JPH0118031B2 - - Google Patents
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Description
本発明は高強度で、複雑形状の窒化珪素焼結体
を製造する方法に係り、更に詳しくは、任意形状
に予備焼結した窒化珪素予備焼結体を熱間静水圧
プレス法(以下HIP法という)により熱エネルギ
ーの損失を少くして有利に高密度化する方法に関
するものである。 近年、熱効率の向上、燃料の節約、低公害、軽
量化を目的として高温ガスタービンを始めデイー
ゼルエンジン、MHD発電など高温で稼動する機
器の開発が活発に行なわれている。ところが、こ
れら機器類の開発は一途に高温構造材料の開発に
かかつており、これら材料の形成が注目されてい
るが、こゝに要求される高温下では従来の耐熱金
属では必らずしも満足な機械的強度を得るに至ら
ず、又、資源の乏しい耐熱金属材料の節約という
観点から地上に比較的豊富なSi、Al、C、Nな
どを原料とするセラミツクスを高温構造材料とし
て利用する開発が進められつつある。 とりわけ、これらセラミツクス高温構造材料の
中で従来のアルミナ(Al2O3)を中心とするセラ
ミツクスに比べて高温下で充分な強度を有し化学
的に安定で熱衝撃にも強い材料として窒化珪素
(Si3N4)は最も有望なものの一つとして関心が
寄せられている。 このSi3N4は上述のように従来のアルミナを中
心とする酸化物系セラミツクスに比べて優れた物
理的特性を有するがこれは主としてSi3N4が珪素
(Si)と、窒素(N)との強固な共有結合よりな
る化合物であることによるものである。 このことは、反面において希望する形状の製品
を製造することが非常に困難であることを意味
し、実際、近年この分野における研究の殆んどは
如何に高強度のSi3N4の成形体を製造するかに費
やされており、未だ完全に満足な成形体の製造技
術が開発されたとはいい得ない状況である。 即ち、高密度、高強度にすると成形体は単純形
状に限定を余議なくされ、複雑な形状のものを得
るためには強度を犠性にしなければならないのが
現状である。 従来、かようなSi3N4成形体の製造法として一
般によく知られている方法はCVD法、Si3N4粉末
に焼結助剤を添加し、大気圧下又は10気圧程度の
N2雰囲気下で焼結する方法、ホツトプレス法、
Siの窒化反応焼結法の4つの方法である。このう
ち、ホツトプレス法では比較的高密度で高強度の
成形体が得られているが、複雑な形状の成形体が
得難いこと並びに費用が高いことなどの問題点が
ある。 これに対し窒化反応焼結法は、原料としてSi粉
末を用いるため、既存の方法によつて複雑形状の
成形が容易であるという利点を有するも、得られ
た焼結体の密度が低く、高強度のSi3N4焼結体が
得られないことが大きな問題であり、現在、この
方法で得られているSi3N4焼結体の密度は高いも
ので80%強にすぎず、この密度不足が焼結体の強
度の向上を阻害している。しかも窒化反応に極め
て長い時間を要し、例えば反応処理時間は短かい
もので2日、長いものでは10日以上も必要とする
というのも大きな問題の1つである。 一方、常圧焼結法は、予め任意形状に成形した
窒化珪素圧粉末を焼結する方法であるから、複雑
形状品の製造は比較的容易であるが、低密度にな
らざるを得ず、高いものでも95%前後である。 この方法を改善する方法として近年、特開昭52
−47015号、53−102320号各公報に示されるよう
に任意形状に予備成形した圧粉体を数気圧〜数十
気圧のN2ガス雰囲気下で焼結する方法が提案さ
れており、この方法によると最大密度98%の焼結
体が得られている。しかしこれら何れの方法にお
いても、複雑形状の成形と高密度化とを同時に満
足する方法はなかつた。 一般に、Si3N4の焼結に当つては通常焼結助剤
としてMgO、SiO2、Al2O3等が添加されるが、
これらがSi3N4と次の如き反応により焼結時に飛
散すると考えられる。 Si3N4+3MgO→3SiO↑+3Mg↑×2N2↑ Si3N4+3SiO2→6SiO↑+2N2↑ Si3N4+Al2O3→2AlN+3SiO↑+N2↑ 一方、Si3N4自体も次の如き熱分解を起すこと
が知られている。 Si3N4→3Si→2N2↑ 焼結時におけるこれらの熱分解反応により焼結
体の重量減を生起し、時には焼結による焼結体の
収縮による密度増加率よりも熱分解による重量減
の方が大きくなる場合もあり、その重量減少率は
時として50%にも達することが報告されている。
この熱分解を抑制する方法の1つが前述のN2ガ
ス雰囲気焼結法であるが、それでもなお数%の重
量減が認められている。 本発明者等の研究によると、後述の如くこの熱
分解による重量減は焼結前の密度と密接な関係が
