JPH01196985A - Solid-state image pickup device - Google Patents

Solid-state image pickup device

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JPH01196985A
JPH01196985A JP63021496A JP2149688A JPH01196985A JP H01196985 A JPH01196985 A JP H01196985A JP 63021496 A JP63021496 A JP 63021496A JP 2149688 A JP2149688 A JP 2149688A JP H01196985 A JPH01196985 A JP H01196985A
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JP
Japan
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solid
lead frame
state image
image pickup
imaging device
Prior art date
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Application number
JP63021496A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Kondo
健一 近藤
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPH01196985A publication Critical patent/JPH01196985A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/751Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires
    • H10W90/756Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bond wires between a chip and a stacked lead frame, conducting package substrate or heat sink

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent ghost or flair due to reflection on a read frame by setting the size of a solid-state image pickup element and a read frame or their mount position so that the reflected light made incident via the read frame and the upper face of the inside of the transparent resin is blocked on the side face of the solid-state image pickup element. CONSTITUTION:A sensor chip 1' of the solid-state image pickup element is mounted on a read frame 4', a prescribed wiring is applied by using a wire 3, and the entire part is sealed by using a package 2 of mold forming by a transparent resin. Then various dimensions and mount position such as height of side face of solid-state image pickup element 1', width of reflecting face on read frame 4' around image pickup element 1, are set so that the reflected light made incident from the outside and reflected in the upper face of the seal frame 2 made of the transparent resin and the surface of the read frame 4' and reaching the image pickup face on the solid-state image pickup element 1' is blocked in advance on the side face of the image pickup element 1'. Thus, ghost or flair due to reflection in the read frame 4' is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は透明樹脂等によって封止された固体撮像素子に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a solid-state image sensor sealed with a transparent resin or the like.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、撮像系を始めとして固体撮像素子が広く用い
られている。
2. Description of the Related Art Solid-state imaging devices have been widely used in imaging systems and other applications.

−これらの固体撮像素子の構成は、一般に第6図及び第
7図にそれぞれ示すようなタイプのものがよく知られて
いる。
- Generally, the configurations of these solid-state image sensors are of the type shown in FIGS. 6 and 7, respectively, and are well known.

第6図のタイプではリードフレーム4上にたとえばCO
D等の固体撮像素子のセンサチップ1が配されており、
配線用のワイヤ3によって所定の部分と接続されている
。そしてセンサチップ1は、その表面を含む周囲を透明
の樹脂でモールド成形されたパッケージによって封止さ
れている。
In the type shown in FIG. 6, for example, CO is placed on the lead frame 4.
A sensor chip 1 of a solid-state image sensor such as D is arranged,
It is connected to a predetermined portion by a wiring wire 3. The sensor chip 1, including its surface, is sealed with a package molded with transparent resin.

また第7図のタイプでは、リードフレーム4上にセンサ
チップ1が配線用のワイヤ3とともに配されるとともに
、センサチップ1の表面にガラス板5が透明のアクリル
樹脂または透明のシリコン接着剤で貼着され、さらにそ
の周囲を透明又は不透明の樹脂によって枠組みがモール
ド成形されている。このタイプの従来例としてはたとえ
ば特開昭62−186673号等がある。
In the type shown in FIG. 7, the sensor chip 1 is placed on the lead frame 4 together with wiring wires 3, and a glass plate 5 is pasted on the surface of the sensor chip 1 with transparent acrylic resin or transparent silicone adhesive. A frame is molded around the frame using transparent or opaque resin. A conventional example of this type is, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 186673/1983.

〔発明の解決しようとする問題点〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら上述したような従来のタイプの固体撮像素
子によると、撮像領域の周辺部に強い入射光Pがあフた
場合、第8図に示すように撮像領域内に記号Fで示すよ
うな円形状のゴースト。
However, according to the conventional type of solid-state image sensing device as described above, when strong incident light P hits the periphery of the imaging area, a circular shape as shown by the symbol F is generated within the imaging area as shown in FIG. ghost of.

