JPH01181522A - 半導体素子製造用ｘ線露光装置 - Google Patents
半導体素子製造用ｘ線露光装置Info
- Publication number
- JPH01181522A JPH01181522A JP63003110A JP311088A JPH01181522A JP H01181522 A JPH01181522 A JP H01181522A JP 63003110 A JP63003110 A JP 63003110A JP 311088 A JP311088 A JP 311088A JP H01181522 A JPH01181522 A JP H01181522A
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- JP
- Japan
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- axis table
- axis
- weight
- air cylinder
- upward
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体素子製造工程におけるＳＯＲ」のＸ線
露光装置に関するものである。
露光装置に関するものである。
周知の通り、半導体素子製造工程では、マスクのパター
ンとウェハのパターンとの相対的な位置を合せる必要が
ある。これをマスク合せまたは位置決め（アライメント
）と称し、この工程の後、紫外線、電子線やＸ線を照射
して露光する。そして、このマスク合せおよび露光を行
う装置を露光装置と称している。
ンとウェハのパターンとの相対的な位置を合せる必要が
ある。これをマスク合せまたは位置決め（アライメント
）と称し、この工程の後、紫外線、電子線やＸ線を照射
して露光する。そして、このマスク合せおよび露光を行
う装置を露光装置と称している。
ところで、半導体素子の超小形化と、高密度化の要請に
応じ、パターの幅が１μｍあるいはそれ以下のものが出
現されるようになった。そのため、露光に際し、波長の
短いＸ線露光装置が脚光をあびるようになった（実公昭
５６−５３０７号公報参照）。すなわち、線幅０．２５
μｍという超精密な露光には、特にＳＯＲを光源とする
Ｘ線露光が好ましく、そのため、Ｘ線露光装置について
各種の提案が行われている。かかるＳＯＲをＸ線源とす
る露光装置においては、Ｘ線輝変が大きいことの他に、
光がほぼ平行に近いので、従来のｘｔａｓ（電子線励起
影線源やプラズマＸ線源）で問題になっていた半影ぼけ
やランアウト誤差は全く問題にならない利点があるもの
の、ＳＯＲリングが大型で、かつ光が水平に出るため、
ウェハテーブル（またはステージともいう）面が垂直に
なることなどの制約が新たに発生している。
応じ、パターの幅が１μｍあるいはそれ以下のものが出
現されるようになった。そのため、露光に際し、波長の
短いＸ線露光装置が脚光をあびるようになった（実公昭
５６−５３０７号公報参照）。すなわち、線幅０．２５
μｍという超精密な露光には、特にＳＯＲを光源とする
Ｘ線露光が好ましく、そのため、Ｘ線露光装置について
各種の提案が行われている。かかるＳＯＲをＸ線源とす
る露光装置においては、Ｘ線輝変が大きいことの他に、
光がほぼ平行に近いので、従来のｘｔａｓ（電子線励起
影線源やプラズマＸ線源）で問題になっていた半影ぼけ
やランアウト誤差は全く問題にならない利点があるもの
の、ＳＯＲリングが大型で、かつ光が水平に出るため、
ウェハテーブル（またはステージともいう）面が垂直に
なることなどの制約が新たに発生している。
すなわち、ＳＯＲをＸ線源とする露光装置においては、
水平（Ｘ軸）および垂直（ｙ軸）方向の位置決めを高精
度に、かつ高速に行うためのＸ軸テーブルおよびｙ軸テ
ーブルが設けられているが、このうち垂直（ｙ軸）方向
にｙ軸テーブルを位置決めする場合には、移動方向が上
向きまたは下向きにより、これを駆動するアクチュエー
タには、テーブル自身の重量の負荷がプラス方向に作用
したり、マイナス方向に作用したりするので、位置決め
制御上、大きな外乱要因となり、これらテーブルを高精
度に位置決めすることが困難となる。
水平（Ｘ軸）および垂直（ｙ軸）方向の位置決めを高精
度に、かつ高速に行うためのＸ軸テーブルおよびｙ軸テ
ーブルが設けられているが、このうち垂直（ｙ軸）方向
にｙ軸テーブルを位置決めする場合には、移動方向が上
向きまたは下向きにより、これを駆動するアクチュエー
タには、テーブル自身の重量の負荷がプラス方向に作用
したり、マイナス方向に作用したりするので、位置決め
制御上、大きな外乱要因となり、これらテーブルを高精
度に位置決めすることが困難となる。
