JPH01199445A - 支持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、支持装置に関する。

（従来の技ｖｆＩ） 半導体装置を製造する場合、半導体ウエノ）（以下、ウ
ェハと記す）上に各種の薄膜を形成する。

この薄膜の形成は、多数枚のウェハをウェハボートに搭
載し、このウェハボートを反応炉等の内部に設置して行
われる。ウェハボート上には、例えば１００〜１５０枚
のウェハが、所定間隔で搭載される。

これらのウェハは、半導体素子製造工程間の移送に用い
るウェハカセットからウェハボート上に移換えられたも
のである。ボートの形状は、反応炉等の膜形成装置に適
したものに設定されている。

例えば１反応炉内でウェハ上に薄膜を形成した後、ボー
トを反応炉から搬出する。次いで、薄膜を形成したウェ
ハを、再びもとのカセットにボートから移換える。上記
した反応炉は炉軸を水平方向にした横型炉と、炉軸を垂
直にした縦型炉がある。上記カセットを次の工程に移す
、これらの操作を自動化された装置で行っている・ ボートは、ウェハの移換え位置とボートの受は渡し位置
との間を、支持装置に支持された状態で往復動する。ウ
ェハの移換え位置は、カセットからボートへ、或いはボ
ートからカセットへ、ウェハを移換えする位置である。

ボートの受は渡し位置は１例えば反応炉へボートを搬出
入するためのエレベータ等に設けられている。

ボートを支持装置に支持して往復動させるのは。

次の理由による。すなわち、ボートの搬送時、ウェハの
移換え時、或いは、ボー１−の受は渡し時に。

ボートの位置を正しく設定するためである。

第７図は、従来のボート支持装置の概略構成を示す説明
図である０図中■は１石英ガラスで形成されたボートで
ある。石英ガラスで形成したのは、十分な耐熱性を発揮
させるためである。ボート■の両側部には、その長手方
向に沿って所定間隔で溝が多数個形成されている。これ
らの溝には、ウェハ■の周縁部が嵌合して収容される。

ボート■は、ボート搬送機構０を構成するボート支持台
■上に載置されている。ボートα）の両端部は、ボート
支持装置■を構成する支持部材０によって周外部から押
圧した状態で把持されている。

面支持部材０は、ボート■の両端部から退去することに
より、ボート■の把持を解除するようになっている。ボ
ー１〜支持台■は、可動板０）を介してボート搬送機構
■上に設けられている。ボート搬送機構■は、ウェハの
移換え位置とボートα）の受は渡し位置との間に設置さ
れたレール■上を往復動するようになっている。ボート
搬送機構■の移動時には、ボート■はボート支持台■に
支持され、かつ、ボート■の両端部は支持部材０で挟持
されている。

而して、ボート搬送＋！＆構０上でのボート（１）の位
置決めは、ボート支持台■を昇降させるシリンダー（図
示せず）及び支持部材０を往復動させるシリンダー（図
示せず）等の駆動を制御することにより行っている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら、ボート製造時の誤差により、全てのボー
ト■が必ずしも同じ形状を有していない。

すなわち、ボート支持装置にて支持、搬送するボート毎
の形状のばらつきがある。このため、ボート搬送機構■
上でボート■を正しく位置決めするために、各々のシリ
ンダーを所定のストローク分だけ駆動させても、ボート
■に支持部材０等が接触しない場合や、ボート（１）に
支持部材０が強く接触しすぎる等の状態が発生する。そ
の結果、ボート（υを正しく位置決めできなかったり、
或いは、ボート■を破壊する等の問題があった。

ボート■が正しく位置決めされないと、ボート■の各ウ
ェハ収納溝にカセットから複数枚のウェハ■を自動的に
移換えることが困難になる。その結果、半導体装置の製
造工程の自動化が困難となる。また、スループットを低
下させる問題があった。

本発明は上記点に鑑みなされたもので、被支持体の正確
な位置決めを可能にして、被支持体の移換え操作の自動
化を可能にした支持装置を提供することにある。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） 本発明は、複数の支持機構を相対的に反対方向に力を作
用させて被支持体を支持する装置において、少なくとも
１つの上記支持機構に伸縮手段を設けたことを特徴とす
る支持装置を得るものである。

