JPH01200271A - 電子写真式平版印刷用原版 - Google Patents
電子写真式平版印刷用原版Info
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- JPH01200271A JPH01200271A JP63022839A JP2283988A JPH01200271A JP H01200271 A JPH01200271 A JP H01200271A JP 63022839 A JP63022839 A JP 63022839A JP 2283988 A JP2283988 A JP 2283988A JP H01200271 A JPH01200271 A JP H01200271A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0589—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording-members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat or to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電子写真方式で製版される電子写真平版印刷
用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の光
導電層形成用結着樹脂の改良に関する。
用原版に関するものであり、特に、該平版印刷原版の光
導電層形成用結着樹脂の改良に関する。
(従来技術)
現在ダイレクト製版用のオフセット原版には多種のもの
が提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支持
体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を主
成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の電
子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナー
画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不
惑脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化すること
によってオフセット原版を得る技術が広く用いられてい
る。
が提案され且つ実用化されているが、中でも導電性支持
体上に酸化亜鉛のごとき光導電性粒子及び結着樹脂を主
成分とした光導電層を設けた感光体において、通常の電
子写真工程を経てその感光体表面に親油性の高いトナー
画像を形成させ、続いて該表面をエッチ液と言われる不
惑脂化液で処理し非画像部分を選択的に親水化すること
によってオフセット原版を得る技術が広く用いられてい
る。
良好な印刷物を得るには、先ず、オフセント原版に、原
画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化処
理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同時
に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する光
導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよく
、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分に
非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する必
要がある。
画が忠実に複写されると共に、感光体表面が不感脂化処
理液となじみ易く非画像部が充分に親水化されると同時
に耐水性を有し、更に印刷においては、画像を有する光
導電層が離脱しないこと、及び湿し水とのなじみがよく
、印刷枚数が多くなっても汚れが発生しない様に充分に
非画像部の親水性が保持されること等の性能を有する必
要がある。
これらの性能には光導電層中の酸化亜鉛と結着樹脂の比
率が影響することは既に知られている。
率が影響することは既に知られている。
例えば、光導電層の酸化亜鉛粒子に対する結着樹脂の比
率を小さ(すれば、光導電層表面の不惑脂化性が向上し
、地汚れは少なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝
集力が低下し、機械的強度不足による耐剛力の低下が生
じる。逆に結着樹脂の比率を大きくすると、耐剛力は向
上するが、地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層
表面の不感脂化性の良否に関係する現象であることは言
うまでもないが、光導電層表面の不惑脂化性は光導電層
中の酸化亜鉛と結着樹脂の比率のみによって左右される
ものではなく、結着樹脂の種類によっても大きく左右さ
れることが明らかになってきている。
率を小さ(すれば、光導電層表面の不惑脂化性が向上し
、地汚れは少なくなるが、他方で光導電層自体の内部凝
集力が低下し、機械的強度不足による耐剛力の低下が生
じる。逆に結着樹脂の比率を大きくすると、耐剛力は向
上するが、地汚れが増大する。特に地汚れは、光導電層
表面の不感脂化性の良否に関係する現象であることは言
うまでもないが、光導電層表面の不惑脂化性は光導電層
中の酸化亜鉛と結着樹脂の比率のみによって左右される
ものではなく、結着樹脂の種類によっても大きく左右さ
れることが明らかになってきている。
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂(特
公昭34−6670号)、スチレン−ブタジェン樹脂(
特公昭35−1950号)、アルキッド樹脂、マレイン
酸樹脂、ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢
酸ビニル樹脂(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル
共重合体(特公昭41−2426号)、アクリル樹脂(
特公昭35−11216号)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35−11219号、特公昭36−
8510号、特公昭41−13946号等)等が知られ
ている。しかし、これらの樹脂を用いた電子写真感光材
料においては、■)光導電層の帯電性が低い、2)複写
画像の画像部の品質(特に網点再現性・解像力)が悪い
、3)露光感度が低い、4)オフセットマスターとして
用いるために不感脂化処理しても不惑脂化が充分に行な
われず、このためオフセット印刷した際に印刷物に地汚
れを生ずる、5)感光層の膜強度が充分でなく、オフセ
