JPH01184790A - Nonvolatile cam - Google Patents

Nonvolatile cam

Info

Publication number
JPH01184790A
JPH01184790A JP902588A JP902588A JPH01184790A JP H01184790 A JPH01184790 A JP H01184790A JP 902588 A JP902588 A JP 902588A JP 902588 A JP902588 A JP 902588A JP H01184790 A JPH01184790 A JP H01184790A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gate
mos transistor
storage node
bit line
drain
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP902588A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0743946B2 (en
Inventor
Yasushi Terada
寺田 康
Takeshi Nakayama
武志 中山
Kazuo Kobayashi
和男 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP902588A priority Critical patent/JPH0743946B2/en
Publication of JPH01184790A publication Critical patent/JPH01184790A/en
Publication of JPH0743946B2 publication Critical patent/JPH0743946B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C15/00Digital stores in which information comprising one or more characteristic parts is written into the store and in which information is read-out by searching for one or more of these characteristic parts, i.e. associative or content-addressed stores
    • G11C15/04Digital stores in which information comprising one or more characteristic parts is written into the store and in which information is read-out by searching for one or more of these characteristic parts, i.e. associative or content-addressed stores using semiconductor elements
    • G11C15/046Digital stores in which information comprising one or more characteristic parts is written into the store and in which information is read-out by searching for one or more of these characteristic parts, i.e. associative or content-addressed stores using semiconductor elements using non-volatile storage elements

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 この発明は不揮発性CAMに関し、特に、アドレスを指
定してデータの読み書きをする通常のメモリ機能に加え
て、情報内容を指定したとき、その情報が蓄積されてい
るアドレスの検索が行なえるような不揮発性CAM (
Con t en t−Addressable  M
emory)に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] This invention relates to a nonvolatile CAM, and in particular, in addition to the normal memory function of reading and writing data by specifying an address, A non-volatile CAM (
Content-Addressable M
(emory).

[従来の技術] 第6図はl5SCC(Digest  ofTechn
ical  Papers  42ないし43頁(19
85年))に示された従来の揮発性のCAMを示す電気
回路図である。
[Prior art] Fig. 6 shows the l5SCC (Digest of Technique).
ical Papers pages 42-43 (19
1 is an electrical circuit diagram showing a conventional volatile CAM shown in 1985)).

第6図において、CAMはCMOSスタティックRAM
部1と一致検出部2とから構成されている。一致検出部
2は4つのMOS)ランジスタ3ないし6からなり、M
OS)ランジスタ3と4が直列接続され、MOSトラン
ジスタ5と6とが直列接続されている。MOS)ランジ
スタ3のソースは接地され、ゲートはフリップフロップ
からなるCMOSスタティックRAM部1の第2の記憶
ノードN2に接続され、MOS)ランジスタ4のゲート
はビット線対を構成するビット線BLに接続され、ドレ
インは一致検出線Mに接続されている。
In Figure 6, CAM is CMOS static RAM.
It consists of a section 1 and a match detection section 2. The coincidence detection section 2 consists of four MOS) transistors 3 to 6,
OS) Transistors 3 and 4 are connected in series, and MOS transistors 5 and 6 are connected in series. The source of the MOS) transistor 3 is grounded, the gate is connected to the second storage node N2 of the CMOS static RAM section 1 consisting of a flip-flop, and the gate of the MOS) transistor 4 is connected to the bit line BL forming the bit line pair. The drain is connected to the coincidence detection line M.

MOSトランジスタ5のソースは接地され、ゲートはC
MOSスタティックRAM部1の第1の記憶ノードN1
に接続され、MoSトランジスタ6のゲートはビット線
BLに接続され、ドレインは一致検出線Mに接続されて
いる。
The source of MOS transistor 5 is grounded, and the gate is connected to C
First storage node N1 of MOS static RAM section 1
The gate of the MoS transistor 6 is connected to the bit line BL, and the drain is connected to the coincidence detection line M.

CMOSスタティックRAM部1は4つのMOSトラン
ジスタ7ないし10によって構成されるとともに、2つ
の転送ゲートとなるMOSトランジスタ12.13を含
む。CMOSスタティックRAM部1の第1の記憶ノー
ドN1にはMOSトランジスタ12のソースが接続され
、ドレインはビット線BLに接続され、ゲートはワード
線Wに接続されている。また、CMOSスタティックR
AM部1の第2の記憶ノードN2にはMOSトランジス
タ13のソースが接続され、ドレインはビット線BLに
接続され、ゲートはワード!!iIWに接続されている
The CMOS static RAM section 1 is constituted by four MOS transistors 7 to 10, and includes MOS transistors 12 and 13 serving as two transfer gates. The source of the MOS transistor 12 is connected to the first storage node N1 of the CMOS static RAM section 1, the drain is connected to the bit line BL, and the gate is connected to the word line W. Also, CMOS static R
The source of the MOS transistor 13 is connected to the second storage node N2 of the AM section 1, the drain is connected to the bit line BL, and the gate is connected to the word! ! Connected to iIW.

