JPH01183864A - 信号伝送装置 - Google Patents

信号伝送装置

Info

Publication number
JPH01183864A
JPH01183864A JP63008714A JP871488A JPH01183864A JP H01183864 A JPH01183864 A JP H01183864A JP 63008714 A JP63008714 A JP 63008714A JP 871488 A JP871488 A JP 871488A JP H01183864 A JPH01183864 A JP H01183864A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
signal
superconductor
circuit elements
external
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63008714A
Other languages
English (en)
Inventor
Kouji Uraoka
行治 浦岡
Shuichi Kameyama
亀山 周一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP63008714A priority Critical patent/JPH01183864A/ja
Publication of JPH01183864A publication Critical patent/JPH01183864A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、信号伝送装置とくに2種類以上の超電導体薄
膜を用いた配線網の超電導接続体装置に関するもので、
特に化合物等の超電導薄膜を組み入れた接続体装置の構
造に係るものである。
従来の技術 従来、比較的高温の臨界転移温度を有する超電導体とし
て、窒化ニオブ(NbN)やゲルマニウムニオブ(Nb
5Go)などが知られていたが、これらの素材の超電導
転移温度はたかだか24にであった。さらに高い転移温
度が期待されるものとして、ペロブスカイト系3元化合
物のBa−La−Cu−0系などが提案されていた。し
かしながら、最近の研究によれば、Y−Ba−Cu−0
系の材料が液体窒素温度を超える可能性が示唆され(M
、K。
Wu等フィジカルレピューレターズ(Physical
Review Letters ) Vol、  s 
8 、 /169 、 PP。
908910(1987))、現実に、90に以上の転
移温度を有する超電導化合物が報告されてきている。
発明が解決しようとする課題 半導体素子の高集積化は、メモリーの大容量化、信号処
理の高速化という点から非常に重要であることはよく知
られている事実であり、素子の微細化がさかんに試みら
れている。ところが、それらをつなぐ配線に関しては、
その中を通る電流密度が減少しない限り、微細化が困難
であるという問題があった。″また、一般に、集積回路
半導体装置内で形成された受動性の配線を流れる電流は
、−般に、能動素子の電流スイッチングによって、電流
の方向とその量が制御されている。一方、超電導の受動
性の配線を用いた場合には、その抵抗値を局所的に、増
大、減少させることによって、配線中を流れる電流を遮
断、流入させ1回路の結合を変化させることができるの
で、配線部において。
局所的に抵抗値を制御することができれば、一つの回路
装置の接続を意図的に変えることができ、回路機能の2
重性、高機能性を実現することかで第1.第2の回路素
子にそれぞれ臨界温度又は臨界磁界の異なる第1.第2
の超電導体を接続し、外部からの信号を前記第1.第2
の超電導体を介してそれぞれ前記第1.第2の回路素子
に入力可能とし、外部温度又は外部磁界により前記信号
を前記第1又は第2の回路素子に選択的に伝達させるも
ので、信号のパスを切換可能とするものである。また、
第1.第2の超電導体が、絶縁層を介して積層されてい
てもよい。
作用 本発明により、2つの異なる働きをする回路に共通な部
分を共有することができ、必要に応じて。
外部磁界又は外部温度により、切り換えることができる
。従って、共通な配線の面積の分、集積化が可能となる
実施例 まず本発明による信号伝送装置における接続体装置の原
理、及び、構造を説明する。
第1図i1L 、 b[示すように、一般に、超電導体
は、その臨界温度又は臨界磁界でその抵抗値が変化する
。従って、第1図の様な2種類の超電導体を組み合わせ
れば、例えば、Tc、からTc2の温度範囲では第2の
超電導体、102以上では第1の超電導体といったよう
に、抵抗率の順序が変化する。
臨界磁界に関しても、同様である。
本発明に係る第1実施例を第2図、第3図を用いて説明
する。第2図に示すように、第1の回路素子よりなる第
1の回路100と第2の回路素子よりなる第2の回路2
00の2つの電気又は電子回路及び外部信号線30があ
り、第1の回路100と信号線300間は、第1の超電
導体1oでつながっており又、信号線30と第2回路2
0oとは第2の超電導体2oでつながっている。第3図
で接続部を詳細に示した。
これを外部磁界60又は外部温度で制御する。
第1の超電導体1oの臨界温度Tc1と第2の超電導体
20の臨界温度TC2の間では、第2の超電導体2oの
み超電導状態となり、信号線3oを伝う信号は第2の回
路200に伝わる。又、Tc2以上の温度では、第1の
超電導体10を伝って、第1の回路100に伝わる。な
お、回路100,200および超電導体10 、20は
適当な基体上に形成されている。
本発明の第2実施例を第4図に示す。これは第1の回路
10oと第2の回路200が別のたとえば半導体層内に
形成されており、第1の回路100が、第1層内、第2
の回路200は第2層内に形成されており、たとえばシ
リコン絶縁膜40に形成されたスルーホール26でつな
がっている。第1の層と第2の層は絶縁膜4oで絶縁さ
れている。
動作原理は第1実施例と同様である。第2の超電導体2
oは第1の回路100につながり、第1の超電導体10
は第2の回路200につながっており、超電導体10 
、20の間には絶縁膜40が位置し、これらは基体30
0上に形成されている。
基体300はシリコン等の半導体基板あるいは絶縁基板
でもよく、又第2の回路200は基体300内に形成さ
れていてもよい。
発明の効果 本発明により、配線網の抵抗を局所的に、増大。
減少させることができ、配線中を流れる電流を遮断、流
入させ、結合を変化させることができるので、回路の2
重性高機能性を実現させることができる。又、高集積化
も容易であり、高密度、高機能な半導体集積回路等の実
現に犬きく寄与するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図a、bは本発明を考えるに至った超電導体材料の
基本的な特性図、第2図は本発明の第1実施例の装置の
概略回路図、第3図は第2図の回路における接続部の要
部平面図、第4図は本発明の第2実施例の装置の要部断
面図である。 1Q・・・・・・第1の超電導体、2o・・・・・・第
2の超電導体、30・・・・・・信号線、25・・・・
・スルーホール、4o・・・・・・絶縁膜、6o・・・
・・外部磁界、10o・・・・・・第1の回路、200
・・・・・第2の回路。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1泡群 
1 図 HclHcz CQy界構遷)   外合財区界第2図 100第1の圓経 2θθ第zの凹路 第3図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基体上に形成された第1,第2の回路素子にそれ
    ぞれ臨界温度又は臨界磁界の異なる第1,第2の超電導
    体を接続し、外部からの信号を前記第1,第2の超電導
    体を介してそれぞれ前記第1,第2の回路素子に入力可
    能とし、外部温度又は外部磁界により前記信号を前記第
    1又は第2の回路素子に選択的に伝達させることを特徴
    とする信号伝送装置。
  2. (2)第1,第2の超電導体が、絶縁層を介して積層さ
    れてなることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    信号伝送装置。
JP63008714A 1988-01-19 1988-01-19 信号伝送装置 Pending JPH01183864A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63008714A JPH01183864A (ja) 1988-01-19 1988-01-19 信号伝送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63008714A JPH01183864A (ja) 1988-01-19 1988-01-19 信号伝送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01183864A true JPH01183864A (ja) 1989-07-21