あり、初期密度が低いと熱分解による重量減が著
しく、初期密度が高いと重量減も小さくなる傾向
が認められている。このことから、従来のN2ガ
ス雰囲気焼結法においては、焼結前の圧粉体密度
は高々60%程度であり、その空孔部は完全開孔で
あるから焼結時の熱分解反応生成物はその分圧の
差により内部から外部へと拡散し、成形体内部に
至るまで分解反応が進行するものと考えられる。 一方、N2ガス雰囲気焼結法において、N2ガス
分圧を高めることは、前述の熱分解を抑止する1
つの有効な手段であるが、従来法の如き数十気圧
程度のN2ガス分圧では、熱力学的にも効果的に
熱分解を抑止するには極めて不充分といわざるを
得ない。 そこで本発明者等は上述の如き現状に立脚して
さきに窒化珪素粉末を所定形状に成形すると共に
これを相対密度92%以上に予備焼結し、しかる後
該予備焼結体に温度1500℃以上、窒素分圧500気
圧以上の高温高圧ガスを直接作用させてHIP処理
することにより相対密度98%以上の高密度焼結体
を製造する方法を提案した。 勿論、Si3N4を高密度化する方法としてHIP処
理する方法は従来より公知であるが、従来法は
Arガスを用いる通常のHIP法であり、ガラスな
どのコンテナーを利用し、その中にSi3N4粉末、
もしくはその焼結体を封入密閉してHIP処理を行
なう方法が一般的である。しかしこの方法は実用
化に際して複雑な形状のコンテナーを得難いこ
と、Si3N4のコンテナー内への均一な充填、
Si3N4とコンテナーとの反応防止手段、Si3N4の
離型手段など解決すべき問題が少なくなく実用的
でない。又、予備焼結して表面をある程度封孔し
てHIP処理する方法もあるが、この場合には
Si3N4の熱分解によつて著しく重量減が生じるた
め高密度化は達成されていない。 かくて前述の提案はHIP法を利用し、予備焼結
体の相対密度を92%以上となし、特定の高温高圧
N2ガス分圧下でHIP処理することにより高密度
を達成したものであるが、しかし、かゝるHIP処
理利用の方法においてもこれを工業化せんとする
に際しては次のような問題がある。即ち、HIP処
理は1000℃以上、特にSi3N4ではより以上の高温
が望まれるのに対し、予備焼結体をHIP炉に装入
するに際しては予備焼結後、一旦常温下に取り出
し温度の低下した状態で予備焼結体をHIP炉に装
入することである。 勿論、バツチ方式でHIP炉に装入することから
すれば止むを得ない面があるが、これは予備焼結
時、或程度の昇温がなされることを考えると熱エ
ネルギーの損失は相当なものであることは否定で
きない。しかも高温下で予備焼結された焼結体は
表面が急冷され、あるいは急冷後、再急熱される
とき微細なクラツクやひゞ割れを発生し易く強度
低下は避けられないのみならず品質的における問
題を生じる。 本発明は叙上の如き状勢並びにSi3N4のHIP処
理の実状に対処し、前記種々の実験にもとづき高
強度窒化珪素焼結体の好適かつ有利な製造法を提
供すると共に、更にHIP処理プロセスにおける熱
エネルギーの損失を考慮し、現下の省エネルギー
対策に適応する経済的、合理的な方法を提供する
ことを目的とするものである。 しかして、かゝる目的に適合する本発明焼結方
法はN2−ガス雰囲気下におけるHIP処理を利用
し、同時に予備焼結との工程の連続化を根幹とし
つつ、Si3N4粉末に焼結助剤を添加混合し、これ
を所定形状に成形した後、非酸化性ガス雰囲気下
で1000〜1800℃で予備焼結し、該予備焼結体の温
度を500℃以上に保持したまゝ直ちに予め500℃以
上に予熱されているHIP炉内に装入して1500〜
2000℃、500気圧以上の高温高圧N2ガス雰囲気下
でHIP処理を施し、該処理後、焼結体を500℃以
上の温度でHIP炉より取出し、引き続き500℃以
上に保持された熱処理炉に装入して非酸化性ガス
雰囲気下で熱処理を行なうことを特徴とするもの
である。 以下、前記本発明焼結方法を更にその工程に従
つて順次詳述すると、先ず本発明方法は予備焼
結、HIP処理、熱処理の3段階工程によつて行な
われる。 このうち、第1の予備焼結はSi3N4粉末を、こ
れに焼結助剤を添加混合して所定の形状に成形
し、次いで非酸化性ガス、好ましくはN2ガス雰
囲気下で1000℃〜1800℃の高温において焼結する
ことである。 こゝで使用されるSi3N4粉末は、金属Siの窒化
法、気相反応法などにより得ることができるが、
焼結体の曲げ強度の点から特に気相反応法により
SiCl4とNH4とから製造したものは最も好適であ
る。 又、Si3N4粉末に添加される前記焼結助剤は、
Y、Al、Mg、Ti等の酸化物又は窒化物などの何
れか、あるいはその混合物であるが、特にY2O3
−Al2O3−MgO系からなる焼結助剤は最も一般的
