JPH01191349A - 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 - Google Patents
情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型Info
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- JPH01191349A JPH01191349A JP63015237A JP1523788A JPH01191349A JP H01191349 A JPH01191349 A JP H01191349A JP 63015237 A JP63015237 A JP 63015237A JP 1523788 A JP1523788 A JP 1523788A JP H01191349 A JPH01191349 A JP H01191349A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は情報記録媒体の基板に関するものである。
情報記録媒体用基板はその情報記録面にプリフォーマッ
トパターン、例えばＡＴ用案内溝、情報ビットなどの凹
凸が形成されている。このような基板の成形方法として
は、基板が熱可塑性樹脂からなる場合にはインジェクシ
ョン法や熱プレス法により、成形用型のプリフォーマッ
トパターンを転写する方法が知られている。
トパターン、例えばＡＴ用案内溝、情報ビットなどの凹
凸が形成されている。このような基板の成形方法として
は、基板が熱可塑性樹脂からなる場合にはインジェクシ
ョン法や熱プレス法により、成形用型のプリフォーマッ
トパターンを転写する方法が知られている。
又、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂からなる透明樹脂基板
上に、光硬化性樹脂組成物を塗布した後、成形用型を密
着させて透明樹脂基板側から輻射線、例えば紫外線、Ｘ
線等を一様に照射して該樹脂組成物を硬化させて成形用
型のパターンを透明樹脂基板に転写する所謂２ｐ法や、
ガラス板や金属板などの基板上に直接又は基板上に金属
などの薄膜を形成し、その薄膜上にＡＴ用案内溝や情報
ピットなどのプリフォーマットパターンを凹凸状に形成
して成形用型としてスペーサを介して、鏡面型として平
滑なガラス板を相対して位置させて装置を組み、この装
置に樹脂のモノマー又は溶剤を含んだプレポリマー等を
流し込み硬化させて光記録媒体用基板を得る注型成形法
が知られている。
上に、光硬化性樹脂組成物を塗布した後、成形用型を密
着させて透明樹脂基板側から輻射線、例えば紫外線、Ｘ
線等を一様に照射して該樹脂組成物を硬化させて成形用
型のパターンを透明樹脂基板に転写する所謂２ｐ法や、
ガラス板や金属板などの基板上に直接又は基板上に金属
などの薄膜を形成し、その薄膜上にＡＴ用案内溝や情報
ピットなどのプリフォーマットパターンを凹凸状に形成
して成形用型としてスペーサを介して、鏡面型として平
滑なガラス板を相対して位置させて装置を組み、この装
置に樹脂のモノマー又は溶剤を含んだプレポリマー等を
流し込み硬化させて光記録媒体用基板を得る注型成形法
が知られている。
上述の情報記録媒体用基板への凹凸プリフォーマット形
成方法に用いられる成形用型の凹凸プリフォーマットパ
ターンが有する情報ビットの形状としては、−数的には
第６図に示す様な正方形や長方形のものが知られており
、又、インジェクション法、熱プレス法、２ｐ法に用い
られる成形用型では円形又は楕円形のものもある。
成方法に用いられる成形用型の凹凸プリフォーマットパ
ターンが有する情報ビットの形状としては、−数的には
第６図に示す様な正方形や長方形のものが知られており
、又、インジェクション法、熱プレス法、２ｐ法に用い
られる成形用型では円形又は楕円形のものもある。
しかし、これらの形状の情報ビットを有する凹凸プリフ
ォーマットパターンが形成された成形用型を用いて上述
の各種方法によって凹凸プリフォーマットを有する情報
記録媒体用基板を作成した場合、該基板と該成形用型と
の間に離型性に問題があり、プリフォーマットパターン
が微細になるに従って、その離型性の悪さに起因するプ
リフォーマット、特に情報ピット周辺部への応力の集中
により第７図及び第８図のように欠けやクラックが生じ
易い。
ォーマットパターンが形成された成形用型を用いて上述
の各種方法によって凹凸プリフォーマットを有する情報
記録媒体用基板を作成した場合、該基板と該成形用型と
の間に離型性に問題があり、プリフォーマットパターン
が微細になるに従って、その離型性の悪さに起因するプ
リフォーマット、特に情報ピット周辺部への応力の集中
により第７図及び第８図のように欠けやクラックが生じ
易い。
又、注型成形の場合、粘度が最初は小さくて徐々に大き
くなり、応力が緩和される為、他の方法に比べれば欠け
の発生率は幾分低いが、それでも樹脂の硬化収縮による
応力がプリフォーマット特に微細な情報ビットの周辺部
に集中する為にやはり欠けが発生する。
