JPH01184623A - 可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置 - Google Patents

可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置

Info

Publication number
JPH01184623A
JPH01184623A JP255788A JP255788A JPH01184623A JP H01184623 A JPH01184623 A JP H01184623A JP 255788 A JP255788 A JP 255788A JP 255788 A JP255788 A JP 255788A JP H01184623 A JPH01184623 A JP H01184623A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
medium
magnetic recording
recording medium
flexible magnetic
protrusion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP255788A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuro Otsubo
大坪　康郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP255788A priority Critical patent/JPH01184623A/ja
Publication of JPH01184623A publication Critical patent/JPH01184623A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02057—Optical fibres with cladding with or without a coating comprising gratings
    • G02B6/02076—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
    • G02B6/02123—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating
    • G02B6/02133—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference
    • G02B6/02138—Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings characterised by the method of manufacture of the grating using beam interference based on illuminating a phase mask
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/26—Phase shift masks [PSM]; PSM blanks; Preparation thereof
    • G03F1/34—Phase-edge PSM, e.g. chromeless PSM; Preparation thereof
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70283—Mask effects on the imaging process
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/7035—Proximity or contact printers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
    • G03F7/704—Scanned exposure beam, e.g. raster-, rotary- and vector scanning
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425—Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning
    • G03F7/70475—Stitching, i.e. connecting image fields to produce a device field, the field occupied by a device such as a memory chip, processor chip, CCD, flat panel display
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/001—Phase modulating patterns, e.g. refractive index patterns
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31761—Patterning strategy
    • H01J2237/31766—Continuous moving of wafer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体の１つである可撓性円板記録媒体
、いわゆるフロッピーディスクの表面突起除去に用いら
れる可撓性磁気記録媒体の表面突起除去方法およびその
装置に関する。
（従来の技術） 周知のように磁気記録媒体の分野では記録密度を一層向
上させるべく勢力的な研究が行われている。フロッピー
ディスクについても媒体磁性材料の開発、媒体表面性の
コントロールなどにより高記録密度化の技術進歩は目覚
ましい。
しかしながら媒体表面の残存突起は記録再生時の信号の
信頼性に悪影響を及ぼすばかりではなく、突起を起点に
媒体に損傷を与えるなど機械的信頼性にも著しい悪影響
を及ぼすものであり、この悪影響は面記録密度が高いほ
ど、また高記録密度化に適した金属薄膜を磁性層とする
ときにより深刻な問題となるものである。
従来、可撓性円板記録媒体は研磨テープにより突起を除
去する方法が主にとられていた。これについて第５図を
用いて説明すると、連続的に巻き送りされる研磨テープ
１５をノズル１６から吹き出す空気の圧力により回転す
る可撓性円板記録媒体１に押し付け、研磨テープ１５も
しくは可撓性円板記録媒体１を可撓性円板記録媒体１の
半径方向に相対的に移動させることにより媒体１片面全
面の突起を除去しようというものである。このような突
起除去装置においては、必然的に突起以外の媒体１表面
にも研磨テープ１５の接触により損傷を与えるものであ
るから、研磨テープ１５の押付は圧はあまり高くできず
、突起除去時間も長くできないため、突起を完全に取り
除けるものではない、また、媒体１の剛性が小さいため
、媒体の共振現象を考慮すると媒体回転数もあまり高く
できず、突起除去に必要な衝突エネルギが得られず、突
起除去率が著しく低いという問題点があった。
（発明が解決しようとする課題） 上述のごとく、高記録密度を実現するためには、媒体の
突起高さを小さく押さえる必要があるが、従来の研磨テ
ープを用いた突起除去装置では媒体表面を傷めることな
く、表面突起を効率的に除去できることができず、高記
録密度の実現を妨げる大きな問題点であった。
そこで本発明は、可撓性磁気記録媒体の高記録密度化に
寄与できることは勿論のこと、可撓性磁気記録媒体の耐
久性向上に寄与でき、電気的特性、機械的特性の両面に
おける信頼性を向上させることができる可撓性磁気記録
媒体の表面突起除去方法およびその装置を提供すること
を目的としている。
〔発明の構成〕
（課題を解決するための手段） 本発明にあっては、可撓性磁気記録媒体を平面板の上で
回転させ、この回転により生じる空気膜で円板体に対し
て媒体を支持し、媒体表面に対して所定ギャップを保持