であり、かつ有効である。そして、これら焼結助
剤の添加量は通常Si3N4粉末に対して30%以下、
好ましくは5〜15%である。 次に前記焼結助剤を混合したSi3N4粉末の成形
は既知の成型手段が使用可能であり、圧縮成型
法、射出成型法、静水圧成型法などの各手段が適
宜使用される。 かくして、以上のようにして所定形状に成形さ
れた成形体は、次に非酸化性ガス、好ましくは
N2ガス雰囲気下で予備焼結に付されるが通常、
この焼結は1000〜1800℃の高温下で行なう。そし
て、予備焼結手段は、従来一般に知られている常
圧焼結法、ホツトプレス法などの公知の手段が使
用される。 なお、前記予備焼結の温度は、添加する焼結助
剤の種類、添加量などによつて必らずしも一定し
ないが、前記1000〜1800℃の温度範囲を維持する
ことが効果的である。 このように予め、予備焼結された焼結体は、そ
の表面がある程度、封孔され、焼結体中の空孔が
表面に連通していない状態となるので後述する
HIP処理により高密度化を容易とすることができ
るのである。 この場合、Si3N4の焼結体の曲げ強度を考慮す
れば原料粉末中のα型窒化珪素は80%以上とする
ことが好適である。 上記の如くして焼結されたSi3N4予備焼結体は
第1の段階を終り、次いでその温度を常温まで冷
却低化させることなしに500℃以上に保持した
まゝHIP炉に装入し、HIP処理に付す。 HIP炉は通常、高温高圧下のHIP処理を行なう
故、一般に500℃以上の高温に予め加熱保持され
ており、従つて前記予備焼結体は連続工程として
HIP炉に装入するように設計することが出来る。 この予備焼結後、温度を一旦低下させることな
しにHIP炉に装入し、HIP処理することは従来の
HIP利用の焼結方法が、予備焼結体を一旦取り出
し冷却後、HIP炉に装入していたのに比較し昇温
に要する熱エネルギーの節約となり、HIP処理サ
イクルの短縮化を図り得ることは勿論予備焼結体
取り出し時の急冷あるいはHIP炉装入時の急熱に
起因するクラツクの発生を防止する利益がある。 HIP処理は公知のHIP炉内においてコンテナー
を使用することなしに直接処理されるが、Si3N4
の分解反応を防止し、高密度化し得ることから
N2ガス雰囲気下で行なうことが必要である。そ
してこの処理温度は1500〜2000℃であり、予備焼
結温度より高いことが好ましい。勿論、このHIP
温度は当然、Si3N4の分解温度以下でなければな
らず、分解温度もHIP圧力の上昇と共に高くなる
が、少くともそのHIP処理時の圧力における分解
温度よりも100℃位低い温度以下で行なうことが
好適である。 一方、HIP圧力は通常500気圧以上であり、こ
れ以下ではHIP処理に長時間を要すると共に、
Si3N4の分解反応量が時間に比例して大きくなる
ため焼結体の重量減少を招くのみならず、高密度
化が達成し難くなる。従つてHIP圧力は少くとも
500気圧、好ましくは700気圧以上とすることが有
利である。 なお、HIP圧力は高ければ高い程、一般には
Si3N4の分解反応が抑止され、高密度化が達成さ
れ易いが、昇圧に時間を要し、かつ昇圧用コンプ
レツサを始め本体圧力容器などHIP処理装置が大
型化するので実用的でなく、従つて工業上、2500
気圧までの圧力下でHIP処理することが望まし
い。この場合、処理時間は5分以上、通常30分前
後である。 上記HIP処理により緻密化処理が施された焼結
体は引続き少くとも500℃以上の温度でHIP炉よ
り取り出し、500℃以上に保持された熱処理に装
入して非酸化性ガス雰囲気下における熱処理にか
けられる。 従来の場合、HIP処理済の焼結体は、その後、
常温まで冷却し、そのまゝ製品とされていたが、
本発明は更に熱処理を施すことによつて強度の増
加をもたらし、製品の特性を向上させる。唯、こ
の熱処理も熱分解を避けなければならない点から
N2ガスなどの非酸化性ガス雰囲気下で行なうこ
とが肝要である。 なお、熱処理温度は前記HIP処理同様、予備焼
結体の焼結助剤の種類、混合量あるいはHIP条件
により一定するものではないが焼結体の強度を高
める意味では500℃以上の温度は効果的である。
しかし熱処理時間は、さ程長時間は必要なく5〜
10分程度で充分である。 このようにして第1、第2、第3の各段階を経
てSi3N4焼結体が製造されるが、得られた焼結体
は途中で急冷又は急熱されることがないためクラ
ツク発生が防止され強度の高い良質高密度の
Si3N4焼結体となる。又、この熱処理によつて
Si3N4の結晶粒界の焼結助剤ガラス相を結晶化さ
せることにより更に強度の向上をもたらし得る。
しかも、この熱処理に際してもHIP処理後の焼結
体を500℃以上のまゝ取出し、同じく500℃以上に
保持された熱処理炉内へ装入するため熱エネルギ