ット印刷すると感光層の脱離等が生じ、印刷枚数を多く
できない、6)複写画像作成時の環境(例えば高温高温
)にその画質が影響されやすい、等のいずれかの問題が
あった。
公昭34−6670号)、スチレン−ブタジェン樹脂(
特公昭35−1950号)、アルキッド樹脂、マレイン
酸樹脂、ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢
酸ビニル樹脂(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル
共重合体(特公昭41−2426号)、アクリル樹脂(
特公昭35−11216号)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35−11219号、特公昭36−
8510号、特公昭41−13946号等)等が知られ
ている。しかし、これらの樹脂を用いた電子写真感光材
料においては、■)光導電層の帯電性が低い、2)複写
画像の画像部の品質(特に網点再現性・解像力)が悪い
、3)露光感度が低い、4)オフセットマスターとして
用いるために不感脂化処理しても不惑脂化が充分に行な
われず、このためオフセット印刷した際に印刷物に地汚
れを生ずる、5)感光層の膜強度が充分でなく、オフセ
ット印刷すると感光層の脱離等が生じ、印刷枚数を多く
できない、6)複写画像作成時の環境(例えば高温高温
)にその画質が影響されやすい、等のいずれかの問題が
あった。
特にオフセット原版としては、前記の様に不惑脂化性不
充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改良
するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂
の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
−31011号では、フマル酸存在下で(メタ)アクリ
レート系モノマーと他のモノマーと共重合させたMwl
、8〜10XIO’でTglO〜80°Cの樹脂と(メ
タ)アクリレート系モノマーとフマル酸以外の他のモノ
マーとから成る共重合体とを併用したもの、特開昭53
−54027号では、カルボン酸基をエステル結合から
少なくとも原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ
)アクリル酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの
、特開昭54−20735号・特開昭57−20254
4号では、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、
特開昭58−68046号では、炭素数6〜12のアル
キル基を置換基とする(メタ)アクリル酸エステル及び
カルボン酸含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を
用いるもの等が光導電層の不感脂化性の向上に効果があ
ると記載されている。
充分による地汚れ発生が大きな問題であり、これを改良
するために不感脂化性を向上させる酸化亜鉛結着用樹脂
の開発が種々検討されてきている。例えば、特公昭50
−31011号では、フマル酸存在下で(メタ)アクリ
レート系モノマーと他のモノマーと共重合させたMwl
、8〜10XIO’でTglO〜80°Cの樹脂と(メ
タ)アクリレート系モノマーとフマル酸以外の他のモノ
マーとから成る共重合体とを併用したもの、特開昭53
−54027号では、カルボン酸基をエステル結合から
少なくとも原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ
)アクリル酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの
、特開昭54−20735号・特開昭57−20254
4号では、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、
特開昭58−68046号では、炭素数6〜12のアル
キル基を置換基とする(メタ)アクリル酸エステル及び
カルボン酸含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を
用いるもの等が光導電層の不感脂化性の向上に効果があ
ると記載されている。
しかし、これらの不感脂化性向上に効果があるとされる
樹脂であっても、現実に評価してみると地汚れ、耐刷力
等において不充分であった。
樹脂であっても、現実に評価してみると地汚れ、耐刷力
等において不充分であった。
更に、結着樹脂として、分解により親水性基を生成する
官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されており、
例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を含
有するもの(特開昭62−195684号、特開昭62
−210475号、特開昭62−210476号)や分
解によりカルボキシル基を生成する官能基を含有するも
の(特開昭62−21269号)等が開示されている。
官能基を含有する樹脂を用いるものが検討されており、
例えば分解によりヒドロキシル基を生成する官能基を含
有するもの(特開昭62−195684号、特開昭62
−210475号、特開昭62−210476号)や分
解によりカルボキシル基を生成する官能基を含有するも
の(特開昭62−21269号)等が開示されている。
これらの樹脂は不惑脂化液又は印刷時に用いる湿し水に
より加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成する
樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂をして
用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を用
いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面との
強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題(平
滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できるとと
もに、不惑脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中において分解により生成される上記親水性基
によってより一層高められる為、画像部の親油性と非画
像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷イ
ンキが付着するのを防止し、その結果として地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能とな
ると記載されている。
より加水分解又は加水素分解されて親水性基を生成する
樹脂であり、これらを平版印刷用原版の結着樹脂をして
用いると、親水性基自身をはじめから含有する樹脂を用
いた場合に該親水性基と光導電性酸化亜鉛粒子表面との
強い相互作用によって生ずると思われる種々の問題(平
滑性の悪化、電子写真特性の悪化等)を回避できるとと
もに、不惑脂化液により親水化される非画像部の親水性
が、樹脂中において分解により生成される上記親水性基
によってより一層高められる為、画像部の親油性と非画
像部の親水性が明確となり、印刷時に非画像部に印刷イ
ンキが付着するのを防止し、その結果として地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物を多数枚印刷することが可能とな
ると記載されている。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、これらの樹脂を用いても地汚れ、耐剛力
において未だ満足できるものではなく、上記の如き親水
性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非画
像部における親水性を更に向上させるべく、その含有量
を増大させた場合には、分解により生成した親水性基に
より親水性が増大するとともに水溶性となってしまうた
め、特にその持続性において問題のあることが判った。
において未だ満足できるものではなく、上記の如き親水
性基生成官能基を含有する樹脂を用いた場合でも、非画
像部における親水性を更に向上させるべく、その含有量
を増大させた場合には、分解により生成した親水性基に
より親水性が増大するとともに水溶性となってしまうた
め、特にその持続性において問題のあることが判った。
従って、非画像部の親水性による効果がより向上し、更
に持続性が向上する技術の出現が望まれる。
に持続性が向上する技術の出現が望まれる。
より具体的にいえば、全結着樹脂中における上記の如き
親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少させ
ても親水性向上の効果が変わらず維持できる、乃至は向
上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如き
印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明な
画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出現
が望まれる。
親水性基生成官能基を含有する樹脂の含有量を減少させ
ても親水性向上の効果が変わらず維持できる、乃至は向
上し、あるいは印刷機の大型化又は印圧の変動等の如き
印刷条件が厳しくなった場合でも、地汚れのない鮮明な
画質の印刷物を多数枚印刷することのできる技術の出現
が望まれる。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点は、導電性支持体上に、少なくとも1層の光
導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有することから成る光
電導層を設けて成る電子写真感光体を利用した平版印刷
用原版において、該結着樹脂が、分解により、チオール
基、ホスホ基、アミノ基及びスルホ基のうちの少なくと
も1つの基を生成する官能基を少なくとも1種含有し且
つ少なくとも一部分が架橋されている樹脂を少なくとも
1種含有してなることを特徴とする電子写真式平版印刷
用原版により解決されることが見出された。 ・本発明
は平版印刷用原版の光導電層の結着樹脂の少なくとも1
部に、分解して少なくとも1個のチオール基、ホスホ基
、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官能基を少な
くとも1種含有する樹脂で、且つ、少なくとも一部分が
架橋されている事を特徴としている。これにより、本発
明による平版印刷用原版は、原画に対して忠実な複写画
像を再現し、非画像部の親水性が良好であるため地汚れ
も発生せず、光導電層の平滑性及び静電特性が良好であ
り、更に耐刷力が優れているという利点を有する。
導電性酸化亜鉛と結着樹脂とを含有することから成る光
電導層を設けて成る電子写真感光体を利用した平版印刷
用原版において、該結着樹脂が、分解により、チオール
基、ホスホ基、アミノ基及びスルホ基のうちの少なくと
も1つの基を生成する官能基を少なくとも1種含有し且
つ少なくとも一部分が架橋されている樹脂を少なくとも
1種含有してなることを特徴とする電子写真式平版印刷
用原版により解決されることが見出された。 ・本発明
は平版印刷用原版の光導電層の結着樹脂の少なくとも1
部に、分解して少なくとも1個のチオール基、ホスホ基
、アミノ基及び/又はスルホ基を生成する官能基を少な
くとも1種含有する樹脂で、且つ、少なくとも一部分が
架橋されている事を特徴としている。これにより、本発
明による平版印刷用原版は、原画に対して忠実な複写画
像を再現し、非画像部の親水性が良好であるため地汚れ
も発生せず、光導電層の平滑性及び静電特性が良好であ
り、更に耐刷力が優れているという利点を有する。
更に、本発明の平版印刷用原版は製版処理時の環境に左
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。
右されず、また処理前の保存性に優れているという特徴
を有する。
以下に、本発明において用いられる分解して少なくとも
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
1個のチオール基、ホスホ基、スルホ基及び/又はアミ
ノ基の親水性基を生成する官能基を少なくとも1種含有
する樹脂(以下単に、親水性基生成官能基含有樹脂と称
することもある)について詳しく説明する。
本発明の親水性基生成官能基含有樹脂に含まれる官能基
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
は分解によって少なくとも1つの親水性基を生成するが
、1つの官能基から生成する親水性基は1個でも2個以
上でもよい。
以下、分解により少なくとも1個のチオール基を生成す
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記−飲
代(I)(−S−LA)で示される官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。
る官能基を含有する樹脂(チオール基生成官能基含有樹
脂)について詳述する。かかる樹脂は、例えば下記−飲
代(I)(−S−LA)で示される官能基を少なくとも
1種含有する樹脂である。
−飲代(1): [−5−L’ )
RA。
?
