JPS5835105B2 - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPS5835105B2 JPS5835105B2 JP53165011A JP16501178A JPS5835105B2 JP S5835105 B2 JPS5835105 B2 JP S5835105B2 JP 53165011 A JP53165011 A JP 53165011A JP 16501178 A JP16501178 A JP 16501178A JP S5835105 B2 JPS5835105 B2 JP S5835105B2
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- G—PHYSICS
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7481—Coating simultaneously multiple layers
-
- G—PHYSICS
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
- G03C2001/7492—Slide hopper for head or curtain coating
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は移送されている長尺可撓性支持体(以下「ウェ
ブ」という)に液状塗布組成物を塗布するための装置に
関する。
ブ」という)に液状塗布組成物を塗布するための装置に
関する。
液状塗布組成物(以下「塗布液」という)をウェブに塗
布するための装置として広く利用されている装置の一つ
にRu5se 11等により米国特許第2761791
号に提案された多層スライドビード塗布装置がある。
布するための装置として広く利用されている装置の一つ
にRu5se 11等により米国特許第2761791
号に提案された多層スライドビード塗布装置がある。
この装置は傾斜面(スライド面)を流れ下る複数の塗布
液を、スライド面の下端においてそれが移送されている
ウェブと出会う点にビードを形成させるようにし、この
ビードを介して塗布を行なうものである。
液を、スライド面の下端においてそれが移送されている
ウェブと出会う点にビードを形成させるようにし、この
ビードを介して塗布を行なうものである。
従ってこの種の装置においてはビードを安定に維持する
ことが、塗布を成功させるために必要である。
ことが、塗布を成功させるために必要である。
しかし、塗布速度が犬となるに従って、このビードの維
持は困難になる傾向がある。
持は困難になる傾向がある。
特公昭51−39980号公報(米国特許第39286
78号に対応)には、このような塗布速度の上昇に伴な
うビードの不安定性に対処することのできる装置として
前記Ru5sel1等の提案した装置を改良した装置が
提案されている。
78号に対応)には、このような塗布速度の上昇に伴な
うビードの不安定性に対処することのできる装置として
前記Ru5sel1等の提案した装置を改良した装置が
提案されている。
この装置は前記スライド面の下流端に唇状部を設け、こ
の唇状部によりスライド面を流れ下る塗布液層の速度を
減じさせ、厚さを増大させることによってビードの安定
化を可能としたものである。
の唇状部によりスライド面を流れ下る塗布液層の速度を
減じさせ、厚さを増大させることによってビードの安定
化を可能としたものである。
この装置によれば、スライド面を流れ下る塗布液層の厚
さを増大させたことによる効果と思われるが、塗布液中
に存在する粒子の影響(塗布層の乱れによるしまの出現
)は見られなくなった。
さを増大させたことによる効果と思われるが、塗布液中
に存在する粒子の影響(塗布層の乱れによるしまの出現
)は見られなくなった。
しかしビードを安定に保って塗布速度を上昇させるため
には、それほど顕著な効果は見られず、高々10%程度
の塗布速度の上昇が可能になった程度であった。
には、それほど顕著な効果は見られず、高々10%程度
の塗布速度の上昇が可能になった程度であった。
それも塗布液流量の比較的大きい範囲でのことであって
、塗布液流量の小さい範囲では従来の(Ru5sel1
等の提案による)塗布装置に及ばない場合もあった。