ーの損失を軽減することができる。 以上、述べた如く、本発明焼結方法によれば、
Si3N4粉末を予め1000〜1800℃の高温下で予備焼
結し、これを常温まで低下させることなく500℃
以上に保持したまゝ、予め500℃以上に予熱した
HIP内に装入してHIP処理による緻密化処理を施
し、更にHIP処理後の焼結体を空気中にそのまゝ
取り出すことなく引続き500℃以上の温度保持の
まゝ、予め500℃以上に保持された後続の熱処理
炉に装入して熱処理を行なうものであるから、従
来の如く急冷、又は急熱時における熱衝撃による
クラツクの発生は全く阻止され高強度の高密度化
Si3N4焼結体を容易に得ることができると共に、
前記予備焼結、HIP処理、熱処理を通じその温度
保持を厳密に規正することにより、これら各工程
の連続化への期待は勿論、消費される熱エネルギ
ーの損失を少くして現下に要請される省エネルギ
ー志向に適合し、更にサイクル短縮を図つて生産
効率の向上に資し、経済的かつ実際的製造プロセ
スとして今後に期待されるところ大なる焼結方法
である。 以下、本発明方法の具体的な態様を実施例によ
つて更に説明する。 実施例 Si粉末を窒化して得られた市販のSi3N4粉末に
焼結助剤としてY2O3粉末、Al2O3粉末及びMgO
粉末からなる焼結助剤を、その添加量を変えて
種々混合した各種混合粉末を500Kg/cm2の圧力で
加圧成形し、後、この圧粉成形体を第1表に示す
如き条件でN2ガス雰囲気下で夫々予備焼結し、
この予備焼結体を次いで第1表に示す各温度で
HIP炉に装入して、夫々表記のHIP処理条件で
HIP処理を行い、HIP処理後の焼結体を第1表に
示す温度で取出し、手続き同表に示す熱処理を施
してSi3N4焼結体を作製した。 これらのSi3N4焼結体について密度及び曲げ強
度を測定したところ第1表に示す結果を得た。
を製造する方法に係り、更に詳しくは、任意形状
に予備焼結した窒化珪素予備焼結体を熱間静水圧
プレス法(以下HIP法という)により熱エネルギ
ーの損失を少くして有利に高密度化する方法に関
するものである。 近年、熱効率の向上、燃料の節約、低公害、軽
量化を目的として高温ガスタービンを始めデイー
ゼルエンジン、MHD発電など高温で稼動する機
器の開発が活発に行なわれている。ところが、こ
れら機器類の開発は一途に高温構造材料の開発に
かかつており、これら材料の形成が注目されてい
るが、こゝに要求される高温下では従来の耐熱金
属では必らずしも満足な機械的強度を得るに至ら
ず、又、資源の乏しい耐熱金属材料の節約という
観点から地上に比較的豊富なSi、Al、C、Nな
どを原料とするセラミツクスを高温構造材料とし
て利用する開発が進められつつある。 とりわけ、これらセラミツクス高温構造材料の
中で従来のアルミナ(Al2O3)を中心とするセラ
ミツクスに比べて高温下で充分な強度を有し化学
的に安定で熱衝撃にも強い材料として窒化珪素
(Si3N4)は最も有望なものの一つとして関心が
寄せられている。 このSi3N4は上述のように従来のアルミナを中
心とする酸化物系セラミツクスに比べて優れた物
理的特性を有するがこれは主としてSi3N4が珪素
(Si)と、窒素(N)との強固な共有結合よりな
る化合物であることによるものである。 このことは、反面において希望する形状の製品
を製造することが非常に困難であることを意味
し、実際、近年この分野における研究の殆んどは
如何に高強度のSi3N4の成形体を製造するかに費
やされており、未だ完全に満足な成形体の製造技
術が開発されたとはいい得ない状況である。 即ち、高密度、高強度にすると成形体は単純形
状に限定を余議なくされ、複雑な形状のものを得
るためには強度を犠性にしなければならないのが
現状である。 従来、かようなSi3N4成形体の製造法として一
般によく知られている方法はCVD法、Si3N4粉末
に焼結助剤を添加し、大気圧下又は10気圧程度の
N2雰囲気下で焼結する方法、ホツトプレス法、
Siの窒化反応焼結法の4つの方法である。このう
ち、ホツトプレス法では比較的高密度で高強度の
成形体が得られているが、複雑な形状の成形体が
得難いこと並びに費用が高いことなどの問題点が
ある。 これに対し窒化反応焼結法は、原料としてSi粉
末を用いるため、既存の方法によつて複雑形状の
成形が容易であるという利点を有するも、得られ
た焼結体の密度が低く、高強度のSi3N4焼結体が
得られないことが大きな問題であり、現在、この
方法で得られているSi3N4焼結体の密度は高いも
ので80%強にすぎず、この密度不足が焼結体の強
度の向上を阻害している。しかも窒化反応に極め
て長い時間を要し、例えば反応処理時間は短かい
もので2日、長いものでは10日以上も必要とする
