JPH01199445A - Supporting device - Google Patents
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- JPH01199445A JPH01199445A JP63253349A JP25334988A JPH01199445A JP H01199445 A JPH01199445 A JP H01199445A JP 63253349 A JP63253349 A JP 63253349A JP 25334988 A JP25334988 A JP 25334988A JP H01199445 A JPH01199445 A JP H01199445A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、支持装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a support device.
(従来の技vfI)
半導体装置を製造する場合、半導体ウエノ)(以下、ウ
ェハと記す)上に各種の薄膜を形成する。(Conventional Technique vfI) When manufacturing a semiconductor device, various thin films are formed on a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer).
この薄膜の形成は、多数枚のウェハをウェハボートに搭
載し、このウェハボートを反応炉等の内部に設置して行
われる。ウェハボート上には、例えば100〜150枚
のウェハが、所定間隔で搭載される。This thin film is formed by mounting a large number of wafers on a wafer boat and installing this wafer boat inside a reactor or the like. For example, 100 to 150 wafers are loaded on the wafer boat at predetermined intervals.
これらのウェハは、半導体素子製造工程間の移送に用い
るウェハカセットからウェハボート上に移換えられたも
のである。ボートの形状は、反応炉等の膜形成装置に適
したものに設定されている。These wafers are transferred onto a wafer boat from a wafer cassette used for transportation between semiconductor device manufacturing processes. The shape of the boat is set to be suitable for a film forming apparatus such as a reactor.
例えば1反応炉内でウェハ上に薄膜を形成した後、ボー
トを反応炉から搬出する。次いで、薄膜を形成したウェ
ハを、再びもとのカセットにボートから移換える。上記
した反応炉は炉軸を水平方向にした横型炉と、炉軸を垂
直にした縦型炉がある。上記カセットを次の工程に移す
、これらの操作を自動化された装置で行っている・
ボートは、ウェハの移換え位置とボートの受は渡し位置
との間を、支持装置に支持された状態で往復動する。ウ
ェハの移換え位置は、カセットからボートへ、或いはボ
ートからカセットへ、ウェハを移換えする位置である。For example, after forming a thin film on a wafer in one reactor, the boat is taken out of the reactor. Next, the wafer on which the thin film has been formed is transferred from the boat to the original cassette again. The above-mentioned reactors include horizontal furnaces with a horizontal furnace axis and vertical furnaces with a vertical furnace axis. The above cassettes are transferred to the next process, and these operations are performed by automated equipment. The boat is supported by a support device between the wafer transfer position and the boat transfer position. Move back and forth. The wafer transfer position is a position where wafers are transferred from a cassette to a boat or from a boat to a cassette.
ボートの受は渡し位置は1例えば反応炉へボートを搬出
入するためのエレベータ等に設けられている。A boat receiving station is provided at one transfer point, such as an elevator for carrying boats into and out of a reactor.
ボートを支持装置に支持して往復動させるのは。The boat is supported on a support device and moved back and forth.
次の理由による。すなわち、ボートの搬送時、ウェハの
移換え時、或いは、ボー1−の受は渡し時に。Due to the following reasons. That is, when transporting a boat, transferring wafers, or transferring a boat.
ボートの位置を正しく設定するためである。This is to set the boat's position correctly.
第7図は、従来のボート支持装置の概略構成を示す説明
図である0図中■は1石英ガラスで形成されたボートで
ある。石英ガラスで形成したのは、十分な耐熱性を発揮
させるためである。ボート■の両側部には、その長手方
向に沿って所定間隔で溝が多数個形成されている。これ
らの溝には、ウェハ■の周縁部が嵌合して収容される。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a conventional boat support device. In FIG. The reason why it is made of quartz glass is to exhibit sufficient heat resistance. A large number of grooves are formed on both sides of the boat (2) at predetermined intervals along its longitudinal direction. The peripheral edge of the wafer (2) is fitted and accommodated in these grooves.
ボート■は、ボート搬送機構0を構成するボート支持台
■上に載置されている。ボートα)の両端部は、ボート
支持装置■を構成する支持部材0によって周外部から押
圧した状態で把持されている。The boat (2) is placed on a boat support stand (2) that constitutes the boat transport mechanism 0. Both ends of the boat α) are held in a state of being pressed from the outside by a support member 0 constituting a boat support device (2).
面支持部材0は、ボート■の両端部から退去することに
より、ボート■の把持を解除するようになっている。ボ
ー1〜支持台■は、可動板0)を介してボート搬送機構
■上に設けられている。ボート搬送機構■は、ウェハの
移換え位置とボートα)の受は渡し位置との間に設置さ
れたレール■上を往復動するようになっている。ボート
搬送機構■の移動時には、ボート■はボート支持台■に
支持され、かつ、ボート■の両端部は支持部材0で挟持
されている。The surface support member 0 releases its grip on the boat (2) by retreating from both ends of the boat (2). The boat 1 to the support stand (2) are provided on the boat transport mechanism (2) via a movable plate (0). The boat transport mechanism (2) reciprocates on a rail (2) installed between the wafer transfer position and the transfer position of the boat (a). When the boat transport mechanism (2) moves, the boat (2) is supported by the boat support stand (2), and both ends of the boat (2) are held between the supporting members (0).
而して、ボート搬送+!&構0上でのボート(1)の位
置決めは、ボート支持台■を昇降させるシリンダー(図
示せず)及び支持部材0を往復動させるシリンダー(図
示せず)等の駆動を制御することにより行っている。Then, boat transportation +! & The positioning of the boat (1) on the structure 0 is carried out by controlling the drive of a cylinder (not shown) that raises and lowers the boat support platform 2, a cylinder (not shown) that reciprocates the support member 0, etc. ing.
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、ボート製造時の誤差により、全てのボー
ト■が必ずしも同じ形状を有していない。(Problems to be Solved by the Invention) However, due to errors during boat manufacturing, not all boats (2) necessarily have the same shape.
すなわち、ボート支持装置にて支持、搬送するボート毎
の形状のばらつきがある。このため、ボート搬送機構■
上でボート■を正しく位置決めするために、各々のシリ
ンダーを所定のストローク分だけ駆動させても、ボート
■に支持部材0等が接触しない場合や、ボート(1)に
支持部材0が強く接触しすぎる等の状態が発生する。そ
の結果、ボート(υを正しく位置決めできなかったり、
或いは、ボート■を破壊する等の問題があった。That is, there are variations in the shape of each boat supported and transported by the boat support device. For this reason, the boat transport mechanism
Even if each cylinder is driven by a predetermined stroke in order to correctly position the boat (■) on the top, the support member 0, etc. may not come into contact with the boat (■), or the support member 0 may come into strong contact with the boat (1). A situation such as too much occurs. As a result, the boat (υ) may not be positioned correctly,
Alternatively, there were problems such as destroying the boat (2).