する研磨部材で媒体表面の突起を除去するようにしてい
る。
また、可撓性磁気記録媒体を回転させる駆動手段と、媒
体を支持するための平面板と、媒体の表面上を走査する
研磨部材とを具備し、媒体の回転により生じる空気膜を
介して平面板で媒体を支持し、研磨部材を媒体表面から
所定ギャップ隔てて走査させて媒体表面の突起を除去す
るように構成している。
（作用） 可撓性磁気記録媒体の支持機構としては剛体バックプレ
ートを可撓性磁気記録媒体に近接して回転させ１両者の
間で形成される空気膜によって可撓性磁気記録媒体を支
持している。このように支持すると媒体の平面度は剛体
バックプレートの平面度と同等にかなり精度良くなり、
突起除去が容易となる。スピンドルモータと位置調整機
構を備えた円板体は上記可撓性磁気記録媒体支持作用を
生じさせる機構であり、これらの機構により、可撓性磁
気記録媒体は可撓性磁気記録媒体単体より著しく大きな
剛性を有することになる。また定性的には可撓性磁気記
録媒体の回転数が大きい程剛性は高くなる。
このように空気膜によって支持されて、高速回転する可
撓性磁気記録媒体上に浮動スライダを設置すると、浮動
スライダはスライダ面形状、スライダ押付は荷重回転数
などによって決まるすきま形状で可撓性磁気記録媒体上
を浮上する。この浮上状態で最小浮上すきまより大きな
高さを有する突起が浮動スライダ面下に来るとその突起
の先端は削られる。このように突起以外の媒体表面に接
触することなく、高速回転であるため高い効率で突起を
除去することができる。
（実施例） 以下、図面を参照しながら実施例を説明する。
第１図には、本発明の一実施例に係る可撓性磁気記録媒
体製造装置の概略図が示されている。可撓性磁気記録媒
体１はスピンドルモータ２のスピンドル軸１０に形成さ
れたハブ１１に取り付けられ、可撓性磁気記録媒体１の
片面に近接されるべく、例えば３点支持法による位置調
整機構３を有した円板体４が設けられている。さらに可
撓性磁気記録媒体１の片面には例えば第２図に示すよう
な形状を有する板ばね５によって支持される浮動スライ
ダ５を所定の荷重で押し付け、上記浮動スライダ６は可
撓性磁気記録媒体１の半径方向に移動可能な駆動機構７
に取り付けられている。
このような構成であれば例えばスピンドルモータ２をｓ
、ｏｏｏ〜２０．０００ｒｐ■で回転させることにより
可撓性磁気記録媒体１を高速回転させ、第１図に実線矢
印で示すように、可撓性磁気記録媒体１と円板体４のす
きまに内周側から外周側への流れる安定した空気膜を形
成させる。これによってほぼ円板体４の形状にならうよ
うに可撓性磁気記録媒体１をかたく支持することができ
る。このように空気膜によりかたく支持された可撓性磁
気記録媒体１上に、浮動スライダ６を所定の浮上すきま
で浮上させ、さらに半径方向に移動させることにより、
浮動スライダ６の最小浮上すきま以上の高さの突起の頭
を削り取ることができる。このとき従来の研磨テープに
よる方法のように突起以外の媒体表面を傷めることがな
いため理想的には第３図に示すように突起１２が除去さ
れる。
発明者のこれまでの経験では、塗布媒体の場合において
も金属薄膜媒体においても通常の製造工程において０．
１μｓ以上の突起を形成させないようにすることはでき
るものの、　　Ｏ，１％以下のものについては従来の製
造工程における完全除去は困難であった。そのため、本
発明に係る装置の浮動スライダ６の浮上すきまは０．１
．以下とすることが望ましい、この浮上すきまの調整は
スライダ軸受面６ａの幅、押付は荷重等を調整すること
によって行えることは言うまでもない。
さらに、突起１２が除去されたことを確認するためには
、ＡＥ　（アコースティック　エミッション）センサー
やピエゾ素子による接触検出センサーを用いて検出する
ことができる。このとき浮動スライダ６と磁気記録媒体
１との接触による発振音源以外の発振音源からのノイズ
をできるだけ小さくする必要がある。第４図は他の実施
例を示すもので、接触検出センサー８を用いて突起の除
去の様子を確認できる磁気記録媒体製造装置の実施例を
示したもので、スピンドル軸の軸受を静圧空気軸受９ａ
とし、浮動スライダの駆動機構部の軸受にも静圧空気軸
受９ｂを用いている。このような構成であれば接触検出
センサー８の出力をモニターすることにより突起除去が
完了したことを確認でき製造工程における歩留りを向上
させることができる。
このように突起を除去したことを確実に確認できるため
信頼性向上に寄与できる。
〔発明の効果〕
以上述べたように１本発明によれば、高記録密度を実現
しようとしたときに問題となる可撓性磁気記録媒体表面
の突起を媒体表面を傷付けることなく確実に除去でき、
可撓性磁気記録媒体は損傷もディフェクトとなる突起も
皆無の媒体となり、電気的にも機械的にも著しく信頼性
の高い可撓磁気記録媒体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例に係る可撓性磁気記録媒体製
造装置を示す部分断面側面図、第２図は本発明の一実施
例に係る可撓性磁気記録媒体製造装置に用いる浮動スラ
イダの拡大斜視図、第３図は突起が除去される様子を説
明するための模式図、第４図は本発明の他の実施例に係
る可撓性磁気記録媒体製造装置を示す部分断面側面図、
第５図は従来の可撓性磁気記録媒体製造装置を示す側面
図である。 １・・・可撓性磁気記録媒体 ２・・・スピンドルモータ（駆動手段）３・・・位置調
整機構　　４・・・円板体（平面板）５・・・支持ばね
　６・・・浮動スライダ（研磨部材）７・・・駆動機構
　　　　８・・・接触検出センサー９ａ・・・ジャーナ
ル・スラスト静圧空気軸受９ｂ・・・直進型静圧空気軸
受　１０・・・スピンドル軸１２・・・突起 代理人　弁理士　則　近　憲　佑 同　　松山光之 第　　１　因 第　　２　囚 （（ン＼　ン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　＜’ｂ　　）第　　３　図 第　　４　図 第　　５　　図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）可撓性磁気記録媒体を平面板の上で回転させ、こ
    の回転により生じる空気膜で前記円板体に対して前記媒
    体を支持し、前記媒体表面に対して所定ギャップを保持
    する研磨部材で前記媒体表面の突起を除去することを特
    徴とする可撓性磁気記録媒体の表面突起除去方法。
  2. （２）可撓性磁気記録媒体を回転させる駆動手段と、前
    記媒体を支持するための平面板と、 前記媒体の表面上を走査する研磨部材とを具備し、 前記媒体の回転により生じる空気膜を介して前記平面板
    で前記媒体を支持し、前記研磨部材を前記媒体表面から
    所定ギャップ隔てて走査させて前記媒体表面の突起を除
    去することを特徴とする可撓性磁気記録媒体の表面突起
    除去装置。
  3. （３）前記研磨部材は浮動スライダであることを特徴と
    する請求項１および請求項２記載の可撓性磁気記録媒体
    の表面突起除去方法およびその装置。
  4. （４）前記平面板の中心位置と前記媒体の回転中心位置
    をほぼ一致させるための位置調整機構を設けたことを特
    徴とする請求項２記載の可撓性磁気記録媒体の表面突起
    除去装置。
JP255788A 1988-01-11 1988-01-11 可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置 Pending JPH01184623A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP255788A JPH01184623A (ja) 1988-01-11 1988-01-11 可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP255788A JPH01184623A (ja) 1988-01-11 1988-01-11 可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01184623A true JPH01184623A (ja) 1989-07-24