（作用効果） かかる支持装置によれば、被支持体を支持する複数の支
持機構の少なくとも１つに伸縮手段を設けている。この
ため、被支持体製造時等におけろ寸法誤差を有する被支
持体でも、支持機構で支持する際に、伸縮手段により自
己微調整して常に一定位置で支持することができる。こ
のため位置決め精度が良く、被支持体を正確に支持する
ことが可能となる。

また１位置決め精度の良い被支持体の支持が可能となっ
たため、不正確支持による被支持体の破壊等を防止する
ことができる。

（実施例） 以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は、本発明の一実施例のボート支持装置の概略構
成を示す説明図である。この実施例は、半導体ウェハ（
ウェハ）のボート支持機構を示している。図中０）は、
耐熱性を有する材質、例えばｓｉｃや石英ガラスで形成
されたウェハボートである。このボート０）の両端部に
は、その長平方向に沿って、多数個の溝（図示せず）が
所定間隔で形成されている。これらの溝は、ウェハ（１
０）の周縁部を嵌合させて収容するものである。このウ
ェハボーｈ　（９）には、例えばウェハ（１０）が１０
０〜１５０枚収容されるようになっている。

ウェハ（１０）を収容したボート（９）は、以下に示す
構造のボート支持装置（旦）によって支持され、ウェハ
（１０）の移換え位置とボート（１０）の受は渡し位置
間を往復動するようになっている。

このボート支持装置（１１）は、ボート■を載置する例
えば４個の載置台（１２ａ）　（１２ｂ）　（１３ａ）
　（Ｌ３ｂ）を有している。これらの載置台（１２ａ）
　（１２ｂ）　（１３ａ）　（１３ｂ）の２個づつで対
をなしている。すなわち、載置台（１２ａ）（１２ｂ）
（１３ａ）（１３ｂ）の対ごとにボート０を支持するよ
うになっている。

第２図は、１対の載置台（１２ａ）（１２ｂ）の構成を
示す説明図である。　このａ置台（１２ａ）　（１２ｂ
）は、図示しないレールに沿って往復動する可動板（１
７）を有している。可動板（１７）ｌには、支柱（１８
）が立設している。支柱（１８）の頂部には、第２取付
けへ一入（１９）が設けられている。第２取付はベース
（１９）上には、例えばリニアベアリングからなるスラ
イド可動部（２０）を介して、第１取付はベース（１６
）が積層されている。第１取付はベース（１６）上には
、石英ガラス板（１４）が設けられている。石英ガラス
板（１４）の上面は、ボート（９）の底面に当接する面
である６石英ガラス板（１４）は、挟持具（１５）によ
って第１取付はベース（１６）に挟持固定されている。

スライド可動部（２０）内には、図示しない第１スライ
ド可動片と第２スライド可動片が設けられている。第１
スライド可動片は、第１取付はベース（１６）に固定さ
れている。第２スライド可動片は、第２取付はベース（
１９）に固定されている・第１スライド可動片は、ウェ
ハ（１０）の配列方向に沿って自在にスライド移動する
ようになっている。

第１取付はベース（１６）の下面には、フック（２２ａ
）が螺着している。第２取付はベース（１９）の上面に
は、フック（２２ｂ）が螺着している。これらのフック
（２２ａ）　（２２ｂ）間には、付勢部材１例えば引っ
張りコイルスプリング（２１）が張設されている。この
引っ張りコイルスプリング（２Ｉ）によって、第１取付
はベース（１６）をウェハ（ｌＯ）の配列方向の一端側
に常時付勢している。ここで、付勢部材は、スライドシ
リンダー等で構成しても良い。

載置台（１２ａ）　（１２ｂ）には、ボート検知機構（
２３）が横設されている。ボート検知Ｉａ構（２３）は
、ボートの有無を検知するためのものである。

ボート検知機構（２３）は、所定間隔を設けて垂設され
た２本のシャフト（２４ａ）　（２４ｂ）を有している
。

両シャフｈ　（２４ａ）　（２４ｂ）間には、ボールベ
アリング（２５）が介在されている。このボールベアリ
ング（２５）の作用によって、両シャフト（２４ａ）　
（２４ｂ）は。

自在に上下動するようになっている。両シャフト（２４
ａ）、　（２４ｂ）の頂部は、ベース（２６）に接続し
ている。つまり、両シャフト（２４ａ）　（２４ｂ）は
、一体になって上下動するようになっている。ベース（
２６）は。