、塗布液流量の小さい範囲では従来の(Ru5sel1
等の提案による)塗布装置に及ばない場合もあった。
本発明は上述の塗布装置の有する問題を解決し、塗布速
度を大巾に上昇させることの可能な塗布装置、特に塗布
液流量の小さい範囲でも塗布速度を大巾に上昇させるこ
との可能な塗布装置を提供することを目的とする。
度を大巾に上昇させることの可能な塗布装置、特に塗布
液流量の小さい範囲でも塗布速度を大巾に上昇させるこ
との可能な塗布装置を提供することを目的とする。
本発明のか匁る目的はスライド面を有するスライドビー
ド塗布装置において、前記スライド面の下流端にこれよ
り急角度で下降する立下り部と、これに滑らかに続く立
上り部を設け、上記スライド面を流れ下る塗布液層の速
度を前記立下り部で上昇させ、この塗布液層をこれに続
く立上り部から塗布すべきウェブに滑らかに移送させる
ようにすることによって達成される。
ド塗布装置において、前記スライド面の下流端にこれよ
り急角度で下降する立下り部と、これに滑らかに続く立
上り部を設け、上記スライド面を流れ下る塗布液層の速
度を前記立下り部で上昇させ、この塗布液層をこれに続
く立上り部から塗布すべきウェブに滑らかに移送させる
ようにすることによって達成される。
以下本発明の実施態様を回向に基いて詳細に説明する。
第1図は前述のRu5sel1等により提案された従来
の塗布装置を示す側面図で塗布バックアップローラ1に
巻き掛けられた移送されるウェブ2に近接して塗布ヘッ
ド3が設置されている。
の塗布装置を示す側面図で塗布バックアップローラ1に
巻き掛けられた移送されるウェブ2に近接して塗布ヘッ
ド3が設置されている。
塗布ヘッド3には計吐ポンプ11,12により塗布液4
,5が供給される。
,5が供給される。
各塗布液は塗布ヘッド3の上部スリット状開■かも押し
出され、スライド面上をそれぞれが層状になって流れF
る。
出され、スライド面上をそれぞれが層状になって流れF
る。
第1図の場合二つの塗布液層は互いに接して混り合うこ
となく、スライド面を流れ+−リ、ビード部6に達する
。
となく、スライド面を流れ+−リ、ビード部6に達する
。
室Iは真空ポンプ8と結合されたビード安定用背圧供給
手段である。
手段である。
第2図は本発明の一実施態様を示す塗布装置の要部側面
図で、スライド面下端部の詳細図である。
図で、スライド面下端部の詳細図である。
前述の従来装置との相異点はスライド面下流端にスライ
ド面の金山にわたって断面が半径57n1rtの半円形
をした溝9を設けた点にある。
ド面の金山にわたって断面が半径57n1rtの半円形
をした溝9を設けた点にある。
溝9はその中心をスライド面の延長上に有していて、ス
ライド面との交叉線10は半径Q、 5 mmの滑らか
な接続面を形成している。
ライド面との交叉線10は半径Q、 5 mmの滑らか
な接続面を形成している。
塗布液4および5はスライド面を流れ下り、スライド面
の終点である交叉線10からは溝9内に入る。
の終点である交叉線10からは溝9内に入る。
溝9内に入った塗布液層は当初スライド面よりも急角度
で下降する立下り部によりその速度を上昇させられ、つ
いでこれに滑らかに続く立上り部を経て、移送されてい
るウェブに塗布される。
で下降する立下り部によりその速度を上昇させられ、つ
いでこれに滑らかに続く立上り部を経て、移送されてい
るウェブに塗布される。
この立下り部から立上り部を経てウェブに塗布される過
程において、塗布液層は略連続的に比較的体々に引伸ば
され薄層化されてウェブに塗布される。
程において、塗布液層は略連続的に比較的体々に引伸ば
され薄層化されてウェブに塗布される。
この間の塗布液層の相対的な厚さの変化を第3図に示し
た。
た。
第3図から理解されるように、塗布液層は溝9内の立下
り部で大きく引伸ばされ、これに続く立上り部にかげて
はあまり変化せず、立上り部からウェブ上へ塗布される
過程でかなり急激に引伸ばされる。
り部で大きく引伸ばされ、これに続く立上り部にかげて
はあまり変化せず、立上り部からウェブ上へ塗布される
過程でかなり急激に引伸ばされる。
しかし全体としては塗布液層の引伸しは広範囲にわたっ
ており、その分比較的徐々に行なわれることになってい
る。
ており、その分比較的徐々に行なわれることになってい
る。
第4図は特公昭51−39980号に示された装置につ
いて、上と同様に塗布液層の相対的な厚さの変化を示し