Family

ID=11700606

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63008714A Pending JPH01183864A (ja) 1988-01-19 1988-01-19 信号伝送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01183864A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6827902B1 (en) 1996-10-23 2004-12-07 Hitachi, Ltd. Biochemical analyzer
US7307045B2 (en) 2002-11-07 2007-12-11 Ntt Docomo, Inc. Signal switching device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6827902B1 (en) 1996-10-23 2004-12-07 Hitachi, Ltd. Biochemical analyzer
US7307045B2 (en) 2002-11-07 2007-12-11 Ntt Docomo, Inc. Signal switching device
US7774034B2 (en) 2002-11-07 2010-08-10 Ntt Docomo, Inc. Signal switching device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5430012A (en) Superconducting multilayer interconnection formed of a-axis and c-axis oriented oxide superconductor materials
JP2004303820A (ja) 超伝導回路
JPH01183864A (ja) 信号伝送装置
JP2749048B2 (ja) 超電導量子干渉計
EP0466611A1 (en) Composite comprising a silicon substrate and layered superconducting thin films
JPH02134882A (ja) 高密度相互接続体の形成方法
WO2020185336A1 (en) Multichip device with temperature isolating bump bonds
US5672569A (en) Process for fabricating a superconducting circuit
JP3123164B2 (ja) 超電導デバイス
EP0534854B1 (en) Superconducting thin film formed of oxide superconductor material, superconducting current path and superconducting device utilizing the superconducting thin film
JP4374092B2 (ja) 超伝導接合及び超伝導回路
US5462918A (en) Superconducting field effect device with vertical channel formed of oxide superconductor material
US5747873A (en) Technique for fabricating hybrid high-temperature superconductor-semiconductor circuits
JP4152778B2 (ja) 超伝導システムおよび超伝導回路チップ
US5646096A (en) Process for fabrication superconducting wiring lines
JP3287743B2 (ja) 超伝導論理ゲート
JPH0722578A (ja) 積層集積半導体装置及びその製造方法
JPH0786644A (ja) 超伝導配線装置
JP2703404B2 (ja) 超電導回路とその作製方法
Nakagawa et al. Fabrication process for Josephson computer ETL-JC1 using Nb tunnel junctions
JP3281766B2 (ja) イントリンシック接合を用いた高速論理ゲート
JPH01214178A (ja) ジヨセフソン接合の製造方法
JPH01143369A (ja) 超伝導接続体装置およびその製造方法
JP3221037B2 (ja) 電流変調装置
JP2768276B2 (ja) 酸化物超電導接合素子