というのも大きな問題の1つである。 一方、常圧焼結法は、予め任意形状に成形した
窒化珪素圧粉末を焼結する方法であるから、複雑
形状品の製造は比較的容易であるが、低密度にな
らざるを得ず、高いものでも95%前後である。 この方法を改善する方法として近年、特開昭52
−47015号、53−102320号各公報に示されるよう
に任意形状に予備成形した圧粉体を数気圧〜数十
気圧のN2ガス雰囲気下で焼結する方法が提案さ
れており、この方法によると最大密度98%の焼結
体が得られている。しかしこれら何れの方法にお
いても、複雑形状の成形と高密度化とを同時に満
足する方法はなかつた。 一般に、Si3N4の焼結に当つては通常焼結助剤
としてMgO、SiO2、Al2O3等が添加されるが、
これらがSi3N4と次の如き反応により焼結時に飛
散すると考えられる。 Si3N4+3MgO→3SiO↑+3Mg↑×2N2↑ Si3N4+3SiO2→6SiO↑+2N2↑ Si3N4+Al2O3→2AlN+3SiO↑+N2↑ 一方、Si3N4自体も次の如き熱分解を起すこと
が知られている。 Si3N4→3Si→2N2↑ 焼結時におけるこれらの熱分解反応により焼結
体の重量減を生起し、時には焼結による焼結体の
収縮による密度増加率よりも熱分解による重量減
の方が大きくなる場合もあり、その重量減少率は
時として50%にも達することが報告されている。
この熱分解を抑制する方法の1つが前述のN2ガ
ス雰囲気焼結法であるが、それでもなお数%の重
量減が認められている。 本発明者等の研究によると、後述の如くこの熱
分解による重量減は焼結前の密度と密接な関係が
あり、初期密度が低いと熱分解による重量減が著
しく、初期密度が高いと重量減も小さくなる傾向
が認められている。このことから、従来のN2ガ
ス雰囲気焼結法においては、焼結前の圧粉体密度
は高々60%程度であり、その空孔部は完全開孔で
あるから焼結時の熱分解反応生成物はその分圧の
差により内部から外部へと拡散し、成形体内部に
至るまで分解反応が進行するものと考えられる。 一方、N2ガス雰囲気焼結法において、N2ガス
分圧を高めることは、前述の熱分解を抑止する1
つの有効な手段であるが、従来法の如き数十気圧
程度のN2ガス分圧では、熱力学的にも効果的に
熱分解を抑止するには極めて不充分といわざるを
得ない。 そこで本発明者等は上述の如き現状に立脚して
さきに窒化珪素粉末を所定形状に成形すると共に
これを相対密度92%以上に予備焼結し、しかる後
該予備焼結体に温度1500℃以上、窒素分圧500気
圧以上の高温高圧ガスを直接作用させてHIP処理
することにより相対密度98%以上の高密度焼結体
を製造する方法を提案した。 勿論、Si3N4を高密度化する方法としてHIP処
理する方法は従来より公知であるが、従来法は
Arガスを用いる通常のHIP法であり、ガラスな
どのコンテナーを利用し、その中にSi3N4粉末、
もしくはその焼結体を封入密閉してHIP処理を行
なう方法が一般的である。しかしこの方法は実用
化に際して複雑な形状のコンテナーを得難いこ
と、Si3N4のコンテナー内への均一な充填、
Si3N4とコンテナーとの反応防止手段、Si3N4の
離型手段など解決すべき問題が少なくなく実用的
でない。又、予備焼結して表面をある程度封孔し
てHIP処理する方法もあるが、この場合には
Si3N4の熱分解によつて著しく重量減が生じるた
め高密度化は達成されていない。 かくて前述の提案はHIP法を利用し、予備焼結
体の相対密度を92%以上となし、特定の高温高圧
N2ガス分圧下でHIP処理することにより高密度
を達成したものであるが、しかし、かゝるHIP処
理利用の方法においてもこれを工業化せんとする
に際しては次のような問題がある。即ち、HIP処
理は1000℃以上、特にSi3N4ではより以上の高温
が望まれるのに対し、予備焼結体をHIP炉に装入
するに際しては予備焼結後、一旦常温下に取り出
し温度の低下した状態で予備焼結体をHIP炉に装
入することである。 勿論、バツチ方式でHIP炉に装入することから
すれば止むを得ない面があるが、これは予備焼結
時、或程度の昇温がなされることを考えると熱エ
ネルギーの損失は相当なものであることは否定で
きない。しかも高温下で予備焼結された焼結体は
表面が急冷され、あるいは急冷後、再急熱される
とき微細なクラツクやひゞ割れを発生し易く強度
低下は避けられないのみならず品質的における問
題を生じる。 本発明は叙上の如き状勢並びにSi3N4のHIP処
理の実状に対処し、前記種々の実験にもとづき高
強度窒化珪素焼結体の好適かつ有利な製造法を提
供すると共に、更にHIP処理プロセスにおける熱
エネルギーの損失を考慮し、現下の省エネルギー
対策に適応する経済的、合理的な方法を提供する