ボート■が正しく位置決めされないと、ボート■の各ウ
ェハ収納溝にカセットから複数枚のウェハ■を自動的に
移換えることが困難になる。その結果、半導体装置の製
造工程の自動化が困難となる。また、スループットを低
下させる問題があった。If the boat (2) is not positioned correctly, it will be difficult to automatically transfer a plurality of wafers (2) from the cassette to each wafer storage groove of the boat (2). As a result, it becomes difficult to automate the manufacturing process of semiconductor devices. Additionally, there was a problem of decreasing throughput.
本発明は上記点に鑑みなされたもので、被支持体の正確
な位置決めを可能にして、被支持体の移換え操作の自動
化を可能にした支持装置を提供することにある。The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to provide a support device that enables accurate positioning of a supported object and automates the operation of transferring the supported object.
(課題を解決するための手段)
本発明は、複数の支持機構を相対的に反対方向に力を作
用させて被支持体を支持する装置において、少なくとも
1つの上記支持機構に伸縮手段を設けたことを特徴とす
る支持装置を得るものである。(Means for Solving the Problems) The present invention provides an apparatus for supporting a supported body by applying forces in relatively opposite directions to a plurality of support mechanisms, in which at least one of the support mechanisms is provided with an expansion/contraction means. The present invention provides a support device characterized by the following.
(作用効果)
かかる支持装置によれば、被支持体を支持する複数の支
持機構の少なくとも1つに伸縮手段を設けている。この
ため、被支持体製造時等におけろ寸法誤差を有する被支
持体でも、支持機構で支持する際に、伸縮手段により自
己微調整して常に一定位置で支持することができる。こ
のため位置決め精度が良く、被支持体を正確に支持する
ことが可能となる。(Operation and Effect) According to this support device, at least one of the plurality of support mechanisms that support the supported object is provided with an expansion and contraction means. Therefore, even when a supported object has a dimensional error during the manufacture of the supported object, when it is supported by the support mechanism, it can be self-finely adjusted by the expansion and contraction means and always supported at a constant position. Therefore, the positioning accuracy is high, and it is possible to accurately support the supported object.
また1位置決め精度の良い被支持体の支持が可能となっ
たため、不正確支持による被支持体の破壊等を防止する
ことができる。Furthermore, since it is possible to support the supported object with high positioning accuracy, it is possible to prevent destruction of the supported object due to inaccurate support.
(実施例)
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.
第1図は、本発明の一実施例のボート支持装置の概略構
成を示す説明図である。この実施例は、半導体ウェハ(
ウェハ)のボート支持機構を示している。図中0)は、
耐熱性を有する材質、例えばsicや石英ガラスで形成
されたウェハボートである。このボート0)の両端部に
は、その長平方向に沿って、多数個の溝(図示せず)が
所定間隔で形成されている。これらの溝は、ウェハ(1
0)の周縁部を嵌合させて収容するものである。このウ
ェハボーh (9)には、例えばウェハ(10)が10
0〜150枚収容されるようになっている。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a schematic configuration of a boat support device according to an embodiment of the present invention. This example uses a semiconductor wafer (
The boat support mechanism for wafers is shown. 0) in the figure is
The wafer boat is made of a heat-resistant material, such as SIC or quartz glass. A large number of grooves (not shown) are formed at predetermined intervals along the longitudinal direction of both ends of the boat 0). These grooves are located on the wafer (1
0) is fitted and housed. For example, there are 10 wafers (10) in this wafer board h (9).
It is designed to accommodate 0 to 150 sheets.
ウェハ(10)を収容したボート(9)は、以下に示す
構造のボート支持装置(旦)によって支持され、ウェハ
(10)の移換え位置とボート(10)の受は渡し位置
間を往復動するようになっている。The boat (9) containing the wafers (10) is supported by a boat support device (dan) having the structure shown below, and the wafer (10) transfer position and the boat (10) support are reciprocated between the transfer position. It is supposed to be done.
このボート支持装置(11)は、ボート■を載置する例
えば4個の載置台(12a) (12b) (13a)
(L3b)を有している。これらの載置台(12a)
(12b) (13a) (13b)の2個づつで対
をなしている。すなわち、載置台(12a)(12b)
(13a)(13b)の対ごとにボート0を支持するよ
うになっている。This boat support device (11) includes, for example, four mounting tables (12a) (12b) (13a) on which the boat (1) is placed.
(L3b). These mounting tables (12a)
(12b), (13a), and (13b) form a pair. That is, the mounting table (12a) (12b)
Each pair of (13a) and (13b) supports boat 0.
第2図は、1対の載置台(12a)(12b)の構成を
示す説明図である。 このa置台(12a) (12b
)は、図示しないレールに沿って往復動する可動板(1
7)を有している。可動板(17)lには、支柱(18
)が立設している。支柱(18)の頂部には、第2取付
けへ一入(19)が設けられている。第2取付はベース
(19)上には、例えばリニアベアリングからなるスラ
イド可動部(20)を介して、第1取付はベース(16
)が積層されている。第1取付はベース(16)上には
、石英ガラス板(14)が設けられている。石英ガラス
板(14)の上面は、ボート(9)の底面に当接する面
である6石英ガラス板(14)は、挟持具(15)によ
って第1取付はベース(16)に挟持固定されている。FIG. 2 is an explanatory diagram showing the configuration of a pair of mounting tables (12a) and (12b). This a stand (12a) (12b
) is a movable plate (1) that reciprocates along a rail (not shown).
7). The movable plate (17)l has a support (18
) has been established. The top of the strut (18) is provided with a second fitting (19). The second attachment is on the base (19) via a sliding movable part (20) made of, for example, a linear bearing, and the first attachment is on the base (16).
) are laminated. In the first attachment, a quartz glass plate (14) is provided on the base (16). The top surface of the quartz glass plate (14) is the surface that comes into contact with the bottom surface of the boat (9).6 The quartz glass plate (14) is clamped and fixed to the base (16) by a clamping tool (15). There is.