次に、第6図に示した従来のCAMの動作について説明
する。まず、一致検索を行なうときには、ワード線Wが
すべて“L#レベルに設定され、一致検出線Mが“H”
レベルにプリチャージされ、ビット線BLに検索データ
が与えられ、ビット線BLに検索データの反転信号が印
加されることにより行なわれる。たとえば、“1”を検
索したいときには、ビット線BLが“H”レベルに設定
され、ビット線BLが“L“レベルに設定される。
Next, the operation of the conventional CAM shown in FIG. 6 will be explained. First, when performing a match search, all word lines W are set to "L# level" and match detection line M is set to "H" level.
This is performed by precharging the search data to a high level, applying search data to the bit line BL, and applying an inverted signal of the search data to the bit line BL. For example, when it is desired to search for "1", bit line BL is set to "H" level and bit line BL is set to "L" level.

CMOSスタティックRAM部1に“1″が記憶されて
いる場合、すなわち第1の記憶ノードN1が“H2にな
っていて、第2の記憶ノードN2が“L”レベルになっ
ている場合、MOSトランジスタ4,5は導通ずるが、
MOSトランジスタ3゜6は非導通であるため、一致検
出線Mは′H”レベルのまま保たれる。もし、′01が
CMOSスタティックRAM部1に記憶されている場合
、すなわち第1の記憶ノードN1が“L” レベルであ
り、第2の記憶ノードN2が“H゛レベルあれば、MO
Sトランジスタ3,4が導通し、一致検出線Mは放電さ
れて接地電位となる。
When "1" is stored in the CMOS static RAM section 1, that is, when the first storage node N1 is at "H2" and the second storage node N2 is at "L" level, the MOS transistor 4 and 5 are conductive, but
Since the MOS transistors 3.6 are non-conductive, the coincidence detection line M is kept at the 'H' level.If '01 is stored in the CMOS static RAM section 1, that is, the first storage node If N1 is at “L” level and second storage node N2 is at “H” level, MO
The S transistors 3 and 4 become conductive, and the coincidence detection line M is discharged to the ground potential.

[発明が解決しようとする課題] 従来のCAMは上述のごとく、フリップフロップからな
るCMOSスタティックRAM部1と一致検出部2とか
ら構成されているため、電源がオフされると、CMOS
スタティックRAM部1に記憶されていたデータが消去
されてしまうという欠点があった。
[Problem to be Solved by the Invention] As mentioned above, the conventional CAM is composed of the CMOS static RAM section 1 consisting of a flip-flop and the coincidence detection section 2. Therefore, when the power is turned off, the CMOS
There was a drawback that the data stored in the static RAM section 1 would be erased.

それゆえに、この発明の主たる目的は、電源がオフにな
ってもデータが消えることのない不揮発性CAMを提供
することである。
Therefore, the main object of the present invention is to provide a non-volatile CAM in which data does not disappear even when the power is turned off.

[課題を解決するための手段] この発明は行および列からなるマトリクス状に配列され
、それぞれが第1および第2の記憶ノードを有し、情報
を記憶する複数のメモリセルと、それぞれが列方向に整
列するメモリセルを選択するための複数のワード線と、
列方向に整列するメモリセルに接続される複数のビット
線対と、ビット線対の情報とメモリセルに記憶されてい
る情報とが一致しているとき一致信号を出力する一致検
出線とを備えた不揮発性CAMであって、ゲートがメモ
リセルの第1の記憶ノードに接続され、第1の導通端子
がビット線対の一方に接続され、第2の導通端子が一致
検出線に接続された第1のMOSトランジスタと、ゲー
トがメモリセルの第2の記憶ノードに接続され、第1の
導通端子がビット線対の他方に接続され、第2の導通端
子が一致検出線に接続された第2のMOS)ランジスタ
を含み、メモリセルが不揮発性メモリによって構成され
たものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention includes a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, each having first and second storage nodes, storing information, and each column having a plurality of memory cells. a plurality of word lines for selecting memory cells to be aligned in a direction;
It includes a plurality of bit line pairs connected to memory cells aligned in the column direction, and a coincidence detection line that outputs a coincidence signal when information on the bit line pairs and information stored in the memory cells match. a non-volatile CAM with a gate connected to a first storage node of a memory cell, a first conduction terminal connected to one of a bit line pair, and a second conduction terminal connected to a match detection line. a first MOS transistor whose gate is connected to a second storage node of the memory cell, whose first conduction terminal is connected to the other of the bit line pair, and whose second conduction terminal is connected to the coincidence detection line; 2 MOS) transistors, and the memory cells are constituted by non-volatile memory.