シャフト（２４ａ）　（２４ｂ）を固定しており、ベー
ス（２６）の頂部には１石英製のスイッチ（２７）が設
けられている。一方のシャフト（２４ａ）のボールベア
リング（２５）の取付は位置部分には、リング状のスト
ッパー（２８）が取付けられている。ストッパー（２８
）は、他方のシャフト（２４ｂ）の方に取付けても良い
、ストツバ−（２ｇ）の下側には、　シャフト（２４ａ
）が貫入されるようにしてスプリング（２９）が取付け
られている。スプリング（２９）の下端は、スプリング
プレート（３０）によって支持されている。　スプリン
グ（２９）によって両シャフト（２４ａ）　（２４ｂ）
を上方に付勢している。他方のシャフト（２４ｂ）の下
端部には。

マグネット（３１）が設けられている。マグネット（３
１）と対向するようにしてマグネットセンサ（３３）が
設けられている。マグネットセンサ（３３）は、第１取
付はベース（１６）に取付けられたマウント（３２）に
取付けられている。マグネットセンサ（３３）により、
スイッチ（２７）が上昇状態或いは下降状態のいずれか
にあるかを検知するようになっている。なお、マグネッ
ト（３１）は、一方のシャフト（２４ａ）側に取付けて
も良い。

このように構成されたボート検知機ｆｌ（２３）は、一
対の載置台（１２ａ）　（１２ｂ）　（１３ａ）　（１
３ｂ）に１つずつ設けても良い、或いは、夫々の載置台
（１２ａ）（１２ｂ）（１３ａ）　（１３ｂ）毎に１つ
ずつ設けても良い。

２組の載置台（１２ａ）　（１２ｂ）　（１３ａ）　（
１３ｂ）対は、上述した同様の構成を有している。他方
の載置台（１３ａ）（１３ｂ）対は、　アーム（３５）
を介してシリンダー（３４）に接続している。このシリ
ンダー（３４）の駆動により、他方の載置台（１３ａ）
　（１３ｂ）対は上下動するようになっている。シリン
ダー（３４）は、可動板（１７）の下面に取付けられて
いる。

これらの載置台（１２ａ）　（１２ｂ）　（１３ａ）　
（１３ｂ）は、その頂部がボート０）の下面に当接する
ようにほぼ直線状にボート■の長手方向に沿って配置さ
れている。

なお、固定状態の載置台（１２ａ）（１２ｂ）と上下動
自在な載置台（１３ａ）　（１３ｂ）を交互に配置して
いる。その理由は、ａ置台（１２ａ）（１２ｂ）　（１
３ａ）　（１３ｂ）上に、ボートυをできるだけ安定に
載置させるためである。

このボート支持装置（Ｕ、）は、ボートυ）の両端部を
両側から把持する支持機構（３６ａ）　（３６ｂ）を有
している。支持機構（３６ａ）　（３６ｂ）は、第３図
に示す如く、ボート０）の長手方向に沿う両端面に当接
する支持部材（３７）を有している。支持部材（３７）
は、駆動体（３８ａ）　（３８ｂ）によってスライド駆
動するようになっている。支持部材（３７）は、支持機
構（３６ａ）　（３６ｂ）の移動時のガイドの役割も果
す。支持機構（３６ａ）　（３６ｂ）には、支持部材（
３７）と一体に移動するカムフォロア（３９）が設けら
れている。支持機構（３６ａ）　（３６ｂ）には、カム
フォロア（３９）を従動させる力Ａ、（４０）が配置さ
れている。

支持部材（３７）は、上部に当接部変換機構を有してい
る。当接部変換機構は１例えばロータリーソレノイド（
４１）で構成されている。支持部材（３７）には、例え
ば２個の石英製の当接部（４２ａ）　（４２ｂ）が。

９０°の開き角を有して取付けられている。石英製の当
接部（４２ａ）　（４２ｂ）としたのは、十分な耐熱性
を発揮させるためである。ロータリーソレノイド（４１
）の駆動によって当接部（４２ａ）　（４２ｂ）の位置
が回転交換できるようになっている。