スライド可動部(20)内には、図示しない第1スライ
ド可動片と第2スライド可動片が設けられている。第1
スライド可動片は、第1取付はベース(16)に固定さ
れている。第2スライド可動片は、第2取付はベース(
19)に固定されている・第1スライド可動片は、ウェ
ハ(10)の配列方向に沿って自在にスライド移動する
ようになっている。Inside the slide movable part (20), a first slide movable piece and a second slide movable piece (not shown) are provided. 1st
The first attachment of the sliding movable piece is fixed to the base (16). The second sliding movable piece is attached to the base (
The first sliding movable piece fixed to 19) is configured to freely slide along the direction in which the wafers (10) are arranged.
第1取付はベース(16)の下面には、フック(22a
)が螺着している。第2取付はベース(19)の上面に
は、フック(22b)が螺着している。これらのフック
(22a) (22b)間には、付勢部材1例えば引っ
張りコイルスプリング(21)が張設されている。この
引っ張りコイルスプリング(2I)によって、第1取付
はベース(16)をウェハ(lO)の配列方向の一端側
に常時付勢している。ここで、付勢部材は、スライドシ
リンダー等で構成しても良い。The first attachment is a hook (22a) on the bottom surface of the base (16).
) is screwed on. In the second attachment, a hook (22b) is screwed onto the upper surface of the base (19). A biasing member 1, such as a tension coil spring (21), is stretched between these hooks (22a) and (22b). By this tension coil spring (2I), the base (16) is always biased toward one end in the wafer (lO) arrangement direction in the first attachment. Here, the biasing member may be composed of a slide cylinder or the like.
載置台(12a) (12b)には、ボート検知機構(
23)が横設されている。ボート検知Ia構(23)は
、ボートの有無を検知するためのものである。The mounting table (12a) (12b) has a boat detection mechanism (
23) is installed horizontally. The boat detection Ia structure (23) is for detecting the presence or absence of a boat.
ボート検知機構(23)は、所定間隔を設けて垂設され
た2本のシャフト(24a) (24b)を有している
。The boat detection mechanism (23) has two shafts (24a) and (24b) vertically arranged at a predetermined interval.
両シャフh (24a) (24b)間には、ボールベ
アリング(25)が介在されている。このボールベアリ
ング(25)の作用によって、両シャフト(24a)
(24b)は。A ball bearing (25) is interposed between both shafts h (24a) (24b). Due to the action of this ball bearing (25), both shafts (24a)
(24b) is.
自在に上下動するようになっている。両シャフト(24
a)、 (24b)の頂部は、ベース(26)に接続し
ている。つまり、両シャフト(24a) (24b)は
、一体になって上下動するようになっている。ベース(
26)は。It is designed to move up and down freely. Both shafts (24
The top of a), (24b) is connected to the base (26). In other words, both shafts (24a) (24b) move up and down as one. base(
26).
シャフト(24a) (24b)を固定しており、ベー
ス(26)の頂部には1石英製のスイッチ(27)が設
けられている。一方のシャフト(24a)のボールベア
リング(25)の取付は位置部分には、リング状のスト
ッパー(28)が取付けられている。ストッパー(28
)は、他方のシャフト(24b)の方に取付けても良い
、ストツバ−(2g)の下側には、 シャフト(24a
)が貫入されるようにしてスプリング(29)が取付け
られている。スプリング(29)の下端は、スプリング
プレート(30)によって支持されている。 スプリン
グ(29)によって両シャフト(24a) (24b)
を上方に付勢している。他方のシャフト(24b)の下
端部には。The shafts (24a) and (24b) are fixed, and a switch (27) made of quartz is provided at the top of the base (26). A ring-shaped stopper (28) is attached to one of the shafts (24a) where the ball bearing (25) is attached. Stopper (28
) may be attached to the other shaft (24b).The shaft (24a) may be attached to the lower side of the stop bar (2g).
) is inserted into the spring (29). The lower end of the spring (29) is supported by a spring plate (30). Both shafts (24a) (24b) are connected by springs (29).
is biased upward. At the lower end of the other shaft (24b).
マグネット(31)が設けられている。マグネット(3
1)と対向するようにしてマグネットセンサ(33)が
設けられている。マグネットセンサ(33)は、第1取
付はベース(16)に取付けられたマウント(32)に
取付けられている。マグネットセンサ(33)により、
スイッチ(27)が上昇状態或いは下降状態のいずれか
にあるかを検知するようになっている。なお、マグネッ
ト(31)は、一方のシャフト(24a)側に取付けて
も良い。A magnet (31) is provided. Magnet (3
A magnet sensor (33) is provided so as to face the sensor 1). The magnetic sensor (33) is first attached to a mount (32) attached to the base (16). By the magnet sensor (33),
It is designed to detect whether the switch (27) is in either a raised state or a lowered state. Note that the magnet (31) may be attached to one shaft (24a) side.
このように構成されたボート検知機fl(23)は、一
対の載置台(12a) (12b) (13a) (1
3b)に1つずつ設けても良い、或いは、夫々の載置台
(12a)(12b)(13a) (13b)毎に1つ
ずつ設けても良い。The boat detector fl (23) configured in this way has a pair of mounting tables (12a) (12b) (13a) (1
3b), or one each for each mounting table (12a), (12b), (13a), and (13b).
2組の載置台(12a) (12b) (13a) (
13b)対は、上述した同様の構成を有している。他方
の載置台(13a)(13b)対は、 アーム(35)
を介してシリンダー(34)に接続している。このシリ
ンダー(34)の駆動により、他方の載置台(13a)
(13b)対は上下動するようになっている。シリン
ダー(34)は、可動板(17)の下面に取付けられて
いる。Two sets of mounting tables (12a) (12b) (13a) (
Pair 13b) has a similar configuration as described above. The other mounting table (13a) (13b) is an arm (35).
It is connected to the cylinder (34) via. By driving this cylinder (34), the other mounting table (13a)
(13b) The pair is designed to move up and down. The cylinder (34) is attached to the lower surface of the movable plate (17).
これらの載置台(12a) (12b) (13a)
(13b)は、その頂部がボート0)の下面に当接する
ようにほぼ直線状にボート■の長手方向に沿って配置さ
れている。These mounting tables (12a) (12b) (13a)
(13b) is arranged substantially linearly along the longitudinal direction of the boat (13b) so that its top abuts the bottom surface of the boat (0).
なお、固定状態の載置台(12a)(12b)と上下動
自在な載置台(13a) (13b)を交互に配置して
いる。その理由は、a置台(12a)(12b) (1
3a) (13b)上に、ボートυをできるだけ安定に
載置させるためである。Note that fixed mounting tables (12a, 12b) and vertically movable mounting tables (13a, 13b) are alternately arranged. The reason is that the a placement stand (12a) (12b) (1
3a) This is to place the boat υ on (13b) as stably as possible.