くなり、応力が緩和される為、他の方法に比べれば欠け
の発生率は幾分低いが、それでも樹脂の硬化収縮による
応力がプリフォーマット特に微細な情報ビットの周辺部
に集中する為にやはり欠けが発生する。
このプリフォーマット周辺部、特に情報ピット周辺部の
欠けは、該情報ビットを再生する際に読取りエラーが発
生したり、読取り不能となる原因となり情報記録媒体の
信頼性を損う恐れがある。
欠けは、該情報ビットを再生する際に読取りエラーが発
生したり、読取り不能となる原因となり情報記録媒体の
信頼性を損う恐れがある。
即ち、このプリフォーマットパターン周辺部の欠けは、
信頼性の高い情報記録媒体を形成する際に大きな問題と
なる。
信頼性の高い情報記録媒体を形成する際に大きな問題と
なる。
〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明はプリフ
ォーマットの周辺部の欠けを無くした情報記録媒体用基
板を有する信頼性の高い情報記録媒体を提供することを
目的とするものである。
ォーマットの周辺部の欠けを無くした情報記録媒体用基
板を有する信頼性の高い情報記録媒体を提供することを
目的とするものである。
又、本発明は情報記録媒体用基板の上に形成されたプリ
フォーマットパターンの周辺部の欠けを無（し、信頼性
の高い情報記録媒体を作ることができる情報記録媒体用
基板の製造方法を提供することを他の目的とするもので
ある。
フォーマットパターンの周辺部の欠けを無（し、信頼性
の高い情報記録媒体を作ることができる情報記録媒体用
基板の製造方法を提供することを他の目的とするもので
ある。
又、本発明は情報記録媒体用基板の上に形成されたプリ
フォーマットパターンの周辺部の欠けを無くし、パター
ンの精度の良好な情報記録媒体用基板の注型成形用型を
提供することを更に他の目的とするものである。
フォーマットパターンの周辺部の欠けを無くし、パター
ンの精度の良好な情報記録媒体用基板の注型成形用型を
提供することを更に他の目的とするものである。
本発明の情報記録媒体は、凹凸プリフォーマットが形成
されている基板を有する情報記録媒体において凹凸プリ
フォーマットの情報ピット部が多角形で少なくともその
１つの対角線が記録プリフォーマットのトラックにほぼ
平行であることを特徴とするものである。
されている基板を有する情報記録媒体において凹凸プリ
フォーマットの情報ピット部が多角形で少なくともその
１つの対角線が記録プリフォーマットのトラックにほぼ
平行であることを特徴とするものである。
又、本発明の情報記録媒体用基板の製造方法は、凹凸プ
リフォーマットを有する情報記録媒体用基板を型成形に
より製造する方法において、型面に形成されている凹凸
プリフォーマットパターンの情報ピット部が多角形で少
なくともその１つの対角線が記録プリフォーマットパタ
ーンのトラックにほぼ平行である成形型を用いることを
特徴とするものである。
リフォーマットを有する情報記録媒体用基板を型成形に
より製造する方法において、型面に形成されている凹凸
プリフォーマットパターンの情報ピット部が多角形で少
なくともその１つの対角線が記録プリフォーマットパタ
ーンのトラックにほぼ平行である成形型を用いることを
特徴とするものである。
又、本発明の情報記録媒体用基板の型成形用型は、凹凸
プリフォーマットパターンを有する情報記録媒体用基板
の型成形用型において、型面に形成されている凹凸プリ
フォーマットパターンの情報ピット部が多角形で少な（
ともその１つの対角線が記録プリフォーマットパターン
のトラックにほぼ平行であることを特徴とするものであ
る。
プリフォーマットパターンを有する情報記録媒体用基板
の型成形用型において、型面に形成されている凹凸プリ
フォーマットパターンの情報ピット部が多角形で少な（
ともその１つの対角線が記録プリフォーマットパターン
のトラックにほぼ平行であることを特徴とするものであ
る。
即ち、本発明において情報記録媒体用基板の成形層型の
凹凸プリフォーマットパターンの情報ビット部を多角形
で少なくともその１つの対角線が記録プリフォーマット
パターンのトラックにほぼ平行になるようにすることに
より、離型性の悪さに起因する情報ビット周辺部への応
力の集中を緩和できるため、情報記録媒体用基板の凹凸
プリフォーマット周辺部の欠けやクラック等の欠陥の発
生を抑えることができる。
凹凸プリフォーマットパターンの情報ビット部を多角形
で少なくともその１つの対角線が記録プリフォーマット
パターンのトラックにほぼ平行になるようにすることに
より、離型性の悪さに起因する情報ビット周辺部への応
力の集中を緩和できるため、情報記録媒体用基板の凹凸
プリフォーマット周辺部の欠けやクラック等の欠陥の発
生を抑えることができる。
次に本発明を図を用いて詳細に説明する。
第１図は本発明による情報記録媒体用基板の成形用型で
ある。情報ピットの先端の角度θは１８０°以下、好ま
しくは２０°くθ＜１００＠で、ピット長ｍ及び幅ｄは
、該情報ビットの再生時の再生装置の処理系によって設
計されるが一般的にはビット長ｍは０．１μｍ〜２０μ
ｍ９幅ｄは０．１μｍ〜２０μｍの間で選ばれ、又ビッ