ことを目的とするものである。 しかして、かゝる目的に適合する本発明焼結方
法はN2−ガス雰囲気下におけるHIP処理を利用
し、同時に予備焼結との工程の連続化を根幹とし
つつ、Si3N4粉末に焼結助剤を添加混合し、これ
を所定形状に成形した後、非酸化性ガス雰囲気下
で1000〜1800℃で予備焼結し、該予備焼結体の温
度を500℃以上に保持したまゝ直ちに予め500℃以
上に予熱されているHIP炉内に装入して1500〜
2000℃、500気圧以上の高温高圧N2ガス雰囲気下
でHIP処理を施し、該処理後、焼結体を500℃以
上の温度でHIP炉より取出し、引き続き500℃以
上に保持された熱処理炉に装入して非酸化性ガス
雰囲気下で熱処理を行なうことを特徴とするもの
である。 以下、前記本発明焼結方法を更にその工程に従
つて順次詳述すると、先ず本発明方法は予備焼
結、HIP処理、熱処理の3段階工程によつて行な
われる。 このうち、第1の予備焼結はSi3N4粉末を、こ
れに焼結助剤を添加混合して所定の形状に成形
し、次いで非酸化性ガス、好ましくはN2ガス雰
囲気下で1000℃〜1800℃の高温において焼結する
ことである。 こゝで使用されるSi3N4粉末は、金属Siの窒化
法、気相反応法などにより得ることができるが、
焼結体の曲げ強度の点から特に気相反応法により
SiCl4とNH4とから製造したものは最も好適であ
る。 又、Si3N4粉末に添加される前記焼結助剤は、
Y、Al、Mg、Ti等の酸化物又は窒化物などの何
れか、あるいはその混合物であるが、特にY2O3
−Al2O3−MgO系からなる焼結助剤は最も一般的
であり、かつ有効である。そして、これら焼結助
剤の添加量は通常Si3N4粉末に対して30%以下、
好ましくは5〜15%である。 次に前記焼結助剤を混合したSi3N4粉末の成形
は既知の成型手段が使用可能であり、圧縮成型
法、射出成型法、静水圧成型法などの各手段が適
宜使用される。 かくして、以上のようにして所定形状に成形さ
れた成形体は、次に非酸化性ガス、好ましくは
N2ガス雰囲気下で予備焼結に付されるが通常、
この焼結は1000〜1800℃の高温下で行なう。そし
て、予備焼結手段は、従来一般に知られている常
圧焼結法、ホツトプレス法などの公知の手段が使
用される。 なお、前記予備焼結の温度は、添加する焼結助
剤の種類、添加量などによつて必らずしも一定し
ないが、前記1000〜1800℃の温度範囲を維持する
ことが効果的である。 このように予め、予備焼結された焼結体は、そ
の表面がある程度、封孔され、焼結体中の空孔が
表面に連通していない状態となるので後述する
HIP処理により高密度化を容易とすることができ
るのである。 この場合、Si3N4の焼結体の曲げ強度を考慮す
れば原料粉末中のα型窒化珪素は80%以上とする
ことが好適である。 上記の如くして焼結されたSi3N4予備焼結体は
第1の段階を終り、次いでその温度を常温まで冷
却低化させることなしに500℃以上に保持した
まゝHIP炉に装入し、HIP処理に付す。 HIP炉は通常、高温高圧下のHIP処理を行なう
故、一般に500℃以上の高温に予め加熱保持され
ており、従つて前記予備焼結体は連続工程として
HIP炉に装入するように設計することが出来る。 この予備焼結後、温度を一旦低下させることな
しにHIP炉に装入し、HIP処理することは従来の
HIP利用の焼結方法が、予備焼結体を一旦取り出
し冷却後、HIP炉に装入していたのに比較し昇温
に要する熱エネルギーの節約となり、HIP処理サ
イクルの短縮化を図り得ることは勿論予備焼結体
取り出し時の急冷あるいはHIP炉装入時の急熱に
起因するクラツクの発生を防止する利益がある。 HIP処理は公知のHIP炉内においてコンテナー
を使用することなしに直接処理されるが、Si3N4
の分解反応を防止し、高密度化し得ることから
N2ガス雰囲気下で行なうことが必要である。そ
してこの処理温度は1500〜2000℃であり、予備焼
結温度より高いことが好ましい。勿論、このHIP
温度は当然、Si3N4の分解温度以下でなければな
らず、分解温度もHIP圧力の上昇と共に高くなる
が、少くともそのHIP処理時の圧力における分解
温度よりも100℃位低い温度以下で行なうことが
好適である。 一方、HIP圧力は通常500気圧以上であり、こ
れ以下ではHIP処理に長時間を要すると共に、
Si3N4の分解反応量が時間に比例して大きくなる
ため焼結体の重量減少を招くのみならず、高密度
化が達成し難くなる。従つてHIP圧力は少くとも
500気圧、好ましくは700気圧以上とすることが有
利である。 なお、HIP圧力は高ければ高い程、一般には
Si3N4の分解反応が抑止され、高密度化が達成さ
れ易いが、昇圧に時間を要し、かつ昇圧用コンプ