このボート支持装置(U、)は、ボートυ)の両端部を
両側から把持する支持機構(36a) (36b)を有
している。支持機構(36a) (36b)は、第3図
に示す如く、ボート0)の長手方向に沿う両端面に当接
する支持部材(37)を有している。支持部材(37)
は、駆動体(38a) (38b)によってスライド駆
動するようになっている。支持部材(37)は、支持機
構(36a) (36b)の移動時のガイドの役割も果
す。支持機構(36a) (36b)には、支持部材(
37)と一体に移動するカムフォロア(39)が設けら
れている。支持機構(36a) (36b)には、カム
フォロア(39)を従動させる力A、(40)が配置さ
れている。This boat support device (U,) has support mechanisms (36a) (36b) that grip both ends of the boat υ) from both sides. As shown in FIG. 3, the support mechanisms (36a) and (36b) include support members (37) that abut against both longitudinal end surfaces of the boat 0). Support member (37)
are slidably driven by driving bodies (38a) and (38b). The support member (37) also serves as a guide during movement of the support mechanisms (36a) (36b). The support mechanism (36a) (36b) includes a support member (
A cam follower (39) that moves together with the cam follower (37) is provided. A force A, (40) that drives the cam follower (39) is arranged in the support mechanism (36a) (36b).
支持部材(37)は、上部に当接部変換機構を有してい
る。当接部変換機構は1例えばロータリーソレノイド(
41)で構成されている。支持部材(37)には、例え
ば2個の石英製の当接部(42a) (42b)が。The support member (37) has an abutment portion conversion mechanism on its upper portion. The contact part conversion mechanism is 1, for example, a rotary solenoid (
41). The support member (37) has, for example, two quartz contact parts (42a) and (42b).
90°の開き角を有して取付けられている。石英製の当
接部(42a) (42b)としたのは、十分な耐熱性
を発揮させるためである。ロータリーソレノイド(41
)の駆動によって当接部(42a) (42b)の位置
が回転交換できるようになっている。It is installed with an opening angle of 90°. The reason why the contact parts (42a) and (42b) are made of quartz is to exhibit sufficient heat resistance. Rotary solenoid (41
), the positions of the abutting portions (42a) and (42b) can be rotated and exchanged.
一方の支持機構(36a)を構成する支持部材(37)
には、2個の当接部(42a) (42b)が設けられ
ている。Support member (37) that constitutes one support mechanism (36a)
is provided with two contact parts (42a) and (42b).
他方の支持機構(36b)の支持部材(37)には、2
個の当接部(43a) (43a) (43b) (4
3b)が2組設けられている(第4図参照)。つまり、
一方の支持機構(36a)のいずれか1個の当接部(4
2a) (42b)と他方の支持機構(36b)のいず
れか1組の当接部(43a)(43a) (43b)
(43b)が、ボート0)の両端部に当接して、3点支
持によってボート0を把持するようになっている。The support member (37) of the other support mechanism (36b) has two
(43a) (43a) (43b) (4
3b) are provided (see Fig. 4). In other words,
Any one contact portion (4) of one support mechanism (36a)
2a) (42b) and the other support mechanism (36b) of any one pair of contact portions (43a) (43a) (43b)
(43b) comes into contact with both ends of the boat 0) and grips the boat 0 by three-point support.
当接部(42a) (42b) (43a) (43b
)によるボート0の支点は、4点支持によって行っても
良い、しかし、実際には、ボート0の両端面が平行に対
向していない場合もある。このような場合のボート0)
を4点支持によって、正しい位置で把持するのは極めて
難しい。著しい場合には、4点支持のためにボート0を
正しく位置決めして把持できず、ボート0がぐらついた
状態で支持部材(37) (37)によって把持される
ことになる。その結果、カセットとボート0の間でウェ
ハ(10)の移換え作業を円滑に行うことができなくな
る。従って、ボート0〕)の−端面のほぼ中心部に1点
支持による当接部(42a)(42b)を当接し、他端
面のほぼ中心部から等距離に離れた2点に当接部(43
a) (43a) (43b) (43b)の2個を当
接させる。この結果、3点支持によってボート■)を極
めて正しい位置で確実に支持機構(36a)(36b)
によって把持するものである。Contact portion (42a) (42b) (43a) (43b
), the boat 0 may be supported at four points; however, in reality, both end surfaces of the boat 0 may not be parallel to each other. Boat 0 in such cases)
It is extremely difficult to hold it in the correct position with four-point support. In extreme cases, the boat 0 cannot be correctly positioned and gripped due to the four-point support, and the boat 0 will be gripped by the support members (37) (37) in a wobbly state. As a result, it becomes impossible to smoothly transfer the wafers (10) between the cassette and the boat 0. Therefore, the abutting parts (42a) (42b) supported at one point are in contact with approximately the center of the - end face of the boat 0]), and the abutting parts (42a) (42b) are in contact with two points equidistantly apart from the approximate center of the other end face. 43
a) (43a) (43b) (43b) are brought into contact. As a result, the support mechanism (36a) (36b) ensures that the boat
It is something to be grasped by.
2組の当接部(43a) (43b)及びロータリーソ
レノイドを取付けた他方の支持部材(37)は、可動板
(17)に立設された回転軸(図示せず)に取付けられ
ている。支持部材(37)は、この回転軸を中心に回動
するようになっている。回転軸には、板バネが貫設され
ている。The other support member (37) to which the two sets of abutting portions (43a) and (43b) and the rotary solenoid are attached is attached to a rotating shaft (not shown) provided upright on the movable plate (17). The support member (37) is configured to rotate around this rotation axis. A leaf spring is provided through the rotating shaft.
このように、ボート■の一端面を1点の当接部(42a
) (42b)で押圧し、他端面を回動自在な2点の当
接部(43a) (43b)で押圧する。その結果、種
々の形状の異なるボート(ロ)を安定した状態で正しく
位置決めすることができる。In this way, one end surface of the boat ■ is connected to one point of contact (42a
) (42b), and the other end surface is pressed by two rotatable contact parts (43a) and (43b). As a result, boats (b) of various shapes can be correctly positioned in a stable state.