一方の支持機構（３６ａ）を構成する支持部材（３７）
には、２個の当接部（４２ａ）　（４２ｂ）が設けられ
ている。

他方の支持機構（３６ｂ）の支持部材（３７）には、２
個の当接部（４３ａ）　（４３ａ）　（４３ｂ）　（４
３ｂ）が２組設けられている（第４図参照）。つまり、
一方の支持機構（３６ａ）のいずれか１個の当接部（４
２ａ）　（４２ｂ）と他方の支持機構（３６ｂ）のいず
れか１組の当接部（４３ａ）（４３ａ）　（４３ｂ）　
（４３ｂ）が、ボート０）の両端部に当接して、３点支
持によってボート０を把持するようになっている。

当接部（４２ａ）　（４２ｂ）　（４３ａ）　（４３ｂ
）によるボート０の支点は、４点支持によって行っても
良い、しかし、実際には、ボート０の両端面が平行に対
向していない場合もある。このような場合のボート０）
を４点支持によって、正しい位置で把持するのは極めて
難しい。著しい場合には、４点支持のためにボート０を
正しく位置決めして把持できず、ボート０がぐらついた
状態で支持部材（３７）　（３７）によって把持される
ことになる。その結果、カセットとボート０の間でウェ
ハ（１０）の移換え作業を円滑に行うことができなくな
る。従って、ボート０〕）の−端面のほぼ中心部に１点
支持による当接部（４２ａ）（４２ｂ）を当接し、他端
面のほぼ中心部から等距離に離れた２点に当接部（４３
ａ）　（４３ａ）　（４３ｂ）　（４３ｂ）の２個を当
接させる。この結果、３点支持によってボート■）を極
めて正しい位置で確実に支持機構（３６ａ）（３６ｂ）
によって把持するものである。

２組の当接部（４３ａ）　（４３ｂ）及びロータリーソ
レノイドを取付けた他方の支持部材（３７）は、可動板
（１７）に立設された回転軸（図示せず）に取付けられ
ている。支持部材（３７）は、この回転軸を中心に回動
するようになっている。回転軸には、板バネが貫設され
ている。

このように、ボート■の一端面を１点の当接部（４２ａ
）　（４２ｂ）で押圧し、他端面を回動自在な２点の当
接部（４３ａ）　（４３ｂ）で押圧する。その結果、種
々の形状の異なるボート（ロ）を安定した状態で正しく
位置決めすることができる。

支持部材（３７）は、駆動体（３８ａ）　（３８ｂ）に
よってスライド駆動するようになっている。駆動体（３
８ａ）（３８ｂ）は、例えばエアーシリンダによって構
成されている。駆動体（３８ａ）　（３８ｂ）は、例え
ば支持部材（３７）と並列状態にして可動板（１７）の
下面部に取付けられている。駆動体（３８ａ）　（３８
ｂ）は、ガイド（４４ａ）（４４ｂ）によって支持機構
（３６ａ）　（３６ｂ）をスライド移動するようになっ
ている。

第５図に示す如く、少なくとも一方の駆動体（３８ａ）
　（３８ｂ）には、ボート（９）の長手方向と伸縮方向
が同じになり、且つ上記支持機構（３６ａ）　（３６ｂ
）を相対的に反対方向に力を作用させるようにして伸縮
手段が取付けられている。伸縮手段は１例えばコイルス
プリング（４５）で構成されている。コイルスプリング
（４５）は１例えば駆動体（３８ｂ）を構成するエアー
シリンダーのピストンロッド部に取付けられている。伸
縮手段の取付は位置は、支持部材（３７）　（３７）　
（７）相互の対向間隔を、駆動体（３８ａ）　（３８ｂ
）の動きの制御によって、自在に調節できる所であれば
良い。

次に、コイルスプリング（４５）の選択条件について説
明する。ピストンロッド部に設けられたコイルスプリン
グ（４５）の選択条件は、カムフォロア（３９）がカム
（４０）を登る力により決まる。

まず、支持部材（３７）を下方へ付勢するために支持機
構（３６ｂ）の内部に設けられている図示しないコイル
スプリングのバネ力をｆとする。次に、このバネ力ｆと
駆動体（３８ｂ）であるシリンダーの力Ｆとの角度θに
よる斜面方向の分力が、コイルスプリング（４５）の引
張りカＴの斜面方向の分力以下であるとする。この場合
、コイルスプリング（４５）は伸びることなく、斜面方
向を進むことができる。

ここで、斜面に沿って働く合力Ｗを求める。第６図Ａに
示すようにエアーシリンダーによる力はＰｃｏｓＯ・・
・■、摩擦係数をμとするとエアーシリンダーによるコ
ロガリ摩擦はμＦｓｉｎθ・・・■、第６図Ｂに示すよ
うにスプリングによる力はｆｓｉｎθ・・・■。