レツサを始め本体圧力容器などHIP処理装置が大
型化するので実用的でなく、従つて工業上、2500
気圧までの圧力下でHIP処理することが望まし
い。この場合、処理時間は5分以上、通常30分前
後である。 上記HIP処理により緻密化処理が施された焼結
体は引続き少くとも500℃以上の温度でHIP炉よ
り取り出し、500℃以上に保持された熱処理に装
入して非酸化性ガス雰囲気下における熱処理にか
けられる。 従来の場合、HIP処理済の焼結体は、その後、
常温まで冷却し、そのまゝ製品とされていたが、
本発明は更に熱処理を施すことによつて強度の増
加をもたらし、製品の特性を向上させる。唯、こ
の熱処理も熱分解を避けなければならない点から
N2ガスなどの非酸化性ガス雰囲気下で行なうこ
とが肝要である。 なお、熱処理温度は前記HIP処理同様、予備焼
結体の焼結助剤の種類、混合量あるいはHIP条件
により一定するものではないが焼結体の強度を高
める意味では500℃以上の温度は効果的である。
しかし熱処理時間は、さ程長時間は必要なく5〜
10分程度で充分である。 このようにして第1、第2、第3の各段階を経
てSi3N4焼結体が製造されるが、得られた焼結体
は途中で急冷又は急熱されることがないためクラ
ツク発生が防止され強度の高い良質高密度の
Si3N4焼結体となる。又、この熱処理によつて
Si3N4の結晶粒界の焼結助剤ガラス相を結晶化さ
せることにより更に強度の向上をもたらし得る。
しかも、この熱処理に際してもHIP処理後の焼結
体を500℃以上のまゝ取出し、同じく500℃以上に
保持された熱処理炉内へ装入するため熱エネルギ
ーの損失を軽減することができる。 以上、述べた如く、本発明焼結方法によれば、
Si3N4粉末を予め1000〜1800℃の高温下で予備焼
結し、これを常温まで低下させることなく500℃
以上に保持したまゝ、予め500℃以上に予熱した
HIP内に装入してHIP処理による緻密化処理を施
し、更にHIP処理後の焼結体を空気中にそのまゝ
取り出すことなく引続き500℃以上の温度保持の
まゝ、予め500℃以上に保持された後続の熱処理
炉に装入して熱処理を行なうものであるから、従
来の如く急冷、又は急熱時における熱衝撃による
クラツクの発生は全く阻止され高強度の高密度化
Si3N4焼結体を容易に得ることができると共に、
前記予備焼結、HIP処理、熱処理を通じその温度
保持を厳密に規正することにより、これら各工程
の連続化への期待は勿論、消費される熱エネルギ
ーの損失を少くして現下に要請される省エネルギ
ー志向に適合し、更にサイクル短縮を図つて生産
効率の向上に資し、経済的かつ実際的製造プロセ
スとして今後に期待されるところ大なる焼結方法
である。 以下、本発明方法の具体的な態様を実施例によ
つて更に説明する。 実施例 Si粉末を窒化して得られた市販のSi3N4粉末に
焼結助剤としてY2O3粉末、Al2O3粉末及びMgO
粉末からなる焼結助剤を、その添加量を変えて
種々混合した各種混合粉末を500Kg/cm2の圧力で
加圧成形し、後、この圧粉成形体を第1表に示す
如き条件でN2ガス雰囲気下で夫々予備焼結し、
この予備焼結体を次いで第1表に示す各温度で
HIP炉に装入して、夫々表記のHIP処理条件で
HIP処理を行い、HIP処理後の焼結体を第1表に
示す温度で取出し、手続き同表に示す熱処理を施
してSi3N4焼結体を作製した。 これらのSi3N4焼結体について密度及び曲げ強
度を測定したところ第1表に示す結果を得た。
【表】
【表】
第1表から明らかなようにHIP処理後熱処理を
を行わない比較例No.1及び熱処理温度が400℃と
低い比較例No.5はHIP処理後の焼結体の冷却速度
が大きく、このため高密度化しているにも拘わら
ず、曲げ強度が低いのに対して本発明方法による
No.2、No.4、No.6はいずれも高密度で、しかも曲
げ強度の高い焼結体であり、熱処理効果の大きい
ことが認められる。これは比較例No.1及びNo.5に
おいてはHIP処理後の急冷に伴う熱衝撃により微
細なクラツクが発生するのに対し、本発明方法の
No.2、No.4、No.6においては熱処理により焼結体
は急冷されることがなく、クラツクの発生が防止
されているためと考えられる。また、熱処理を
5hrと長時間行つたNo.7は熱処理によりSi3N4の
結晶粒界のガラス相を結晶化させるためその曲げ
強度は他の試料に比して可成り高いものであつ
た。 また、HIP炉装入時の温度が300℃と低い比較
例No.3は曲げ強度が低く、本発明方法によるもの
より可成り劣つているが、これはHIP処理時の急
熱による熱衝撃によりクラツク等の欠陥が発生す
る結果、焼結体の曲げ強度が低下したものと考え
られる。 なお、焼結助剤の添加量を変えた試料No.9、No.
