JPH0117673B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0117673B2 JPH0117673B2 JP56124709A JP12470981A JPH0117673B2 JP H0117673 B2 JPH0117673 B2 JP H0117673B2 JP 56124709 A JP56124709 A JP 56124709A JP 12470981 A JP12470981 A JP 12470981A JP H0117673 B2 JPH0117673 B2 JP H0117673B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- koji
- substrate
- maintenance
- moisture
- matrix
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Micro-Organisms Or Cultivation Processes Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は自動機械製麹における麹基質の手入
れ方法に関する。
れ方法に関する。
醸造業界の製麹作業において、麹基質に種菌を
植え、適切な温度、湿度の環境下に保持すると、
約10時間経過後、菌の発育繁殖とともに発熱を生
じ、約17〜20時間で麹基質は擬結する。この時間
に必要とされる手入れは、単に擬結した麹基質を
微細粉状に砕き、均等通気を求めていた。
植え、適切な温度、湿度の環境下に保持すると、
約10時間経過後、菌の発育繁殖とともに発熱を生
じ、約17〜20時間で麹基質は擬結する。この時間
に必要とされる手入れは、単に擬結した麹基質を
微細粉状に砕き、均等通気を求めていた。
ところで蛋白質を麹基質とする醤油麹等の場
合、上述の方法では麹基質に亀裂が生じ、温湿風
のシヨートパス等により品温制御に困難を来た
す。
合、上述の方法では麹基質に亀裂が生じ、温湿風
のシヨートパス等により品温制御に困難を来た
す。
この発明は、製麹作業において麹の発育進捗に
必要な手入れ作業を行なうにあたり、粒子形成の
手入れ手段によつて、麹基質推積層の内部水分発
散をごく自然裡に行なえるような範囲の粒の状態
になるように手入れを行ない、菌糸の切断を可及
的に防止し、通気を改善して、水分発散による蒸
発潜熱により品温制御を容易ならしめたものであ
る。この発明によると、澱粉の麹基質の場合、温
湿風の適切な調整によつて、麹基質に対する麹菌
の内部破精込みを容易にし、酒造家が求める所の
突き破精状の麹が得られるのである。
必要な手入れ作業を行なうにあたり、粒子形成の
手入れ手段によつて、麹基質推積層の内部水分発
散をごく自然裡に行なえるような範囲の粒の状態
になるように手入れを行ない、菌糸の切断を可及
的に防止し、通気を改善して、水分発散による蒸
発潜熱により品温制御を容易ならしめたものであ
る。この発明によると、澱粉の麹基質の場合、温
湿風の適切な調整によつて、麹基質に対する麹菌
の内部破精込みを容易にし、酒造家が求める所の
突き破精状の麹が得られるのである。
次にこの発明の実施例を澱粉麹を蛋白麹につい
て分けて説明をする。
て分けて説明をする。
実施例 1
酒造用澱粉麹
併行複醗酵を基本とする清酒醸造における突破
精型麹は、製品との関連において重要な要素の一
つであつた。従来の機械製麹は培養室内が多湿の
ため、比較的総破精型の麹になりやすく、酵素力
価の高い、酒化率の良いものであつたが製品は淡
白な酒の要求に対し濃厚な酒になりがちであつ
た。また従来の機械製麹においては、推積層が約
25cmにもなるため、室内に乾湿を設けても、菌の
繁殖にともなう層内部の発生熱、すなわち内部水
分の発散が行なわれず、これに対し種々工夫がな
されたが目的は果せられなかつた。そこでこの発
明では、麹基質を粒子形成の手入れ手段によつて
麹基質の内部水分発散を自然裡に行なえるように
自己発散容易な粒状ないし塊状とし、堆積層内部
の麹を天地崩壊して室内空気にさらすと共に、通
気を容易にし、繁殖熱を自然放散容易にしたもの
である。したがつて麹基質の表面水分は適当に除
去され、麹菌の表面繁殖を抑制するため、菌糸は
水分の多い米粒内部に移向し、突き破精型の麹と
することができるのである。
精型麹は、製品との関連において重要な要素の一
つであつた。従来の機械製麹は培養室内が多湿の
ため、比較的総破精型の麹になりやすく、酵素力
価の高い、酒化率の良いものであつたが製品は淡
白な酒の要求に対し濃厚な酒になりがちであつ
た。また従来の機械製麹においては、推積層が約
