JPH01173040A - 製版用ガラスパターン - Google Patents
製版用ガラスパターンInfo
- Publication number
- JPH01173040A JPH01173040A JP62333063A JP33306387A JPH01173040A JP H01173040 A JPH01173040 A JP H01173040A JP 62333063 A JP62333063 A JP 62333063A JP 33306387 A JP33306387 A JP 33306387A JP H01173040 A JPH01173040 A JP H01173040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- glass
- transparent resin
- granules
- brought
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フォトエツチング法、エレクトロフォーミン
グ法等にて金属加工製品を製造する際の製版工程で使用
されるガラスパターンに関する。
グ法等にて金属加工製品を製造する際の製版工程で使用
されるガラスパターンに関する。
フォトエツチング法にて金属加工製品を製造する際の製
版工程は、フォトレジストをコーティングした厚さ０．
１０〜０．３０ｍｍの金属素材にガラスパターンを密着
させ、次いで露光させ、パターンを金属素材に焼き付け
る工程をいう。
版工程は、フォトレジストをコーティングした厚さ０．
１０〜０．３０ｍｍの金属素材にガラスパターンを密着
させ、次いで露光させ、パターンを金属素材に焼き付け
る工程をいう。
この製版工程で使用されるガラスパターンは、第３図に
示すようにガラス板２とその上面に形成されたパターン
ｌとからなるが、このガラスパターンは原版として使用
され、何回も金属素材に焼き付けが行われるものである
ため、パターン面には保護膜３がコーティングされてい
る。そして第２図（ａ）に示すように、フォトレジスト
６を両面に塗布した金属素材５を２枚のガラスパターン
で両面から挟むに際して、それぞれのパターン面が金属
素材５に対向するように配置し、次いで開閉装置（図示
せず）によりガラスパターンと金属素材を合わせ、真空
引きを行って密着させ第２図（ｂ）に示すように、紫外
線を照射して露光させる。金属素材は露光後、現像工程
、エソチング工程にかけられて微細加工される。
示すようにガラス板２とその上面に形成されたパターン
ｌとからなるが、このガラスパターンは原版として使用
され、何回も金属素材に焼き付けが行われるものである
ため、パターン面には保護膜３がコーティングされてい
る。そして第２図（ａ）に示すように、フォトレジスト
６を両面に塗布した金属素材５を２枚のガラスパターン
で両面から挟むに際して、それぞれのパターン面が金属
素材５に対向するように配置し、次いで開閉装置（図示
せず）によりガラスパターンと金属素材を合わせ、真空
引きを行って密着させ第２図（ｂ）に示すように、紫外
線を照射して露光させる。金属素材は露光後、現像工程
、エソチング工程にかけられて微細加工される。
上記従来の工程におけるガラスパターンと金属素材を密
着させる工程は精密性を要求されるため、真空引きを必
要とするがガラス板の表面はフラットであり、しかもガ
ラスパターン自体、上述の如くサイズも大きく、ガラス
パターンと金属素材を完全に密着させるには時間を要す
るのが現状である。しかも真空引きはガラス板の端部か
ら行われるが、パターン部はガラス板の中心部にあるた
め真空になりに＜＜、真空度が不完全な状態で露光され
ると、所謂「真空かぶり」現象がおこり、パターン下部
に光が廻り込み、製版寸法がシフトしてしまうという問
題が生じる。
着させる工程は精密性を要求されるため、真空引きを必
要とするがガラス板の表面はフラットであり、しかもガ
ラスパターン自体、上述の如くサイズも大きく、ガラス
パターンと金属素材を完全に密着させるには時間を要す
るのが現状である。しかも真空引きはガラス板の端部か
ら行われるが、パターン部はガラス板の中心部にあるた
め真空になりに＜＜、真空度が不完全な状態で露光され
ると、所謂「真空かぶり」現象がおこり、パターン下部
に光が廻り込み、製版寸法がシフトしてしまうという問
題が生じる。
そのために、本発明はフォトエツチングによる金属加工
に使用する製版用ガラスパターンにおいて、パターン表
面の保護層に透明な硬質粒体を分散させることによりこ
の問題の解決を図った。
に使用する製版用ガラスパターンにおいて、パターン表
面の保護層に透明な硬質粒体を分散させることによりこ
の問題の解決を図った。
透明な硬質粒体としては、ガラスを細かく砕いたものを
好適に使用しうるが、保護層である透明樹脂に溶融しな