式中、LAは、−5i−RA2、CRA−1吉・
ll −C−RA1、 −C−0−RA6、 但し、RA、 、 RA□及びRA3は、互いに同じで
も異なってもよく、各々炭化水素基又は−〇−RA′(
RA′は炭化水素基を示す)を表わし、LA4、LA5
、RA6、RAl、RA6、RA、及びRAIoは各々
独立に炭化水素基を表わす。
ll −C−RA1、 −C−0−RA6、 但し、RA、 、 RA□及びRA3は、互いに同じで
も異なってもよく、各々炭化水素基又は−〇−RA′(
RA′は炭化水素基を示す)を表わし、LA4、LA5
、RA6、RAl、RA6、RA、及びRAIoは各々
独立に炭化水素基を表わす。
上記−飲代(−S−レ〕の官能基は、分解によって、チ
オール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明す
る。
オール基を生成するものであり、以下更に詳しく説明す
る。
A1
LAが一5i−RA□を表わす場合において、吉、3
RA、 、 RA□及びRA3は、互いに同じでも異な
っていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよ
い炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプ
ロピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよ
い炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、
フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル
基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロ
ロフェニルM等)又は−0−RA’ (RA’は、炭
化水素基を表わし、具体的には、上記RAl、RA□
RA3の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げ
ることができる)を表わす。
っていてもよく、好ましくは水素原子、置換されてもよ
い炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メトキシプ
ロピル基等)、置換されてもよい脂環式基(例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換されてもよ
い炭素数7〜12のアラルキル基(例えばベンジル基、
フェネチル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)又は、置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル
基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリル基、メトキ
シフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、ジクロ
ロフェニルM等)又は−0−RA’ (RA’は、炭
化水素基を表わし、具体的には、上記RAl、RA□
RA3の炭化水素基で記述した置換基類を例として挙げ
ることができる)を表わす。
(I
合において、LA4、RA6、LA5、R^、、R”B
は各々好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜12
の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル
基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル基、2.
2. 2−トリフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘ
キサフルオロ−1−プロピル基、オクチル基、デシル基
等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル
基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、
メトキシベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数
6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル
基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチル
フェニル基等)を表わす。
は各々好ましくは置換されていてもよい炭素数1〜12
の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基、トリ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチ
ル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、ヘキシル
基、3−クロロプロピル基、フェノキシメチル基、2.
2. 2−トリフルオロエチル基、t−ブチル基、ヘ
キサフルオロ−1−プロピル基、オクチル基、デシル基
等)、置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル
基、トリメチルベンジル基、ヘプタメチルベンジル基、
メトキシベンジル基等)、置換されていてもよい炭素数
6〜12のアリール基(例えばフェニル基、ニトロフェ
ニル基、シアノフェニル基、メタンスルホニルフェニル
基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリフルオロメチル
フェニル基等)を表わす。
RA、及びRA1゜は各々同じでも異なっていてもよく
、好ましい例としては、前記R^4〜RA、で好ましい
として記載した置換基を表わす。
、好ましい例としては、前記R^4〜RA、で好ましい
として記載した置換基を表わす。
本発明の他の好ましいチオール基生成官能基台有樹脂は
、−飲代(n)又は−飲代(I[)で示されるチイラン
環を少なくとも1種含有する樹脂である。
、−飲代(n)又は−飲代(I[)で示されるチイラン
環を少なくとも1種含有する樹脂である。
一般式(If)
RA、。
■
−飲代(III)
X
式(II)において、RAII及びRAI□は、互いに
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA4〜RA
