JPH03235233A - 情報記録媒体用基板の成形用ロール型の製造方法及びそれを用いた情報記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光記録媒体の基板に凹凸プリフォーマットパタ
ーンを形成するロール形状の型またはスタンパ−の製造
方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、各種情報の記録には、磁気テープ、磁気ディスク
等の磁気材料、各種半導体メモリー等が主として用いら
れてきた。この様な磁気メモリー半導体メモリーは情報
の書き込みおよび読みだしが容易に行なえるという利点
はあるが、反面、情報の内容を容易に改ざんされたり、
また高密度記録ができないという問題点があった。かか
る問題点を解決するために、多種多様の情報を効率よく
取り扱う手段として、光記録媒体による光学的情報記録
方法が提案され、そのための光学的情報記録担体、記録
再生方法、記録再生装置が提案されている。

かかる情報記録担体としての光記録媒体は、−般にレー
ザー光を用いて情報記録担体上の光記録層の一部を揮散
させるか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形
を生じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情
報を記録し、あるいは再生を行なっている。この場合、
光記録層は情報を書き込み後、現像処理などの必要がな
く、「書いた後に直読する」ことのできる、いわゆるＤ
ＲＡＷ（ダイレクト　リード　アフター　ライト）媒体
であり、高密度記録が可能であり、また追加書き込みも
可能であることから、情報の記録・保存媒体として有効
である。

第７図は、光記録媒体の模式的断面図である。同第７図
において、４１は透明基板、４２はトラック溝部、４３
は光記録層、４４はスペーサー・接着層、４５は保護基
板である。第７図において、情報の記録・再生は透明基
板４１およびトラック溝部４２を通して光学的に書き込
みと読みだしを行なう。この際、トラック溝部の微細な
凹凸を利用してレーザー光の位相差によりトラッキング
を行なえる様にしである。

この様に、光記録媒体の基板にはトラック溝やアドレス
ピット等となる凹凸プリフォーマットが形成されている
。

この凹凸プリフォーマットの基板への形成は、例えば、
従来のビデオディスク、オーディオディスクなどでは、
一般にあらかじめ凹凸形状を形成されたスタンバ−を用
いて、プレス法、射出成型法または紫外線硬化樹脂法を
用いて透明樹脂基板にスタンバ−の凹凸形状を転写して
いる。上記の方法は一般に枚葉工程であるが、例えば、
特開昭５６−８７２０３号公報、特開昭５６−８６７２
１号公報などのように、第８図に示すようにロール形状
のスタンバ−または金型５２を用いて透明樹脂シート５
１に凹凸パターンを連続で形成する方法も広く用いられ
ている。上記先行技術では第４図に示すように、ロール
１１にスタンバ−１２を接着剤や両面テープで貼り付け
るか、あるいはネジ止めによって固定している。このス
タンバ−１２は一般にフォトリソ工程でパターンを形成
した後に、現像、導電化処理をしてからニッケル電鋳し
て製造しているが、これらの工程は多大な時間を要する
上に、製造費用も高く実用的ではないという問題点があ
った。またスタンバ−とロールを接着することなく、ネ
ジなどで固定するときは、スタンバ−とロールの間の空
気を完全に追い出して密着させるのが困難である。スタ
ンバ−とロールの間に空気が入ると、スタンバ−の表面
に凹凸を生じ、その凹凸が樹脂に転写して光記録媒体の
基板の品質を低下させてしまうという問題点もある。そ
の上、スタンバ−が薄いと強度が不足するため、耐久性
が悪くなってしまい、その反対にスタンバ−が厚いと剛
性が高くなって、ロールに巻き付けるのが、難しくなる
だけでなく、熱伝導率も悪くなってしまうという問題点
もある。

