃを４００ ｍｓとした。
この時、Ｃ／Ｌは１３で、Ｈ／’Ｌは２０であり、Ｈ／
Ｌ Ｘ Ｃ／Ｌは２６０の値である。
Ｌ Ｘ Ｃ／Ｌは２６０の値である。
この時、中央部の溝間隔ｄと１辺の大きさしの端におけ
る溝間隔りの差の割合（ｄ−Ｄ／Ｄ）ｘ１００％の値は
０．１％以下になり、実用上はまったく問題にない値で
ある。
る溝間隔りの差の割合（ｄ−Ｄ／Ｄ）ｘ１００％の値は
０．１％以下になり、実用上はまったく問題にない値で
ある。
また、この時の被露光物にあたるレーザの強度分布がピ
ークの値に対してほぼ１００％の均一な強度分布になる
ようにした干渉させて、１２００本／ ｍｍの溝数をも
つ正弦波のホログラフィック回折格子で、７５％の回折
効率を得た。第３図のａに当たる部分。
ークの値に対してほぼ１００％の均一な強度分布になる
ようにした干渉させて、１２００本／ ｍｍの溝数をも
つ正弦波のホログラフィック回折格子で、７５％の回折
効率を得た。第３図のａに当たる部分。
第４図はレーザの強度分布と回折効率の関係を示す図で
ある。
ある。
第４図に示すように、第３図のｂに当たるレーザの強度
分布が８０％では回折効率は５８％であり、第３図のＣ
に当たるレーザの強度分布が６０％では回折効率は３８
％であった。
分布が８０％では回折効率は５８％であり、第３図のＣ
に当たるレーザの強度分布が６０％では回折効率は３８
％であった。
以上のように本実施例によれば、スペクルノイズがなく
、均一な格子を得ることができ、ベース材を用いた場合
においても垂直イオンエツチングと斜めイオンエツチン
グを組み合わせることによって、溝の深い形の良いプレ
ズドホログラフィック回折格子の製造を容易にするもの
である。
、均一な格子を得ることができ、ベース材を用いた場合
においても垂直イオンエツチングと斜めイオンエツチン
グを組み合わせることによって、溝の深い形の良いプレ
ズドホログラフィック回折格子の製造を容易にするもの
である。
発明の効果
以上のように本発明は、２つのスペシャルフィルタのピ
ンホールの間隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露
光物の径あるいは長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記
２つのスペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記
被露光物の大きさＬとの比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／
Ｌが３２以上であり、かつ、被露光物にあたるレーザの
強度分布がピークの値に対して８０％以上の均一な強度
分布になるようにした発散光と発散光との干渉によって
、スペックルノイズのない均一で高効率なホログラフィ
ック回折格子を得ることができる。
ンホールの間隔Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露
光物の径あるいは長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記
２つのスペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記
被露光物の大きさＬとの比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／
Ｌが３２以上であり、かつ、被露光物にあたるレーザの
強度分布がピークの値に対して８０％以上の均一な強度
分布になるようにした発散光と発散光との干渉によって
、スペックルノイズのない均一で高効率なホログラフィ
ック回折格子を得ることができる。
第１図は本発明の実施例におけるホログラフィック回折
格子の製造方法を示す説明図であり、第２図は、２つの
スペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃの中点と被露
光物の間の距離Ｈと被露光物の径あるいは長辺の大きさ
Ｌとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャルフィルタのピ
ンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大きさＬとの比Ｃ／
Ｌの関係で、回折格子の溝間隔について調べたグラフ、
第３図は、レーザの強度分布を示す分布図、第４図はレ
ーザの強度分布と回折効率の関係を示すグラフ、第５図
・第６図・第７図は従来のホログラフィック回折格子製
造方法を示す説明図、第８図は双曲線ホログラフィック
回折格子を示す平面図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・ホトレジスト、３
・・・・・・露光用レーザ光、４・・・・・・ハーフミ
ラ−１５・６・・・・・・ミラー、７・８・・・・・・
スペシャルフィルタ。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ばか１名第２図 んＡ 第３図
格子の製造方法を示す説明図であり、第２図は、２つの
スペシャルフィルタのピンホールの間隔Ｃの中点と被露
光物の間の距離Ｈと被露光物の径あるいは長辺の大きさ
Ｌとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャルフィルタのピ
ンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大きさＬとの比Ｃ／
Ｌの関係で、回折格子の溝間隔について調べたグラフ、
第３図は、レーザの強度分布を示す分布図、第４図はレ
ーザの強度分布と回折効率の関係を示すグラフ、第５図
・第６図・第７図は従来のホログラフィック回折格子製
造方法を示す説明図、第８図は双曲線ホログラフィック
回折格子を示す平面図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・ホトレジスト、３
・・・・・・露光用レーザ光、４・・・・・・ハーフミ
ラ−１５・６・・・・・・ミラー、７・８・・・・・・
スペシャルフィルタ。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ばか１名第２図 んＡ 第３図
Claims (1)
- 露光用レーザ光と、前記露光用レーザ光を２つの光束に
分けるハーフミラーと、前記２つに分けられた各々の光
束を反射させて２光束を試料上で干渉させるための２組
のミラーと、前記ミラーより反射されたレーザ光のノイ
ズを取ると共に光束を発散光に拡大するためのピンホー
ルとレンズより成る２組のスペシャルフィルタとを具備
し、前記２つのスペシャルフィルタのピンホールの間隔
Ｃの中点と被露光物の間の距離Ｈと被露光物の径あるい
は長辺の大きさＬとの比Ｈ／Ｌと、前記２つのスペシャ
ルフィルタのピンホールの間隔Ｃと前記被露光物の大き
さＬとの比Ｃ／Ｌとの積、Ｈ／Ｌ×Ｃ／Ｌが３２以上で
あり、かつ、被露光物にあたるレーザの強度分布がピー
クの値に対して８０％以上の均一な強度分布になるよう
にしたことを特徴とする回折格子の製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62331972A JPH01172901A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 回折格子の製造方法 |
| US07/290,196 US5007709A (en) | 1987-12-28 | 1988-12-17 | Diffraction grating and manufacturing method thereof |
| KR1019880017677A KR920001246B1 (ko) | 1987-12-28 | 1988-12-28 | 회절격자, 그 제조방법 및 그 제조시스템 |
| EP88312373A EP0323238B1 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-28 | Diffraction grating and manufacturing method thereof |
| CA000587161A CA1321495C (en) | 1987-12-28 | 1988-12-28 | Diffraction grating and manufacturing method thereof |
| DE3855042T DE3855042T2 (de) | 1987-12-28 | 1988-12-28 | Beugunsgitter und Methode zu seiner Herstellung |
| EP95202075A EP0682272A2 (en) | 1987-12-28 | 1988-12-28 | Diffraction grating manufacturing method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62331972A JPH01172901A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 回折格子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01172901A true JPH01172901A (ja) | 1989-07-07 |
Family
ID=18249705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62331972A Pending JPH01172901A (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 回折格子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01172901A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59168403A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 露光装置 |
| JPS61172101A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の作成方法 |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP62331972A patent/JPH01172901A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59168403A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-22 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 露光装置 |
| JPS61172101A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 回折格子の作成方法 |
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