7で好ましいとして記載した置換基を表わす。
同じでも異なってもよく、各々水素原子又は炭化水素基
を表わす。好ましくは、水素原子又は前記RA4〜RA
7で好ましいとして記載した置換基を表わす。
式(III)において、XAは、水素原子又は脂肪族基
を表わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノ
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)を表わす。
を表わす。脂肪族基として好ましくは、炭素数1〜6ノ
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基等)を表わす。
本発明の更なる他の好ましいチオール基生成官能基含有
樹脂は、−飲代(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
樹脂は、−飲代(IV)で示されるイオウ原子含有のへ
テロ環基を少なくとも1種含有する樹脂である。
一般式(IV)
式(IV)において、YAは酸素原子又は−NH−基を
表わす。
表わす。
RA13、RAI4及びRAI5は、同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好
ましくは水素原子又は前記RA4〜R^7で好ましいと
して記載した置換基を表わす。
いてもよく、各々水素原子又は炭化水素基を表わす。好
ましくは水素原子又は前記RA4〜R^7で好ましいと
して記載した置換基を表わす。
RAl 6及びRA、、は、同じでも異なっていてもよ
く、水素原子、炭化水素基又は−〇−RA# (RA“
は炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R
Al〜RA、で好ましいとして記載した置換基を表わす
。
く、水素原子、炭化水素基又は−〇−RA# (RA“
は炭化水素基を表わす)を表わす。好ましくは、前記R
Al〜RA、で好ましいとして記載した置換基を表わす
。
本発明の更なるもう一つの好ましい態様によれば、チオ
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。
ール基生成官能基含有樹脂は、互いに立体的に近い位置
にある少なくとも2つのチオール基を1つの保護基で同
時に保護した形で有する官能基を少なくとも1種含有す
る樹脂である。
互いに立体的に近い位置にある少なくとも2つのチオー
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記−飲代(V)、(VI)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
ル基を1つの保護基で同時に保護した形で有する官能基
の例としては例えば下記−飲代(V)、(VI)及び(
■)で表わされるものを挙げることができる。
一般式(V)
一般式(Vl)
一般式(■)
式(V)及び式(Vl)において、ZAはへテロ原子を
介してもよい炭素−炭素結合又はc−3結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +ZA−・−C)
結合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様になっ
ていてもよい。
介してもよい炭素−炭素結合又はc−3結合同志を直接
連結する化学結合を表わす(但し、イオウ原子間の原子
数は4個以内である)。更に一方の +ZA−・−C)
結合が単なる結合のみを表わし、例えば下記の様になっ
ていてもよい。
式(Vl>において、RAI 8、RA、、は、同じで
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−0
−RA″ (RA’は炭化水素基を示す)を表わす。
も異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基又は−0
−RA″ (RA’は炭化水素基を示す)を表わす。
式(Vl)において、R”ll+及びRA1.は、好ま
しくは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
炭素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭
素数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例え
ばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、メト
キシヘンシル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7
の脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えば
フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、
メチルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−〇−R
A″ (RA#はRA18% RAlにおける炭化水素
基と同義である)を表わす。
しくは互いに同じでも異なっていてもよく、水素原子、
炭素数1〜12の置換されていてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、2−メトキシエチル基、オクチル基等)、炭
素数7〜9の置換されていてもよいアラルキル基(例え
ばベンジル基、フェネチル基、メチルベンジル基、メト
キシヘンシル基、クロロベンジル基等)、炭素数5〜7
の脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基等)又は置換されていてもよいアリール基(例えば
フェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、
メチルフェニル基、シアノフェニル基等)又は−〇−R
A″ (RA#はRA18% RAlにおける炭化水素
基と同義である)を表わす。
式(■)において、RA□。、RA□1、RA□2、R
A□。
A□。
は、互いに同じでも異なっていてもよく、各々水素原子
又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子又は、