印刷機械入門および新・感光性樹脂（印刷学会出版部）
には、第５図、第６図に示すような一般的な製版の技術
が記載されている。第５図ではあらかじめパターンの形
成されているマスク２２の上をロール２１を転がしなが
ら電子線または電磁波を照射してマスクのパターンをロ
ールに転写している。また第６図の方法では感光樹脂な
どを塗ったロール３１を軸を中心に回転させながら光ビ
ーム３２を一方向にスキャンさせてパターンを直接描画
している。しかしながら光記録媒体のパターンはサブミ
クロンと微細であるために第５図の方法ではサブミクロ
ンのパターンの線幅を転写するのは、光学的な分解能か
ら現在ではまだ不可能である。また第６図の方法ではロ
ールとビームを連動させながらスパイラルパターンをサ
ブミクロンの精度で位置を正確に出して描画しなければ
ならず、この両省の機械的な制御が困難である。またロ
ールの軸受けやロール表面の平面度も精度が要求される
ために、ロールの加工も困難になっている。このように
一般的な製版技術の応用では光記録媒体用のロール型を
製作するのは困難である。

〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は上記問
題点に鑑みなされたものである。

即ち本発明は、情報記録媒体用基板に凹凸プリフォーマ
ットを連続的に精度良く形成することができる。情報記
録媒体用基板の成形用ロール型を、より簡単に作ること
ができる。情報記録媒体用基板の成形用ロール型の製造
方法を提供することを目的とするものである。

また本発明は量産性に優れ、低コストで高品質の情報記
録媒体を得ることができる情報記録媒体の製造方法を提
供することを目的とするものである。

〔問題点を解決するための手段〕

即ち、本発明の情報記録媒体用基板の成形用ロール型の
製造方法は、情報記録媒体用基板に凹凸プリフォーマッ
トを連続的に形成する情報記録媒体用基板の成形用ロー
ル型の製造方法において、該凹凸プリフォーマットに対
応する凹凸プリフォーマットパターンが形成された原版
の上に液状樹脂を塗布して樹脂層を形成し、該凹凸プリ
フォーマットパターンが転写された樹脂層をロール基材
表面に、該樹脂層の凹凸プリフォーマットパターン形成
面を外側にして固定することを特徴とする、ものである
。また本発明情報記録媒体用基板の製造方法は、凹凸プ
リフォーマットを有する、情報記録媒体用基板を連続的
に製造する方法に於て、該凹凸プリフォーマットに対応
する凹凸プリフォーマットパターンが形成された原版の
上に樹脂層を形成して、次いで該凹凸プリフォーマット
パターンが転写された液状樹脂を塗布して樹脂層を形成
し、該凹凸プリフォーマットパターンが転写された樹脂
層をロール基材表面に該樹脂層の凹凸プリフォーマット
パターン形成面を外側にして固定してなる、ロール型を
用いて情報記録媒体用基板に凹凸プリフォーマットを形
成することを特徴とするものである。

即ち本発明によれば従来の様にＮｉの電鋳を行なう必要
がなく、また、従来の製版技術を用いて、スタンパ−を
作成するのに比べても高精度のスタンバ−を得ることが
でき、従来よりも簡単に高精度のロール型を得ることが
できる。

〔課題を解決するための手段〕

以下、本発明の詳細な説明する。第１図〜第３図は本発
明の光記録媒体のロール型の製造方法の−実施態様を示
す断面図である。同第１図において、本発明の光記録媒
体のロール型の製造方法は、凹凸パターン３が表面に形
成された原版またはスタンパ−１の表面に樹脂層２が一
定の厚さで形成されている。第２図に示すように、この
樹脂層２を硬化させた後に、ローラー４の表面に同樹脂
層を転写して固定する。または第３図に示すように樹脂
層２を硬化させた後に、原版またはスタンバ−１から剥
離して、ローラー４の回りに硬化した樹脂層を巻き付け
て固定することもできる。