たものである。
いて、上と同様に塗布液層の相対的な厚さの変化を示し
たものである。
本発明による装置の場合(第3図)と比較して、塗布液
層の引伸しが短期間に、比較的急激に行なわれているこ
とが理解できよう。
層の引伸しが短期間に、比較的急激に行なわれているこ
とが理解できよう。
溝9の形状はその断面が半円形のものが加工工作上有利
であるが、必ずしも半円形に限る必要はなく、前述の如
き立下り部とこれに滑らかに続く立−Lり部を形成する
ものであれば他の二次曲線で表わされるものあるいはこ
れに準するものであっても良い。
であるが、必ずしも半円形に限る必要はなく、前述の如
き立下り部とこれに滑らかに続く立−Lり部を形成する
ものであれば他の二次曲線で表わされるものあるいはこ
れに準するものであっても良い。
また溝の大きさは半円形の場合、半径で3〜15mm、
より好ましくは4〜12朋、更に好ましくは5〜10m
mである。
より好ましくは4〜12朋、更に好ましくは5〜10m
mである。
半円形以外の形状の場合もこれに準する大きさが好まし
い。
い。
塗布ヘッド3とバックアップローラ1との相対位置は、
バックアップローラ1に対して水平方向から下方に約3
00までの間が好ましい。
バックアップローラ1に対して水平方向から下方に約3
00までの間が好ましい。
本発明の効果は以下に示す実施例によってより明確にな
ると思われる。
ると思われる。
実施例 l
同一の塗布液を用いて種々の塗布ヘッドによる比較実験
を行なった。
を行なった。
塗布ヘッドとしては下記のものを用意した。
(1)本発明に基くもの、
溝の形状:半径5朋の半円形
(2)特公昭51−39980号の発明に基(もの、唇
状部の形状:長さ1間の水平部 (3) Ru5sel1等の提案になるもの、なお、
各塗布ヘッドは塗布バックアップローラに対して水平よ
り100下方に対設した。
状部の形状:長さ1間の水平部 (3) Ru5sel1等の提案になるもの、なお、
各塗布ヘッドは塗布バックアップローラに対して水平よ
り100下方に対設した。
塗布液としては写真用乳剤(粘度40cp 、表面張力
28 dyne /cra )を下層に、ゼラチン液(
粘度40cp、表面張力28 dyne /cm )を
上層に塗布した。
28 dyne /cra )を下層に、ゼラチン液(
粘度40cp、表面張力28 dyne /cm )を
上層に塗布した。
実験方法は塗布液流量を10〜10 Qcc/crn、
mmの範囲で変化させて、各塗布液流量において低塗布
速度で塗布液を塗り付は後、塗布速度を徐々に上昇させ
て塗布可能限界速度を測定するという方法をとった。
mmの範囲で変化させて、各塗布液流量において低塗布
速度で塗布液を塗り付は後、塗布速度を徐々に上昇させ
て塗布可能限界速度を測定するという方法をとった。
結果は次の通りであった。10 cc /crrL、
mmの塗布液流量で本発明に基く塗布装置は139 m
/m1ttの限界塗布速度を示した。
mmの塗布液流量で本発明に基く塗布装置は139 m
/m1ttの限界塗布速度を示した。
これに対して特公昭51−39980号の発明に基く塗
布装置では45 m/m1yt、またRu5sel1等
の提案になる塗布装置では76 m 7m1J1の限界
塗布速度しか示さなかった。
布装置では45 m/m1yt、またRu5sel1等
の提案になる塗布装置では76 m 7m1J1の限界
塗布速度しか示さなかった。
更に20 CC7cm、 mMの塗布液流量では、本発
明に基く塗布装置が227m/mの限界塗布速度を示し
たのに対し、特公昭51−39980号の発明に基く塗
布装置では55 m/m1yt、 Ru5sel1等の
提案になる塗布装置では76m/m1yrの限界塗布速
度しか示さなかった。
明に基く塗布装置が227m/mの限界塗布速度を示し
たのに対し、特公昭51−39980号の発明に基く塗
布装置では55 m/m1yt、 Ru5sel1等の
提案になる塗布装置では76m/m1yrの限界塗布速
度しか示さなかった。
また、50 cc 7cm、 min以上の塗布液流量
では、いずれの塗布装置を用いても限界塗布速度に差は
見出し難かった。
では、いずれの塗布装置を用いても限界塗布速度に差は
見出し難かった。
以上述べた如く、本発明によれば、スライドビード塗布
装置において、スライド面の下流端に設けた立下り部と
これに滑らかに続く立上り部とにより、スライド面を流