RA□、RAl9において好ましいと記載した炭化水素
基と同義の内容を表わす。
又は炭化水素基を表わす。好ましくは、水素原子又は、
RA□、RAl9において好ましいと記載した炭化水素
基と同義の内容を表わす。
本発明に用いられる一般式(I)〜(■)で示される官
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
能基を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体中に含有
されるチオール基を高分子反応によって保護基により保
護した形にする方法又は予め保護基により保護された形
の1つ又は2つ以上のチオール基を含有する単量体の又
は該単量体及びこれと共重合し得る他の単量体の重合反
応により重合する方法により製造される。
チオール基を含有する重合体は、該チオール基がラジカ
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、ブンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。
ル重合を禁止するため、チオール基含有の単量体をその
まま重合することは困難であるため、高分子反応でチオ
ール基を導入する方法かあるいは本発明に用いられる官
能基、イソチウロニウム塩、ブンテ塩等の形にチオール
基を保護した単量体を重合させた後分解反応を行なって
チオール基とする方法で製造される。
従って、重合体中のチオール基を保護した官能基を任意
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(1)〜(■)の官能
基を含有する単量体からの重合反応により製造する方法
が好ましい。
に調整し得ること、不純物を混入しないことあるいは、
最終的にチオール基を保護した単量体でないと重合しな
いこと等の理由から、予め一般式(1)〜(■)の官能
基を含有する単量体からの重合反応により製造する方法
が好ましい。
1つ又は少なくとも2つのチオール基を、保護基により
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉貴男・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜23
7頁(講談社71977年刊)、日本化学金属「新実験
化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕、第
8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社 1
978年刊) 、J、 F、 W、 McOmie、
rProtective Groupsin Org
anic Chemistry」第7章(Plenum
Press。
保護された官能基に変換する製造法としては、例えば、
岩倉貴男・栗田恵輔著「反応性高分子」230頁〜23
7頁(講談社71977年刊)、日本化学金属「新実験
化学講座第14巻、有機化合物の合成と反応〔■〕、第
8章、第1700頁〜1713頁、(丸善株式会社 1
978年刊) 、J、 F、 W、 McOmie、
rProtective Groupsin Org
anic Chemistry」第7章(Plenum
Press。
1973年刊) 、S、 Patai、 rThe
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John
Wiley & 5ons 、 1974年刊)等の
総説引例の公知文献記載の方法等を適用することができ
る。
Chemistry ofthe thiol gro
up Part2 J第12章、第14章(John
Wiley & 5ons 、 1974年刊)等の
総説引例の公知文献記載の方法等を適用することができ
る。
■又は2以上のチオール基が保護基により保護された単
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(I)〜(■)の官能基に変換する
か、あるいは−飲代(1)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
量体、例えば式(1)〜(■)で表わされる官能基を含
有する単量体は、具体的には、重合性の二重結合を含み
且つチオール基を少なくとも1個含有する化合物を、例
えば、前記した公知文献等に記載された方法に従って、
チオール基を一般式(I)〜(■)の官能基に変換する
か、あるいは−飲代(1)〜(■)の官能基を含有する
化合物を重合性の二重結合を含む化合物と反応させる方
法によって、製造することができる。
更に具体的には、−飲代(1)〜(■)の官能基を含有
する単量体として以下の様な化合物を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
。
する単量体として以下の様な化合物を挙げることができ
るが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない
。
(1) −(−CH2−CHf−■
5COCR。
(2) −+CH2−CH+−
■
5COC,H6
(3) −(−CH2−CH−)−5COC4H
。
。
(4) −+CH2−CH−)−5COCR,C
ff1 (5) −(−CH2−CH−)−3COOC4
H。
ff1 (5) −(−CH2−CH−)−3COOC4
H。
(8) −(−CH,−CH+−■
S−3i (CH:1)3
(9) −(−CH,−CH−)−CH25C0
0C,H。
0C,H。
(1B) −(−CH2−CH−)−(20)
+CHz CH+−C00(CH2)ZS−CO
CH,CjlICH。
+CHz CH+−C00(CH2)ZS−CO
CH,CjlICH。
(21) −(−CH,−C−÷−■
Coo(CH2)ZS−C3OC2H5CH。
(22) −(−CH,−C−±−Coo(CH2
)ZS−C3OC2H5CH。
)ZS−C3OC2H5CH。
CH。
(24) −(−CHI−C−÷−(25) −
そCH,−CH−)− ■ C00(CH2)zS 5i(CH:+)+H3 (26) −+CH2−C−÷− C00CH,CHCH2CH2S−C3OC,H55−
C3OC,H。
そCH,−CH−)− ■ C00(CH2)zS 5i(CH:+)+H3 (26) −+CH2−C−÷− C00CH,CHCH2CH2S−C3OC,H55−
C3OC,H。
(27) +CH2−CH−)−
C00(CHz)zS C00C4HqH3