い透明な硬質ポリマー粒体を使用してもよい。
好適に使用しうるが、保護層である透明樹脂に溶融しな
い透明な硬質ポリマー粒体を使用してもよい。
〔作用〕
パターン表面の保護層に透明な硬質粒体を分散させるこ
とにより、その保１！層表面に硬質粒体が露出して保護
層表面に粗度単位（Ｒａ）で０．１〜０．５μｍの凹凸
が形成されるため、ガラスパターンと金属素材との間に
空気の通り道ができ、真空引きを容易におこなうことが
できる。
とにより、その保１！層表面に硬質粒体が露出して保護
層表面に粗度単位（Ｒａ）で０．１〜０．５μｍの凹凸
が形成されるため、ガラスパターンと金属素材との間に
空気の通り道ができ、真空引きを容易におこなうことが
できる。
以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
第１図は本発明のガラスパターン断面図、第２図（ａ）
は金属素材とガラスパターンを密着させる前の状態を示
す断面図、第２図（ｂ）は金属素材とガラスパターンを
密着させ露光させている状態を示す断面図、第３図は従
来のガラスパターン断面図である。
は金属素材とガラスパターンを密着させる前の状態を示
す断面図、第２図（ｂ）は金属素材とガラスパターンを
密着させ露光させている状態を示す断面図、第３図は従
来のガラスパターン断面図である。
ｌはパターン、２はガラス板、３は保護膜、４は硬質粒
体、５は金属素材、６はフォトレジストを示す。
体、５は金属素材、６はフォトレジストを示す。
第１に示すように、一方の面にパターン１が形成された
厚さ約６ｍｍのガラス板（、！１００ｃｍ×横８０ｍｍ
）２のパターン部面に、細かく擦り潰したガラス粒４を
分散させた透明樹脂を、ガラス板パターン部上面よりノ
ズルを使用して掛は流し、コーティングして保護膜３を
形成した。ガラス粒４を分散さ曵た透明樹脂の組成は、
ＳｉＯ□５〜２０、透明樹脂２０〜５０、アルコール（
溶剤）４０〜７０（ｗｔ％）のものである。次いで、ガ
ラスパターンを室温乾燥させて溶剤を飛ばし、保護膜を
密着させるために１５０〜１８０℃で高温処理した。
厚さ約６ｍｍのガラス板（、！１００ｃｍ×横８０ｍｍ
）２のパターン部面に、細かく擦り潰したガラス粒４を
分散させた透明樹脂を、ガラス板パターン部上面よりノ
ズルを使用して掛は流し、コーティングして保護膜３を
形成した。ガラス粒４を分散さ曵た透明樹脂の組成は、
ＳｉＯ□５〜２０、透明樹脂２０〜５０、アルコール（
溶剤）４０〜７０（ｗｔ％）のものである。次いで、ガ
ラスパターンを室温乾燥させて溶剤を飛ばし、保護膜を
密着させるために１５０〜１８０℃で高温処理した。
形成されたガラスパターンの表面は、表面で固化した゛
ガラス粒４のために、粗度単位（Ｒａ）で０．１〜０．
５μｍの凹凸があった。
ガラス粒４のために、粗度単位（Ｒａ）で０．１〜０．
５μｍの凹凸があった。
真空引きの程度は、真空引きが不充分な場合は製品の製
版寸法がシフトするので、その画像性でチエツクするこ
とができ、またガラス面のニュウトンリングの動きを検
出して、その動きが停止した段階で確認しうる。
版寸法がシフトするので、その画像性でチエツクするこ
とができ、またガラス面のニュウトンリングの動きを検
出して、その動きが停止した段階で確認しうる。
従来のガラスパターンでは平均１分必要としていた真空
引きが、本発明のガラスパターンでは平均１５〜３０秒
と従来比で半分以上の早さで真空引きが可能となった。
引きが、本発明のガラスパターンでは平均１５〜３０秒
と従来比で半分以上の早さで真空引きが可能となった。
保護層に透明な硬質粒体を分散させることにより、製版
工程におけるガラスパターンと金属素材との密着性を高
める真空引き作業を極めて迅速に行うことが可能となり
、パターンに起因する製品不良数の低減またガラスパタ
ーンの強度が向上し、多数回の露光工程に耐えるものと
なった。
工程におけるガラスパターンと金属素材との密着性を高
める真空引き作業を極めて迅速に行うことが可能となり
、パターンに起因する製品不良数の低減またガラスパタ
ーンの強度が向上し、多数回の露光工程に耐えるものと
なった。
第１図は本発明のガラスパターン断面図、第２図（ａ）
は金属素材とガラスパターンを密着させる前の状態を示
す断面図、第２図（ｂ）は金属素材とガラスパターンを
密着させ露光させている状態を示す断面図、第３図は従
来のガラスパターン断面図である。 ｌはパターン、２はガラス板、３は保護膜、４は硬質粒
体、５は金属素材、６はフォトレジストを示す。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
内１）亘彦（外３名）（レフ
は金属素材とガラスパターンを密着させる前の状態を示
す断面図、第２図（ｂ）は金属素材とガラスパターンを
密着させ露光させている状態を示す断面図、第３図は従