10、No.11、No.12についても上記と同様な傾向が見
られ、本発明方法によるNo.9、No.10はHIP処理を
行なわない予備焼結のみの焼結体に比し密度、曲
げ強度共に向上しており、何れも良好であること
が窺知された。 なお表記方法にあつて、各段階の温度を所要温
度以上に保持することが省エネルギーの観点に合
致し、頗るエネルギー節約に寄与することは明ら
かである。 以上の結果から、これを綜合し本発明方法は高
強度窒化珪素焼結体の製造法として極めて工業上
有効であることが首肯できる。特にコンテナーを
利用せずHIP処理を施すことにより複雑な形状の
Si3N4高密度焼結体を製造する方法として今後に
その実用化が期待される。
を行わない比較例No.1及び熱処理温度が400℃と
低い比較例No.5はHIP処理後の焼結体の冷却速度
が大きく、このため高密度化しているにも拘わら
ず、曲げ強度が低いのに対して本発明方法による
No.2、No.4、No.6はいずれも高密度で、しかも曲
げ強度の高い焼結体であり、熱処理効果の大きい
ことが認められる。これは比較例No.1及びNo.5に
おいてはHIP処理後の急冷に伴う熱衝撃により微
細なクラツクが発生するのに対し、本発明方法の
No.2、No.4、No.6においては熱処理により焼結体
は急冷されることがなく、クラツクの発生が防止
されているためと考えられる。また、熱処理を
5hrと長時間行つたNo.7は熱処理によりSi3N4の
結晶粒界のガラス相を結晶化させるためその曲げ
強度は他の試料に比して可成り高いものであつ
た。 また、HIP炉装入時の温度が300℃と低い比較
例No.3は曲げ強度が低く、本発明方法によるもの
より可成り劣つているが、これはHIP処理時の急
熱による熱衝撃によりクラツク等の欠陥が発生す
る結果、焼結体の曲げ強度が低下したものと考え
られる。 なお、焼結助剤の添加量を変えた試料No.9、No.
10、No.11、No.12についても上記と同様な傾向が見
られ、本発明方法によるNo.9、No.10はHIP処理を
行なわない予備焼結のみの焼結体に比し密度、曲
げ強度共に向上しており、何れも良好であること
が窺知された。 なお表記方法にあつて、各段階の温度を所要温
度以上に保持することが省エネルギーの観点に合
致し、頗るエネルギー節約に寄与することは明ら
かである。 以上の結果から、これを綜合し本発明方法は高
強度窒化珪素焼結体の製造法として極めて工業上
有効であることが首肯できる。特にコンテナーを
利用せずHIP処理を施すことにより複雑な形状の
Si3N4高密度焼結体を製造する方法として今後に
その実用化が期待される。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 窒化珪素粉末に焼結助剤を添加混合し、これ
を所定形状に成形した後、非酸化性ガス雰囲気
下、1000〜1800℃で予備焼結し、該予備焼結体の
温度を500℃以上に保持したまま、直ちに予め500
℃以上に予熱されている熱間静水圧プレス炉内に
装入して1500〜2000℃、500気圧以上の高温高圧
窒素ガス雰囲気下で熱間静水圧プレス処理を施
し、該処理後焼結体を500℃以上の温度で熱間静
水圧プレス炉より取り出し、引き続いて500℃以
上に保持された熱処理炉に装入して非酸化性ガス
雰囲気下で熱処理を行うことを特徴とする窒化珪
素の焼結方法。 2 原料粉末のα型窒化珪素量が80%以上である
特許請求の範囲第1項記載の窒化珪素の焼結方
法。 3 焼結助剤がY2O3−Al2O3−MgO系である特
許請求の範囲第1項または第2項記載の窒化珪素
の焼結方法。 4 最終工程の熱処理により窒化珪素の粒界を結
晶化させる特許請求の範囲第1項乃至第3項のい
ずれかに記載の窒化珪素の焼結方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56094385A JPS57209887A (en) | 1981-06-17 | 1981-06-17 | Method of sintering silicon nitride |
| DE3141590A DE3141590C2 (de) | 1980-10-20 | 1981-10-20 | Verfahren zur Herstellung von hochdichtem gesintertem Siliziumnitrid |
| US07/251,052 US5603876A (en) | 1980-10-20 | 1988-09-26 | Method for producing high density sintered silicon nitride (SI3 N.sub.4 |
| US07/814,806 US5445776A (en) | 1980-10-20 | 1991-12-31 | Method for producing high density sintered silicon nitride (Si3 N.sub.4 |
| US08/463,273 US5665291A (en) | 1980-10-20 | 1995-06-05 | Method for producing high density sintered silicon nitride(Si3 N4) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56094385A JPS57209887A (en) | 1981-06-17 | 1981-06-17 | Method of sintering silicon nitride |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57209887A JPS57209887A (en) | 1982-12-23 |
| JPH0118031B2 true JPH0118031B2 (ja) | 1989-04-03 |
Family
ID=14108817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56094385A Granted JPS57209887A (en) | 1980-10-20 | 1981-06-17 | Method of sintering silicon nitride |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57209887A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59198690A (ja) * | 1983-04-25 | 1984-11-10 | いすゞ自動車株式会社 | セラミツクヒ−タ−及びその製造方法 |
| JPS6355163A (ja) * | 1986-08-26 | 1988-03-09 | 株式会社豊田中央研究所 | 耐摩耗材用窒化けい素質焼結体 |
| US5013696A (en) * | 1989-09-25 | 1991-05-07 | General Electric Company | Preparation of high uniformity polycrystalline ceramics by presintering, hot isostatic pressing and sintering and the resulting ceramic |
| CN108774066A (zh) * | 2018-06-19 | 2018-11-09 | 威海麒达特种陶瓷科技有限公司 | 高导热氮化硅基片的制造方法 |
-
1981
- 1981-06-17 JP JP56094385A patent/JPS57209887A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57209887A (en) | 1982-12-23 |
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