れ下る塗布液層を比較的徐徐に引伸しつつウェブに塗布
するようにすることが可能となるため、特に低塗布液流
量における塗布速度の飛躍的上昇を実現することが可能
となった。
装置において、スライド面の下流端に設けた立下り部と
これに滑らかに続く立上り部とにより、スライド面を流
れ下る塗布液層を比較的徐徐に引伸しつつウェブに塗布
するようにすることが可能となるため、特に低塗布液流
量における塗布速度の飛躍的上昇を実現することが可能
となった。
なお、本発明はスライドビード塗布方式において単層、
重層を問わず適用することが可能であり、塗布液として
も粘度で言えば数ep から200 cp までの、広
範囲のものを対象とすることが可能であった。
重層を問わず適用することが可能であり、塗布液として
も粘度で言えば数ep から200 cp までの、広
範囲のものを対象とすることが可能であった。
第1図は従来装置を示す断面図、第2図は本発明の一実
施態様を示す要部断面図、第3図および第4図は塗布液
層の厚さの変化を示すグラフである。 1・・・・・・塗布バックアップロール、2・・°・・
・ウェブ、3・・・・・・塗布ヘッド、4,5・・・・
・・塗布液、6・・・・・・ビード部、9・・・・・・
溝。
施態様を示す要部断面図、第3図および第4図は塗布液
層の厚さの変化を示すグラフである。 1・・・・・・塗布バックアップロール、2・・°・・
・ウェブ、3・・・・・・塗布ヘッド、4,5・・・・
・・塗布液、6・・・・・・ビード部、9・・・・・・
溝。
Claims (1)
- 1 スライド面を有するスライドビード塗布装置におい
て、前記スライド面の下流端にこれより急角度で下降す
る立下り部と、これに滑らかに続く立上り部を設け、上
記スライド面を流れ下る塗布液層の速度を前記立下り部
で上昇させ、この塗布液層をこれに続く立上り部から塗
布すべきウェブに滑らかに移送させるようにしたことを
特徴とする塗布装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53165011A JPS5835105B2 (ja) | 1978-12-25 | 1978-12-25 | 塗布装置 |
| US06/101,382 US4299188A (en) | 1978-12-25 | 1979-12-07 | Coating apparatus |
| GB7942575A GB2037622B (en) | 1978-12-25 | 1979-12-11 | Web coating |
| DE2951515A DE2951515C2 (de) | 1978-12-25 | 1979-12-20 | Vorrichtung zum Beschichten einer Bahn |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53165011A JPS5835105B2 (ja) | 1978-12-25 | 1978-12-25 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5586557A JPS5586557A (en) | 1980-06-30 |
| JPS5835105B2 true JPS5835105B2 (ja) | 1983-07-30 |
Family
ID=15804138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53165011A Expired JPS5835105B2 (ja) | 1978-12-25 | 1978-12-25 | 塗布装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4299188A (ja) |
| JP (1) | JPS5835105B2 (ja) |
| DE (1) | DE2951515C2 (ja) |
| GB (1) | GB2037622B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPH0181783U (ja) * | 1987-11-20 | 1989-05-31 |
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