[作用コ この発明に係る不揮発性CAMはメモリセルが不揮発性
メモリで構成されているので、電源がオフにされてもそ
れまでに記憶されていたデータが消去されるおそれがな
(なる。
[Operation] Since the memory cells of the nonvolatile CAM according to the present invention are composed of nonvolatile memory, there is no risk that the data stored up to that point will be erased even if the power is turned off.

[実施例] 第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロック図で
ある。まず、第1図を参照して、この発明の一実施例の
構成について説明する。NVRAM1lは不揮発性メモ
リであって、第1および第2の記憶ノードNl、N2を
含む。第1の記憶ノードN1には第1のMOS)ランジ
スタ14のゲートが接続され、ドレインはビット線BL
に接続され、ソースは一致検出線Mに接続される。第2
の記憶ノードN2には、第2のMOS)ランジスタ15
のゲートが接続され、ドレインはビット線BLに接続さ
れ、ソースは一致検出線Mに接続される。また、第1の
記憶ノードN1には第3のMOSトランジスタ12のソ
ースが接続され、ゲートはワード線Wに接続され、ドレ
インはビット線BLに接続される。第2の記憶ノードN
2には第4のMOSトランジスタ13のソースが接続さ
れ、ゲートはワード線Wに接続され、ドレインはビット
線BLに接続される。
[Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. First, the configuration of an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. NVRAM1l is a nonvolatile memory and includes first and second storage nodes Nl and N2. The gate of a first MOS transistor 14 is connected to the first storage node N1, and the drain is connected to the bit line BL.
, and its source is connected to a match detection line M. Second
The storage node N2 includes a second MOS transistor 15
The gate is connected, the drain is connected to the bit line BL, and the source is connected to the match detection line M. Further, the source of the third MOS transistor 12 is connected to the first storage node N1, the gate is connected to the word line W, and the drain is connected to the bit line BL. second storage node N
The source of the fourth MOS transistor 13 is connected to 2, the gate is connected to the word line W, and the drain is connected to the bit line BL.

この第1図に示した不揮発性CAMとしての動作は、前
述の第6図に示した従来例と同じである。
The operation of the nonvolatile CAM shown in FIG. 1 is the same as the conventional example shown in FIG. 6 described above.

すなわち、ワード線Wが“L”レベルに設定され、一致
検出線Mが“H”レベルにプリチャージされ、ビット線
BLに検索データの信号が与えられ、ビット線BLに検
索データの反転信号が与えられる。
That is, the word line W is set to the "L" level, the match detection line M is precharged to the "H" level, a search data signal is applied to the bit line BL, and an inverted signal of the search data is applied to the bit line BL. Given.

NVRAMI 1に記憶されている情報と、検索データ
が一致すれば、一致検出線MはH” レベルを保ち、一
致しないときには放電されて“L”レベルになる。
If the information stored in NVRAMI 1 matches the search data, the match detection line M maintains the H level, and if they do not match, it is discharged and goes to the L level.

第2図はこの発明の他の実施例の構成を示すブロック図
である。この第2図に示した実施例は、第1図に示した
MOS)ランジスタ14にMOSトランジスタ16を直
列接続するとともに、MOSトランジスタ15に対して
MOSトランジスタ17を直列接続したものである。よ
り具体的に説明すると、MOSトランジスタ14のゲー
トは第2の記憶ノードN2に接続され、ソースは接地さ
れる。MOS)ランジスタ14のドレインはMOSトラ
ンジスタ16のソースに接続され、MOSトランジスタ
16のゲートはビット線BLに接続され、ドレインは一
致検出線Mに接続される。また、MOSトランジスタ1
5のゲートは第1の記憶ノードN1に接続され、ソース
は接地される。
FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of another embodiment of the invention. In the embodiment shown in FIG. 2, a MOS transistor 16 is connected in series to the MOS transistor 14 shown in FIG. 1, and a MOS transistor 17 is connected in series to the MOS transistor 15. More specifically, the gate of MOS transistor 14 is connected to second storage node N2, and the source is grounded. The drain of the MOS transistor 14 is connected to the source of the MOS transistor 16, the gate of the MOS transistor 16 is connected to the bit line BL, and the drain is connected to the match detection line M. In addition, MOS transistor 1
The gate of No. 5 is connected to the first storage node N1, and the source is grounded.