25cmにもなるため、室内に乾湿を設けても、菌の
繁殖にともなう層内部の発生熱、すなわち内部水
分の発散が行なわれず、これに対し種々工夫がな
されたが目的は果せられなかつた。そこでこの発
明では、麹基質を粒子形成の手入れ手段によつて
麹基質の内部水分発散を自然裡に行なえるように
自己発散容易な粒状ないし塊状とし、堆積層内部
の麹を天地崩壊して室内空気にさらすと共に、通
気を容易にし、繁殖熱を自然放散容易にしたもの
である。したがつて麹基質の表面水分は適当に除
去され、麹菌の表面繁殖を抑制するため、菌糸は
水分の多い米粒内部に移向し、突き破精型の麹と
することができるのである。
実験例
従来の手入れ法においては、通気停止10〜15分
の間に1〜2℃の品温上昇があつたが、通気を行
なうと4〜5分で元の温度に復する状態である。
の間に1〜2℃の品温上昇があつたが、通気を行
なうと4〜5分で元の温度に復する状態である。
これに対しこの発明の手入れの方法によると、
通気を30分間に一度の割合の実施によつて、25〜
30分間通気を停止しても、品温上昇の傾向はみら
れず、更に手入れ回数を増すと、麹基質の内部水
分発散を自然裡に行なえる形式で除熱されるの
で、通気量を最少限とすることができた。
通気を30分間に一度の割合の実施によつて、25〜
30分間通気を停止しても、品温上昇の傾向はみら
れず、更に手入れ回数を増すと、麹基質の内部水
分発散を自然裡に行なえる形式で除熱されるの
で、通気量を最少限とすることができた。
上記実験からして、麹基質の手入れは、従来微
細粉状に砕く手段が一つの方法として考えられて
きたが、これを粒子形成の手入れ手段によつて、
堆積層の麹基質の内部水分発散を自然裡に行な
い、通風条件を最少限に制御し、水分発散による
蒸発潜熱によつて、品温制御が容易にでき、更に
室内空気の調整条件によつては、麹基質の表面水
分を除去して、菌糸を水分の多い米粒内部に破精
込ませられることが確認された。
細粉状に砕く手段が一つの方法として考えられて
きたが、これを粒子形成の手入れ手段によつて、
堆積層の麹基質の内部水分発散を自然裡に行な
い、通風条件を最少限に制御し、水分発散による
蒸発潜熱によつて、品温制御が容易にでき、更に
室内空気の調整条件によつては、麹基質の表面水
分を除去して、菌糸を水分の多い米粒内部に破精
込ませられることが確認された。
実施例 2
醤油用蛋白麹
醤油用の麹は蛋白原料としての脱脂大豆と、澱
粉原料としての小麦を、それぞれ加圧蒸煮及び炒
煎処理を行ない、冷却し、種菌を植えて盛込み、
品温を28〜30℃に保つておくと、約10時間経過頃
から麹菌は繁殖を始めると同時に、繁殖熱を生
じ、品温は上昇し始め、約17〜20時間経過後、繁
殖は旺盛となり、脱脂大豆及び小麦を分解して、
炭酸ガスと繁殖熱を発散し、品温は更に上昇して
手入れ時期をむかえる。
粉原料としての小麦を、それぞれ加圧蒸煮及び炒
煎処理を行ない、冷却し、種菌を植えて盛込み、
品温を28〜30℃に保つておくと、約10時間経過頃
から麹菌は繁殖を始めると同時に、繁殖熱を生
じ、品温は上昇し始め、約17〜20時間経過後、繁
殖は旺盛となり、脱脂大豆及び小麦を分解して、
炭酸ガスと繁殖熱を発散し、品温は更に上昇して
手入れ時期をむかえる。
こゝで手入れの本来の目的は菌糸でかたまつた
麹基質をほぐし通風を良好にすることによつて、 麹基質の品温を下げる→適切な品温制御の実
現 麹菌の生育に必要な酸素を与える。
麹基質をほぐし通風を良好にすることによつて、 麹基質の品温を下げる→適切な品温制御の実
現 麹菌の生育に必要な酸素を与える。
ことであるが、麹基質の堆積層に亀裂が生じる
と、通気はシヨートパスを生じ、通気に均一性を
欠き正常な品温制御が不可能となるため、手入れ
が必要となるのである。
と、通気はシヨートパスを生じ、通気に均一性を
欠き正常な品温制御が不可能となるため、手入れ
が必要となるのである。
この亀裂発生の一時的な対策として、従来踏み
込みと称する亀裂を潰す作業が行なわれていた。
この発明の手入れにおいては、堆積層の麹基質の
発熱量に応じた手入れ法として、従来行なわれて
来たような微細粉状の砕き手入れを行なわず、粒
子形成の手入れ手段として、麹基質堆積層の内部
水分発散を自然裡に行なえるような範囲の粒態
に、手入れを行なつて、麹基質の粒子間に空間を
形成し、水分発散による蒸発潜熱によつて、品温
制御を容易ならしめるのである。したがつて従来
法にみられるような、麹基質の分解消化によつて
生ずる、収縮現状を原因とする亀裂発生を防止す
ることができ、その対策としての踏み込み作業を
省略することができるものである。
込みと称する亀裂を潰す作業が行なわれていた。
この発明の手入れにおいては、堆積層の麹基質の