来のガラスパターン断面図である。 ｌはパターン、２はガラス板、３は保護膜、４は硬質粒
体、５は金属素材、６はフォトレジストを示す。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
内１）亘彦（外３名）（レフ
Claims (1)
- フォトエッチングによる金属加工に使用される製版用ガ
ラスパターンにおいて、パターン表面の保護層に透明な
硬質粒体を分散させたことを特徴とする製版用ガラスパ
ターン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33306387A JP2558304B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 製版用ガラスパターン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33306387A JP2558304B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 製版用ガラスパターン |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01173040A true JPH01173040A (ja) | 1989-07-07 |
| JP2558304B2 JP2558304B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=18261849
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33306387A Expired - Fee Related JP2558304B2 (ja) | 1987-12-28 | 1987-12-28 | 製版用ガラスパターン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2558304B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03114845U (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-26 | ||
| JPH0491351U (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-10 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4845304A (ja) * | 1971-10-11 | 1973-06-28 | ||
| JPS5427707A (en) * | 1977-08-03 | 1979-03-02 | Fujitsu Ltd | Inter-unit information transfer circuit on redundancy system |
| JPS567960U (ja) * | 1979-06-28 | 1981-01-23 | ||
| JPS6086545A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Fujitsu Ltd | マスク保護膜 |
-
1987
- 1987-12-28 JP JP33306387A patent/JP2558304B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4845304A (ja) * | 1971-10-11 | 1973-06-28 | ||
| JPS5427707A (en) * | 1977-08-03 | 1979-03-02 | Fujitsu Ltd | Inter-unit information transfer circuit on redundancy system |
| JPS567960U (ja) * | 1979-06-28 | 1981-01-23 | ||
| JPS6086545A (ja) * | 1983-10-17 | 1985-05-16 | Fujitsu Ltd | マスク保護膜 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03114845U (ja) * | 1990-03-07 | 1991-11-26 | ||
| JPH0491351U (ja) * | 1990-12-21 | 1992-08-10 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2558304B2 (ja) | 1996-11-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |