JPH01200247A - 塗布方法及び装置 - Google Patents

塗布方法及び装置

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JPH01200247A
JPH01200247A JP2461988A JP2461988A JPH01200247A JP H01200247 A JPH01200247 A JP H01200247A JP 2461988 A JP2461988 A JP 2461988A JP 2461988 A JP2461988 A JP 2461988A JP H01200247 A JPH01200247 A JP H01200247A
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JP
Japan
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coating
lip
bead
liquid
hopper device
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Pending
Application number
JP2461988A
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English (en)
Inventor
Kunio Ito
伊藤 邦夫
Hitoshi Kunii
国井 斉
Hiroto Nakajo
浩人 中條
Yosatomi Hidaka
日高 与佐富
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH01200247A publication Critical patent/JPH01200247A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、スライドホッパー装置を用いて被塗布基体に
1つ以」二の塗液を塗布する基体の塗布方法及び装置に
関し、更に詳しくは写真感光材料の製造に適した塗布方
法及び装置に関する。
[従来の技術] 従来、スライドホッパー装置を用いて写真感光材料の支
持体等の被塗布基体に1つ以上の塗液を1層以上の層状
に塗布するには、米国特許2761419号及び同27
61791号等に記載のごとく、スライドホッパーや押
出しホッパー装置の塗液流出端に対向させて、写真感光
材料の被塗布基体を走行させ、前記塗布流出端から1つ
以上のエマルジョン状塗液を流出させて均一層状に塗布
することが行なわれており、また、その際、少なくとも
ホッパー装置の塗液流出端よりも後方の被塗布基体進入
側にビードを形成しながら塗布する方法も知られている
しかしながら、これら従来技術によれば、前記ビードが
外乱または撹はんされたり、あるいは塵等の異物により
多層塗布界面が擾乱されると、塗液の塗布により基体上
に形成された塗布層に種々の欠陥を生ずる0例えば特に
注目すべき欠陥は、シ11(方向に現れるスジ故障の発
生であり、このスジーIk障の発生は、写真感光材料に
於いては製品の廃棄につながる重大な結果を招く。そし
て、このスジ故1+gは塗布量jib時に発生ずるもの
、被塗布基体の、lltぎ「1通過時より発生ずるもの
、あるいは定常塗布状態においても基体に塵等の異物が
付着していた場合、この異物の通過時より発生ずるもの
等がある。そしてこのスジ故障は高〕■塗布あるいはン
−V II’J塗布になる程顕勇:に発生ずる。前述の
スジ故障の発生を防lにする技術として種々の改良技術
が提案されている。ずなわら、例えば(1)米国特許2
681294弓に開示されるように、ビー1ζ部汗が懸
垂している表面に真空を生じさせたりして、ビード」−
下の露出表面間に圧力差(以下単に減圧度という)を生
じさせる技術、(2)特公昭47−7l 27.25号
に油性−疎水性物質を施したり、継ぎ目部分の後方縁に
形成されるくさび形空間をなくすために傾斜を与える技
術、(3)特公昭48−4371号に開示されるように
、被塗布基体の継ぎ目部分に水を付着させるために、継
ぎ目部分の後方縁に水を噴Mまたは塗布する技術、(4
)特公昭51−39980号に開示されているように、
ホッパー装置の塗液流出端に唇状部を設け、該唇状部頂
面の傾斜角を塗液流出面の傾斜角よりも小さく形成して
、唇状部頂面上の塗液層の厚みを増大さぜる技術、また
、該技術において唇状部の先端縁の尖鋭さのために生ず
るスジ故障等を防止するために、唇状部の先端縁に丸み
を施したり、面取りする技術、(5)特公昭58−90
7号に開示されているように、ビードのホッパー接触後
端部を安定させるため、塗液溜部である液端保持部を設
ける等の技術が提案されている。 しかし、上記の各技
術をもってしても、まだスジ故障に対する対策としては
充分とは言えないのが現状である。
例えば上記(4)の技術によれば、塗布液中の塵粒子等
によるスジ故障にはある程度の効果はあるが、塗布先頭
部や継ぎ部より発生するスジ故障に対しては効果が無い
。またスライド面上を流れる液量が少ない場合にも効果
は少ない、これはスライド面よりflff; AJ’[
ff;lの唇状部を設けることにより、該部における液
層が厚くなる効果をもたらし、該部に付着する塵等の異
物粒子群による擾乱の影響を最小限にする効果がみられ
るが、該唇状部の傾斜が低くなることにより、スライド
面縁(リップという)を流下する動圧の低下によるビー
ドの不安定さの故か、低流量の際の安定性は却って低下
する また上記(5)の技術によれば、塗布先頭及び継ぎ部の
スジには効果があるが、低粘度液塗布の場合、適当な減
圧度は低下するが、ビードの安定性を高める効果は充分
ではない。
近時、感光材料に対する要請は厳しく、特に尖鋭性向上
等のため、高速、薄膜塗布が益々必要となってきている
が、上記、従来の技術だけではこれらの要請に充分応え
ることが出来ない。
[発明が解決しようとする問題点] 」ユ記のごとき問題点に対して本発明の目的は、塗布開
始時及び継ぎ通過時のいずれの場合にもスジ故障の発生
しない塗布方法及び装置を提供することである。さらに
本発明の他の目的は、低粘度、低流量の場合でもスジ故
障の出にくい塗布方法及び装置を提供することである。
f問題点を解決するための手段] 本発明の上記目的は、スライドホッパー装置によるビー
ド塗布方法に於いて、スライド面の下流端部に唇状部を
配置形成し、該唇状部上面の水平に対するlIJ’を斜
角を上記スライド面の傾斜角よりも小なるように設定し
、更にビードの前記ホッパー装置に対する接触後端部に
塗膜保持用塗布溜部を設け、該ビードの後端部を上記液
端保持部に接触保持させながら、塗布する事を特徴とす
る基体の塗布方法、ならびに、上記唇状部及び液端保持
部を有することを特徴とするスライドホッパー装置によ
って達成される。
以下本発明について更に具体的に説明する。
スジ故障発生の原因には種々の要因が考えられるが、要
は多層塗布における界面の擾乱によるものであろう。こ
のような擾乱を起こす原因としては、塵その池の異物粒
子による場合、あるいは被塗布基体または継ぎテープ、
下層と塗布液との濡れに起因する場合等が考えられる。
一/Ikにスライドビード塗布方法においては、基本的
にビードの安定性が重要であり、例えば、このような安
定性には塗布液物性(粘度、表面張力等)、速度、塗布
液流量、減圧度等が影響するため、これらの要件を適当
に組み合わせることにより塗布条件が設定されているが
、前記したごとく最近の感光材4′−[への要請には、
従来の範囲を逸脱する条件が必要になってきている。
本発明においては、前記唇状部と液端保持部を有するス
ライドホッパー装置を用いるが、この組み自わせにより
、それぞれの方法による効果からは考えられぬ効果が有
ることを見出だした。
すなはち、本発明によれば、低粘度、低流量の塗布液に
対しても安定な塗布が出来、最近の感光材料に対する厳
しい要請に応えることが可能となる。
以下図面により、本発明について説明する。
第1図は、本発明に使用される2層用スライドホッパー
装置の1例を示す、2層、例えば保護膜液はパイプ13
を通り、乳剤液はパイプ14を通り、2層を保持しなが
らスライド面5を流下し、リップ部6に至り、塗布パッ
クアラ10−ル1に抱えられて走行する被塗布基体であ
るウェブ10との間にビード12を形成する。なお、該
ビードは減圧装置3により下方に引かれ、安定性を高め
ている。
第2図〜第5図はスライドホッパー装置の前縁であるリ
ップ部6近傍の拡大断面図である。これらの図において
、5はスライド面、6はリップ部であり、15は唇状部
、16は液端保持部をそれぞれ表す、第2図は前記唇状
部の形状を示す断面図であり、第3図は前記液端保持部
の形状を示す断面図である。第4図は本発明における唇
状部及び濠端保持部の両者を有する場合の断面図である
同図において(a)〜(e)は本発明の種々な実施R様
を示す例であるが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。第5図は本発明の詳細な説明する為の塗布時に
おけるビードの状態を示す断面図である。同図において
、10はウェブ、11は塗布膜、12はビート、】3.
14はスライド面を流れる2層の塗布液を表す。同図(
イ)は従来のビードの状態であるが、同図(ロ)は唇状
部15を有する場合であって(イ)に比して唇状部の液
厚は厚くなるもののビード12の下端は浅い位置にあり
、ビード安定性は改良されていない、(ハ)は液端保持
部16を有する例であるが、ビード下端の安定効果は期
待出来るが、低粘度塗布液の場合におけるビード安定性
は充分ではない、(ニ)は本発明の場合であるが、この
場合はビード下端の安定に加え、唇状部での液膜が厚く
なることで、と−ドが著しく強1ヒされる。ずなはち(
ロ)の例で判るように唇状部だ()ではビードが浅くな
るが、単に減圧度を」二げるのみでは不安定になるが、
下端保持部を設+する事により、下端を安定する減圧度
の設定を可能とするのである。
以下実施例により、本発明の効果を具体的に例証する。
[実施例] 実施例 1 4WIよりなるハロゲン1ヒ銀写真感光乳剤であって、
被塗布基体として120μm#厚の下引きずみトリアセ
デートベ−ス ンダーとするハロゲン1ヒ銀写真感光乳剤、2層目には
1層とは感色性の異なるハロゲン化銀写真感光乳剤、3
層目は非感光性のゼラチン中間層、最」二層にはゼラチ