フレアが発生するという問題があり、特に同図の−よう
な2次元の撮像素子ではきわめて重大な欠点となってい
るのもである。このような撮像領域内に発生するゴース
ト、フレアは、撮像領域の周辺のアルミ電極、映像信号
の黒の基準信号を作るための遮光アルミ層、センサチッ
プを取り付けるためのリードフレーム等に入射光が反射
することによって生じることが考えられる。そして、ア
ルミ電極または遮光アルミといったセンサチップの表面
における反射については、従来、たとえばセラミックパ
ッケージの固体撮像素子で実施されているように、それ
らの反射の生じる部分の上面に色素の層を形成すること
によって反射率を下げるような対策がとられていた。し
かしながら、リードフレームについてみると、たとえば
リードフレーム単体に色素の層を付けると、その後のセ
ンサチップとリードフレームの組み立てにおいて、両者
の導電性を劣化させるため、用いることができず、また
センサチップとリードフレームの組み立て後にリードフ
レーム表面に色素を配することはきわめて難しく、リー
ドフレームにおける反射に起因するゴースト、フレアの
問題についてはも未解決のまま残されていた。
There is a problem in that flare occurs, which is a very serious drawback especially in two-dimensional imaging devices such as the one shown in the figure. Ghosts and flares that occur within the imaging area are caused by the incident light on the aluminum electrodes around the imaging area, the light-shielding aluminum layer for creating the black reference signal of the video signal, the lead frame for attaching the sensor chip, etc. It is thought that this is caused by reflection. Regarding reflections on the surface of the sensor chip, such as aluminum electrodes or light-shielding aluminum, it is conventional practice to form a dye layer on the top surface of the areas where these reflections occur, as is conventionally done, for example, in solid-state image sensors in ceramic packages. Measures were taken to reduce the reflectance. However, when looking at lead frames, for example, if a dye layer is applied to the lead frame alone, it cannot be used in the subsequent assembly of the sensor chip and lead frame because it deteriorates the conductivity of both. It is extremely difficult to apply dye to the surface of the lead frame after the lead frame is assembled, and the problems of ghost and flare caused by reflection on the lead frame remain unsolved.

〔問題点を解決するための手段) 本発明は上述した欠点を除去することを目的としてなさ
れたもので、固体撮像素子をリードフレーム上に配L、
その周囲を透明樹脂で封止された固体撮像装置において
、外部より入射光があった場合、前記リードフレーム及
び前記透明樹脂の内部上面を介して、前記固体撮像素子
上の撮像領域内へと入射される反射光を前記固体撮像素
子の側面で阻止し得る如く前記固体撮像素子と前記リー
ドフレームの寸法または実装位置を設定することにより
、入射光のリードフレーム上における反射に起因して撮
像領域上に発生するゴースト、フレアを防止するように
したものである。
[Means for Solving the Problems] The present invention has been made for the purpose of eliminating the above-mentioned drawbacks, and the present invention has been made with the aim of eliminating the above-mentioned drawbacks.
In a solid-state imaging device whose periphery is sealed with a transparent resin, when there is incident light from the outside, it enters the imaging area on the solid-state imaging device through the lead frame and the internal upper surface of the transparent resin. By setting the dimensions or mounting positions of the solid-state image sensor and the lead frame so that the reflected light that is reflected on the lead frame can be blocked by the side surface of the solid-state image sensor, the reflection of incident light on the lead frame can be prevented. This is designed to prevent ghosts and flares that occur when