MOS)ランジスタ15のドレインはMOSトランジス
タ17のソースに接続され、ゲートはビット線BLに接
続され、ドレインは一致検出線Mに接続される。このよ
うに不揮発性CAMを構成しても、前述の第1図と同様
の動作をさせることができる。
The drain of the MOS transistor 15 is connected to the source of the MOS transistor 17, the gate is connected to the bit line BL, and the drain is connected to the match detection line M. Even if the nonvolatile CAM is configured in this way, it can operate in the same manner as in FIG. 1 described above.

第3図は第1図に示した不揮発性CAMのより具体的な
電気回路図である。第3図において、NvRAMllは
スタティックRAM20とEEPROM23とによって
構成され、情報の記憶および読出動作はスタティックR
AM20で行なわれ、不揮発な記憶が必要なときには、
スタティックRAM20に記憶されたデータがEEPR
OM23に転送される。
FIG. 3 is a more specific electrical circuit diagram of the nonvolatile CAM shown in FIG. 1. In FIG. 3, NvRAMll is composed of a static RAM 20 and an EEPROM 23, and information storage and reading operations are performed using a static RAM 20 and an EEPROM 23.
When it is carried out at AM20 and non-volatile memory is required,
The data stored in the static RAM 20 is
Transferred to OM23.

より具体的な構成について説明すると、スタティックR
AM20はNチャネルデプレッション型MO8)ランジ
スタ26,27とNチャネルエンハンスト型MO3)ラ
ンジスタ18.19とから構成される゛。Nチャネルデ
プレッション型MOSトランジスタ26のドレインには
第1の基準電位として電源電圧が与えられ、ゲートとソ
ースは第1の記憶ノードN1に接続される。Nチャネル
デプレッション型MOSトランジスタ27のドレインに
は電源電圧が与えられ、ゲートとソースは第2の記憶ノ
ードN2に接続される。NチャネルMOSトランジスタ
18のゲートは第2の記憶ノードN2に接続され、ドレ
インは第1の記憶ノードN1に接続され、ソースは第2
の基準電位である接地電位に接続される。、Nチャネル
MOSトランジスタ19のゲートは第1の記憶ノードN
1に接続され、ドレインは第2の記憶ノードN2に接続
され、ソースは接地される。
To explain the more specific configuration, static R
AM20 is composed of N-channel depletion type MO8) transistors 26 and 27 and N-channel enhanced type MO3) transistors 18 and 19. A power supply voltage is applied as a first reference potential to the drain of the N-channel depletion type MOS transistor 26, and the gate and source are connected to the first storage node N1. A power supply voltage is applied to the drain of the N-channel depletion type MOS transistor 27, and the gate and source are connected to the second storage node N2. The gate of the N-channel MOS transistor 18 is connected to the second storage node N2, the drain is connected to the first storage node N1, and the source is connected to the second storage node N2.
connected to the ground potential, which is the reference potential of the , the gate of the N-channel MOS transistor 19 is connected to the first storage node N
1, its drain is connected to the second storage node N2, and its source is grounded.

さらに、NチャネルMOSトランジスタ12ないし15
が設けられていて、NチャネルMOSトランジスタ12
のゲートはワード線Wに接続され、ドレインはビット線
BLに接続され、ソースは第1の記憶ノードN1に接続
される。NチャネルMOSトランジスタ13のゲートは
ワード線Wに接続され、ドレインはビット線BLに接続
され、ソースは第2の記憶ノードN2に接続される。N
チャネルMOSトランジスタ14のゲートは第1の記憶
ノードN1に接続され、ドレインはビット線BLに接続
され、ソースは一致検出線Mに接続される。Nチャネル
MOS)ランジスタ15のゲートは第2の記憶ノードN
2に接続され、ドレインはビット線BLに接続され、ソ
ースは一致検出線Mに接続される。
Furthermore, N channel MOS transistors 12 to 15
is provided, and an N-channel MOS transistor 12
has a gate connected to the word line W, a drain connected to the bit line BL, and a source connected to the first storage node N1. N-channel MOS transistor 13 has a gate connected to word line W, a drain connected to bit line BL, and a source connected to second storage node N2. N
Channel MOS transistor 14 has a gate connected to first storage node N1, a drain connected to bit line BL, and a source connected to match detection line M. The gate of the N-channel MOS transistor 15 is connected to the second storage node N.
2, its drain is connected to the bit line BL, and its source is connected to the match detection line M.