トの深さは１０００Å以下である。
ある。情報ピットの先端の角度θは１８０°以下、好ま
しくは２０°くθ＜１００＠で、ピット長ｍ及び幅ｄは
、該情報ビットの再生時の再生装置の処理系によって設
計されるが一般的にはビット長ｍは０．１μｍ〜２０μ
ｍ９幅ｄは０．１μｍ〜２０μｍの間で選ばれ、又ビッ
トの深さは１０００Å以下である。
更に、ｌはＯでもよく、該情報ピットの先端が上述のθ
の条件を満たし、更に少なくとも１つの対角線が記録プ
リフォーマットパターンのトラックにほぼ平行であれば
他の多角形でも良い。尚、本発明においては記録、再生
ビームのスポット径に相当する誤差は許容範囲とする。
の条件を満たし、更に少なくとも１つの対角線が記録プ
リフォーマットパターンのトラックにほぼ平行であれば
他の多角形でも良い。尚、本発明においては記録、再生
ビームのスポット径に相当する誤差は許容範囲とする。
又、この成形用型は通常のフォトリソ技術によって製造
される。
される。
次に情報記録媒体用基板の製造方法としては、上述の成
形用型を用いて、従来から知られているインジェクショ
ン法や熱プレス法、２ｐ法、注型成形法の通常の手順に
従って行われればよく、又、これらの方法は情報記録媒
体用基板として用いる材料によって適当に選べば良い。
形用型を用いて、従来から知られているインジェクショ
ン法や熱プレス法、２ｐ法、注型成形法の通常の手順に
従って行われればよく、又、これらの方法は情報記録媒
体用基板として用いる材料によって適当に選べば良い。
情報記録媒体用基板の材料としては、例えばアクリル系
樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂などを用いることができる。
樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂などを用いることができる。
このようにして得られた凹凸プリフォーマットを有する
情報記録媒体用基板の凹凸プリフォーマット面上に記録
層を設け、接着層を介して保護基板を接着することによ
り、第３図及び第４図に示すような凹凸プリフォーマッ
トの情報ビット部が多角形で少なくともその１つの対角
線が記録プリフォーマットのトラックにほぼ平行に形成
された基板を有する情報記録媒体を得る。
情報記録媒体用基板の凹凸プリフォーマット面上に記録
層を設け、接着層を介して保護基板を接着することによ
り、第３図及び第４図に示すような凹凸プリフォーマッ
トの情報ビット部が多角形で少なくともその１つの対角
線が記録プリフォーマットのトラックにほぼ平行に形成
された基板を有する情報記録媒体を得る。
本発明に用いられる記録層としては、例えばシアニン系
色素、アントラキノン系色素、メロシアニン系色素、遷
移金属錯体（例えばジアミン系金属錯体、ジチオール系
金属錯体）等の有機系色素あるいはそれらをポリマー中
に導入したもの、さらにＢｉ、Ｔｅあるいはこれらの合
金等カルコゲン系化合物などが挙げられる。
色素、アントラキノン系色素、メロシアニン系色素、遷
移金属錯体（例えばジアミン系金属錯体、ジチオール系
金属錯体）等の有機系色素あるいはそれらをポリマー中
に導入したもの、さらにＢｉ、Ｔｅあるいはこれらの合
金等カルコゲン系化合物などが挙げられる。
記録層は塗布、蒸着、スプレーなどによって積層するこ
とができる。
とができる。
又、本発明に用いられる接着層としては、例えば酢酸ビ
ニル系、酢酸ビニルアクリル系、酢酸ビニル共重合系、
酢酸ビニルエマルジョン系、アクリル系、アクリレート
系、アクリル共重合系、エチレン系、エチレン酢酸ビニ
ル系、エチレン酢酸ビニル共重合系、ポリエチレン系、
塩化メチレン系、ポリアミド系、ポリアミド−アミン系
、ポリイミド系、ユリア系、エポキシ系、エポキシウレ
タン系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレー
ト系、ポリエステル系、クロロプレン系。
ニル系、酢酸ビニルアクリル系、酢酸ビニル共重合系、
酢酸ビニルエマルジョン系、アクリル系、アクリレート
系、アクリル共重合系、エチレン系、エチレン酢酸ビニ
ル系、エチレン酢酸ビニル共重合系、ポリエチレン系、
塩化メチレン系、ポリアミド系、ポリアミド−アミン系
、ポリイミド系、ユリア系、エポキシ系、エポキシウレ
タン系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレー
ト系、ポリエステル系、クロロプレン系。
クロロブレンゴム系、ニトリル系、ニトリルゴム系、ウ
レタン系、ビニルウレタン系、ポリウレタン系、オレフ
ィン系、シアノアクリレート系、アルキルアクリレート
系、塩化ビニル系、フェノール系、ＳＢＲ系（スチレン
ブタジェンゴム）。
レタン系、ビニルウレタン系、ポリウレタン系、オレフ
ィン系、シアノアクリレート系、アルキルアクリレート
系、塩化ビニル系、フェノール系、ＳＢＲ系（スチレン
ブタジェンゴム）。
ポリオール系、シリカアルミナ系９合成ゴム系。
エマルジョン系、オリゴエステル系、セルロース系、ホ
ルムアルデヒド系、紫外線硬化型接着剤。