また本発明によれば、固体撮像素子をリードフレーム上
に配L、その周囲を透明樹脂で封止された固体撮像装置
において、前記固体撮像素子の側面から前記リードフレ
ーム上の反射率の高い領域の端面までの距離をL、前記
固体撮像素子の前記リードフレーム上における高さをT
、前記固体撮像素子上の撮像面から前記透明樹脂の上面
までの距離をD、前記撮像面の端面から前記固体撮像素
子の側面までの距離をLsとしたとき、の関係となるよ
うに実装することにより、入射光のリードフレーム上に
おける反射に起因して撮像領域上に発生するゴースト、
フレアを防止するようにしたものである。
Further, according to the present invention, in a solid-state imaging device in which a solid-state imaging device is disposed on a lead frame and the periphery thereof is sealed with transparent resin, a region with high reflectance on the lead frame is viewed from a side of the solid-state imaging device. The distance to the end face of the solid-state image sensor is L, and the height of the solid-state image sensor on the lead frame is T.
, where D is the distance from the imaging surface on the solid-state imaging device to the top surface of the transparent resin, and Ls is the distance from the end surface of the imaging surface to the side surface of the solid-state imaging device. As a result, ghosts occur on the imaging area due to reflection of incident light on the lead frame.
This is to prevent flare.

〔実施例〕 以下本発明における固体撮像装置を図面を参照しながら
その一実施例について詳細に説明する。
[Embodiment] Hereinafter, an embodiment of the solid-state imaging device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図(a)は本発明における固体撮像素子の側断面図
、第1図(b)は同部分平面図である。
FIG. 1(a) is a side sectional view of a solid-state image sensing device according to the present invention, and FIG. 1(b) is a partial plan view thereof.

第6図、第7図に示す従来例と同一構成部分については
同一の符号を用いて説明するものとする。
Components that are the same as those of the conventional example shown in FIGS. 6 and 7 will be described using the same reference numerals.

リードフレーム4′上に固体撮像素子のセンサチップ1
′を取り付け、ワイヤ3によって所定の配線を行った後
、透明の樹脂によってモールド成形されたパッケージ2
によって全体を封止されている。図中Tはセンサチップ
1′のリードフレーム4′上からの高さ、Lrはセンサ
チップ1′の端面とリードフレーム4′の端面との間の
距離である。また第1図(b)示すようにセンサチップ
1′を上方より見ると、センサチップ1′の枠体1a内
に撮像領域(イメージエリア)1′bが形成されており
、Lsはイメージエリアt’  bの端面とセンサチッ
プ1′の端面までの距離すなわちセンサチップ1′のイ
メージエリア以外の枠体1’aの幅を示すものである。
A sensor chip 1 of a solid-state image sensor is mounted on a lead frame 4'.
', and after performing the prescribed wiring with the wire 3, the package 2 is molded with transparent resin.
The whole is sealed by. In the figure, T is the height of the sensor chip 1' from above the lead frame 4', and Lr is the distance between the end surface of the sensor chip 1' and the end surface of the lead frame 4'. Further, as shown in FIG. 1(b), when the sensor chip 1' is viewed from above, an imaging area (image area) 1'b is formed within the frame 1a of the sensor chip 1', and Ls is an image area t. It shows the distance between the end surface of 'b and the end surface of the sensor chip 1', that is, the width of the frame 1'a other than the image area of the sensor chip 1'.

ここで撮像装置へと入射した光のリードフレーム4′上
における反射光によってイメージエリア上にゴースト、
フレア等が発生する理由について、第1図においてAで
示す部分を拡大した第2図を用いて解析する。
Here, a ghost appears on the image area due to the reflected light on the lead frame 4' of the light incident on the imaging device.
The reason why flare etc. occurs will be analyzed using FIG. 2, which is an enlarged view of the portion indicated by A in FIG. 1.