本発明における原版ｌは、必要な精度の凹凸を形成する
ことができる方法であれば、いづれの方法・材料でも用
いることが出来るが、例えば、一般にＣＤ（コンパクト
ディスク）などに用いられている原版またはスタンバ−
を用いることができる。その製法は一般にＣＤ　（コン
パクトディスク）などに用いられている製法で作成する
ことができ、具体的には、ガラス原盤にレジストを塗布
して、パターンを露光、現像してから、ニッケルをスパ
ッターで成膜して、電鋳して所定の厚さまでニッケルを
析出させる。こうして得られた第二原盤をファーザーと
して、第三原盤（マザー）および孫スタンバ−を作成し
ても良い。その他の方法としては、原版を製作する方法
を用いることもできる。具体的にはクロムなどの金属層
を形成しであるガラス板にレジストを壁布して、パター
ンを露光、現像してから金属層をエツチングなどによっ
て一部除去して凹凸パターンを形成する。この原版から
露光によって上記スタンパ−を形成しても良い。その他
にガラス原版にパターンを形成してからドライまたはウ
ェットエツチングによって凹凸を形成しても良い。材質
も上記以外に、金属または金属化金物、ガラス、セラミ
クス等を用いることができる。原版またはスタンパ−１
の厚さは、本発明では硬化した樹脂層２を機械的に剥が
すのである程度の剛性がある方が望ましい。用いられる
範囲としては、原版またはスタンバ−１の材質によるが
、一般に、１００μｍ以上あれば良く、より好ましい厚
さは４００〜５０００　μｍである。

原版またはスタンバ−１の表面に形成する樹脂層２の材
料は原版またはスタンパ−１の上に均一な厚さに形成で
きて、微細なパターンを精度良く転写できて、かつその
微細なパターンを形成した後にそのパターンを維持でき
るように加工・硬化できる材料であれば、いづれの材料
でも用いることができるが、例えばアクリル系樹脂など
の放射線硬化性樹脂、エポキシ系樹脂などの熱硬化性樹
脂などを用いることができる、また何れの樹脂の場合で
もその硬化収縮率は５％以下特に１％以下が好ましい。

その他に塩化ビニル樹脂等の溶剤塗布できるものを用い
ることができる。

更に、熱成形性を有する放射線硬化樹脂も用いることか
できる。

この様な材料としては、次のようなラジカル重合性不飽
和基を有する化合物がある。

（１）ガラス転移温度が０〜２５０℃のポリマー中に、
ラジカル重合性不飽和基を有するもの。より具体的には
、ポリマーとしては以下の化合物■〜■を重合もしくは
共重合させたものに対し、後述する方法（ａ）〜（ｄ）
によりラジカル重合性不飽和基を導入したもの。

■水酸基を有する単量体重Ｎ−メチルアクリルアミド、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエ
チルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレ
ート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−ヒ
ドロキシブチルアクリレート、２−ヒドロキシブチルメ
タクリレ−）、２−ヒドロキシン、３−フェノキシブチ
ルアクリレート、３−フェノキシブチルメタクリレート
など。

■カルボキシル基を有する単量体ニアクリル酸、メタク
リル酸、アクロイルオキシエチルモノサクシネートなど
。

■エポキシ基を有する単量体ニゲリシジルメタクリレー
トなど。

■アジリジニル基を有する単量体：２−アジリジニルエ
チルメタクリレート、２−アジリジニルオウロビオン酸
アリルなど。

■アミノ基を有する単量体ニアクリルアミド、メタクリ
ルアミド、ダイア七トンアクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタク
リレートなど。

■スルフォン基を有する単量体＝２−アクリルアミドー
２−メチルプロパンスフオン酸など。

■イソソアネート基を有する単量体重２．４−トルエン
ジイソアネートと２−ヒドロキシエチルアクリレートの
１モル対１モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジカル重合性単量体の付加物など。

■さらに、上記共重合体のガラス転移点を調整したり、
硬化膜の物性を調整したりするために、上記化合物と、
この化合物と共重合可能な以下のような単量体と共重合
させることもできる。このような共重合可能な単量体と
しては、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリ
レート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、
プロピルアクリレート、ブチルメタクリレート、ブチル
アクリレート、イソブチルメタクリレート、イソブチル
アクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチル
アクリレート、イソアミルメタクリレート、イソアミル
アクリレート、シクロへキシルアクリレート、シクロへ
キシルメタクリレート、Ｎ−メチロールメラミンアクリ
レート、２−エチルへキシルメタクリレート、２−エチ
ルへキシルアクリレートなどが挙げられる。