EEPROM23はNチャネルMOSトランジスタ21
.24とメモリトランジスタ22とによって構成される
。NチャネルMOS)ランジスタ21のゲートにはクロ
ック信号CLKが与えられ、ソースは第2の記憶ノード
N2に接続され、ドレインはメモリトランジスタ22の
ソースに接続される。メモリトランジスタ22のゲート
にはプログラム信号PROが与えられ、ドレインはNチ
ャネルMOS)ランジスタ24のソースに接続される。
EEPROM 23 is an N-channel MOS transistor 21
.. 24 and a memory transistor 22. A clock signal CLK is applied to the gate of the N-channel MOS transistor 21, the source is connected to the second storage node N2, and the drain is connected to the source of the memory transistor 22. A program signal PRO is applied to the gate of the memory transistor 22, and the drain is connected to the source of an N-channel MOS transistor 24.

NチャネルMOS)ランジスタ24のドレインとゲート
にはクリア信号CLRが与えられる。
A clear signal CLR is applied to the drain and gate of the N-channel MOS transistor 24.

次に、第3図に示した実施例の具体的な動作について説
明する。まず、データ転送する場合には、クロック信号
CLKが′L“レベルとなり、プログラム信号PROが
“L”レベルに設定され、クリア信号CLRとして高電
圧パルスがNチャネルMOSトランジスタ24のドレイ
ンとゲートとに与えられ、EEFROM23に記憶され
ているデータの消去が行なわれる。すなわち、EEPR
OM23のメモリトランジスタ22のフローティングゲ
ートに蓄積されていた電子が引き抜かれ、しきい値が低
くなる。
Next, the specific operation of the embodiment shown in FIG. 3 will be explained. First, when data is to be transferred, the clock signal CLK is set to the 'L' level, the program signal PRO is set to the 'L' level, and a high voltage pulse is applied as the clear signal CLR to the drain and gate of the N-channel MOS transistor 24. The data stored in the EEFROM 23 is erased. That is, the EEPR
The electrons accumulated in the floating gate of the memory transistor 22 of the OM 23 are extracted, and the threshold value is lowered.

次に、クロック信号CLKが“H”レベルに設定され、
クリア信号CLRが“L”レベルに設定され、メモリト
ランジスタ22のゲートにプログラム信号PROとして
高電圧パルスが与えられる。
Next, the clock signal CLK is set to "H" level,
Clear signal CLR is set to "L" level, and a high voltage pulse is applied to the gate of memory transistor 22 as program signal PRO.

もし、スタティックRAM20に“1”が記憶されてい
れば、第1の記憶ノードN1が“H°レベルとなり、第
2の記憶ノードN2は“L”レベルであるため、メモリ
トランジスタ22のドレインが接地電位となり、フロー
ティングゲートへの電子の注入が行なわれる。
If "1" is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at the "H" level and the second storage node N2 is at the "L" level, so that the drain of the memory transistor 22 is grounded. potential, and electrons are injected into the floating gate.

もし、スタティックRAM20に“Omが記憶されてい
て、第1の記憶ノードN1が“L″レベルあり、第2の
記憶ノードN2が“H”レベルであれば、メモリトラン
ジスタ22のドレインの電圧は高いままであるため、フ
ローティングゲートへの電子の注入が起こらない。すな
わち、メモリトランジスタ22のゲートとドレインの電
位差が小さいため、フローティングゲートに蓄積され・
ている電荷に変化が生じない。このようにして、スタテ
ィックRAM20からEEPROM23へのデータの転
送が行なわれる。
If “Om” is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at the “L” level, and the second storage node N2 is at the “H” level, the voltage at the drain of the memory transistor 22 is high. Therefore, electrons are not injected into the floating gate.In other words, since the potential difference between the gate and drain of the memory transistor 22 is small, electrons are accumulated in the floating gate.
There is no change in the electric charge that is present. In this way, data is transferred from the static RAM 20 to the EEPROM 23.

次に、EEFROM23からスタティックRAM20へ
のデータ転送は、クロック信号CLK。
Next, data is transferred from the EEFROM 23 to the static RAM 20 using the clock signal CLK.