支持部材(37)は、駆動体(38a) (38b)に
よってスライド駆動するようになっている。駆動体(3
8a)(38b)は、例えばエアーシリンダによって構
成されている。駆動体(38a) (38b)は、例え
ば支持部材(37)と並列状態にして可動板(17)の
下面部に取付けられている。駆動体(38a) (38
b)は、ガイド(44a)(44b)によって支持機構
(36a) (36b)をスライド移動するようになっ
ている。The support member (37) is slidably driven by driving bodies (38a) (38b). Drive body (3
8a) (38b) is constituted by, for example, an air cylinder. The driving bodies (38a) (38b) are attached to the lower surface of the movable plate (17), for example, in parallel with the support member (37). Drive body (38a) (38
In b), the support mechanisms (36a) (36b) are slid by guides (44a) (44b).
第5図に示す如く、少なくとも一方の駆動体(38a)
(38b)には、ボート(9)の長手方向と伸縮方向
が同じになり、且つ上記支持機構(36a) (36b
)を相対的に反対方向に力を作用させるようにして伸縮
手段が取付けられている。伸縮手段は1例えばコイルス
プリング(45)で構成されている。コイルスプリング
(45)は1例えば駆動体(38b)を構成するエアー
シリンダーのピストンロッド部に取付けられている。伸
縮手段の取付は位置は、支持部材(37) (37)
(7)相互の対向間隔を、駆動体(38a) (38b
)の動きの制御によって、自在に調節できる所であれば
良い。As shown in FIG. 5, at least one driving body (38a)
(38b), the longitudinal direction of the boat (9) and the expansion/contraction direction are the same, and the support mechanism (36a) (36b
) is attached so as to apply forces in relatively opposite directions. The expansion/contraction means is composed of, for example, a coil spring (45). The coil spring (45) is attached to, for example, a piston rod portion of an air cylinder that constitutes the drive body (38b). The mounting position of the expansion/contraction means is the support member (37) (37)
(7) Adjust the mutual facing distance between the driving bodies (38a) (38b)
) Any place that can be freely adjusted by controlling the movement is fine.
次に、コイルスプリング(45)の選択条件について説
明する。ピストンロッド部に設けられたコイルスプリン
グ(45)の選択条件は、カムフォロア(39)がカム
(40)を登る力により決まる。Next, conditions for selecting the coil spring (45) will be explained. The selection conditions for the coil spring (45) provided in the piston rod portion are determined by the force with which the cam follower (39) climbs the cam (40).
まず、支持部材(37)を下方へ付勢するために支持機
構(36b)の内部に設けられている図示しないコイル
スプリングのバネ力をfとする。次に、このバネ力fと
駆動体(38b)であるシリンダーの力Fとの角度θに
よる斜面方向の分力が、コイルスプリング(45)の引
張りカTの斜面方向の分力以下であるとする。この場合
、コイルスプリング(45)は伸びることなく、斜面方
向を進むことができる。First, let f be the spring force of a coil spring (not shown) provided inside the support mechanism (36b) to urge the support member (37) downward. Next, the component force in the slope direction due to the angle θ between this spring force f and the force F of the cylinder that is the driving body (38b) is less than the component force in the slope direction of the tension force T of the coil spring (45). do. In this case, the coil spring (45) can move along the slope without stretching.
ここで、斜面に沿って働く合力Wを求める。第6図Aに
示すようにエアーシリンダーによる力はPcosO・・
・■、摩擦係数をμとするとエアーシリンダーによるコ
ロガリ摩擦はμFsinθ・・・■、第6図Bに示すよ
うにスプリングによる力はfsinθ・・・■。Here, the resultant force W acting along the slope is determined. As shown in Figure 6A, the force exerted by the air cylinder is PcosO...
・■, If the friction coefficient is μ, the rolling friction due to the air cylinder is μFsinθ...■, and as shown in Figure 6B, the force due to the spring is fsinθ...■.
コイルスプリングによるコロガリ摩擦はμfcos 0
・・■となる。これらの力は第6図Cに示すようになる
。従って斜面に沿って働く力Wは、W=Fcosθ−μ
Fsin O−fsinθ−p fcos O= F
(c08θ−p sin O)−f(sino十μco
sθ)となる。The rolling friction caused by the coil spring is μfcos 0
... becomes ■. These forces are as shown in FIG. 6C. Therefore, the force W acting along the slope is W=Fcosθ−μ
Fsin O-fsinθ-p fcos O=F
(c08θ-p sin O)-f(sino ten μco
sθ).
また、コイルスプリング(45)の斜面に対する作用力
は、 Tcosθとなる。また、ボート(9)を支持す
る時にコイルスプリング(45)が伸びるためには、引
っ張り力Tはシリンダーの力F以下でなけれならない。Further, the force acting on the slope of the coil spring (45) is Tcosθ. Further, in order for the coil spring (45) to expand when supporting the boat (9), the tensile force T must be less than the cylinder force F.
故に、 W<Teasθ門T<F という条件式となる。Therefore, W<TeasθgateT<F This is the conditional expression.
この時、シリンダー径をd、エアー圧力をP、支持機構
(36b)内部に設けられている図示しないコイルスプ
リングのバネ定数をに工、この時の伸びをχとすると
F:セ2P、f=2に□χ(バネを2本平行使いとする
と)、’、W=:’d”PcosO−2に、ZsinO
−μd”PsinO−2μKtZcosθ=(王d”P
−2μKt Z)cost)−(2K、Z+/j d
2P)sinθとなり、上記コイルスプリング(45)
の条件式からT>−7−d”P−2μに、 Z−(2K
z Z+μmj−d2P)tanθT<h21
となり上記範囲のバネ力を有するコイルスプリング(4
5)を選択するに
のようなコイルスプリング(45)が設けられているの
で、ボート0)の両端面に当接する当接部(42a)
(43a) (42b) (4:lb)間の間隔を、ボ
ート(9) (7)形状に対応した最適値に設定できろ
。すなわち、当接部(42a) (43a) (42b
) (43b)間の間隔を、予め短かめに設定しておく
。そして、駆動体(38a) (38b)のシリンダー
のストロークが、ボート(9)に対して必要以上に長い
分だけ、コイルスプリング(45)が伸びて吸収するこ
とができる。At this time, if the cylinder diameter is d, the air pressure is P, the spring constant of the coil spring (not shown) provided inside the support mechanism (36b) is 2, and the elongation at this time is χ, then F: 2P, f= 2, □χ (if two springs are used in parallel),', W=:'d”PcosO-2, ZsinO
−μd”PsinO−2μKtZcosθ=(Kingd”P
-2μKt Z) cost) - (2K, Z+/j d
2P) sin θ, and the above coil spring (45)
From the conditional expression, T>-7-d"P-2μ, Z-(2K
z Z+μmj-d2P)tanθT<h21, and the coil spring (4
Since a coil spring (45) is provided to select 5), the abutting portions (42a) that come into contact with both end surfaces of the boat 0)
(43a) (42b) (4: lb) The interval between them can be set to the optimum value corresponding to the shape of the boat (9) (7). That is, the contact portions (42a) (43a) (42b
) (43b) is set short in advance. The coil spring (45) can expand and absorb the stroke of the cylinders of the driving bodies (38a) (38b) that is longer than necessary with respect to the boat (9).
