JPH01183718A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPH01183718A JPH01183718A JP63007163A JP716388A JPH01183718A JP H01183718 A JPH01183718 A JP H01183718A JP 63007163 A JP63007163 A JP 63007163A JP 716388 A JP716388 A JP 716388A JP H01183718 A JPH01183718 A JP H01183718A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- power supply
- supply voltage
- internal circuit
- dielectric strength
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title abstract description 16
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000011982 device technology Methods 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Control Of Electrical Variables (AREA)
- Dram (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特にMOS型の半導体装置
に関する。
に関する。
半導体装置技術はMO3型半導体特にMO3型ダイナミ
ックメモリの進化と共同歩調をとってきたと考えられる
。昨今256にビットDRAMからIMビットDRAM
、さらc”−4MビットDRAMへと微細加工はもちろ
ん高速化のためトランジスタのゲート絶縁酸化膜を薄く
する方法が進展している。
ックメモリの進化と共同歩調をとってきたと考えられる
。昨今256にビットDRAMからIMビットDRAM
、さらc”−4MビットDRAMへと微細加工はもちろ
ん高速化のためトランジスタのゲート絶縁酸化膜を薄く
する方法が進展している。
ナイダミックメモリでは5■単一電源が世界の統一的規
格となっており多くの半導体装置も5v単一電源の規格
である。このような半導体装置の電源電圧の絶縁最大定
格は7Vとなっている。
格となっており多くの半導体装置も5v単一電源の規格
である。このような半導体装置の電源電圧の絶縁最大定
格は7Vとなっている。
絶縁最大定格を保証するため検査は、例えば電源電圧1
0■で実施することが行なわれる。
0■で実施することが行なわれる。
この場合、絶縁酸化膜厚が200人ならばこの絶縁酸化
膜は5MV/口耐電圧を必要とする。正常な絶縁酸化膜
は10 M V / cmの耐電圧があるが工場での生
産工程における膜厚、膜質等のばらつきを考慮したり、
半導体装置に課せられる信頼性寿命を考慮すればあまり
余裕のある膜厚とは言えない。
膜は5MV/口耐電圧を必要とする。正常な絶縁酸化膜
は10 M V / cmの耐電圧があるが工場での生
産工程における膜厚、膜質等のばらつきを考慮したり、
半導体装置に課せられる信頼性寿命を考慮すればあまり
余裕のある膜厚とは言えない。
MO9型トランジスタは酸化膜厚が薄いほど高速でスイ
ッチングできるが、従来の半導体装置の技術では200
Å以下の絶縁膜は使用できず、従って高速化が困難であ
る。
ッチングできるが、従来の半導体装置の技術では200
Å以下の絶縁膜は使用できず、従って高速化が困難であ
る。
また微細加工技術が進み、半導体装置の電源に供給され
る電圧も低下してくることが考えられる。
る電圧も低下してくることが考えられる。
その際、電源電圧変動で絶対最大定格を越える電圧にな
ることが考えられ、その場合トランジスタのゲート酸化
膜の破壊が懸念される。また、微細加工がより必要とさ
れるためジャンクション耐圧も低下し、ジャンクション
破壊も懸念される。
ることが考えられ、その場合トランジスタのゲート酸化
膜の破壊が懸念される。また、微細加工がより必要とさ
れるためジャンクション耐圧も低下し、ジャンクション
破壊も懸念される。
このような状況にあって、従来の半導体装置は、外部か
らの電源電圧がそのまま印加される構成となっていた。
らの電源電圧がそのまま印加される構成となっていた。
上述した従来の半導体装置は、微細加工技術が進展し生
産工程における膜厚、膜質等のばらつきが避けられない
状況にあって、外部からの電源電圧がそのまま印加され
る構成となっているので、電源電圧の変動等を考慮した
耐電圧を保証するために、歩留りが低下するという欠点
があった。
産工程における膜厚、膜質等のばらつきが避けられない
状況にあって、外部からの電源電圧がそのまま印加され
る構成となっているので、電源電圧の変動等を考慮した
耐電圧を保証するために、歩留りが低下するという欠点
があった。
本発明の目的は、耐電圧を保証しかつ歩留りの向上をは
かることができる半導体装置を提供することにある。
かることができる半導体装置を提供することにある。
本発明の半導体装置は、少なくとも1つの外部制御端子
及び出力端を備え、前記外部制御端子に所定の電圧が印
加されたときに前記出力端の1つを選択して所定の電圧
を出力する選択回路と、対応する前記出力端と接続する
少なくとも1つの制御端子を備え、これら制御端子に電
圧が印加されていないときは内部回路に外部からの電源
電圧をそのまま供給し、前記制御端子の1つに所定の電
圧が印加されたときはその制御端子に対応する電圧を越
えない電源電圧を前記内部回路へ供給する電源電圧制御
回路とを有している。
及び出力端を備え、前記外部制御端子に所定の電圧が印
加されたときに前記出力端の1つを選択して所定の電圧
を出力する選択回路と、対応する前記出力端と接続する