発熱量に応じた手入れ法として、従来行なわれて
来たような微細粉状の砕き手入れを行なわず、粒
子形成の手入れ手段として、麹基質堆積層の内部
水分発散を自然裡に行なえるような範囲の粒態
に、手入れを行なつて、麹基質の粒子間に空間を
形成し、水分発散による蒸発潜熱によつて、品温
制御を容易ならしめるのである。したがつて従来
法にみられるような、麹基質の分解消化によつて
生ずる、収縮現状を原因とする亀裂発生を防止す
ることができ、その対策としての踏み込み作業を
省略することができるものである。
上述のように、この発明は菌糸切断を最少限に
し、総じて澱粉或いは蛋白原料麹基質の区分を問
わず、表面塗り破精込みの状態から内部突き破精
込み状に製麹できることが、本手入法の最大特徴
である。したがつて従来行なわれてきた手入れ作
業の考え方を根本的に変え、堆積層の麹基質の内
部水分発散を自然裡に行なえるような範囲の粒態
とすることを基本として、各種麹基質に対処した
それぞれの作用効果をあげうる有益有用なもので
ある。
し、総じて澱粉或いは蛋白原料麹基質の区分を問
わず、表面塗り破精込みの状態から内部突き破精
込み状に製麹できることが、本手入法の最大特徴
である。したがつて従来行なわれてきた手入れ作
業の考え方を根本的に変え、堆積層の麹基質の内
部水分発散を自然裡に行なえるような範囲の粒態
とすることを基本として、各種麹基質に対処した
それぞれの作用効果をあげうる有益有用なもので
ある。
Claims (1)
- 1 自動機械製麹装置による製麹作業において、
麹の発育進捗に必要な手入れ作業を必要とする場
合、推積層の麹基質の発熱量に応じた手入れ法と
して、微細粉状に砕き手入れを行なうことなく粒
子形成の手入れ手段を用い、推積層の麹基質の内
部水分発散を自然裡に行なえるような範囲の粒態
に手入れを行ない、もつて通風条件を最少限に制
御しうる条件を構成して、水分発散による蒸発潜
熱によつて晶温制御を容易とし、適切な温湿風の
調整条件によつて麹菌の内部破精込みを旺盛にす
るようにした自動機械製麹装置の麹基質機械手入
れの方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12470981A JPS5828275A (ja) | 1981-08-11 | 1981-08-11 | 自動機械製麹装置の麹基質機械手入れの方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12470981A JPS5828275A (ja) | 1981-08-11 | 1981-08-11 | 自動機械製麹装置の麹基質機械手入れの方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5828275A JPS5828275A (ja) | 1983-02-19 |
| JPH0117673B2 true JPH0117673B2 (ja) | 1989-03-31 |
Family
ID=14892156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12470981A Granted JPS5828275A (ja) | 1981-08-11 | 1981-08-11 | 自動機械製麹装置の麹基質機械手入れの方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5828275A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59174085A (ja) * | 1983-03-23 | 1984-10-02 | Toshiba Corp | カラ−固体撮像装置 |
| CN111690531A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-09-22 | 上海步科自动化股份有限公司 | 一种制曲装置、曲床控制系统及制曲控制方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5115679B2 (ja) * | 1972-05-18 | 1976-05-18 |
-
1981
- 1981-08-11 JP JP12470981A patent/JPS5828275A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5828275A (ja) | 1983-02-19 |
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