したがって、従来、この種の通常の露光装置では、テー
ブル自身の重量と同等の負荷をテーブルの自重と反対向
きに作用させて、上記外乱要因を極力回避するようにし
ている。
ブル自身の重量と同等の負荷をテーブルの自重と反対向
きに作用させて、上記外乱要因を極力回避するようにし
ている。
すなわち、カウンタウェイト方式と呼ばれる装置が知ら
れており、この方式は次のように構成されている。１対
の無端状の鋼製ベルト（またはワイヤ）が上および下に
位置されたプーリにそれぞれ巻架されていて、この１対
の鋼製ベルトに亘りｙ軸テーブルが取付けられている。
れており、この方式は次のように構成されている。１対
の無端状の鋼製ベルト（またはワイヤ）が上および下に
位置されたプーリにそれぞれ巻架されていて、この１対
の鋼製ベルトに亘りｙ軸テーブルが取付けられている。
一方、これらプーリを中心にｙ軸テーブルと対称的な位
置に、Ｘ軸およびｙ軸テーブルと同一重量のウェイトを
鋼製ベルトに吊り下げている。
置に、Ｘ軸およびｙ軸テーブルと同一重量のウェイトを
鋼製ベルトに吊り下げている。
しかしながら、かかるカウンタウェイト方式では、ｌ）
制御しようとする重量が、テーブル重量、カウンタウェ
イトの重量および鋼製ベルトの重量など、テーブル重量
の２倍以上となって、アクチュエータの容量が大きくな
るという問題がある。
制御しようとする重量が、テーブル重量、カウンタウェ
イトの重量および鋼製ベルトの重量など、テーブル重量
の２倍以上となって、アクチュエータの容量が大きくな
るという問題がある。
２）、また、テーブルやウェイトを連結する鋼製ベルト
は、可及的に剛性が高いことが要求されるが、他方、上
下位置の各プーリで曲げる必要上、曲げ抵抗の小さなこ
とが要求され、両者の要求は互いに対立する。したがっ
て、鋼製ベルトは剛性が低くなり、しかも曲げ変形抵抗
を有する、という問題がある。更に、鋼製ベルＩ・とは
引張り方向にはある程度の剛性を有するが、圧縮方向に
は剛性が極めて低い、したがって、テーブルとカウンタ
ウェイトとは、低い固有振動を有する系を構成すること
になり、アライメントに不都合な微細な振動を発生する
、という問題がある。３）更に、プーリの回転支持部の
摩擦抵抗、鋼製ベルトの振動、および鋼製ベルトの曲げ
抵抗により、負荷変動が生じる、という問題がある。
は、可及的に剛性が高いことが要求されるが、他方、上
下位置の各プーリで曲げる必要上、曲げ抵抗の小さなこ
とが要求され、両者の要求は互いに対立する。したがっ
て、鋼製ベルトは剛性が低くなり、しかも曲げ変形抵抗
を有する、という問題がある。更に、鋼製ベルＩ・とは
引張り方向にはある程度の剛性を有するが、圧縮方向に
は剛性が極めて低い、したがって、テーブルとカウンタ
ウェイトとは、低い固有振動を有する系を構成すること
になり、アライメントに不都合な微細な振動を発生する
、という問題がある。３）更に、プーリの回転支持部の
摩擦抵抗、鋼製ベルトの振動、および鋼製ベルトの曲げ
抵抗により、負荷変動が生じる、という問題がある。
したがって、これらｌ）、２）、３）の理由により、か
かるカウンタウェイト方式は、高精度で高速の位置決め
を行うためには好ましくない点が伏在するのである。
かるカウンタウェイト方式は、高精度で高速の位置決め
を行うためには好ましくない点が伏在するのである。
そこで本発明は、かかる問題点を解決することに着目し
て創作されたもので、その要旨とするところは、ＳＯＲ
のＸ線光源から分離され、かつ垂直タイプのＸ軸テーブ
ルを垂直タイプのｙ軸テーブルに水平方向に移動自在に
架設したＸ線露光装置において、前記ｙ軸テーブルを垂
直方向に移動して位置決めするためのアクチュエータと
、前記Ｘ軸テーブルおよびｙ軸テーブルの重量とバラン
スさせるための補償用エアシリンダと、該補償用エアシ
リンダのピストンおよびｙ軸テーブルにそれぞれ設けら
れ、かつ該補償用エアシリンダと該ｙ軸テーブルとを非
接触的に連結するための磁石と、からなる半導体素子製
造用Ｘ線露光装置にある。
て創作されたもので、その要旨とするところは、ＳＯＲ
のＸ線光源から分離され、かつ垂直タイプのＸ軸テーブ
ルを垂直タイプのｙ軸テーブルに水平方向に移動自在に
架設したＸ線露光装置において、前記ｙ軸テーブルを垂
直方向に移動して位置決めするためのアクチュエータと
、前記Ｘ軸テーブルおよびｙ軸テーブルの重量とバラン
スさせるための補償用エアシリンダと、該補償用エアシ
リンダのピストンおよびｙ軸テーブルにそれぞれ設けら
れ、かつ該補償用エアシリンダと該ｙ軸テーブルとを非
接触的に連結するための磁石と、からなる半導体素子製
造用Ｘ線露光装置にある。
本発明の構成を作用とともに、添付図面に示す実施例よ