また、カムフォロア(39)は、カムフォロア支持部を
介して支持部材(37)に接続している。カムフォロア
(39)は、カム(40)に沿って移動し、支持部材(
37)を斜め上方に移動させてボート■を支持する6ボ
ート■を把持するとカムフォロア(39)は。Further, the cam follower (39) is connected to the support member (37) via a cam follower support section. The cam follower (39) moves along the cam (40) and the support member (
When the cam follower (39) is moved diagonally upward and grips the 6 boat ■ that supports the boat ■.
角度θに沿って斜め下方に従動する。It moves diagonally downward along the angle θ.
なお、カムフォロア(39)、カム(40)の当接を確
保するために、支持部材(37)は図示しない付勢部材
によって常時鉛直下方に付勢されている。In order to ensure contact between the cam follower (39) and the cam (40), the support member (37) is always urged vertically downward by a biasing member (not shown).
次に、このように構成された支持部rn(11)による
ボート0の支持方法について説明する。Next, a method of supporting the boat 0 using the support part rn (11) configured as described above will be explained.
まず、ボート支持装置(11)を、ボート■の受は渡し
位置に設置する。ボート支持装置(旦)の移動は1図示
しないレールに沿って可動する可動板(17)により行
う。ボート0の受は渡し位置には、ボーh (9)を例
えば反応炉に搬出入するためエレベータ(図示せず)が
設けられている。エレベータは、例えば1対の載置台(
12a)(12b)上にボート0を降下して載置する。First, the boat support device (11) is installed at the transfer position of the boat (2). The movement of the boat support device (tan) is performed by a movable plate (17) that moves along a rail (not shown). An elevator (not shown) is provided at the transfer position of the boat 0 for transporting the boat h (9) into and out of, for example, a reactor. For example, an elevator has a pair of loading tables (
12a) Lower and place boat 0 on (12b).
ここで、ボート0の受は渡し時には、支持機構(36a
)(36b)は作動していない。従って、載置台(12
a)(12b)は、引っ張りコイルスプリング(21)
の自由長によって配列方向の一端側に付勢された状態と
なっている。このため、可動板(17)がレールの所定
位置に停止していると、載置台(12a) (12b)
のボート載置面はスプリング(21)の付勢力によって
一義的に定められている。このため常に同じ位置のボー
ト載置面上でボート0を受けとめることができる。ボー
ト0が、載置台(12a)(12b)に載置されると、
ボート検知機構(23)のスイッチ(27)がボート■
の載置により下降する。これに連動して、マグネット(
31)が下降する。次いで、マグネッ1−センサー(3
3)が、ボート■の載置を検知する。このボート(9)
の載置が検知されると、支持機構(36a)(36b)
が作動され、駆動体(38a) (38b)を動作する
。Here, when the boat 0 is handed over, the support mechanism (36a
) (36b) is not activated. Therefore, the mounting table (12
a) (12b) is a tension coil spring (21)
It is in a state where it is biased towards one end side in the arrangement direction due to the free length of. Therefore, when the movable plate (17) is stopped at a predetermined position on the rail, the mounting table (12a) (12b)
The boat mounting surface is uniquely determined by the biasing force of the spring (21). Therefore, the boat 0 can always be received on the boat mounting surface at the same position. When boat 0 is placed on the mounting bases (12a) (12b),
The switch (27) of the boat detection mechanism (23) is a boat ■
It descends when placed. In conjunction with this, a magnet (
31) descends. Next, magnet 1-sensor (3
3) detects the placement of boat ■. This boat (9)
When the placement of the support mechanism (36a) (36b) is detected,
is actuated to operate the driving bodies (38a) (38b).
そして、載置台(12a) (12b)と対応する当接
部(42a)(43a)がボート0長手方向の両端面に
夫々当接するように移動する。そして、当接部(42a
) (43a)による当接時には、カムフォロア(39
)がθの角度で斜め下方に傾斜したカム(40)に従動
する。当接部(42a) (43a)の圧力としては、
単にボート(9)方向の押圧力のみでなく、その合力が
斜め下方に向かうように作用するにのため、鉛直下方に
向かう分力を生ずることになる。Then, the contact parts (42a) (43a) corresponding to the mounting tables (12a) (12b) move so as to contact both longitudinal end surfaces of the boat 0, respectively. Then, the contact part (42a
) (43a), the cam follower (39
) is driven by a cam (40) inclined diagonally downward at an angle θ. The pressure at the contact parts (42a) (43a) is as follows:
Because not only the pressing force in the direction of the boat (9) but also the resultant force acts diagonally downward, a component force directed vertically downward is generated.
ここで、ボート0と載置台(12a)(12b)との間
に作用する摩擦力は、摩擦面に垂直に作用する角度θに
対する垂直成分の力と摩擦係数との積である。Here, the frictional force acting between the boat 0 and the mounting bases (12a) (12b) is the product of the force perpendicular to the angle θ acting perpendicularly to the friction surface and the friction coefficient.
このため、分力が鉛直下方に作用することにより摩擦力
が増大する。Therefore, the component force acts vertically downward, increasing the frictional force.
上述したようにして位置決め支持の力がボート0に作用
する。そして、ボート鵠がその方向に移動することにな
る。この際上記ボート(9)と載置台(12a) (1
2b)との間には相当の摩擦力が生じている。Positioning support forces act on boat 0 in the manner described above. The boat will then move in that direction. At this time, the boat (9) and the mounting table (12a) (1
2b), a considerable frictional force is generated between the two.
この間にすべりが生ずることはない。従って、スライド
可動部(11)が引っ張りコイルスプリング(21)の
付勢力に抗してスライド移動することによってボート■
)の位置決め支持が行なわれる。No slippage occurs during this time. Therefore, the sliding movable part (11) slides against the biasing force of the tension coil spring (21), and the boat
) is positioned and supported.