ルムアルデヒド系、紫外線硬化型接着剤。
有機溶剤、スチレンブタジェン系、フレオンＴＡ系等が
利用できる。接着の際、熱、光、電子線等エネルギーを
必要とするものも、そのエネルギーが光記録材料の機能
を劣化させない限り有効である。
利用できる。接着の際、熱、光、電子線等エネルギーを
必要とするものも、そのエネルギーが光記録材料の機能
を劣化させない限り有効である。
又、保護基板としては通常の保護層として用いることが
できるあらゆる材料が使用可能であり、具体的にはポリ
塩化ビニル、弗素置換エチレン重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリ
ル酸メチル等アクリル重合体、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、アセチルセルロース、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、エポキシアクリロニトリル−ブタジェン−
スチレン共重合体等が用いられる。
できるあらゆる材料が使用可能であり、具体的にはポリ
塩化ビニル、弗素置換エチレン重合体、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、ポリメタクリ
ル酸メチル等アクリル重合体、ポリスチレン、ポリビニ
ルブチラール、アセチルセルロース、スチレン−ブタジ
ェン共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、エポキシアクリロニトリル−ブタジェン−
スチレン共重合体等が用いられる。
場合によっては鉄、ステンレス、アルミニウム、スズ、
銅、亜鉛等の金属シート、合成紙、紙、また繊維強化プ
ラスチック、磁性体等金属粉末とプラスチックの複合材
、セラミックス等用途に応じて多種多様のものが使用可
能である。熱論透明基材に用いられるものを使用しても
よい。
銅、亜鉛等の金属シート、合成紙、紙、また繊維強化プ
ラスチック、磁性体等金属粉末とプラスチックの複合材
、セラミックス等用途に応じて多種多様のものが使用可
能である。熱論透明基材に用いられるものを使用しても
よい。
実施例１
実施例１として注型成形によって情報記録媒体用基板を
作成した。
作成した。
基材として鏡面を有する厚さ２．３ｍｍのガラス板を用
い、その上に真空蒸着法により厚さ１０００〜３０００
人のクロム膜を形成した。この厚みはプレフォーマット
パターンの深さに硬化する樹脂の収縮率を考慮した値と
する。更に、該クロム膜の上にポジ型フォトレジストを
スピンコード法により厚さ１０００人となる様に塗布し
た。次にプリフォーマットパターンに対応して形成され
たマスクを介して光照射を行って露光した後、現像して
フォトレジスト下面のクロム膜を露出させた。
い、その上に真空蒸着法により厚さ１０００〜３０００
人のクロム膜を形成した。この厚みはプレフォーマット
パターンの深さに硬化する樹脂の収縮率を考慮した値と
する。更に、該クロム膜の上にポジ型フォトレジストを
スピンコード法により厚さ１０００人となる様に塗布し
た。次にプリフォーマットパターンに対応して形成され
たマスクを介して光照射を行って露光した後、現像して
フォトレジスト下面のクロム膜を露出させた。
プリフォーマットパターンは第５図に示すようにトラッ
ク溝の幅ａ＝３μｍ、）ラック部の幅ｂ＝１２μｍ、情
報ビット２はθ＝６０°、ｍ＝１０μｍ、ｄ＝６μｍで
ピッチは１０μｍのパターンとした。
ク溝の幅ａ＝３μｍ、）ラック部の幅ｂ＝１２μｍ、情
報ビット２はθ＝６０°、ｍ＝１０μｍ、ｄ＝６μｍで
ピッチは１０μｍのパターンとした。
次にプリフォーマットパターン部が露出したクロム膜部
を６規定塩酸で基台のガラスが露出するまでエツチング
を行った後、十分に洗浄して乾燥させた。次に残存フォ
トレジストを酸素プラズマ灰化法により灰化除去し、プ
リフォーマットパターンを形成した注型成形用の型を得
た。
を６規定塩酸で基台のガラスが露出するまでエツチング
を行った後、十分に洗浄して乾燥させた。次に残存フォ
トレジストを酸素プラズマ灰化法により灰化除去し、プ
リフォーマットパターンを形成した注型成形用の型を得
た。
これを注型成形用の型としてその型と同じ大きさの鏡面
を有する厚さ３ｍｍのガラス板をスペーサを介して設置
し注型成形装置とした。
を有する厚さ３ｍｍのガラス板をスペーサを介して設置
し注型成形装置とした。
該装置に、重合促進剤を加えたアクリル樹脂のプレポリ
マーを注入し１００℃で１０時間硬化させた後脱型し、
得られた情報記録媒体用基板のプリフォーマットの情報
ピットの周辺部の欠けやクラック等の欠陥の発生状況を
検査した。その後、該基板の凹凸プリフォーマット面上
にシアニン系色素をスピンコードによつて厚さＯ−、１
μｍに塗布し、その上に保護基材をエチレン−酢酸ビニ
ル系接着剤からなる接着層を介して接着し、情報記録媒
体を作成した。
マーを注入し１００℃で１０時間硬化させた後脱型し、
得られた情報記録媒体用基板のプリフォーマットの情報
ピットの周辺部の欠けやクラック等の欠陥の発生状況を