コイルスプリングによるコロガリ摩擦はμｆｃｏｓ　０
・・■となる。これらの力は第６図Ｃに示すようになる
。従って斜面に沿って働く力Ｗは、Ｗ＝Ｆｃｏｓθ−μ
Ｆｓｉｎ　Ｏ−ｆｓｉｎθ−ｐ　ｆｃｏｓ　Ｏ＝　Ｆ　
（ｃ０８θ−ｐ　ｓｉｎ　Ｏ）−ｆ（ｓｉｎｏ十μｃｏ
ｓθ）となる。

また、コイルスプリング（４５）の斜面に対する作用力
は、　Ｔｃｏｓθとなる。また、ボート（９）を支持す
る時にコイルスプリング（４５）が伸びるためには、引
っ張り力Ｔはシリンダーの力Ｆ以下でなけれならない。

故に、 Ｗ＜Ｔｅａｓθ門Ｔ＜Ｆ という条件式となる。

この時、シリンダー径をｄ、エアー圧力をＰ、支持機構
（３６ｂ）内部に設けられている図示しないコイルスプ
リングのバネ定数をに工、この時の伸びをχとすると Ｆ：セ２Ｐ、ｆ＝２に□χ（バネを２本平行使いとする
と）、’、Ｗ＝：’ｄ”ＰｃｏｓＯ−２に、ＺｓｉｎＯ
−μｄ”ＰｓｉｎＯ−２μＫｔＺｃｏｓθ＝（王ｄ”Ｐ
−２μＫｔ　Ｚ）ｃｏｓｔ）−（２Ｋ、Ｚ＋／ｊ　　ｄ
２Ｐ）ｓｉｎθとなり、上記コイルスプリング（４５）
の条件式からＴ＞−７−ｄ”Ｐ−２μに、　Ｚ−（２Ｋ
ｚ　Ｚ＋μｍｊ−ｄ２Ｐ）ｔａｎθＴ＜ｈ２１ となり上記範囲のバネ力を有するコイルスプリング（４
５）を選択するに のようなコイルスプリング（４５）が設けられているの
で、ボート０）の両端面に当接する当接部（４２ａ）　
（４３ａ）　（４２ｂ）　（４：ｌｂ）間の間隔を、ボ
ート（９）　（７）形状に対応した最適値に設定できろ
。すなわち、当接部（４２ａ）　（４３ａ）　（４２ｂ
）　（４３ｂ）間の間隔を、予め短かめに設定しておく
。そして、駆動体（３８ａ）　（３８ｂ）のシリンダー
のストロークが、ボート（９）に対して必要以上に長い
分だけ、コイルスプリング（４５）が伸びて吸収するこ
とができる。

また、カムフォロア（３９）は、カムフォロア支持部を
介して支持部材（３７）に接続している。カムフォロア
（３９）は、カム（４０）に沿って移動し、支持部材（
３７）を斜め上方に移動させてボート■を支持する６ボ
ート■を把持するとカムフォロア（３９）は。

角度θに沿って斜め下方に従動する。

なお、カムフォロア（３９）、カム（４０）の当接を確
保するために、支持部材（３７）は図示しない付勢部材
によって常時鉛直下方に付勢されている。

次に、このように構成された支持部ｒｎ（１１）による
ボート０の支持方法について説明する。

まず、ボート支持装置（１１）を、ボート■の受は渡し
位置に設置する。ボート支持装置（旦）の移動は１図示
しないレールに沿って可動する可動板（１７）により行
う。ボート０の受は渡し位置には、ボーｈ　（９）を例
えば反応炉に搬出入するためエレベータ（図示せず）が
設けられている。エレベータは、例えば１対の載置台（
１２ａ）（１２ｂ）上にボート０を降下して載置する。