少なくとも1つの制御端子を備え、これら制御端子に電
圧が印加されていないときは内部回路に外部からの電源
電圧をそのまま供給し、前記制御端子の1つに所定の電
圧が印加されたときはその制御端子に対応する電圧を越
えない電源電圧を前記内部回路へ供給する電源電圧制御
回路とを有している。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図は本発明の第1の実施例を示す回路図で″ある。
選択回路1は、2つの外部制御端子’ro、。
TO2及び3つの出力端を備え、これら外部制御端子T
o、、To2に所定の電圧が印加されたときに3つの出
力端のうちの1つを選択して所定の電圧を出力する。ま
た、外部制御端子TO1゜T02に所定の電圧が印加さ
れないときは3つの出力端何れも選択されずこれらに所
定の電圧が出力されない。
o、、To2に所定の電圧が印加されたときに3つの出
力端のうちの1つを選択して所定の電圧を出力する。ま
た、外部制御端子TO1゜T02に所定の電圧が印加さ
れないときは3つの出力端何れも選択されずこれらに所
定の電圧が出力されない。
電源電圧制御回路2は、直列接続されたトランジスタQ
l〜Q8、トランジスタQ1〜Q5と直列接続されたト
ランジスタQ9、及びトランジスタQ1〜Q6と直列接
続されたトランジスタQr。
l〜Q8、トランジスタQ1〜Q5と直列接続されたト
ランジスタQ9、及びトランジスタQ1〜Q6と直列接
続されたトランジスタQr。
と、トランジスタQ8〜Q1oのゲート及び選択回路1
の3つの出力端をそれぞれ対応して接続する制御端子T
1〜T3とを備え、制御端子T、〜T3に所定の電圧が
印加されていないときはトランジスタQ8〜QIOがオ
フとなり外部からの電源電圧をそのまま内部回路3へ供
給し、制御端子T、〜T3の1つに所定の電圧が印加さ
れたときはその制御端子に接続されたトランジスタ(Q
s〜Q1o)がオンとなりその制御端子に対応する電圧
を越えない電源電圧を内部回路3へ供給する。
の3つの出力端をそれぞれ対応して接続する制御端子T
1〜T3とを備え、制御端子T、〜T3に所定の電圧が
印加されていないときはトランジスタQ8〜QIOがオ
フとなり外部からの電源電圧をそのまま内部回路3へ供
給し、制御端子T、〜T3の1つに所定の電圧が印加さ
れたときはその制御端子に接続されたトランジスタ(Q
s〜Q1o)がオンとなりその制御端子に対応する電圧
を越えない電源電圧を内部回路3へ供給する。
例えば、トランジスタQ1〜Q7の閾値電圧が1■で、
外部制御信号Φ1.Φ2により制御端子T2が選ばれて
これに所定の電圧が印加されると、トランジスタQlo
がオンとなり、内部回路3に対し、6Vを越えない電源
電圧が供給される。
外部制御信号Φ1.Φ2により制御端子T2が選ばれて
これに所定の電圧が印加されると、トランジスタQlo
がオンとなり、内部回路3に対し、6Vを越えない電源
電圧が供給される。
即ち、外部制御信号Φl、Φ2によって、4種類の電源
電圧を内部回路3へ供給することができる。
電圧を内部回路3へ供給することができる。
従って、バーンインテスト等のように高い電源電圧でテ
ストするときには外部制御信号Φ、。
ストするときには外部制御信号Φ、。
Φ2に電圧を印加しないでトラジスタQ8〜Q1゜を共
にオフとし、通常の使用状態では、内部回路3の耐電圧
が比較的に低いものに対しては外部制御信号Φ1.Φ2
により制御端子T3を選択してこれに所定の電圧を印加
し、トランジスタQ9をオンにして内部回路3に5Vよ
り高い電源電圧が供給されないようにすることができる
ので、従来耐電圧不良とされたものに対しても所定の耐
電圧を保証することができ、歩留りの向上をはかること
ができる。
にオフとし、通常の使用状態では、内部回路3の耐電圧
が比較的に低いものに対しては外部制御信号Φ1.Φ2
により制御端子T3を選択してこれに所定の電圧を印加
し、トランジスタQ9をオンにして内部回路3に5Vよ
り高い電源電圧が供給されないようにすることができる
ので、従来耐電圧不良とされたものに対しても所定の耐
電圧を保証することができ、歩留りの向上をはかること
ができる。
第2図は本発明の第2の実施例の示す回路図である。
この実施例は、外部制御信号(Φ1)及び 電源電圧制
御回路2Aの制御端子(T+)をそれぞれ1つとした、
より簡略化された例である。
御回路2Aの制御端子(T+)をそれぞれ1つとした、
より簡略化された例である。
更に単純化した実施例として、単に所定の電圧より高く
ならないように電源電圧を内部回路3へ供給するような
場合には、第2図に示された直列接続のトランジスタ(
Q r〜Q7)の数を最大電圧に対応する数とし、トラ
ンジスタQ8を短絡すればよい。
ならないように電源電圧を内部回路3へ供給するような
場合には、第2図に示された直列接続のトランジスタ(
Q r〜Q7)の数を最大電圧に対応する数とし、トラ
ンジスタQ8を短絡すればよい。
以上説明したように本発明は、外部制御信号により内部
回路へ供給される電源電圧が所定の電圧より高くならな
いように制御する構成とすることにより、内部回路の耐
電圧特性に適合させて電源電圧の最大値を制御すること
ができ耐電圧特性を保証しかつ歩留りの向上をはかるこ
とができる効果がある。
回路へ供給される電源電圧が所定の電圧より高くならな
いように制御する構成とすることにより、内部回路の耐
電圧特性に適合させて電源電圧の最大値を制御すること
ができ耐電圧特性を保証しかつ歩留りの向上をはかるこ
とができる効果がある。
また、外部制御端子に電圧を印加しないで、外部からの
電源電圧がそのまま内部回路へ供給されるようにするこ
とができるので高い電源電圧を印加し、より高信頼度を
得るための試験や加速試験を行うことができる効果もあ
る。
電源電圧がそのまま内部回路へ供給されるようにするこ
とができるので高い電源電圧を印加し、より高信頼度を
得るための試験や加速試験を行うことができる効果もあ
る。
2の実施例を示す回路図である。