第2図において、センサチップ1′の端部から距@ L
 rのリードフレーム4′上の位置aにおいて光線りが
入射されたとき、そのリードフレーム4′による反射光
の一部はセンサチップ側面によって妨げられパッケージ
表面に達しないが、別の一部I11は透明樹脂パッケー
ジ表面の位置すへと到達して再びセンサチップ1′側へ
と反射され反射光λ2を撮像領域内の位置Cへと入射す
る。
In Figure 2, the distance from the end of the sensor chip 1' @ L
When a light beam is incident at position a on the lead frame 4' of r, a part of the light reflected by the lead frame 4' is blocked by the side surface of the sensor chip and does not reach the package surface, but another part I11 is The reflected light λ2 reaches the position on the surface of the transparent resin package, is reflected again toward the sensor chip 1', and enters the position C within the imaging area.

このような経路で撮像領域内に入射された光の強度は第
3図に示すようになる。同図において縦軸は撮像領域内
における入射光の強度、横軸は撮像素子の外方から撮像
領域周辺に入射した光lの入射位置aと、入射位置aに
おいてパッケージ表面のb位置へと反射した光11のざ
らに撮像領域上へと反射した光線1.の入射位置Cとの
間の距離である。
The intensity of light incident on the imaging area through such a path is as shown in FIG. In the figure, the vertical axis is the intensity of incident light within the imaging area, and the horizontal axis is the incident position a of light l incident on the periphery of the imaging area from outside the image sensor, and the reflection at the incident position a to position b on the package surface. The light rays 1. reflected from the light 11 onto the imaging area. is the distance between the incident position C and the incident position C.

撮像領域内に入射される光の強度は、同図に示されてい
るように、位置aから位置Cまでの距離が、反射光11
のパッケージ表面に対する入射角θがスネルの法則で決
まる臨界角以下の角度となるような条件では、撮像領域
への反射(光線U2)が少ないため小さく、入射角θが
スネルの法則で決まる臨界角となるような距lidにお
いて急激に大きくなり、入射角θがスネルの法則で決ま
る臨界角より大きくなる6以上の距離になると距離の2
乗に反比例して小さくなる。
As shown in the figure, the intensity of the light incident on the imaging area is determined by the distance from position a to position C as reflected light 11
Under conditions where the angle of incidence θ with respect to the package surface is less than the critical angle determined by Snell's law, there is little reflection (light ray U2) into the imaging area, so the incident angle θ is less than the critical angle determined by Snell's law. It suddenly increases at the distance lid where
becomes smaller in inverse proportion to the power of

第4図はパッケージ表面の入射角θに対するパッケージ
表面の反射率を示す特性図で、縦軸は反射率、横軸は入
射角θを示す。入射角θが臨界角θ′ となる前後で反
射率が大きく変化することがわかる。
FIG. 4 is a characteristic diagram showing the reflectance of the package surface with respect to the incident angle θ of the package surface, where the vertical axis shows the reflectance and the horizontal axis shows the incident angle θ. It can be seen that the reflectance changes significantly before and after the incident angle θ reaches the critical angle θ'.

上述のように、撮像領域周辺に強い光が入射した場合、
その入射した点を中心として第8図に示したように光の
強度に応じた偽信号が固体撮像素子に発生L、前記の距
l1llidを半径とする円形状のゴースト、フレアが
発生する。そしてこのゴーストは、半径dの円形の内側
が暗く1.外側が明るくなり、半径dの円形の影が生じ
たように見える。
As mentioned above, when strong light is incident around the imaging area,
As shown in FIG. 8, a false signal corresponding to the intensity of the light is generated in the solid-state image pickup device centered at the point of incidence L, and a circular ghost or flare having a radius equal to the distance l1llid is generated. This ghost has a dark inside of a circle with radius d.1. The outside becomes brighter, and it appears as if a circular shadow with radius d has appeared.