ここで、ボート０の受は渡し時には、支持機構（３６ａ
）（３６ｂ）は作動していない。従って、載置台（１２
ａ）（１２ｂ）は、引っ張りコイルスプリング（２１）
の自由長によって配列方向の一端側に付勢された状態と
なっている。このため、可動板（１７）がレールの所定
位置に停止していると、載置台（１２ａ）　（１２ｂ）
のボート載置面はスプリング（２１）の付勢力によって
一義的に定められている。このため常に同じ位置のボー
ト載置面上でボート０を受けとめることができる。ボー
ト０が、載置台（１２ａ）（１２ｂ）に載置されると、
ボート検知機構（２３）のスイッチ（２７）がボート■
の載置により下降する。これに連動して、マグネット（
３１）が下降する。次いで、マグネッ１−センサー（３
３）が、ボート■の載置を検知する。このボート（９）
の載置が検知されると、支持機構（３６ａ）（３６ｂ）
が作動され、駆動体（３８ａ）　（３８ｂ）を動作する
。

そして、載置台（１２ａ）　（１２ｂ）と対応する当接
部（４２ａ）（４３ａ）がボート０長手方向の両端面に
夫々当接するように移動する。そして、当接部（４２ａ
）　（４３ａ）による当接時には、カムフォロア（３９
）がθの角度で斜め下方に傾斜したカム（４０）に従動
する。当接部（４２ａ）　（４３ａ）の圧力としては、
単にボート（９）方向の押圧力のみでなく、その合力が
斜め下方に向かうように作用するにのため、鉛直下方に
向かう分力を生ずることになる。

ここで、ボート０と載置台（１２ａ）（１２ｂ）との間
に作用する摩擦力は、摩擦面に垂直に作用する角度θに
対する垂直成分の力と摩擦係数との積である。

このため、分力が鉛直下方に作用することにより摩擦力
が増大する。

上述したようにして位置決め支持の力がボート０に作用
する。そして、ボート鵠がその方向に移動することにな
る。この際上記ボート（９）と載置台（１２ａ）　（１
２ｂ）との間には相当の摩擦力が生じている。

この間にすべりが生ずることはない。従って、スライド
可動部（１１）が引っ張りコイルスプリング（２１）の
付勢力に抗してスライド移動することによってボート■
）の位置決め支持が行なわれる。

このように、ボート（９）の位置決め支持時に載置台（
１２ａ）　（１２ｂ）の石英ガラス板（１４）とボート
■との石英ガラス同志の間ですべりが生じない。従って
、ウェハ（１０）の歩留まりを悪化するようなゴミの発
生を防止することができる。また、損傷を防止できる。

また、ボート０）の位置決め支持時に、バネ（４５）の
作用によりボーｌ−■）の長手方向の寸法誤差を伸縮に
より微調整をして正確に位置決めされる。

この後、レールに沿って移動してボート支持装置（旦）
をボート■とウェハカセットとの間でウェハを移換える
移換え位置に設定する。そして、この位置でボート０内
のウェハ（１０）を移換える。

この際、可動板（１７）の停止位置が正確に制御されて
いれば、ボート■は載置台（１２ａ）　（１２ｂ）上で
位置決めされているので、ボート（９）内のウェハ（１
０）を自動機によって確実に移換えることができる。

以上の動作が終了したら、次に新たなウェハ（１０）を
収納したウェハカセットを移換え位置に設定する。同様
にしてこのウェハ（ｌＯ）をボート（９）に移換える。

その後にこのボート０を受は渡し位置に移動して位置決
め支持のための抑圧力を解除する。

次いで、エレベータにボート０を受は渡し、ボート■）
を上記炉内に搬入させる動作を実行する。

この時、炉内から搬出して移換えたウェハ（１０）の炉
内で行なった処理条件と次のウェハの処理条件が異なる
場合がある。このときは、当然具なる反応ガスが使用さ
れる。このような異なる処理に同一ボートを使用すると
前の処理によりボートに付着している反応ガスが次の処
理で使用する反応ガスと反応して処理するウェハに悪影
響を与えてしまう。このため、移換え位置で処理したウ
ニ゛ハをウェハカセットに移換える。そして１次に行な
う処理と対応するボートまたは、新しいボートに交換す
る。

このボート交換の際、前のボート■）を位置決め支持し
ていたボート支持装置（旦）のボート（９）接触部であ
るａ置台（１２ａ）　（１２ｂ）及び当接部（４２ａ）
　（４３ａ）も、ボート（９）との接触により反応ガス
が付着している。　この載置台（１２ａ）（１２ｂ）及
び当接部（４２ａ）（４３ａ）を切り換える。　この切
り換え動作において、載置台の切り換えは相対的昇降例
えば載置台（１３ａ）（１３ｂ）をシリンダー（３４）
の駆動により上昇して載置台（１２ａ）　（１２ｂ）の
高さより高い位置に設定する。

