JPH01178142A - 光ヘッド - Google Patents
光ヘッドInfo
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- JPH01178142A JPH01178142A JP63002025A JP202588A JPH01178142A JP H01178142 A JPH01178142 A JP H01178142A JP 63002025 A JP63002025 A JP 63002025A JP 202588 A JP202588 A JP 202588A JP H01178142 A JPH01178142 A JP H01178142A
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- semiconductor lasers
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- semiconductor laser
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 25
- 230000006835 compression Effects 0.000 abstract 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 abstract 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
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Landscapes
- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光学式情報記録再生装置の光ヘッドに関する
。
。
光学式情報記録再生装置の光ヘッドは、追記型。
光磁気型、相変化型などのディスクに対応して種々の方
式が考えられている。特に相変化型では、記録した情報
を、記録媒体を形成する材料に相変化が生じる温度まで
加熱（アニール）することにより消去するために、記録
再生用ビームの他に、消去用ビームを備えたものが多い
。
式が考えられている。特に相変化型では、記録した情報
を、記録媒体を形成する材料に相変化が生じる温度まで
加熱（アニール）することにより消去するために、記録
再生用ビームの他に、消去用ビームを備えたものが多い
。
第４図は、このような光ヘッドの例を示す。すなわち、
この光ヘッドは、光源として、波長λ１を持つ第一の半
導体レーザ１と、波長λ２をもつ第二の半導体レーデ２
を備えている。第一の半導体レーｆ１は記録再生用とし
て、第二の半導体レーザ２は消去用としてそれぞれ使用
する。
この光ヘッドは、光源として、波長λ１を持つ第一の半
導体レーザ１と、波長λ２をもつ第二の半導体レーデ２
を備えている。第一の半導体レーｆ１は記録再生用とし
て、第二の半導体レーザ２は消去用としてそれぞれ使用
する。
第４図の光ヘッドにおいて、第一の半導体レーザ１から
出た光は、コリメートレンズ１１によって平行光になる
。さらに、ビーム整形プリズム１２によって半導体レー
ザ１の光量分布の異方性を整形する。すなわち、断面の
光量分布を楕円から円形に変換する。ビーム整形プリズ
ム１２を出た光は偏光ビームスプリ７タ１３、λ／４板
１４を経てグイクロイックミラー１５に入射する。この
グイクロイックミラー１５は、波長λ１の光は透過し、
波長λ２の光は反射するような設計になっている。そし
て、対物レンズ１６によってディスク１７上に収束する
。
出た光は、コリメートレンズ１１によって平行光になる
。さらに、ビーム整形プリズム１２によって半導体レー
ザ１の光量分布の異方性を整形する。すなわち、断面の
光量分布を楕円から円形に変換する。ビーム整形プリズ
ム１２を出た光は偏光ビームスプリ７タ１３、λ／４板
１４を経てグイクロイックミラー１５に入射する。この
グイクロイックミラー１５は、波長λ１の光は透過し、
波長λ２の光は反射するような設計になっている。そし
て、対物レンズ１６によってディスク１７上に収束する
。
ディスク１７からの反射光は、同じ光路を戻り、偏光ビ
ームスプリッタ１３で反射し、レンズ１８を経て受光素
子１９に入り、光電流に変換され、スポット制御用信号
や再生信号として利用される。
ームスプリッタ１３で反射し、レンズ１８を経て受光素
子１９に入り、光電流に変換され、スポット制御用信号
や再生信号として利用される。
一方、第二の半導体レーザ２から出た光はコリメートレ
ンズ２１に入り、偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板
２３、固定ミラー２４を経てグイクロイックミラー１５
によって反射する。そして、同じく対物レンズ１６によ
ってディスク１７上に収束する。ただし、このスポット
はビーム整形を行っていないので、第一の半導体レーザ
ｌによるスポットの径に比較して、ディスク１γの円周
方向に対する径が大きく、消去が効果的に行えるように
なっている。
ンズ２１に入り、偏光ビームスプリッタ２２、λ／４板
２３、固定ミラー２４を経てグイクロイックミラー１５
によって反射する。そして、同じく対物レンズ１６によ