このように、ボート(9)の位置決め支持時に載置台(
12a) (12b)の石英ガラス板(14)とボート
■との石英ガラス同志の間ですべりが生じない。従って
、ウェハ(10)の歩留まりを悪化するようなゴミの発
生を防止することができる。また、損傷を防止できる。In this way, when positioning and supporting the boat (9), the mounting table (
12a) No slipping occurs between the quartz glass plate (14) of (12b) and the quartz glass of the boat ■. Therefore, it is possible to prevent the generation of dust that would deteriorate the yield of wafers (10). Also, damage can be prevented.
また、ボート0)の位置決め支持時に、バネ(45)の
作用によりボーl−■)の長手方向の寸法誤差を伸縮に
より微調整をして正確に位置決めされる。Further, when positioning and supporting the boat 0), the spring (45) acts to accurately position the ball 1--) by finely adjusting the dimensional error in the longitudinal direction by expansion and contraction.
この後、レールに沿って移動してボート支持装置(旦)
をボート■とウェハカセットとの間でウェハを移換える
移換え位置に設定する。そして、この位置でボート0内
のウェハ(10)を移換える。After this, move along the rail and install the boat support device (Dan).
is set at the transfer position for transferring wafers between the boat ■ and the wafer cassette. Then, at this position, the wafer (10) in boat 0 is transferred.
この際、可動板(17)の停止位置が正確に制御されて
いれば、ボート■は載置台(12a) (12b)上で
位置決めされているので、ボート(9)内のウェハ(1
0)を自動機によって確実に移換えることができる。At this time, if the stop position of the movable plate (17) is accurately controlled, the boat (1) is positioned on the mounting table (12a) (12b), so the wafer (1) in the boat (9) is
0) can be reliably transferred by an automatic machine.
以上の動作が終了したら、次に新たなウェハ(10)を
収納したウェハカセットを移換え位置に設定する。同様
にしてこのウェハ(lO)をボート(9)に移換える。After the above operations are completed, the wafer cassette containing the new wafer (10) is then set at the transfer position. Similarly, this wafer (lO) is transferred to the boat (9).
その後にこのボート0を受は渡し位置に移動して位置決
め支持のための抑圧力を解除する。Thereafter, the boat 0 is moved to the transfer position and the suppressing force for positioning and support is released.
次いで、エレベータにボート0を受は渡し、ボート■)
を上記炉内に搬入させる動作を実行する。Next, Uke hands boat 0 to the elevator and takes boat ■)
The operation is carried out to carry the material into the above-mentioned furnace.
この時、炉内から搬出して移換えたウェハ(10)の炉
内で行なった処理条件と次のウェハの処理条件が異なる
場合がある。このときは、当然具なる反応ガスが使用さ
れる。このような異なる処理に同一ボートを使用すると
前の処理によりボートに付着している反応ガスが次の処
理で使用する反応ガスと反応して処理するウェハに悪影
響を与えてしまう。このため、移換え位置で処理したウ
ニ゛ハをウェハカセットに移換える。そして1次に行な
う処理と対応するボートまたは、新しいボートに交換す
る。At this time, the processing conditions performed in the furnace for the wafer (10) carried out and transferred from the furnace may be different from the processing conditions for the next wafer. At this time, a certain reaction gas is of course used. If the same boat is used for such different processes, the reactive gas adhering to the boat from the previous process will react with the reactive gas used in the next process, adversely affecting the wafers being processed. For this reason, the processed wafers are transferred to the wafer cassette at the transfer position. Then, replace it with a boat that corresponds to the first process or a new boat.
このボート交換の際、前のボート■)を位置決め支持し
ていたボート支持装置(旦)のボート(9)接触部であ
るa置台(12a) (12b)及び当接部(42a)
(43a)も、ボート(9)との接触により反応ガス
が付着している。 この載置台(12a)(12b)及
び当接部(42a)(43a)を切り換える。 この切
り換え動作において、載置台の切り換えは相対的昇降例
えば載置台(13a)(13b)をシリンダー(34)
の駆動により上昇して載置台(12a) (12b)の
高さより高い位置に設定する。At the time of this boat exchange, the boat support device (Dan) that was positioning and supporting the previous boat (■), the boat (9), the a mount (12a) (12b) that is the contact part, and the contact part (42a)
(43a) also has reactive gas attached to it due to contact with the boat (9). The mounting tables (12a) (12b) and the contact portions (42a) (43a) are switched. In this switching operation, switching of the mounting table is performed by moving the mounting table (13a) (13b) relative to the cylinder (34).
is raised by the drive of the mounting table (12a) and set at a position higher than the height of the mounting table (12b).
更に当接部の切り換えは1例えば上記説明のロータリー
ソレノイド(41)の回転により当接部を(42b)(
43b)に切り換える。この時、載置台を(12a)
(12b)から(13a) (13b)に切り換えた際
、通常より高い位置に設定されている。この高くなった
距離分当接部(42b) (43b)も高い位置に当接
する如く硝酸されている。見かけ上回条件で次のボート
を位置決め支持することが可能となる。Furthermore, switching of the abutting part is possible by rotating the rotary solenoid (41) described above, for example, to switch the abutting part to (42b) (
43b). At this time, place the mounting table (12a)
When switching from (12b) to (13a) (13b), it is set at a higher position than usual. The abutting portions (42b) and (43b) are also nitric acidized so as to abut at a higher position corresponding to this increased distance. It becomes possible to position and support the next boat under apparent conditions.
このように切り換えた載置台(13a) (13b)及
び当接部(42b) (43b)により、次のボートを
上記と同様に位置決め支持する。次に処理するウェハを
搭載して炉内に搬入する。Using the mounting tables (13a) (13b) and contact parts (42b) (43b) switched in this way, the next boat is positioned and supported in the same manner as above. Next, the wafer to be processed is loaded and carried into the furnace.
以後は同様に繰り返し実行する。処理条件の異なるウェ
ハに対して同様に行なわれる。After that, repeat the same process. The same process is performed for wafers with different processing conditions.