次に上述のようにして得られた重合体を、以下に述べる
方法（ａ）〜（ｄ）により反応させ、ラジカル重合性不
飽和基を導入することによって、この発明に係わる材料
を得ることができる。

（ａ）水酸基を有する単量体の重合体、または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体を縮合反応させる。

（ｂ）カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体、または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。

（ｃ）エポキシ基、イソシアネート基、あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共加反応させる
。

（ｄ）水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体、あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の１モル対１モルの付加物を付加反応させる
。上記の反応を行なうには微量のハイドロキノンなどの
重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが
好ましい。

（２）熟成型性を有する樹脂として本発明に使用可能な
別な材料は、融点が０〜２５０℃で、ラジカル重合性不
飽和基を有する化合物である。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリアクリル
イソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジアクリレ
ート、ソクロヘキサンジオールジメタクリレート、スピ
ログリコールジメタクリレート、スピログリコールジア
クリレートなどが挙げられる。このようなラジカル重合
性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を向
上させ耐熱性を向上させるものであって、前述の単量体
の他にエチレングリコールジアクリレート、エリレンゲ
リコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジオー
ルジメタクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート
、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロ
ールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエ
リスリトールへキサアクリレート、ジペンタエリスリト
ールへキサメタクリレート、エチレングリコールジグリ
シジルエーテルジアクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジメタクリレート、ホリエチレング
リコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレー
ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジアク
リレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジメタクリルレート、ソルビトールテ
トラジグリシジルエーテルアクリレート、ソルビトール
テトラジグリシジルエーテルメタクリレートなどを用い
ることができ、前述した共重合体皇后物の固形分１００
菫量部に対して、０．１〜１００重量部で用いることが
好ましい。また、上記のものは電子線により充分に硬化
可畦であるが、紫外線によって硬化させる場合には、増
感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロゲン化ア
セトフェノン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラ
ジカルを発生するものも用いることができる。

この樹脂液層の成型条件は、加熱温度は、好ましくは５
０〜３００℃、より好ましくは１００〜２００℃以上が
好ましい。加える圧力は０．１ｋｇ／ｃｍ以上が良く、
好ましくは１．Ｏｋｇ／ｃ＋ｒｒ以上が良い。また、必
要に応じて硬化した樹脂層２の上に金属層を設けても良
い。

樹脂層の形成の仕方は一般に樹脂のコーティングに用い
られている方法であればいづれの方法でも用いることが
できるが、例えば、スプレーコート、ディッピング、ロ
ールコータ−などによる溶剤塗布を用いると厚み精度良
（形成できる。原版またはスタンバ−１の上に形成して
凹凸パターン３を樹脂層２に転写する。原版またはスタ
ンバ−１上に形成する樹脂層２の厚さは用いる樹脂によ
って、いづれの厚さでも用いることができるが、０．１
〜５０００μｍの範囲が好ましい。また必要に応じてレ
ベリング、予備硬化の工程を加えても良い。次に図１に
示すように凹凸パターン３が樹脂層２に形成されたら凹
凸パターンを維持できるように樹脂層２を硬化させる。

樹脂層２を硬化させる方法としては、用いる樹脂によっ
て最適な方法を選択するのが好ましいが、例えば、紫外
線または電子線を用いても良い。溶剤塗布の場合は必要
に応じて乾燥装置を用いても良い。その他の手段として
加熱、加圧を用いることも可能である。硬化前の樹脂層
２の粘度が高くて、原版と樹脂層２の間に空気が入り易
い場合には、粘度の高い樹脂の上に粘度の低い樹脂層を
重ねて形成することによって空気の混入を防止すること
も出来る。