り詳細に説明する。第１図は本発明の実施例の正面図、
第２図は第１図のＡ矢視断面図、第３図は第１図の一部
詳細断面図、第４図は第３図のＢ矢視断面図、第５図は
他の実施例の一部詳細断面図で第３図に相当する。第６
図は第５図のＣ矢視断面図、第７図は第５図のＤ矢視断
面図を示す。
り詳細に説明する。第１図は本発明の実施例の正面図、
第２図は第１図のＡ矢視断面図、第３図は第１図の一部
詳細断面図、第４図は第３図のＢ矢視断面図、第５図は
他の実施例の一部詳細断面図で第３図に相当する。第６
図は第５図のＣ矢視断面図、第７図は第５図のＤ矢視断
面図を示す。
しかして、本実施例は超ＬＳＩなどミクロン級の半導体
素子の製造工程に適用されるＳＯＲをＸ線源とする露光
装置であって、■はＸ軸ガイド、２はＸ軸テーブル、３
は断面矩形のｙ軸ガイド、４はｙ軸ガイド用サポート、
５は補償用エアシリンダ、６はｙ軸テーブル、７ばｙ軸
テーブル６の下面に取付けられたりニアモータ、８はベ
ース１５の上面に取付けられたりニアモータで、これら
のりニアモータ７．８はｙ軸テーブル６のアクチュエー
タとして動作する。９は、適宜の圧力空気口より圧縮空
気が供給されて、Ｘ軸ガイド３とｙ軸テーブル６との間
に形成された静圧空気層を示す。
素子の製造工程に適用されるＳＯＲをＸ線源とする露光
装置であって、■はＸ軸ガイド、２はＸ軸テーブル、３
は断面矩形のｙ軸ガイド、４はｙ軸ガイド用サポート、
５は補償用エアシリンダ、６はｙ軸テーブル、７ばｙ軸
テーブル６の下面に取付けられたりニアモータ、８はベ
ース１５の上面に取付けられたりニアモータで、これら
のりニアモータ７．８はｙ軸テーブル６のアクチュエー
タとして動作する。９は、適宜の圧力空気口より圧縮空
気が供給されて、Ｘ軸ガイド３とｙ軸テーブル６との間
に形成された静圧空気層を示す。
そして、補償用エアシリンダ５は次のように構成されて
いる。すなわち、１０はｙ軸テーブル側の永久磁石、１
１はシリンダチューブ１２と永久磁石１０との間に形成
されたエアギャップ、１３はピストン１４側の永久磁石
、１６はピストン１４の上下両端で外周に向けて複数個
穿設された噴出孔であって、圧力空気供給管２０と連通
している。
いる。すなわち、１０はｙ軸テーブル側の永久磁石、１
１はシリンダチューブ１２と永久磁石１０との間に形成
されたエアギャップ、１３はピストン１４側の永久磁石
、１６はピストン１４の上下両端で外周に向けて複数個
穿設された噴出孔であって、圧力空気供給管２０と連通
している。
１７は排気口でピストン１４の上側部位の作動室２２を
大気に連通させている。１８は作動室２２へ圧縮空気を
供給する圧力空気供給口、１９は静圧空気層、２１はヨ
ークを示す。
大気に連通させている。１８は作動室２２へ圧縮空気を
供給する圧力空気供給口、１９は静圧空気層、２１はヨ
ークを示す。
本実施例は以上の構成となっているので、その動作は次
のようにして行われる。すなわち、Ｘ軸テーブル２は、
■対のｙ軸テ〜プル６間を、Ｘ軸ガイドｌに組込まれた
りニアモータ（図示せず）により、水平（Ｘ軸）方向に
駆動され、位置決めが行われる。
のようにして行われる。すなわち、Ｘ軸テーブル２は、
■対のｙ軸テ〜プル６間を、Ｘ軸ガイドｌに組込まれた
りニアモータ（図示せず）により、水平（Ｘ軸）方向に
駆動され、位置決めが行われる。
また、１対のｙ軸テーブル６．６は、これらテーブル６
の下面およびベース１５の上面に設けられたリニアモー
タ７，８により、垂直（ｙ軸）方向器こ駆動され、位置
決めが行われる。
の下面およびベース１５の上面に設けられたリニアモー
タ７，８により、垂直（ｙ軸）方向器こ駆動され、位置
決めが行われる。
ここにおいて、以下、１対のｙ軸テーブル６の片側につ
いてのみ説明するが、シリンダチューブ１２の内面とピ
ストン１４の外周との間隙には、圧力空気供給管２０よ
り圧縮空気が噴出孔１６を介して供給され、静圧空気Ｎ
１９を形成すると同時に、作動室２２へ供給される圧縮
空気のシール作用をも行う。したがって、ピストン１４
の摺動抵抗およびシール抵抗を大幅に軽減し、後述のバ
ランス精度に寄与している。
いてのみ説明するが、シリンダチューブ１２の内面とピ
ストン１４の外周との間隙には、圧力空気供給管２０よ
り圧縮空気が噴出孔１６を介して供給され、静圧空気Ｎ
１９を形成すると同時に、作動室２２へ供給される圧縮
空気のシール作用をも行う。したがって、ピストン１４
の摺動抵抗およびシール抵抗を大幅に軽減し、後述のバ
ランス精度に寄与している。
ピストンＩ４とｙ軸テーブル６とは永久磁石１０．１３
により磁気的に連結されており、Ｘ軸テーブル２の重量
プラスｙ軸テーブル６．６の重量に見合う支持・作動力
を、作動室２２に常時一定圧の圧縮空気を供給して、上