ン保護層を下記各種スライドホッパー装置により同時重
層した.使用したスライドホッパー装置は第5図に示す
(イ)〜(二)である。
塗布条件は塗布速度15 0 +a/ win,総重i
130g/m2、塗布液粘度19cpである。
塗布結果は塗布先頭よりのスジ発生本数で第6図(a)
に示した.この結果によれば、唇状部のみを有する(口
)は通常のなにも加工を施さない(イ)より僅か良い程
度であるが、これに対しくハ)及び(二)は優れた結果
を示した。この場合はビード下端の液1に持部の効果に
よるものである。なお−に記は塗布先頭からの場合であ
るが、継ぎ部分でも同様の結果であった。
実施例 2 被塗布基本どして、180 B +nの下引きずみポリ
エチレンテレフタレートを用い、下層にゼラチンをバ・
インダーとするハ1コゲン1ヒ銀写真乳剤、」二層に保
護層を同時mJVJ塗布を行った。塗布条件は、塗(l
i eff1度8011I/min、塗布液比重Ji1
.50 g/ m2、塗布液粘度 9cl+  である
、e1!用塗布機および結果の計1i11iは実施例1
と同じである。
結果を第6図(1+)に示す、同図において(ロ)は(
イ)に比較して同等以下である。また(ハ)は効果はコ
2められるが、充分では無い、これらの結果に対して(
ニ)は(ロ)、(ハ)単独では予想出来ない効果が出る
ことがわかる0寸なはち本例のごどき低粘度でかつ塗布
型も少ない場合では、唇状部のみでは効果なく、液端渫
持によるビード安定の効果はみちれるが、本発明の方法
は特に優れた効果が認められる。本例でも継ぎ部分にお
いて同様の結果であった。
実施例 3 実施例2と同じ酸塗布基本および塗布液、塗布(L(を
用い、塗布速度 1.OO+11/紬in、塗布液粘度
9cp  塗布液比重ML  45 g/ m2であり
、実施例2に比111Q して塗布速度が速くなってい
る。結果を実施例1と同様に評価し、第6図(c)に示
す。
本例では(ロ)の場合、ビート不安定で破壊した。
本例の場りでも、(ハ)の場合、効果はあるが、(ニ)
より劣る結果である0本例でも継ぎ部分で同様の結果を
得た。
」1記実施例1〜3の結果より明らかなごとく、唇状部
の効果は、通常の塗布条件では若干あるが、低粘度、低
流1[では却ってビートが不安定で、更に高速の場合は
塗布不能どなった。
渣端保持部の効果はかなり認められるが、低粘度、低流
■、更に高速の場合は不十分である。これらに対し本発
明の場合は優れた結果を得る事が出来た。
[発明の効果] 本発明により、スライドビード塗布における、塗布開始
時及び継ぎ通過時のいずれの場合にもスジ故障が発生せ
ず、さらに低粘度、低流量かつ高速の場合でもスジ故障
の出にくい塗布方法及び装置を提供する事が出来た。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に用いられるスライドホッパー装置の1
例の断面図である。第2図〜第5図は本発明のスライド
ホッパー装置のリップ部付近の拡大断面図である。f:
tIJ6図は実施例の結果を示す図である。 1: 塗布バックアップロール 2: スライドホッパー装置

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)スライドホッパー装置によるビード塗布方法に於
    いて、スライド面の下流端部に唇状部を配置形成し、該
    唇状部上面の水平に対する傾斜角を上記スライド面の傾
    斜角よりも小なるように設定し、更にビードの前記ホッ
    パー装置に対する接触後端部に塗膜保持用塗布溜部を設
    け、該ビードの後端部を上記液端保持部に接触保持させ
    ながら、塗布する事を特徴とする基体の塗布方法。
  2. (2)走行する被塗布基体に、1つ以上の塗液を塗布す
    るスライドホッパー装置に於いて、スライド面の下流端
    部に唇状部を配置形成し、該唇状部上面の水平に対する
    傾斜角を上記スライド面の傾斜角より小なるように設定
    し、さらにビードの前記ホッパー装置に対する接触後端
    部を保持する液端保持部を設けた事を特徴とするスライ
    ドホッパー装置。
JP2461988A 1988-02-03 1988-02-03 塗布方法及び装置 Pending JPH01200247A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0690340A1 (en) * 1994-06-27 1996-01-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Dual geometry for slide-bead coating

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0690340A1 (en) * 1994-06-27 1996-01-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Dual geometry for slide-bead coating

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