このようにボート(9)を支持体(37)により固定す
る際、正確な位置決めを要するため、所望のバネ力を有
するコイルスプリング(45)を備えたlψ駆動体38
a)即ちシリンダーに例えばエアーを供給し、支持体(
37)をボート■方向に駆動する。この時、ボート■)
両端の支持体(37)が、位置決め支持するボート0の
長手方向間隔より多少狭い位置即ち当接部(42a)と
(43a)或いは(4zb)と(43b)間の間隔が短
かくなるように予めシリンダーのストロークをセットし
ておく。この状態で上記支持体(37)をボート■)方
向に駆動する。そして、当接部(42a)と(43a)
或いは(42b)と(43b)はボート0)の端面に当
接してボート■を挟み込む、しかし、予めセットしたシ
リンダーのストロークエンド位置とボート(9)の幅と
の差の距離分を上記したコイルスプリング(45)が伸
びることにより吸収する。When fixing the boat (9) with the support (37) in this way, accurate positioning is required, so the lψ drive body 38 is equipped with a coil spring (45) having a desired spring force.
a) That is, supply air, for example, to the cylinder, and press the support (
37) in the direction of the boat ■. At this time, the boat
The supports (37) at both ends are positioned so that the distance between the abutting portions (42a) and (43a) or (4zb) and (43b) is slightly narrower than the distance in the longitudinal direction of the boat 0 to be positioned and supported. Set the cylinder stroke in advance. In this state, the support body (37) is driven in the direction of the boat (2). And the contact parts (42a) and (43a)
Alternatively, (42b) and (43b) are in contact with the end surface of boat 0) and sandwich the boat (2), but the above-mentioned coil The spring (45) absorbs this by stretching.
このように予めボート■の長手方向の幅よりシリンダー
のストロークエンドを短かめにセットし ノている。従
って、ボート製造誤差によりボート幅が一定しなくても
、コイルスプリング(45)の吸収址即ち伸び斌の違い
のみで、異形状のボートでも正確に位置決め支持するこ
とが可能となる。−上記実施例では駆動体にシリンダー
を用いて説明した。しかし、上記機構に限定するもので
はなく、ソレノイドやモーター等を使用しても同様な効
果を得ることができる。In this way, the stroke end of the cylinder is set in advance to be shorter than the longitudinal width of the boat ■. Therefore, even if the width of the boat is not constant due to boat manufacturing errors, it is possible to accurately position and support even an oddly shaped boat just by the difference in the absorption or expansion of the coil spring (45). - In the above embodiment, a cylinder was used as the driving body. However, the mechanism is not limited to the above mechanism, and similar effects can be obtained by using a solenoid, a motor, or the like.
また、上記実施例では伸縮手段としてコイルスプリング
を用いて説明した。しかし、伸縮する機端であればこれ
に限定するものではない。Further, in the above embodiment, a coil spring was used as the expansion/contraction means. However, the present invention is not limited to this as long as the end of the machine is extendable and retractable.
また、上記実施例では半導体製造工程に使用する半導体
ウェハボートの支持について説明した。Furthermore, in the above embodiments, support for a semiconductor wafer boat used in a semiconductor manufacturing process was explained.
しかし、ロボットによる被支持体の支持等何れの支持で
も同様に行なうことができる。また、上記半導体ウェハ
ボートを長手方向両端部からの支持について説明した。However, any type of support, such as support of the supported object by a robot, can be performed in the same manner. Furthermore, the explanation has been made regarding supporting the semiconductor wafer boat from both ends in the longitudinal direction.
しかし、4方向からの支持や、他の被支持体の多方向か
らの支持でもよい。また、支持体形状も円形でも球形で
もかまわない。However, support from four directions or support from other supported bodies from multiple directions may be used. Further, the shape of the support may be either circular or spherical.
第1図は本発明の一実施例のボート支持装置の概略構成
を示す説明図、第2図は第1図載置台の構成を示す説明
図、第3図は第1図支持機構の構成を示す説明図、第4
図は第1図の他方の支持機構の当接部を示す説明図、第
5図は第1図伸縮手段の取付は状態を示す説明図、第6
図は第5図に示したコイルスプリングのバネ力を説明す
るための説明図、第7図は従来のボート支持装置の概略
説明図である。
9・・・ボート、 10・・・ウェハ、36・
・・支持機構、 38・・・駆動体、45・・・コ
イルスプリング・FIG. 1 is an explanatory diagram showing the schematic configuration of a boat support device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram showing the configuration of the mounting table in FIG. 1, and FIG. Explanatory diagram showing, No. 4
The figure is an explanatory diagram showing the abutting part of the other support mechanism in Figure 1, Figure 5 is an explanatory diagram showing the installation state of the expansion and contraction means in Figure 1,
The figure is an explanatory diagram for explaining the spring force of the coil spring shown in FIG. 5, and FIG. 7 is a schematic explanatory diagram of a conventional boat support device. 9...Boat, 10...Wafer, 36.
...Support mechanism, 38...Driver, 45...Coil spring.
Claims (4)
せて被支持体を支持する装置において、少なくとも1つ
の上記支持機構に伸縮手段を設けたことを特徴とする支
持装置。(1) A device for supporting a supported body by applying forces in relatively opposite directions to a plurality of support mechanisms, characterized in that at least one of the support mechanisms is provided with an extensible means.
支持体を上記被支持体支持方向に駆動する駆動体とから
成り、このように構成された支持体に対して駆動体を直
列または並列に配置し、この配置した支持体と駆動体の
間に、上記支持方向と平行に伸縮手段を設けたことを特
徴とする請求項1記載の支持装置。(2) The support mechanism consists of a support that comes into contact with the supported object and a driver that drives this support in the supporting direction of the supported object. 2. The support device according to claim 1, further comprising an extensible means arranged in series or in parallel, and extending and contracting means parallel to the support direction between the disposed supports and the drive body.
の支持装置。(3) The support device according to claim 1, wherein the expansion and contraction means is a coil spring.
載の支持装置。(4) The support device according to claim 1, wherein the supported object is a semiconductor wafer boat.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25334988A JP2813659B2 (en) | 1987-10-07 | 1988-10-07 | Support device |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-253226 | 1987-10-07 | ||
| JP25322687 | 1987-10-07 | ||
| JP25334988A JP2813659B2 (en) | 1987-10-07 | 1988-10-07 | Support device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01199445A true JPH01199445A (en) | 1989-08-10 |
| JP2813659B2 JP2813659B2 (en) | 1998-10-22 |
Family
ID=26541089
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25334988A Expired - Lifetime JP2813659B2 (en) | 1987-10-07 | 1988-10-07 | Support device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2813659B2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622615A (en) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Toshiba Corp | Positioning device for wafer boat |
-
1988
- 1988-10-07 JP JP25334988A patent/JP2813659B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS622615A (en) * | 1985-06-28 | 1987-01-08 | Toshiba Corp | Positioning device for wafer boat |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2813659B2 (en) | 1998-10-22 |
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