向きに作用させておき、ｙ軸テーブル６をリニアモータ
９．８によって上向きまたは下向きに駆動すると、上下
いずれの駆動においてもリニアモータ７．８には同一の
駆動力でよく、位置決め制御が高精度に、かつ高速に行
われる。
により磁気的に連結されており、Ｘ軸テーブル２の重量
プラスｙ軸テーブル６．６の重量に見合う支持・作動力
を、作動室２２に常時一定圧の圧縮空気を供給して、上
向きに作用させておき、ｙ軸テーブル６をリニアモータ
９．８によって上向きまたは下向きに駆動すると、上下
いずれの駆動においてもリニアモータ７．８には同一の
駆動力でよく、位置決め制御が高精度に、かつ高速に行
われる。
なお、本実施例では、１対のピストン１４に静荷重の１
／２の力をそれぞれ発生させていることから、Ｘ軸テー
ブル２のＸ軸上の位置により、１対のシリンダチューブ
１２における、それぞれのピストン１４に分配される静
荷重は変化するので、Ｘ軸テーブル２の位置を検出して
、その位置に応じた各シリンダチューブ１２の作動室２
２の圧縮空気の圧力を変化させてもよい、また、本明細
書中の圧縮空気は不活性ガスも含まれるものとする。
／２の力をそれぞれ発生させていることから、Ｘ軸テー
ブル２のＸ軸上の位置により、１対のシリンダチューブ
１２における、それぞれのピストン１４に分配される静
荷重は変化するので、Ｘ軸テーブル２の位置を検出して
、その位置に応じた各シリンダチューブ１２の作動室２
２の圧縮空気の圧力を変化させてもよい、また、本明細
書中の圧縮空気は不活性ガスも含まれるものとする。
次に、本発明の他の実施例を説明すれば、第５図から第
７図において、この実施例では前述の実施例のＸ軸ガイ
ド３を省略し、その代り、シリンダチューブ１２の外周
とｙ軸テーブル６の内周との間へ、圧縮空気を圧力空気
供給管２３より分岐して複数の半径方向より供給し、静
圧空気層１９を形成している。
７図において、この実施例では前述の実施例のＸ軸ガイ
ド３を省略し、その代り、シリンダチューブ１２の外周
とｙ軸テーブル６の内周との間へ、圧縮空気を圧力空気
供給管２３より分岐して複数の半径方向より供給し、静
圧空気層１９を形成している。
本発明では次のような優れた効果が期待できる。
すなわち、Ｘ軸テーブルおよびｙ軸テーブルの各重量と
バランスさせる補償用エアシリンダを設けたので、ｙ軸
テーブルを駆動するアクチュエータは、従来のカウンタ
ウェイト方式と違い、駆動力が一定で、かつ容量小とす
ることから、ｙ軸テーブル軸の位置合せ制御が外乱要因
なく、高速で、かつ高精度にできる。
バランスさせる補償用エアシリンダを設けたので、ｙ軸
テーブルを駆動するアクチュエータは、従来のカウンタ
ウェイト方式と違い、駆動力が一定で、かつ容量小とす
ることから、ｙ軸テーブル軸の位置合せ制御が外乱要因
なく、高速で、かつ高精度にできる。
しかも、補償用エアシリンダのピストンとｙ軸テーブル
とを、磁石を介して、非接触的に連結したので、つまり
ロッドレスシリンダとしたので、ピストンとｙ軸テーブ
ルとのつなぎ部材が大幅に簡略化できる。
とを、磁石を介して、非接触的に連結したので、つまり
ロッドレスシリンダとしたので、ピストンとｙ軸テーブ
ルとのつなぎ部材が大幅に簡略化できる。
加えて、前記位置決め制御に好都合なピストンには逆に
振動等短所が惹起されるが、ピストンのもつ振動等の外
乱要因はｙ軸テーブルには伝達されず、無振動化を形成
し、位置決め精度に支障を与えることがない。
振動等短所が惹起されるが、ピストンのもつ振動等の外
乱要因はｙ軸テーブルには伝達されず、無振動化を形成
し、位置決め精度に支障を与えることがない。
更に、従来のカウンタウェイト方式で生じていた、鋼製
ベルト等の圧縮方向作用時における剛さを低下させる問
題は生じない。
ベルト等の圧縮方向作用時における剛さを低下させる問
題は生じない。
第１図は本発明の実施例の正面図、第２図は第１図のＡ
矢視断面図、第３図は第１図の一部詳細断面図、第４図
は第３図のＢ矢視断面図、第５図は他の実施例の一部詳
細断面図で第３図に相当する。第６図は第５図のＣ矢視
断面図、第７図は第５図のＤ矢視断面図を示す。 ２・・・Ｘ軸テーブル、５・・・補償用エアシリンダ、
６・・・ｙ軸テーブル、７．８・・・リニアモータ、１
０゜１３・・・磁石。 業４図 ｆｓ７図 １４ １ソ
矢視断面図、第３図は第１図の一部詳細断面図、第４図
は第３図のＢ矢視断面図、第５図は他の実施例の一部詳
細断面図で第３図に相当する。第６図は第５図のＣ矢視
断面図、第７図は第５図のＤ矢視断面図を示す。 ２・・・Ｘ軸テーブル、５・・・補償用エアシリンダ、
６・・・ｙ軸テーブル、７．８・・・リニアモータ、１
０゜１３・・・磁石。 業４図 ｆｓ７図 １４ １ソ
Claims (1)