プログラム信号PROおよびクリア信号CLRが“H″
レベル設定され、NVRAM11に供給される電源をO
Vから徐々に上げることによって行なわれる。このとき
、EEPROM23のしきい値が低い状態であれば、第
2の記憶ノードN2が充電され、スタティックRAM2
0には“0”がセットされる。一方、EEFROM23
のしきい値が高い状態であれば、第1の記憶ノードN1
が充電されて“H”レベルとなり、“1”がセットされ
るようにスタティックRAM20が構成されている。
Program signal PRO and clear signal CLR are “H”
The level is set and the power supplied to NVRAM11 is turned off.
This is done by gradually increasing the voltage from V. At this time, if the threshold value of the EEPROM 23 is low, the second storage node N2 is charged and the static RAM 23 is charged.
0 is set to "0". On the other hand, EEFROM23
If the threshold value is high, the first storage node N1
The static RAM 20 is configured so that the signal is charged and becomes the "H" level, and "1" is set.

第4図はこの発明の他の実施例の電気回路図である。こ
の第4図に示した実施例は、スタティックRAM20と
EEPROM23は前述の第3図の実施例と同様にして
構成される。そして、第1の記憶ノードN1にはMOS
トランジスタ17のゲートが接続され、MOSトランジ
スタ17のドレインは一致検出線Mに接続され、ドレイ
ンはMOSトランジスタ15のソースに接続される。こ
のMOSトランジスタ15のゲートはビット線BLに接
続され、ドレインは接地される。また、第2の記憶ノー
ドN2にはMOS)ランジスタ16のゲートが接続され
、MOSトランジスタ16のソースは一致検出線Mに接
続され、ドレインはMOSトランジスタ14のソースに
接続される。MOSトランジスタ14のゲートはビット
線BLに接続され、ソースは接地される。
FIG. 4 is an electrical circuit diagram of another embodiment of the invention. In the embodiment shown in FIG. 4, the static RAM 20 and EEPROM 23 are constructed in the same manner as in the embodiment shown in FIG. 3 described above. The first storage node N1 has a MOS
The gate of transistor 17 is connected, the drain of MOS transistor 17 is connected to coincidence detection line M, and the drain is connected to the source of MOS transistor 15. The gate of this MOS transistor 15 is connected to the bit line BL, and the drain is grounded. Further, the gate of a MOS transistor 16 is connected to the second storage node N2, the source of the MOS transistor 16 is connected to the coincidence detection line M, and the drain is connected to the source of the MOS transistor 14. The gate of MOS transistor 14 is connected to bit line BL, and the source is grounded.

このように不揮発性CAMを構成することによって、前
述の第3図に示した実施例と同様にして、通常のデータ
の記憶はスタティックRAM20で行ない、不揮発な記
憶が必要なときには、スタティックRAM20に記憶さ
れたデータをEEPROM23に転送させることができ
る。   ′第5図はこの発明のその他の実施例を示す
電気回路図である。この実施例は検索しようとするデー
タを与えるためのセンサ線S、Sを新たに設けたもので
ある。そして、第1の記憶ノードN1にはMOS)ラン
ジスタ14のゲートが接続され、ドレインにはセンサ線
Sが接続される。MOSトランジスタ14のソースはM
OS)ランジスタ25のゲートに接続される。第2の記
憶ノードN2にはMOSトランジスタ15のゲートが接
続され、ドレインにはセンサ線Sが接続され、ソースは
MOSトランジスタ25のゲートに接続される。MOS
トランジスタ25のドレインは一致検出線Mに接続され
、ソースは接地される。
By configuring the non-volatile CAM in this manner, normal data storage is performed in the static RAM 20, and when non-volatile storage is required, it is stored in the static RAM 20, similar to the embodiment shown in FIG. The stored data can be transferred to the EEPROM 23. 'FIG. 5 is an electrical circuit diagram showing another embodiment of the present invention. In this embodiment, sensor lines S and S are newly provided to provide data to be searched. The gate of a MOS transistor 14 is connected to the first storage node N1, and the sensor line S is connected to the drain. The source of the MOS transistor 14 is M
OS) connected to the gate of the transistor 25. The gate of the MOS transistor 15 is connected to the second storage node N2, the drain is connected to the sensor line S, and the source is connected to the gate of the MOS transistor 25. M.O.S.
The drain of the transistor 25 is connected to the coincidence detection line M, and the source is grounded.