検査した。その後、該基板の凹凸プリフォーマット面上
にシアニン系色素をスピンコードによつて厚さＯ−、１
μｍに塗布し、その上に保護基材をエチレン−酢酸ビニ
ル系接着剤からなる接着層を介して接着し、情報記録媒
体を作成した。
実施例２
ピット形状をθ＝９０°、ｍ＝１０μｍ、１＝４μｍ、
ｄ＝６μｍとし、ピッチを１０μｍにした他は実施例１
と全く同様にして注型成形法で得られた情報記録媒体用
基板のプリフォーマットの情報ピットの周辺部の欠けや
クラック等の欠陥の発生状況を検査した。その後、実施
例１と同様にして情報記録媒体を作成した。
ｄ＝６μｍとし、ピッチを１０μｍにした他は実施例１
と全く同様にして注型成形法で得られた情報記録媒体用
基板のプリフォーマットの情報ピットの周辺部の欠けや
クラック等の欠陥の発生状況を検査した。その後、実施
例１と同様にして情報記録媒体を作成した。
比較例１
ピット形状を縦６μｍ、横６μｍの正方形として、該ピ
ットを第１１図の様に配置した以外は実施例１と全（同
様にして情報記録媒体用基板を作成し、欠陥の発゛生状
況を検査した。その後、実施例１と同様にして情報記録
媒体を作成した。
ットを第１１図の様に配置した以外は実施例１と全（同
様にして情報記録媒体用基板を作成し、欠陥の発゛生状
況を検査した。その後、実施例１と同様にして情報記録
媒体を作成した。
以上の結果として情報記録媒体用基板の情報ピットの周
辺部の欠け、クラック等の欠陥発生率を第１表に示した
。
辺部の欠け、クラック等の欠陥発生率を第１表に示した
。
第 １ 表
実施例３
実施例３として情報記録媒体用基板を圧縮成形により作
成した。基材として鏡面を有する厚さ２．３ｍｍの超硬
金属を用いその上にスパッタリングによって厚さ１００
０〜３０００人のＴｉＮ膜を成膜した。この厚みはプリ
フォーマットパターンの深さの値である。
成した。基材として鏡面を有する厚さ２．３ｍｍの超硬
金属を用いその上にスパッタリングによって厚さ１００
０〜３０００人のＴｉＮ膜を成膜した。この厚みはプリ
フォーマットパターンの深さの値である。
次に該ＴｉＮ膜上にポジ型フォトレジストをスピンコー
ド法により厚さ１０００人となる様に塗布した後、該フ
ォトレジスト上に前述の形状のプリフォーマットパター
ンに対応して形成されたマスクを介して光照射を行って
露光し、現像を行ってフォトレジスト下面のＴｉＮを露
出させた。
ド法により厚さ１０００人となる様に塗布した後、該フ
ォトレジスト上に前述の形状のプリフォーマットパター
ンに対応して形成されたマスクを介して光照射を行って
露光し、現像を行ってフォトレジスト下面のＴｉＮを露
出させた。
プリフォーマットパターンは実施例１と同様にトラック
溝の幅ａ＝３μｍ、 トラック部の幅ｂ＝１２μｍ、
情報ピットはθ＝６０°ｌｍ＝６μｍでピッチｅ＝１０
μｍのパターンとした。
溝の幅ａ＝３μｍ、 トラック部の幅ｂ＝１２μｍ、
情報ピットはθ＝６０°ｌｍ＝６μｍでピッチｅ＝１０
μｍのパターンとした。
次にプリフォーマットパターン部が露出したＴｉＮ膜の
ドライエツチングを行った後、残存フォトレジストを酸
素プラズマ灰化法により灰化除去し、プリフォーマット
パターンを形成した圧縮成形用の型を得た。この型を用
いて圧縮成形装置を構成し、この装置に厚さ０．４ｍｍ
のポリメチルメタクリレートフィルムを挿入して最高温
度１２０〜１３０℃、最高圧力１００ ｋ ｇ ｆ ／
ｃｄで圧縮成形し、該フィルムの片面に凹凸プリフォ
ーマットパターンを転写して情報記録媒体用基板を作成
し、情報ピット周辺部の欠陥の発生状況を検査した。そ
の後、実施例１と同様にして情報記録媒体を作成した。
ドライエツチングを行った後、残存フォトレジストを酸
素プラズマ灰化法により灰化除去し、プリフォーマット
パターンを形成した圧縮成形用の型を得た。この型を用
いて圧縮成形装置を構成し、この装置に厚さ０．４ｍｍ
のポリメチルメタクリレートフィルムを挿入して最高温
度１２０〜１３０℃、最高圧力１００ ｋ ｇ ｆ ／
ｃｄで圧縮成形し、該フィルムの片面に凹凸プリフォ
ーマットパターンを転写して情報記録媒体用基板を作成
し、情報ピット周辺部の欠陥の発生状況を検査した。そ
の後、実施例１と同様にして情報記録媒体を作成した。
比較例２
情報ピットのピット形状を縦６μｍ、横６μｍの正方形
として、該ピットを第６図の様に配置した以外は実施例
３と全く同様にして情報記録媒体用基板を作成し、情報
ピット周辺部の欠陥の発生状況を検査した。
として、該ピットを第６図の様に配置した以外は実施例
３と全く同様にして情報記録媒体用基板を作成し、情報
ピット周辺部の欠陥の発生状況を検査した。
その後、実施例１と同様にして情報記録媒体を作成した
。
。
以上の結果として情報記録媒体用基板の情報ピットの周
辺部の欠け、クラック等の欠陥発生率を第２表に示す。
辺部の欠け、クラック等の欠陥発生率を第２表に示す。
但し圧縮成形の場合、使用回数が増加するにつれて該基
板の欠陥発生率が増加するため成形用型の使用回数を０
〜１００回、１０１〜３００回、３０１〜５００回に分
けて、そこから得られた３種類の基板について欠陥発生