ってディスク１７上に収束する。ただし、このスポット
はビーム整形を行っていないので、第一の半導体レーザ
ｌによるスポットの径に比較して、ディスク１γの円周
方向に対する径が大きく、消去が効果的に行えるように
なっている。
このとき、収束したスポットの位置は、第一の半導体レ
ーザ１によるスポットの位置かられずかにディスク１７
のトラックに沿う方向にずらしである。
ーザ１によるスポットの位置かられずかにディスク１７
のトラックに沿う方向にずらしである。
この様子を第５図に示す。同図の矢印の方向に回転して
いるディスク１７のトラックに対して、まず第二の半導
体レーデ２によるスポットＡによって既に記録したデー
タを消去し、直後の第一の半導体レーザ１によるスポッ
トＢによって、新しいデータを記録する。なお、ディス
ク１７のトラックには、予めスポットを形成するための
案内溝すなわちプレグルーブＧが設けられている。
いるディスク１７のトラックに対して、まず第二の半導
体レーデ２によるスポットＡによって既に記録したデー
タを消去し、直後の第一の半導体レーザ１によるスポッ
トＢによって、新しいデータを記録する。なお、ディス
ク１７のトラックには、予めスポットを形成するための
案内溝すなわちプレグルーブＧが設けられている。
相変化用の光ヘッドは、以上に説明したような動作をす
るが、よく知られているようにディスクのトラックピッ
チは１．６〜２−程度である。したがって、この二つの
ビームの位置のわずかなずれでも、正確な記録再生消去
が行えなくなる。この位置ずれは、主に半導体レーザを
保持している部材の温度による膨張、収縮で生じるとい
われている。このため、従来はこの二つの半導体レーザ
を同一の基板ないし部材上に取り付ける方法がとられて
いた。
るが、よく知られているようにディスクのトラックピッ
チは１．６〜２−程度である。したがって、この二つの
ビームの位置のわずかなずれでも、正確な記録再生消去
が行えなくなる。この位置ずれは、主に半導体レーザを
保持している部材の温度による膨張、収縮で生じるとい
われている。このため、従来はこの二つの半導体レーザ
を同一の基板ないし部材上に取り付ける方法がとられて
いた。
第３図は従来における半導体レーザの取付方法を示す概
略図である。この従来例では、二つの半導体レーザ１．
２は同一基板上３０に固定されており、レーザ光をコリ
メートするためのコリメートレンズ１１．２１の鏡筒３
１．３２は、半導体レーザ１゜２の取付基板３０とは別
の基板（図示せず）に取り付けられている。このような
構造にふいては、鏡筒３１、３２は基板３０とは独立に
移動できるため、温度等によって基板３０の膨張や収縮
が生じたとき、半導体レーザ１，２とコリメートレンズ
１１．１２の位置関係がずれて、第３図（ハ）のように
なる。このため、二つのコリメートされた光は平行でな
くなる。
略図である。この従来例では、二つの半導体レーザ１．
２は同一基板上３０に固定されており、レーザ光をコリ
メートするためのコリメートレンズ１１．２１の鏡筒３
１．３２は、半導体レーザ１゜２の取付基板３０とは別
の基板（図示せず）に取り付けられている。このような
構造にふいては、鏡筒３１、３２は基板３０とは独立に
移動できるため、温度等によって基板３０の膨張や収縮
が生じたとき、半導体レーザ１，２とコリメートレンズ
１１．１２の位置関係がずれて、第３図（ハ）のように
なる。このため、二つのコリメートされた光は平行でな
くなる。
したがって、この光を第４図に示した対物レンズ１６で
絞ったときのスポットの位置関係は元の状態と異なって
しまい、情報の正確な記録再生消去ができなくなる。
絞ったときのスポットの位置関係は元の状態と異なって
しまい、情報の正確な記録再生消去ができなくなる。
さらに、半導体レーザ１，２と鏡筒３１．３２とを別個
の基板に取り付ける構造であると、組立時における位置
調整が煩雑となり、また、外部からの機械的振動や衝撃
により、互いの位置関係がずれてしまうというおそれが
あった。
の基板に取り付ける構造であると、組立時における位置
調整が煩雑となり、また、外部からの機械的振動や衝撃
により、互いの位置関係がずれてしまうというおそれが
あった。
本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
のであり、位置ずれが生じに＜＜、また基板の膨張や収
縮等の変形が生じても、正確な記録再生消去が行なえる
光ヘッドを提供することを目的とする。
のであり、位置ずれが生じに＜＜、また基板の膨張や収
縮等の変形が生じても、正確な記録再生消去が行なえる
光ヘッドを提供することを目的とする。
本発明の光ヘッドは、この目的を達成するため、基板と
、該基板に取り付けられた少なくとも二つの半導体レー
ザと、該半導体レーザの周囲をそれぞれ囲むように前記
基板と一体に設けられた鏡筒と、該鏡筒にそれぞれ固定
されたコリメートレンズとを具備したことを特徴とする
。
、該基板に取り付けられた少なくとも二つの半導体レー
ザと、該半導体レーザの周囲をそれぞれ囲むように前記
基板と一体に設けられた鏡筒と、該鏡筒にそれぞれ固定
されたコリメートレンズとを具備したことを特徴とする
。
〔作用〕
本発明においては、レーザ光をコリメートするコリメー
トレンズは半導体レーザに対して独立に動くことができ