- （１）ＳＯＲのＸ線光源から分離され、かつ垂直タイプ
のｘ軸テーブルを垂直タイプのｙ軸テーブルに水平方向
に移動自在に架設したＸ線露光装置において、 前記ｙ軸テーブルを垂直方向に移動して位置決めするた
めのアクチュエータと、 前記ｘ軸テーブルおよびｙ軸テーブルの重量とバランス
させるための補償用エアシリンダと、該補償用エアシリ
ンダのピストンおよびｙ軸テーブルにそれぞれ設けられ
、かつ該補償用エアシリンダと該ｙ軸テーブルとを非接
触的に連結するための磁石と、 からなる半導体素子製造用Ｘ線露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63003110A JPH01181522A (ja) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63003110A JPH01181522A (ja) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01181522A true JPH01181522A (ja) | 1989-07-19 |
Family
ID=11548211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63003110A Pending JPH01181522A (ja) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | 半導体素子製造用ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01181522A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03177617A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-08-01 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 垂直可動ベアリング装置およびそれを用いた垂直可動ステージ装置 |
| JPH09262727A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-07 | Mori Seiki Co Ltd | 工作機械 |
| JP2007134729A (ja) * | 2000-06-02 | 2007-05-31 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、支持アセンブリ、およびデバイス製造方法 |
| JP2007278422A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Koganei Corp | マグネット式ロッドレスシリンダ |
| US7578228B2 (en) | 2004-12-22 | 2009-08-25 | Fanuc Ltd | Air balance structure |
-
1988
- 1988-01-12 JP JP63003110A patent/JPH01181522A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03177617A (ja) * | 1989-12-06 | 1991-08-01 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 垂直可動ベアリング装置およびそれを用いた垂直可動ステージ装置 |
| JPH09262727A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-07 | Mori Seiki Co Ltd | 工作機械 |
| JP2007134729A (ja) * | 2000-06-02 | 2007-05-31 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ投影装置、支持アセンブリ、およびデバイス製造方法 |
| US7578228B2 (en) | 2004-12-22 | 2009-08-25 | Fanuc Ltd | Air balance structure |
| JP2007278422A (ja) * | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Koganei Corp | マグネット式ロッドレスシリンダ |
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