この実施例においてデータを検索するときには、ワード
Hwが“L”レベルに設定され、一致検出線Mが“H”
レベルにプリチャージされ、センサ線百に検索データの
反転信号が与えられ、検索線Sに検索信号を与えること
によって行なわれる。
When searching for data in this embodiment, word Hw is set to "L" level and match detection line M is set to "H" level.
This is performed by precharging the search data to the level, applying an inverted signal of the search data to the sensor line 100, and applying a search signal to the search line S.

たとえば、“1”を検索したい場合には、センサ線Sが
′L2レベルに設定され、センサ線Sが“H″レベル設
定される。スタティックRAM20に“1″が記憶され
ていて第1の記憶ノードN1が“H”レベルになってお
り、第2の記憶ノードN2が“L”レベルになっていれ
ば、MOSトランジスタ14が導通し、MOSトランジ
スタ25のゲート電位が″L2レベルとなり、MOSト
ランジスタ25は非導通となるので、一致検出線Mは・
H”レベルを保つ。もし、スタティックRAM20に“
0”が記憶されていて、第1の記憶ノードN1が“L”
レベルになっており、第2の記憶ノードN2が′H″レ
ベルになっていれば、MOSトランジスタ15および2
5が導通し、一致検出線Mが接地電位となる。
For example, when it is desired to search for "1", the sensor line S is set to the 'L2 level, and the sensor line S is set to the "H" level. If "1" is stored in the static RAM 20, the first storage node N1 is at the "H" level, and the second storage node N2 is at the "L" level, the MOS transistor 14 becomes conductive. , the gate potential of the MOS transistor 25 becomes "L2 level", and the MOS transistor 25 becomes non-conductive, so the coincidence detection line M becomes -
Maintain the “H” level.If the static RAM20
0” is stored, and the first storage node N1 is “L”
level, and if the second storage node N2 is at the 'H' level, the MOS transistors 15 and 2
5 becomes conductive, and the coincidence detection line M becomes the ground potential.

[発明の効果コ 以上のように、この発明によれば、メモリセルを不揮発
性メモリで構成したことによって、電源が遮断されても
データが消去されるおそれがなくなる。
[Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, by configuring the memory cells with non-volatile memory, there is no fear that data will be erased even if the power is cut off.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロック図で
ある。第2図はこの発明の他の実施例の構成を示すブロ
ック図である。第3図は第1図に示した不揮発性CAM
の具体的な電気回路図である。第4図はこの発明の他の
実施例の電気回路図である。第5図はこの発明のその他
の実施例を示す電気回路図である。第6図は従来のCA
Mの構成を示す電気回路図である。 図ニオイテ、11+iNVRAM、12ないし17.2
1.24.25はNチャネルMOSトランジスタ、18
.19はNチャネルエンハンスト型MOSトランジスタ
、20はスタティックRAM。 22はメモリトランジスタ、23はEEPROM。 26.27はNチャネルデプレッション型MOSトラン
ジスタを示す。
FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a block diagram showing the configuration of another embodiment of the invention. Figure 3 shows the non-volatile CAM shown in Figure 1.
It is a specific electric circuit diagram of. FIG. 4 is an electrical circuit diagram of another embodiment of the invention. FIG. 5 is an electrical circuit diagram showing another embodiment of the present invention. Figure 6 shows conventional CA
FIG. 2 is an electric circuit diagram showing the configuration of M. Figure Nioite, 11+iNVRAM, 12 to 17.2
1.24.25 is an N-channel MOS transistor, 18
.. 19 is an N-channel enhanced type MOS transistor, and 20 is a static RAM. 22 is a memory transistor, and 23 is an EEPROM. 26 and 27 indicate N-channel depletion type MOS transistors.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  行および列からなるマトリクス状に配列され、それぞ
れが第1および第2の記憶ノードを有し、情報を記憶す
るための複数のメモリセルと、それぞれが前記列方向に
整列するメモリセルを選択するための複数のワード線と
、前記列方向に整列するメモリセルに接続される複数の
ビット線対と、前記ビット線対の情報と前記メモリセル
に記憶されている情報とが一致しているとき、一致信号
を出力する一致検出線とを備えた不揮発性CAMであっ
て、 ゲートと第1および第2の導通端子を含み、前記ゲート
は前記メモリセルの第1の記憶ノードに接続され、前記
第1の導通端子は前記ビット線対の一方に接続され、前
記第2の導通端子は前記一致検出線に接続された第1の
MOSトランジスタ、および ゲートと第1および第2の導通端子を含み、前記ゲート
は前記メモリセルの第2の記憶ノードに接続され、前記
第1の導通端子は前記ビット線対の他方に接続され、前
記第2の導通端子は前記一致検出線に接続された第2の
MOSトランジスタを含み、 前記メモリセルは不揮発性メモリによって構成される、
不揮発性CAM。
[Scope of Claims] A plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, each having first and second storage nodes, for storing information, and each memory cell arranged in the column direction. a plurality of word lines for selecting memory cells to be stored, a plurality of bit line pairs connected to the memory cells aligned in the column direction, information on the bit line pairs and information stored in the memory cells; a match detection line that outputs a match signal when the numbers match, the non-volatile CAM includes a gate and first and second conduction terminals, the gate is connected to the first storage of the memory cell. node, the first conduction terminal is connected to one of the bit line pair, and the second conduction terminal is connected to a first MOS transistor connected to the coincidence detection line, and a gate and a first and second MOS transistor. 2 conduction terminals, the gate is connected to a second storage node of the memory cell, the first conduction terminal is connected to the other of the bit line pair, and the second conduction terminal is connected to the match detection terminal. a second MOS transistor connected to a line, the memory cell being constituted by a non-volatile memory;
Non-volatile CAM.
JP902588A 1988-01-18 1988-01-18 Non-volatile CAM Expired - Lifetime JPH0743946B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP902588A JPH0743946B2 (en) 1988-01-18 1988-01-18 Non-volatile CAM