ない構造としている。このため、二つの半導体レーザー
を取り付けている同一の基板が温度によって膨張、収縮
が生じたとき、二つの半導体レーザーの移動量と各、々
の半導体レーザをコリメートするためのコリメートレン
ズを取り付けている鏡筒の移動量はほぼ等しくなる。し
たがって、二つの出射レーザ光の平行性が常に保たれ、
正確な記録再生消去を行うことができる。さらに、半導
体レーザと鏡筒が同一の基板に取り付けられているため
、外部からの機械的振動や衝撃が加わっても、これらが
一体となって動くため、レーザ光の平行性が損なわれる
ことがない。
トレンズは半導体レーザに対して独立に動くことができ
ない構造としている。このため、二つの半導体レーザー
を取り付けている同一の基板が温度によって膨張、収縮
が生じたとき、二つの半導体レーザーの移動量と各、々
の半導体レーザをコリメートするためのコリメートレン
ズを取り付けている鏡筒の移動量はほぼ等しくなる。し
たがって、二つの出射レーザ光の平行性が常に保たれ、
正確な記録再生消去を行うことができる。さらに、半導
体レーザと鏡筒が同一の基板に取り付けられているため
、外部からの機械的振動や衝撃が加わっても、これらが
一体となって動くため、レーザ光の平行性が損なわれる
ことがない。
以下、本発明の特徴を、図面に示す実施例に基づいて具
体的に説明する。
体的に説明する。
第１図は本発明による実施例を示すものである。
第１図にふいて、第３図及び第４図に示した従来の例と
同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略
する。
同様の構成については、同一の符号を付して説明を省略
する。
第１図に示すように、コリメートレンズ１１．２１の鏡
筒３１．３２は、半導体レーザ１，２を固定している基
板３Ｇに直接取り付けられている。温度変化等によって
、半導体レーザ１，２を固定している基板３０の膨張や
収縮が生じても、コリメートレンズ１１．２１も半導体
レーザ１．２と一緒に移動するためコリメートされた光
も、第１図（ｂ）に示すように互いに平行である。当然
、元のコリメート光とも平行である。このため、第４図
に示す対物レンズ１６で二つの光束を絞っても、ディス
ク１７上のスポットの位置関係は変化しないので、正確
な記録再生消去が可能となる。
筒３１．３２は、半導体レーザ１，２を固定している基
板３Ｇに直接取り付けられている。温度変化等によって
、半導体レーザ１，２を固定している基板３０の膨張や
収縮が生じても、コリメートレンズ１１．２１も半導体
レーザ１．２と一緒に移動するためコリメートされた光
も、第１図（ｂ）に示すように互いに平行である。当然
、元のコリメート光とも平行である。このため、第４図
に示す対物レンズ１６で二つの光束を絞っても、ディス
ク１７上のスポットの位置関係は変化しないので、正確
な記録再生消去が可能となる。
なお、第４図に示すような従来例では、半導体レーザ１
，２の光量分布を整形するためにビーム整形プリズムを
使用する。この第４図の例では二つの半導体レーザ１，
２０基準面が同一の平面上にない。したがって、コリメ
ートさ゛れた光束は平行ではないため、たとえ、コリメ
ートレンズ１１゜２１と半導体レーザ１．２が一緒に動
いたとしても、二つの光束の角度が変化して対物レンズ
１６に入射する角度が変化する。そして、収束されたス
ポットの位置関係も変化することになる。
，２の光量分布を整形するためにビーム整形プリズムを
使用する。この第４図の例では二つの半導体レーザ１，
２０基準面が同一の平面上にない。したがって、コリメ
ートさ゛れた光束は平行ではないため、たとえ、コリメ
ートレンズ１１゜２１と半導体レーザ１．２が一緒に動
いたとしても、二つの光束の角度が変化して対物レンズ
１６に入射する角度が変化する。そして、収束されたス
ポットの位置関係も変化することになる。
そこで、本実施例においては、二つの半導体レーデ１，
２の基準面が同一平面上に位置するようにしている。こ
の構造にすることにより、従来に比較して、かえって光
ヘッドのアセンブリーや光軸の調整が容易となり製造コ
ストの低減につながる。
２の基準面が同一平面上に位置するようにしている。こ
の構造にすることにより、従来に比較して、かえって光
ヘッドのアセンブリーや光軸の調整が容易となり製造コ
ストの低減につながる。
半導体レーザ１，２の基準面を同一平面上に固定するに
は、ビーム整形プリズムによって入射光と出射光を平行
にする必要がある。そのようなビーム整形プリズムの例
を第２図（ａ）に示す。この第２図（ａ）においては、
一対のビーム整形プリズム１２ａ。
は、ビーム整形プリズムによって入射光と出射光を平行
にする必要がある。そのようなビーム整形プリズムの例
を第２図（ａ）に示す。この第２図（ａ）においては、
一対のビーム整形プリズム１２ａ。
１２ｂを互いに逆向きに配置し、入射光と出射光とが平
行になるようにしている。同図（ハ）は、各レンズ及び
ビーム整形プリズムによる光ビームの断面形状を示して
いる。
行になるようにしている。同図（ハ）は、各レンズ及び
ビーム整形プリズムによる光ビームの断面形状を示して
いる。
以上に説明したように、本発明においては、レーザ光を
コリメートするコリメートレンズを半導体レーザと同一