第２．３図に示すように、硬化した樹脂層２を原版から
剥離してロール４の表面に固定する。第２図で示した方
法ではロール４を樹脂層２の上に転がせてローラー４の
表面に樹脂層２を転写する。ロール基材４と樹脂層２の
形成されたスタンバ−または原版ｌの接触圧力およびロ
ール４を転がせる際の圧力および速度はロール４と樹脂
層２の間に空気が入らなく、かつ凹凸パターンが変形し
ない圧力・速度であれば、いづれの圧力・速度でも用い
ることができるがその圧力は、ロール型の耐久性などの
点から好ましい圧力は１０．０ｋｇ／ｃ　ｄ以下、特に
８ｋｇ／ｃｒｒｆ以下である。また速度は空気を押し出
すためになるべく遅い速度で転がせるのが良く、好まし
い速度は１０ｍ／分以下である。硬化した樹脂層２とロ
ール４の固定方法は、いづれの方法でも用いることがで
きるが、例えば接着剤を用いた接着、溶剤接着等を用い
ることができる。接着は、接着剤または溶剤を樹脂層２
またはロール４の少なくとも片側にコートすることで容
易に行なうことができる。

ここで用いる接着剤としては耐熱性の接着剤、例えばエ
ポキシ接着剤が好ましい。

第３図に示した方法では硬化した樹脂層２を原版または
スタンバ−１から剥離する。剥離する方法はいづれの方
法でも用いることができる。例えば吸引チャックした端
から剥がしても良い。剥離した樹脂層２は第２図の方法
と同じようにしてロール４の表面に固定することができ
る。

本発明におけるロール４は硬度がある程度高く、ある程
度の剛性のある材料であれば、どのような材料でも用い
ることができるが、例えば、鉄、クロム鋼などの金属や
金属化合物および硬質塩化ビニルなどの樹脂などを用い
ることができ、特に鏡面加工の容易なりロム綱は好まし
い。ロール表面は鏡面に研磨する。面精度は成型する光
記録媒体の面精度と、はぼ同じかまたはそれよりも良い
面精度が必要である。具体的には表面の凹凸が三次元測
定機（カールツアイス製）で測定したときのピーク間距
離（以後ｐ−ｐと略）が５０μｍ以下であることが好ま
しい。また必要に応じてロール表面に窒化チタンなどの
硬化膜、シリコンなどの保護層を形成することもできる
し、ニッケルやクロムなどのメツキを施すことも可能で
ある。

本発明に於て、ロール型に形成される凹凸プリフォーマ
ットのパターンはトラック溝やアドレスビット等のパタ
ーンであり、具体的には、例えば幅０．５μｍ〜５μｍ
、ピッチ１μｍ〜５μｍ１深さ０．０１μｍ〜０，４μ
ｍのスパイラルや同心円状またはストライブ状の光ディ
スクや光カード用のトラッキンググループのパターンで
ある。

次に本発明のロール型を用いた情報記録媒体用基板の製
造方法としては、樹脂ベレットを溶融して押し出した樹
脂シートへ凹凸を財形する押し出し成形や紫外線硬化樹
脂層に凹凸を財形する２Ｐ法（Ｐｈｏｔｏ　　ｐｏｌｙ
ｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）、予め成形さレタシートを加熱
して軟化させて凹凸を財形するエンボス成形やカレンダ
成形等が挙げられる。特に、熱が加わらないという点で
２Ｐ法が好ましい。

〔実施例〕

以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
。

〈実施例１〉 第１図に示すように、１．６μｍピッチ、０．６μｍ幅
、深さ７００大の連続溝が形成されたニッケル製スタン
バ−（セイコーエプソン製）を２ｍｍ厚のガラス板に貼
り合わせて裏打ちした上に、紫外線硬化樹脂（三菱レイ
ヨン、ＭＲＡ５００）をロールコータ−で５０μｍの厚
さに均一に塗布した。その上に空気が入らないようにし
て、２ｍｍ厚のガラス板をかぶせて密閉した。３ｋＷの
紫外線ランプ（ウシオ電気）を２本設置して、２００ｍ
Ｗ／ｃｔｒ？の強度の紫外線を３０秒間、凹凸パターン
が紫外線の熱で形状変化を起こさないように空冷しなが
ら、紫外線硬化樹脂を硬化させた。その後で樹脂層の上
にのせたガラス板を取り除いて、同じ紫外線ランプを用
いて、３分間紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を完全に
硬化させた。完全に硬化した樹脂層を、第２図に示すよ
うに、ロール径２００ｍｍφの鉄製ロール基材を表面を
研磨して鏡面にした表面上に、同じ紫外線硬化樹脂を塗
布した。そのロール基材を、１、Ｏｋｇ／ｃボの圧力を
加えて、０．１ｍ／分の速度でころがしてスタンバ−か
ら剥がしながらロール基材上に転写して同じ紫外線ラン
プを用いて、３分間紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を
完全に硬化させロール基材上に樹脂層を固定した。その
上に、表面硬度を上げるために、ローラーの表面に１０
０μｍの厚さのニッケル層を無電解メツキで形成した。