1・・・選択回路、2,2A・・・電源電圧制御回路、
3・・・内部回路、Q1〜Q+o・・・トランジスタ、
T。
3・・・内部回路、Q1〜Q+o・・・トランジスタ、
T。
〜T3・・・制御端子、’ro、、’ro2・・・外部
制御端子。
制御端子。
Claims (1)
- 少なくとも1つの外部制御端子及び出力端を備え、前
記外部制御端子に所定の電圧が印加されたときに前記出
力端の1つを選択して所定の電圧を出力する選択回路と
、対応する前記出力端と接続する少なくとも1つの制御
端子を備え、これら制御端子に電圧が印加されていない
ときは内部回路に外部からの電源電圧をそのまま供給し
、前記制御端子の1つに所定の電圧が印加されたときは
その制御端子に対応する電圧を越えない電源電圧を前記
内部回路へ供給する電源電圧制御回路とを有することを
特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007163A JPH01183718A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63007163A JPH01183718A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 半導体装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01183718A true JPH01183718A (ja) | 1989-07-21 |
Family
ID=11658411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63007163A Pending JPH01183718A (ja) | 1988-01-14 | 1988-01-14 | 半導体装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01183718A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06201765A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-07-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 集積回路素子のテスト方法 |
-
1988
- 1988-01-14 JP JP63007163A patent/JPH01183718A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06201765A (ja) * | 1992-10-16 | 1994-07-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 集積回路素子のテスト方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5119337A (en) | Semiconductor memory device having burn-in test function | |
| JP3785256B2 (ja) | 半導体装置の内部電圧変換回路 | |
| JPH06111599A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
| JPS61292755A (ja) | 半導体集積回路 | |
| US20250095586A1 (en) | Display panel and display device | |
| EP0199128B1 (en) | Semiconductor memory | |
| JP6697015B2 (ja) | 1t1d dramセル並びにdramのためのアクセス方法及び関連する装置 | |
| US4788457A (en) | CMOS row decoder circuit for use in row and column addressing | |
| JPH04344387A (ja) | 素子温度に応じたリフレッシュ動作を実行するためのリフレッシュ要請信号発生装置を用いた半導体メモリー装置 | |
| JPH0252889B2 (ja) | ||
| KR20050050708A (ko) | 번인 테스트용 내부 전압 발생 장치 | |
| JPH0482188B2 (ja) | ||
| JPH09204798A (ja) | 信号発生回路 | |
| JP2826404B2 (ja) | 半導体集積回路装置及び半導体集積回路装置のバーンイン試験方法 | |
| KR20080065870A (ko) | 반도체 메모리장치의 내부 전원전압 발생기 | |
| US7027316B2 (en) | Access circuit and method for allowing external test voltage to be applied to isolated wells | |
| JP2000030438A (ja) | 同期型半導体記憶装置 | |
| JP3612858B2 (ja) | 昇圧回路 | |
| EP4660989A1 (en) | Driving circuit and display apparatus | |
| JPS62192998A (ja) | 半導体記憶装置 | |
| KR0183857B1 (ko) | 반도체 메모리 장치의 번인 스트레스 제어 회로 | |
| JPS6364696A (ja) | 半導体メモリ装置の駆動方式 | |
| JP2972384B2 (ja) | 半導体メモリ装置 | |
| WO2023236304A1 (zh) | 高速大电流脉冲电路、相变存储器的操作电路及操作方法 | |
| CN121879500A (zh) | 低压差线性稳压器电路和存储器 |