率を算出した。
板の欠陥発生率が増加するため成形用型の使用回数を０
〜１００回、１０１〜３００回、３０１〜５００回に分
けて、そこから得られた３種類の基板について欠陥発生
率を算出した。
第 ２ 表
なお、上記第１表及び第２表の欠陥発生率とは凹凸プリ
フォーマットを有する基板を作成し、その凹凸プリフォ
ーマットの周辺部に１ケ所でも欠けやクラックが生じて
いた場合には欠陥ありとして、 （欠陥の発生した基板の数／作成した基板の数）×１０
０ で算出した値である。
フォーマットを有する基板を作成し、その凹凸プリフォ
ーマットの周辺部に１ケ所でも欠けやクラックが生じて
いた場合には欠陥ありとして、 （欠陥の発生した基板の数／作成した基板の数）×１０
０ で算出した値である。
以上、本発明によれば型成形により作成される凹凸プリ
フォーマットを有する情報記録媒体用基板のプリフォー
マット、特に情報ピットの周辺部の欠けやクラック等を
抑えることができ、該基板を用いて作成した情報記録媒
体の歩留まりが良くなり、低コストとすることができる
。
フォーマットを有する情報記録媒体用基板のプリフォー
マット、特に情報ピットの周辺部の欠けやクラック等を
抑えることができ、該基板を用いて作成した情報記録媒
体の歩留まりが良くなり、低コストとすることができる
。
以上説明したように本発明は、
（１）情報記録媒体用基板の凹凸プリフォーマットの周
辺部の欠けやクラック等の欠陥を低減し、 （２）プリフォーマットパターンの精度が向上し、 （３）情報記録媒体の信頼性を高める、効果を有する。
辺部の欠けやクラック等の欠陥を低減し、 （２）プリフォーマットパターンの精度が向上し、 （３）情報記録媒体の信頼性を高める、効果を有する。
第１図は本発明に係る情報記録媒体用基板の成形用型の
一実施態様を示す平面図。 第２図は本発明に係る情報記録媒体用基板の凹凸プリフ
ォーマットパターンが有する情報ピットの形状の他の実
施態様。 第３図は本発明に係る情報記録媒体用基板を用いて形成
された情報記録媒体の一実施態様の平面図。 第４図は第３図をＡ−Ａ’で切断したときの情報記録媒
体の断面図。 第５図は本発明の実施例１の説明図。 第６図は従来の情報記録媒体用基板の成形用型の平面図
。 第７図は情報記録媒体用基板の情報ビット部の周辺に欠
けによる欠陥を示した図。 第８図は第７図をＢ−Ｂ’で切断したどきの断面図。 １はトラック溝、２は情報ビット、３は保護基板、”４
は接着層、５は記録層、６は情報記録媒体用基板、７は
欠け。 γ１旧 γ２０ 事′３（￥］
一実施態様を示す平面図。 第２図は本発明に係る情報記録媒体用基板の凹凸プリフ
ォーマットパターンが有する情報ピットの形状の他の実
施態様。 第３図は本発明に係る情報記録媒体用基板を用いて形成
された情報記録媒体の一実施態様の平面図。 第４図は第３図をＡ−Ａ’で切断したときの情報記録媒
体の断面図。 第５図は本発明の実施例１の説明図。 第６図は従来の情報記録媒体用基板の成形用型の平面図
。 第７図は情報記録媒体用基板の情報ビット部の周辺に欠
けによる欠陥を示した図。 第８図は第７図をＢ−Ｂ’で切断したどきの断面図。 １はトラック溝、２は情報ビット、３は保護基板、”４
は接着層、５は記録層、６は情報記録媒体用基板、７は
欠け。 γ１旧 γ２０ 事′３（￥］
Claims (3)
- （１）凹凸プリフオーマツトが形成されている基板を有
する情報記録媒体において凹凸プリフオーマツトの情報
ピット部が多角形で、少なくともその１つの対角線が記
録プリフオーマツトパターンのトラックにほぼ平行であ
ることを特徴とする情報記録媒体。 - （２）凹凸プリフオーマツトを有する情報記録媒体用基
板を型成形により製造する方法において、型面に形成さ
れている凹凸プリフオーマツトパターンの情報ピット部
が多角形で、少なくともその１つの対角線が記録プリフ
オーマツトパターンのトラックにほぼ平行である成形型
を用いることを特徴とする情報記録媒体用基板の製造方
法。 - （３）凹凸プリフオーマツトパターンを有する情報記録
媒体用基板の型成形用型において、型面に形成されてい
る凹凸プリフオーマツトパターンの情報ピット部が多角
形で少なくともその１つの対角線が記録プリフオーマツ
トパターンのトラックにほぼ平行であることを特徴とす
る情報記録媒体用基板の成形用型。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63015237A JP2578459B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 |
| US07/301,145 US4956214A (en) | 1988-01-25 | 1989-01-25 | Information recording medium, production process and molding die for substrate therefor |