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP902588A JPH0743946B2 (en) 1988-01-18 1988-01-18 Non-volatile CAM

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01184790A true JPH01184790A (en) 1989-07-24
JPH0743946B2 JPH0743946B2 (en) 1995-05-15

Family

ID=11709117

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP902588A Expired - Lifetime JPH0743946B2 (en) 1988-01-18 1988-01-18 Non-volatile CAM

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0743946B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5347483A (en) * 1992-03-06 1994-09-13 Sharp Kabushiki Kaisha Non-volatile associative memory with low transistor count
US5455784A (en) * 1993-08-09 1995-10-03 Nec Corporation Associative memory device with small memory cells selectively storing data bits and don't care bits
EP1526547A1 (en) * 2003-10-22 2005-04-27 STMicroelectronics S.r.l. A content addressable memory cell

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05281085A (en) * 1992-03-31 1993-10-29 Michio Nishioka Pseudo-streamliner for non-streamlined objects

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5347483A (en) * 1992-03-06 1994-09-13 Sharp Kabushiki Kaisha Non-volatile associative memory with low transistor count
US5455784A (en) * 1993-08-09 1995-10-03 Nec Corporation Associative memory device with small memory cells selectively storing data bits and don't care bits
EP1526547A1 (en) * 2003-10-22 2005-04-27 STMicroelectronics S.r.l. A content addressable memory cell
US7227765B2 (en) 2003-10-22 2007-06-05 Stmicroelectronics S.R.L. Content addressable memory cell
EP2261928A3 (en) * 2003-10-22 2011-04-20 STMicroelectronics S.r.l. A content addressable memory cell

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0743946B2 (en) 1995-05-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5111427A (en) Nonvolatile content-addressable memory and operating method therefor
KR100370909B1 (en) A 1 chip microcomputer and a data refresh method thereof
US5982666A (en) Sense amplifier circuit for semiconductor memory devices
US5770963A (en) Flash memory with improved erasability and its circuitry
US5608676A (en) Current limited current reference for non-volatile memory sensing
JPH07122092A (en) Semiconductor memory device
JPH0346194A (en) Contents address memory cell
JPH05102438A (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JPS63192146A (en) Memory read circuit
KR960005620A (en) Nonvolatile memory
US4635229A (en) Semiconductor memory device including non-volatile transistor for storing data in a bistable circuit
US4064494A (en) Content addressable memories
US7031177B2 (en) Non-volatile and-type content addressable memory
US5070480A (en) Nonvolatile associative memory system
US6944038B2 (en) Non-volatile NOR-type CAM memory
JPS63228496A (en) Memory circuit
JPH01184790A (en) Nonvolatile cam
JPH11273392A (en) Redundancy method and device for nonvolatile semiconductor memory
US5347483A (en) Non-volatile associative memory with low transistor count
US5978261A (en) Non-volatile electronic memory and method for the management thereof
US3898630A (en) High voltage integrated driver circuit
US3781831A (en) Read only memory utilizing floating gate transistors and method of programming
JP4693504B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device
JPS58128090A (en) Dynamic ic memory
JPH01194196A (en) Contents address memory