Family

ID=11532679

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP255788A Pending JPH01184623A (ja) 1988-01-11 1988-01-11 可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01184623A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6785094B2 (en) Weld free high performance laminate suspension
US5872684A (en) Air bearing slider having a relieved trailing edge
JPH1125455A (ja) 磁気転写装置
JP2895694B2 (ja) 情報記録・再生用スライダー、情報記録・再生用スライダーの製造方法および情報記録・再生装置
US6075677A (en) Method for positioning a read/write head to reduce wear for proximity recording in a magnetic disk storage system
US20020145829A1 (en) Wafer fabrication for thermal pole tip expansion/recession compensation
JPH01184623A (ja) 可撓性磁気記録媒体の表面突起除法方法およびその装置
JPH08249652A (ja) 磁気ディスク装置およびその製造方法
US7345844B2 (en) Servo track writer with helium bearing
JP2003297028A (ja) 空気流速加速装置を備えたハードディスクドライブ
US7088553B2 (en) Laminated suspension load beam design with dual primary metal layers sandwiching intermediate secondary layer
JPH05166318A (ja) ディスク装置
JP3923140B2 (ja) ヘッドスライダ及びディスク装置
JP2942289B2 (ja) 磁気ディスク装置および磁気ディスクの加工方法
US6687088B1 (en) Disc drive head slider with recessed landing pads
JP2002298532A (ja) 浮上量制御機能を有するヘッドスライダと同スライダを持つ記録再生装置及び記録再生装置のヘッド浮上量制御方法
JPH09282645A (ja) 記録媒体及びディスク装置
JP2005085383A (ja) 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
JPH1049803A (ja) 円盤状磁気記録媒体駆動装置
JPH01154377A (ja) 磁気デイスク装置
JP3097699B2 (ja) フライングヘッドを用いた情報信号記録再生装置
JP3275484B2 (ja) 浮上式磁気ヘッドとスライダーの浮上方法
JPS6244371A (ja) バニツシユヘツドの構造
JPS60173785A (ja) クリ−ニングヘツド
JPH0612644A (ja) 磁気ヘッドのスライダー面仕上げ方法及びそのコアスライダー