スタンバ−に形成されていたプリフォーマットパターン
の転写率は、深さで９７〜１００％であった。ローラー
の表面の凹凸はｐ−ｐで５０μｍ以下で十分小さかった
。樹脂層を転写したローラー表面の偏芯は十分小さく、
３０μｍ以下であった。

このロールを押し出し成型機（日立造船製、商品名５Ｈ
Ｔ９０−３２ＤＶＧ）に取り付けて、２３ｍ／分の速度
で、ダイ温度は２５０℃、ローラー温度６０℃の条件で
、厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート（奇人化成、Ｋ−
１２８５）を押し出し成形した。押し出し成形した基板
を測定してみたところ、面振れ量はｐ−ｐで５０μｍ以
下で十分小さかった。この基板８６ｍｍφに切断して、
下記構造式［ｌ″Ｊで示される、光記録材料を溶剤塗布
した。

［Ｉ］ 保護基板には０　、３　ｍ　ｍ厚のポリカーボネート（
奇人化成、パンライｌ−２５１）を８６ｍｍφに切断し
て、０．３ｍｍのエアーギャップを持つように接着した
。

記録・再生してみたところ。ディスクの回転数１８０Ｏ
ｒｐｍ。

書き込み周波数３　Ｍ　Ｈｚ、書き込みパワー６　ｍ　
Ｗ　、読み出しパワー０．５ｍＷで、Ｃ／Ｎ比で５０ｄ
Ｂであった。

またこのローラーで１万枚相当の光デイスク基板を成形
してもローラー表面の形状に変化はなかった。

〈実施例２〉 実施例１と同じように、実施例１と同じような凹凸パタ
ーンの形成されたガラス基板（旭ガラス）の上に実施例
１と同じ紫外線硬化樹脂を、実施例１と同じ方法で５０
μｍの厚さに均一に塗布した。実施例１と同じガラスで
密閉して、実施例１と同じ紫外線照射装置を用いて、同
じ条件で紫外線硬化樹脂を硬化させた。また後硬化も実
施例】と同じ条件で行なって、完全に樹脂を硬化させた
。硬化した樹脂の片側の端を吸引チャックして剥がして
から、剥がれた端を持って樹脂層全部をスタンバ−から
剥離した。鏡面研磨したロール径２００ｍｍφの鉄製ロ
ールに、エポキシ系接着剤（ＥＰ−００７、セメダイン
）を５０μｍの厚さに塗布した。剥離した樹脂の片側か
ら、空気を巻き込まないように押えつけながら、ロール
に巻き付けた。その後に２４時間常温で放置して接着剤
を硬化させた。できたロールを測定したところ、ガラス
基板のプリフォーマットパターンの転写率は、深さ９８
〜１００％であった。

ローラーの表面の凹凸はｐ−ｐで５０μｍ以下で、十分
小さかった。ロール表面の偏芯は、３０μｍ以下で十分
小さかった。実施例１と同じ方法で一万枚の光デイスク
基板を成型した後でも、表面形状の変化は認められなか
った。成型した基板の特性は面振れ量でｐ−ｐで５０μ
ｍ以下で十分小さかった。