| EP89300677A EP0326342B1 (en) | 1988-01-25 | 1989-01-25 | Information recording medium, production process and molding die for substrate therefor |
| DE89300677T DE68910546T2 (de) | 1988-01-25 | 1989-01-25 | Informationsaufzeichnungsmedium, Herstellungsverfahren und Prägematrize des Substrates dafür. |
| US07/544,652 US5073101A (en) | 1988-01-25 | 1990-06-27 | Information recording medium, production process and molding die for substrate therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63015237A JP2578459B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01191349A true JPH01191349A (ja) | 1989-08-01 |
| JP2578459B2 JP2578459B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=11883262
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63015237A Expired - Fee Related JP2578459B2 (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 情報記録媒体、情報記録媒体用基板の製造方法及び情報記録媒体用基板の成形用型 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4956214A (ja) |
| EP (1) | EP0326342B1 (ja) |
| JP (1) | JP2578459B2 (ja) |
| DE (1) | DE68910546T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5085925A (en) * | 1987-08-12 | 1992-02-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical recording medium |
| US5234633A (en) * | 1987-12-28 | 1993-08-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Cast molding die and process for producing information recording medium using the same |
| DE68921453T2 (de) * | 1988-12-28 | 1995-07-13 | Canon Kk | Informationsaufzeichnungsträger. |
| EP0408763B1 (en) * | 1989-01-11 | 1997-06-04 | Seiko Epson Corporation | Optical disk and method of manufacturing the same |
| JPH0354742A (ja) * | 1989-07-21 | 1991-03-08 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 光ディスク、その製造方法および読み取り方法 |
| JP2859715B2 (ja) * | 1989-08-10 | 1999-02-24 | キヤノン株式会社 | 記録媒体用基板及びその製造方法、記録媒体、記録方法、記録再生方法、記録装置、記録再生装置 |
| US5344683A (en) * | 1989-10-27 | 1994-09-06 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium with phase grooves in land portions of information recording areas |
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| JPH03225650A (ja) * | 1990-01-31 | 1991-10-04 | Sony Corp | 光ディスクシステム |
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| JP3093363B2 (ja) * | 1991-10-14 | 2000-10-03 | パイオニア株式会社 | 光学式情報記録再生装置及び方法 |