このフレアの範囲Lfは、第2図において、センサチッ
プ1の端面から光線Aのリードフレーム4上の入射点a
までの距離をLr、a点から撮像領域上への反射光の到
達点Cまでの距離をLi1センサチツプの上面のリード
フレーム4上からの高さをT、センサチップの撮像面上
からパッケージ表面までの距離をDlさらに第1図(b
)に示す上面図に示すように、センサチップの外形と撮
像領域との間の間隔をLsとすると、Lf=Li−Ls
       ・・・・・・ ■の関係があり、撮像領
域上の幅Lfの範囲にフレアを生じることになる。
The range Lf of this flare is defined as the incident point a on the lead frame 4 of the light ray A from the end surface of the sensor chip 1 in FIG.
Lr is the distance from point a to the arrival point C of the reflected light on the imaging area; T is the height of the top surface of the sensor chip from the lead frame 4; and T is the distance from the imaging surface of the sensor chip to the package surface. The distance of Dl is further shown in Figure 1 (b
), if the distance between the outer shape of the sensor chip and the imaging area is Ls, then Lf=Li−Ls
. . . There is the relationship (2), and flare will occur in the range of width Lf on the imaging area.

したがって0式によって表されるフレアの範囲Lfの大
きさが、センサチップ1上面における枠体1aの幅Ls
より小さければ、すなわちLs≧Lf        
・・・・・・ ■となるようにすれば、強い入射光によ
って上述したプロセスにもとづいて内部反射光がセンサ
チップ1上に到達したとしても、枠体1a上であり、イ
メージエリア1b内には入射されず、ゴースト、フレア
は発生しない。
Therefore, the size of the flare range Lf expressed by equation 0 is the width Ls of the frame 1a on the upper surface of the sensor chip 1.
If it is smaller, that is, Ls≧Lf
...... If it is set as follows, even if the internally reflected light reaches the sensor chip 1 based on the process described above due to strong incident light, it will be on the frame 1a and within the image area 1b. is not incident, and no ghost or flare occurs.

モして0式を0式に代入した後0式に代入することによ
り、次のような0式を得る。
By substituting the 0 expression into the 0 expression and then substituting it into the 0 expression, the following 0 expression is obtained.

Ls≧□・Lr    川・・・ ■ すなわち、撮像素子を実装設計するにあたり、センサチ
ップ1の外形とイメージエリア1bの端面との距11i
 L s、センサチップ1の端面とリードフレーム4′
端面との距離Lrとの関係を0式を満足するように決定
することにより、イメージエリア周辺に強い入射光があ
り、内部反射がおこっても、イメージエリア上における
ゴースト、フレアの発生を防止することかできる。
Ls≧□・Lr River... ■ In other words, when designing the mounting of the image sensor, the distance 11i between the outer shape of the sensor chip 1 and the end surface of the image area 1b is determined.
L s, end surface of sensor chip 1 and lead frame 4'
By determining the relationship between the distance Lr and the end face so as to satisfy Equation 0, ghost and flare can be prevented from occurring on the image area even if there is strong incident light around the image area and internal reflection occurs. I can do it.

第5図は本発明の他の実施例を示すものである。上述の
第1の実施例によると、Lrで示すリードフレーム4′
のセンサチップ周囲の領域全面において反射するものと
して考えたが、上述の説明はリードフレーム4″上の反
射の生じる領域について適用されるものである。
FIG. 5 shows another embodiment of the invention. According to the first embodiment described above, the lead frame 4' designated Lr
The above explanation is applied to the area on the lead frame 4'' where the reflection occurs.