の基板に取り付けるようにしている。このため、記録デ
ィスク上の二つのスポットの位置関係が温度等による外
乱に対して変化しなくなり、記録再生消去などの性能が
大幅に向上する。さらに、温度変化による基板の変形の
場合のほか、機械的振動や衝撃による基板の位置ずれに
対しても、コリメートレンズと半導体レーザとが一体に
動くため、二つのスポットの位置関係が損なわれること
がない。
コリメートするコリメートレンズを半導体レーザと同一
の基板に取り付けるようにしている。このため、記録デ
ィスク上の二つのスポットの位置関係が温度等による外
乱に対して変化しなくなり、記録再生消去などの性能が
大幅に向上する。さらに、温度変化による基板の変形の
場合のほか、機械的振動や衝撃による基板の位置ずれに
対しても、コリメートレンズと半導体レーザとが一体に
動くため、二つのスポットの位置関係が損なわれること
がない。
第１図（ａ）及びの）は、それぞれ温度変化の前後にお
ける本発明による半導体レーザとコリメートレンズとの
位置関係を示す説明図、第２図は入射光束と出射光束が
平行になるためのビーム整形プリズムの構成例の説明図
、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ温度変化の前後
における従来の構成による半導体レーザーとコリメート
レンズとの位置関係を示す説明図、第４図は従来の記録
再生消去が可能な光ヘッドの構成図、第５図は光ディス
クのプリグループと対物レンズによる収束スポットとの
位置関係を表す図である。 １：第一の半導体レーザ ２：第二の半導体レーザ１
１．２１：コリメートレンズ ３０：基板３１．３２：
鏡筒 特許出願人 富士ゼロックス 株式会社代 理 人
小 堀 益（ほか２名）第 １ 図 （ｃｌ） （ｂ）第 ２１ ＋２ｂ ＠ ３ 図 （ｄ）（ｂ） 笛 ５ 図
ける本発明による半導体レーザとコリメートレンズとの
位置関係を示す説明図、第２図は入射光束と出射光束が
平行になるためのビーム整形プリズムの構成例の説明図
、第３図（ａ）及び（ｂ）は、それぞれ温度変化の前後
における従来の構成による半導体レーザーとコリメート
レンズとの位置関係を示す説明図、第４図は従来の記録
再生消去が可能な光ヘッドの構成図、第５図は光ディス
クのプリグループと対物レンズによる収束スポットとの
位置関係を表す図である。 １：第一の半導体レーザ ２：第二の半導体レーザ１
１．２１：コリメートレンズ ３０：基板３１．３２：
鏡筒 特許出願人 富士ゼロックス 株式会社代 理 人
小 堀 益（ほか２名）第 １ 図 （ｃｌ） （ｂ）第 ２１ ＋２ｂ ＠ ３ 図 （ｄ）（ｂ） 笛 ５ 図
Claims (1)
- １、基板と、該基板に取り付けられた少なくとも二つの
半導体レーザと、該半導体レーザの周囲をそれぞれ囲む
ように前記基板と一体に設けられた鏡筒と、該鏡筒にそ
れぞれ固定されたコリメートレンズとを具備したことを
特徴とする光ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63002025A JP2661088B2 (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 光ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63002025A JP2661088B2 (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 光ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01178142A true JPH01178142A (ja) | 1989-07-14 |
| JP2661088B2 JP2661088B2 (ja) | 1997-10-08 |
Family
ID=11517790
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63002025A Expired - Lifetime JP2661088B2 (ja) | 1988-01-07 | 1988-01-07 | 光ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2661088B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6124823U (ja) * | 1984-07-19 | 1986-02-14 | ソニー株式会社 | 半導体レ−ザ光束合波装置 |
-
1988
- 1988-01-07 JP JP63002025A patent/JP2661088B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6124823U (ja) * | 1984-07-19 | 1986-02-14 | ソニー株式会社 | 半導体レ−ザ光束合波装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2661088B2 (ja) | 1997-10-08 |
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