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| JP3224901B2 (ja) * | 1993-05-06 | 2001-11-05 | パイオニア株式会社 | 光ディスク、光ディスク再生装置及び光ディスクの記録再生方法 |
| DE69518786T2 (de) * | 1994-04-27 | 2001-03-15 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Informationsaufzeichnungsträger und Verfahren zu seiner Herstellung |
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| US20100215794A1 (en) * | 2007-09-06 | 2010-08-26 | Entire Technology Co., Ltd. | Diffusion film molding tool & manufacturing process thereof |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US3501586A (en) * | 1966-09-01 | 1970-03-17 | Battelle Development Corp | Analog to digital to optical photographic recording and playback system |
| CA1165871A (en) * | 1978-11-08 | 1984-04-17 | Kornelis Bulthuis | Optically inscribable record carrier |
| US4509162A (en) * | 1980-10-28 | 1985-04-02 | Quixote Corporation | High density recording medium |
| JPS57158047A (en) * | 1981-03-24 | 1982-09-29 | Toshiba Corp | Optical information recording medium |
| JPS5835742A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-03-02 | Victor Co Of Japan Ltd | 情報記録媒体円盤の製作に用いられるスタンパの製作法 |
| JPS6010431A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-19 | Canon Inc | 光学的記録媒体 |
| JPS613339A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-09 | Hitachi Ltd | 高密度情報記録円板複製用スタンパおよびその製造方法 |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63015237A patent/JP2578459B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-01-25 US US07/301,145 patent/US4956214A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-01-25 DE DE89300677T patent/DE68910546T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-25 EP EP89300677A patent/EP0326342B1/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-06-27 US US07/544,652 patent/US5073101A/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|
| JP2578459B2 (ja) | 1997-02-05 |
| EP0326342A2 (en) | 1989-08-02 |
| US4956214A (en) | 1990-09-11 |
| US5073101A (en) | 1991-12-17 |
| EP0326342B1 (en) | 1993-11-10 |
| EP0326342A3 (en) | 1990-09-12 |
| DE68910546D1 (de) | 1993-12-16 |
| DE68910546T2 (de) | 1994-03-24 |
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|---|---|---|---|
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