この光デイスク基板を実施例１と同様に光記録層を形成
して記録・再生を行なったところＣ／Ｎ比で５２ｄＢで
あった。

〈実施例３〉 実施例】と同じスタンパ−の上に、実施例１と同じ紫外
線硬化樹脂を、実施例１と同じ方法で５０μｍの厚さに
均一に塗布して、実施例１と同じように密閉して、実施
例１と同じ紫外線照射装置を用いて、同じ条件で硬化さ
せた。また後硬化も実施例Ｉと同じように行なった。実
施例１と同じ方法で、表面が鏡面に研磨されたロール径
２００　ｍ　ｍφのガラス製ロール（コーニング）表面
に実施例１と同じ紫外線硬化樹脂を塗布してから実施例
１と同じように硬化した樹脂層をロール表面に転写して
、固定した。できたローラーを測定してみると、転写率
では、スタンパ−の凹凸パターンを、深さ９５〜１００
％転写していた。ローラーの表面の凹凸はｐ−ｐで５０
μｍ以下と十分小さかった。ロールの中に３ｋＷの紫外
線ランプ（ウシオ電気）を２本人れた。１．２ｍｍ厚の
ポリカーボネート（余人化成、パンライト２０２）の上
に紫外線硬化樹脂（三菱レイヨン、ＭＲＡ５００）を１
０μｍの厚さに塗布して、このロールを用いて、送り速
度３ｍ／分、ロール圧力１．５ｋｇ／ｃｒｒｒ、照射紫
外線強度１８０　ｍ　Ｗ　／　ｃ　ｇで、パターンを転
写しながら硬化させた。その後に実施例１と同じように
ディスクを作成した。この光デイスク基板を実施例１と
同じ条件で記録・再生を行なったところ、Ｃ／Ｎ比で５
３ｄＢであった。

〔発明の効果〕

本発明によれば、精度良く、簡単な機構で成型用ロール
型を製造できるために、安い費用で面精度が良く、パタ
ーンの転写性の良い光記録媒体の製造用ロール型を製造
できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第２図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第３図は本発明の光記録媒体製造用ロール型の概略断面
図である。 第４図は従来の光記録媒体の製造用スタンパ−の貼り付
は方法である。 第５図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第６図は従来の製版方法によるロールのパターン転写方
法である。 第７図は従来の光記録媒体の一般的な断面図である。 第８図は従来の光記録媒体の基板の連続製造法の概略図
である。 １・・・原版またはスタンパ− ２・・・樹脂層 ３・・・凹凸パターン ４・・・ロール基材 １１・・・加圧ローラー １２・・・貼り付けたスタンパ− ２】・・・製版用ロール ２２・・・パターンの形成されたマスク２３・・・パタ
ーン露光用光ビーム ３１・・・製版用ロール ３２・・・パターン露光用光ビーム ４１・・・透明基板 ４２・・・トラック溝部 ４３・・・光記録媒体 ４４・・・スペーサー ４５・・・保護基板 ５１・・・樹脂シート ５２・・・成型用ロール ５３・・・加圧またはテンション用ロール５４・・・巻
き出し用ロール ５５・・・巻き取り用ロール

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）情報記録媒体用基板に凹凸プリフオーマツトを連
   続的に形成する情報記録媒体用基板の成形用ロール型の
   製造方法において、該凹凸プリフオーマツトに対応する
   凹凸プリフオーマツトパターンが形成された原版の上に
   液状樹脂を塗布して樹脂層を形成し、該凹凸プリフオー
   マツトパターンが転写された樹脂層をロール基材表面に
   、 該樹脂層の凹凸プリフオーマツトパターン形成面を外側
   にして固定することを特徴とする情報記録媒体用基板の
   成形用ロール型の製造方法。
2. （２）凹凸プリフオーマツトを有する、情報記録媒体用
   基板を連続的に製造する方法に於て、該凹凸プリフオー
   マットに対応する凹凸プリフオーマツトパターンが形成
   された原版の上に樹脂層を形成して、次いで該凹凸プリ
   フオーマツトパターンが転写された液状樹脂を塗布して
   樹脂層を形成し、該凹凸プリフオーマツトパターンが転
   写された樹脂層をロール基材表面に該樹脂層の凹凸プリ
   フオーマツトパターン形成面を外側にして固定してなる
   、ロール型を用いて情報記録媒体用基板に凹凸プリフオ
   ーマツトを形成することを特徴とする情報記録媒体用基
   板の製造方法。