すなわち従来技術の説明において述べたが、一般にリー
ドフレーム4″上に色素の層を設けることは導電性を劣
化させるため不適当であり、またセンサチップの外形ぎ
りぎりの部分に色素を高精度に付着させることは実装精
度から考えて難しいが、本発明の上記0式の関係を満足
する範囲であれば、第5図に示すようにリードフレーム
4″自体の大きさを切断しなくても、センサチップ1′
側面から距離Lr以上の部分に色素の層6を形成するこ
とはできる。すなわちセンサチップ1からある程度離れ
た位置で、しかもセンサチップ1の実装位置に重ならな
ければLrより内側に色素の位置がずれても全く問題と
ならないため、色素の層6を形成することによって反射
率を低下させることが可能である。
In other words, as mentioned in the explanation of the prior art, it is generally inappropriate to provide a dye layer on the lead frame 4'' because it deteriorates the conductivity, and it is also inappropriate to deposit the dye layer with high precision on the edge of the outer shape of the sensor chip. Although it is difficult to do so in terms of mounting accuracy, as long as the relationship of the above equation 0 of the present invention is satisfied, the sensor can be installed without cutting the size of the lead frame 4'' itself, as shown in FIG. Chip 1'
The dye layer 6 can be formed at a distance Lr or more from the side surface. In other words, as long as the dye is located at a certain distance from the sensor chip 1 and does not overlap the mounting position of the sensor chip 1, there is no problem at all even if the dye is shifted inward from Lr. It is possible to reduce the rate.

特にリードフレーム4″の寸法を別の要因によって変更
できない場合、またはセンサチップのリードフレーム4
″上からの距1iTを高くとれない場合、さらにはパッ
ケージ2の厚みDに制約がある場合等、他の条件によっ
て実装寸法が自由に設定できない場合等において有効な
手段である。
Especially when the dimensions of the lead frame 4'' cannot be changed due to other factors, or when the lead frame 4 of the sensor chip
This is an effective means in cases where the mounting dimensions cannot be set freely due to other conditions, such as when the distance 1iT from above cannot be set high, or when there are restrictions on the thickness D of the package 2.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べたように、本発明における固体撮像装置によれ
ば、外部より入射され、リードフレーム表面及び透明樹
脂の封止用枠体内上面で反射されて固体撮像素子上の撮
像面上へと到達する反射光を前記撮像素子側面で未然に
阻止し得る如く、前記固体撮像素子側面の高さ、前記撮
像素子周囲におけるリードフレーム上の反射面の幅等を
始めとする各要素の寸法、実装位置を設定したので、特
別な構成を用いることなく、各構成部品の製造、組み立
て時における寸法設定によって撮像領域内におけるゴー
スト、フレアの発生を防止することができ、常に入射画
像に忠実で、高画質、高゛品位な撮像を行うことができ
るものである。
As described above, according to the solid-state imaging device of the present invention, light enters from the outside, is reflected on the lead frame surface and the upper surface of the transparent resin sealing frame, and reaches the imaging surface on the solid-state imaging element. The dimensions and mounting position of each element, including the height of the side surface of the solid-state image sensor, the width of the reflective surface on the lead frame around the image sensor, etc., should be adjusted so that reflected light can be blocked on the side surface of the image sensor. With this setting, it is possible to prevent the occurrence of ghosts and flare within the imaging area by setting the dimensions at the time of manufacturing and assembling each component without using any special configuration, and the image quality is always faithful to the incident image. It is possible to perform high-quality imaging.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a)は本発明における固体撮像装置の第1の実
施例を示す側面図、 第1図(b)は同部分平面図、 第2図はゴースト、フレアの発生及び本発明の詳細な説
明するための部分側面図、 第3図は入射される光の強度と入射位置からの距離の関
係を示す特性図、 第4図は固体撮像装置の透明樹脂パッケージ内面に対す
る入射角と反射率との関係を示す特性図、 第5図は本発明における固体撮像装置の他の実施例を示
す側面図、 第6図、第7図はそれぞれ従来の固体撮像装置の一例を
示す側面図、 第8図は撮像領域上に発生するゴースト、フレアを示す
図である。 1・・・固体撮像素子(センサチップ)、2・・・透明
樹脂パッケージ、 3・・・ワイヤ 4.4’ 、4”・・・リードフレーム、5・・・ガラ
ス板、 6・・・色素の層 第4図 W入狙爾θ
FIG. 1(a) is a side view showing a first embodiment of a solid-state imaging device according to the present invention, FIG. 1(b) is a partial plan view of the same, and FIG. 2 is a diagram showing the occurrence of ghosts and flares and details of the present invention. Figure 3 is a characteristic diagram showing the relationship between the intensity of incident light and the distance from the incident position; Figure 4 is a graph showing the angle of incidence and reflectance on the inner surface of a transparent resin package of a solid-state imaging device. FIG. 5 is a side view showing another embodiment of the solid-state imaging device according to the present invention; FIGS. 6 and 7 are side views showing an example of the conventional solid-state imaging device; FIG. 8 is a diagram showing ghosts and flares occurring on the imaging area. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Solid-state image sensor (sensor chip), 2...Transparent resin package, 3...Wire 4.4', 4''...Lead frame, 5...Glass plate, 6...Dye Figure 4: W input target θ