更に当接部の切り換えは１例えば上記説明のロータリー
ソレノイド（４１）の回転により当接部を（４２ｂ）（
４３ｂ）に切り換える。この時、載置台を（１２ａ）　
（１２ｂ）から（１３ａ）　（１３ｂ）に切り換えた際
、通常より高い位置に設定されている。この高くなった
距離分当接部（４２ｂ）　（４３ｂ）も高い位置に当接
する如く硝酸されている。見かけ上回条件で次のボート
を位置決め支持することが可能となる。

このように切り換えた載置台（１３ａ）　（１３ｂ）及
び当接部（４２ｂ）　（４３ｂ）により、次のボートを
上記と同様に位置決め支持する。次に処理するウェハを
搭載して炉内に搬入する。

以後は同様に繰り返し実行する。処理条件の異なるウェ
ハに対して同様に行なわれる。

このようにボート（９）を支持体（３７）により固定す
る際、正確な位置決めを要するため、所望のバネ力を有
するコイルスプリング（４５）を備えたｌψ駆動体３８
ａ）即ちシリンダーに例えばエアーを供給し、支持体（
３７）をボート■方向に駆動する。この時、ボート■）
両端の支持体（３７）が、位置決め支持するボート０の
長手方向間隔より多少狭い位置即ち当接部（４２ａ）と
（４３ａ）或いは（４ｚｂ）と（４３ｂ）間の間隔が短
かくなるように予めシリンダーのストロークをセットし
ておく。この状態で上記支持体（３７）をボート■）方
向に駆動する。そして、当接部（４２ａ）と（４３ａ）
或いは（４２ｂ）と（４３ｂ）はボート０）の端面に当
接してボート■を挟み込む、しかし、予めセットしたシ
リンダーのストロークエンド位置とボート（９）の幅と
の差の距離分を上記したコイルスプリング（４５）が伸
びることにより吸収する。

このように予めボート■の長手方向の幅よりシリンダー
のストロークエンドを短かめにセットし　ノている。従
って、ボート製造誤差によりボート幅が一定しなくても
、コイルスプリング（４５）の吸収址即ち伸び斌の違い
のみで、異形状のボートでも正確に位置決め支持するこ
とが可能となる。−上記実施例では駆動体にシリンダー
を用いて説明した。しかし、上記機構に限定するもので
はなく、ソレノイドやモーター等を使用しても同様な効
果を得ることができる。

また、上記実施例では伸縮手段としてコイルスプリング
を用いて説明した。しかし、伸縮する機端であればこれ
に限定するものではない。

また、上記実施例では半導体製造工程に使用する半導体
ウェハボートの支持について説明した。

しかし、ロボットによる被支持体の支持等何れの支持で
も同様に行なうことができる。また、上記半導体ウェハ
ボートを長手方向両端部からの支持について説明した。

しかし、４方向からの支持や、他の被支持体の多方向か
らの支持でもよい。また、支持体形状も円形でも球形で
もかまわない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例のボート支持装置の概略構成
を示す説明図、第２図は第１図載置台の構成を示す説明
図、第３図は第１図支持機構の構成を示す説明図、第４
図は第１図の他方の支持機構の当接部を示す説明図、第
５図は第１図伸縮手段の取付は状態を示す説明図、第６
図は第５図に示したコイルスプリングのバネ力を説明す
るための説明図、第７図は従来のボート支持装置の概略
説明図である。 ９・・・ボート、　　　　　１０・・・ウェハ、３６・
・・支持機構、　　　３８・・・駆動体、４５・・・コ
イルスプリング・

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）複数の支持機構を相対的に反対方向に力を作用さ
   せて被支持体を支持する装置において、少なくとも１つ
   の上記支持機構に伸縮手段を設けたことを特徴とする支
   持装置。
2. （２）支持機構は、被支持体に当接する支持体と、この
   支持体を上記被支持体支持方向に駆動する駆動体とから
   成り、このように構成された支持体に対して駆動体を直
   列または並列に配置し、この配置した支持体と駆動体の
   間に、上記支持方向と平行に伸縮手段を設けたことを特
   徴とする請求項１記載の支持装置。
3. （３）伸縮手段はコイルスプリングである請求項１記載
   の支持装置。
4. （４）被支持体は半導体ウェハボートである請求項１記
   載の支持装置。