JPH0317282Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 イ 産業上の利用分野 本考案はホログラフイを利用した回折格子の製
造装置に関する。

ロ 従来技術 ホログラフイによつて回折格子を製作するに
は、互に干渉可能な光を出している二つの点光
源、実際には一つのレーザから発射されるレーザ
ー光束を２光束に分け、夫々の光束を異る２点に
収束させて二つの点光源とするが、この二つの点
光源から出る光が格子基板上に投射されて基板上
に形成する干渉縞を焼付けて格子母型を作つてい
る。この場合、点光源を形成するのに平行光束を
顕微鏡の対物レンズのような無収差短焦点距離の
レンズを用いて一点に収束させることによつて充
分な広がり角を持つた発散光束に変換しているの
で、二つの光源は二つのレンズが機械的に衝突す
る範囲以内には近接させることができず、従来、
この方法では曲率半径の割に口径の大きな即ち深
い凹面状の回折格子を作ることができなかつた。

他方近時螢光分光光度計等で深い凹面の回折格
子が要求されるようになつており、また半導体レ
ーザの応用分野とか光通信の分野で曲率半径が数
〜十数mmで口径も同程度と云つた回折格子が要求
され、このような格子は機械切りによる製作も困
難であるため、ホログラフイによる製方の開発が
望まれている。

ハ 目的 本考案は上述したような状況に鑑み、深い凹面
状の回折格子をホログラフイで製作することを可
能にしようとしてなされた。

ニ 構成 回折格子基板上に干渉縞を形成するための二つ
の点光源（記録点光源と云う）のうちの少くとも
一方に関して、同点光源の回折格子基板とは反対
側に同記録点光源を曲率中心とする凹面鏡を配置
し、この凹面鏡と上記記録点光源との間に斜めに
半透明鏡を挿入し、この半透明鏡による上記記録
点光源の像の位置にレンズによつてレーザービー
ムを収束させる構成としたホログラフイによる回
折格子製作用の露光装置である。

ホ 実施例 図面は本考案の一実施例を示す。１が回折格子
基板である。２，３が回折格子基板１上に干渉縞
を形成するための記録点光源で、夫々は同一レー
ザー（図外）から発射されたレーザービームを２
分割して収束させることによつて形成されてい
る。Ｆは点光源２，３の位置にピンホールを持つ
遮光板である。各点光源２，３と回折格子基板１
の中心とを結ぶ線の基板１とは反対側の延長上に
夫々凹面鏡６，７が配置してある。これらの凹面
鏡は夫々、点光源２，３を曲率中心としている。
４，５は夫々点光源２，３と凹面鏡６，７との間
に斜めに配置された半透明鏡であつて、ｆ１，ｆ
２は夫々半透明鏡による点光源２，３の鏡像であ
る。８，９は顕微鏡の対物レンズであつて、レー
ザービーム１０，１０′をｆ１，ｆ２各点に収束
させている。レーザービーム１０，１０′は図外
の光学系によつて一つのレーザーから発せられた
一本のレーザービームを２分割したものである。

上の例では二つの記録点光源２，３に関して、
夫々凹面鏡及び半透明鏡を用いているが、構成の
項で記したように、この構成は二つの記録点光源
のうちの少くとも一方についてだけ採用しておけ
ば充分な場合が設計上は多い。

ヘ 効果 本考案によればレーザービームを収束させる二
つのレンズを位置的に遠ざけることができるの
で、二つの記録点光源を任意に近接させることが
可能であり、深い凹面の特殊な仕様の回折格子を
ホログラフイによつて製作することが可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例装置の平面図である。 １……回折格子基板、２，３……記録点光源、
４，５……半透明鏡、６，７……凹面鏡、８，９
……顕微鏡対物レンズ、１０，１０′……レーザ
ービーム。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 二つの記録点光源のうちの少くとも一方に関し
   て、同点光源の回折格子基板とは反対側に同点光
   源を曲率中心とする凹面鏡を配置し、この凹面鏡
   と上記記録点光源との間に斜めに半透明鏡を挿入
   し、この半透明鏡による上記記録点光源の像の位
   置にレンズによつてレーザービームを収束させる
   ようにしたホログラフイによる回折格子製作用露
   光装置。