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)固体撮像素子をリードフレーム上に配し、その周
囲を透明樹脂で封止された固体撮像装置において、外部
より入射光があった場合、前記リードフレーム及び前記
透明樹脂の内部上面を介して、前記固体撮像素子上の撮
像領域内へと入射される反射光を前記固体撮像素子の側
面で阻止し得る如く前記固体撮像素子と前記リードフレ
ームの寸法または実装位置を設定したことを特徴とする
固体撮像装置。
(1) In a solid-state imaging device in which a solid-state imaging device is placed on a lead frame and the periphery thereof is sealed with a transparent resin, when there is incident light from the outside, the light is transmitted through the lead frame and the inner upper surface of the transparent resin. The dimensions or mounting positions of the solid-state image sensor and the lead frame are set so that reflected light entering an imaging area on the solid-state image sensor can be blocked by a side surface of the solid-state image sensor. solid-state imaging device.
(2)特許請求の範囲第(1)項において、前記反射光
の前記固体撮像素子の撮像面上における到達位置を、前
記固体撮像素子側面から前記リードフレーム上の反射率
の高い領域の端部までの距離によって設定したことを特
徴とする固体撮像装置。
(2) In claim (1), the arrival position of the reflected light on the imaging surface of the solid-state image sensor is determined from a side surface of the solid-state image sensor to an end of a region with high reflectance on the lead frame. A solid-state imaging device characterized by being set according to the distance to.
(3)特許請求の範囲第(1)項において、前記反射光
の前記固体撮像素子の撮像面上における到達位置を、前
記固体撮像素子側面の前記リードフレームに対する高さ
寸法によって設定したことを特徴とする固体撮像装置。
(3) Claim (1) is characterized in that the arrival position of the reflected light on the imaging surface of the solid-state image sensor is set by a height dimension of a side surface of the solid-state image sensor with respect to the lead frame. A solid-state imaging device.
(4)固体撮像素子をリードフレーム上に配し、その周
囲を透明樹脂で封止された固体撮像装置において、前記
固体撮像素子の側面から前記リードフレーム上の反射率
の高い領域の端面までの距離をL、前記固体撮像素子の
前記リードフレーム上における高さをT、前記固体撮像
素子上の撮像面から前記透明樹脂の上面までの距離をD
、前記撮像面の端面から前記固体撮像素子の側面までの
距離をLsとしたとき、 Ls≧D/T・Lr の関係となるように実装してなる固体撮像装置。
(4) In a solid-state imaging device in which a solid-state imaging device is arranged on a lead frame and its periphery is sealed with transparent resin, the distance from the side surface of the solid-state imaging device to the end face of the high reflectance region on the lead frame is The distance is L, the height of the solid-state imaging device on the lead frame is T, and the distance from the imaging surface on the solid-state imaging device to the top surface of the transparent resin is D.
, where Ls is a distance from an end surface of the imaging surface to a side surface of the solid-state imaging element, and a solid-state imaging device is mounted such that Ls≧D/T·Lr.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH09331050A (en) * 1996-06-07 1997-12-22 Nec Corp Semiconductor device and manufacturing method thereof

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