(28) −そCH,−C−÷−
C0NH(CH,)、5COOC,H9(30)
−(−CH−CH+− I S□5 (40) CH。
−(−CH−CH+− I S□5 (40) CH。
S□S
S□5
(42) CH3
−(−CH□−C−+−
■
C,H。
(43) −(−CH2−CH−)−曜
0CH2CHCH2SCOCH3
C0CHs
(44) −(−CH2−−C1i−)−o
−CHzCHCHz Ctl 。
−CHzCHCHz Ctl 。
(45) +CHz C−+−
喝
(47) CH。
−(−CH、−−C−+−
■
C00(CHz)zSSC=Hq
(49) CH3
(50) CH。
−(−CH2−C+
証
Coo(CH2)、5COCRCI!、□(51,)
+CHz CH+−CH2NHCO−C)+−
CH2 (52) CH。
+CHz CH+−CH2NHCO−C)+−
CH2 (52) CH。
−(−CHZ−C−か−
Coo(CH,)20CO−CH−CH,。
I
(53) CH3
−(−CH、−C→−
Coo (CR2)Z−S −CON H(CR2)2
NllCI:1又、本発明において、分解してホスホ基
、例えば下記−飲代(■)又は(IX)の基を生成する
官能基を含有する樹脂について詳しく説明する。
NllCI:1又、本発明において、分解してホスホ基
、例えば下記−飲代(■)又は(IX)の基を生成する
官能基を含有する樹脂について詳しく説明する。
−飲代(■)
Q”+
I
−P−R”
■
ZB、−H
一般式(IX)
Q”2
−P−ZI′、 −H
Z”3−H
式(■)において、R1は炭化水素基又は−72−RB
′(ここでR1″は炭化水素を示し、Zl′□は酸素原
子又はイオウ原子を示す)を表わす。Q”+は酸素原子
又はイオウ原子を表わす。Z−は、酸素原子又はイオウ
原子を表わす。式(IX)において、QIl□、Z11
3及びZl′4は、各々独立に酸素原子又はイオウ原子
を表わす。
′(ここでR1″は炭化水素を示し、Zl′□は酸素原
子又はイオウ原子を示す)を表わす。Q”+は酸素原子
又はイオウ原子を表わす。Z−は、酸素原子又はイオウ
原子を表わす。式(IX)において、QIl□、Z11
3及びZl′4は、各々独立に酸素原子又はイオウ原子
を表わす。
好ましくは、RI′は置換されていてもよい炭素数1〜
12、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基
、3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)
、置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基
、クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香
族基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル
基、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−7,
B、 R1′(ここでZ−は、酸素原子又はイオウ原
子を表わす。R”は炭化水素基を表わし、具体的には、
上記R1の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げ
ることができる)を表わす。
12、直鎖状又は分岐状アルキル基(例えば、メチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、2−メトキシエチル基
、3−メトキシプロピル基、2−エトキシエチル基等)
、置換されていてもよい脂環式基(例えば、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基等)、置換されていてもよい
炭素数7〜12のアラルキル基(例えば、ベンジル基、
フェネチル基、メチルベンジル基、メトキシベンジル基
、クロロベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香
族基(例えば、フェニル基、クロロフェニル基、トリル
基、キシリル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボ
ニルフェニル基、ジクロロフェニル基等)、又は−7,
B、 R1′(ここでZ−は、酸素原子又はイオウ原
子を表わす。R”は炭化水素基を表わし、具体的には、
上記R1の炭化水素基で述べた置換基類を例として挙げ
ることができる)を表わす。
Q”I、Q”2 、Z”+ 、Z”3 、Z−は、各々
独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
独立に酸素原子又はイオウ原子を表わす。
以上の如き、分解により式(■)又は(IX)で示され
るホスホ基を生成する官能基としては、−飲代(X)及
び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
るホスホ基を生成する官能基としては、−飲代(X)及
び/又は(XI)で示される官能基が挙げられる。
一般式(X)
一
−P−R”
■
ZB、 Lll。
一般式(XI)
Ql′2
P Z”4 L”3
ZB3 Lm□
式(X)及び(XI)において、Ql′1、QB□、Z
III、Z−1Z−及びR11はそれぞれ式(■)及び
(XI)で定義した通りの内容を表わす。
III、Z−1Z−及びR11はそれぞれ式(■)及び
(XI)で定義した通りの内容を表わす。
L”l % L”Z及びLll3は互いに独立にそれぞ
れR1□は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子
、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原
子等)又はメチル基を表わす。X−及びXll□は、電
子吸引性置換基を表わし、好ましくはハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、−CN、−
CONH2、−No□又は−3O□R8“ (R1“は
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基
、メシチル基等の如き炭化水素基を表わす)を表わす。
れR1□は、互いに同じでも異なってもよく、水素原子
、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子、フッ素原
子等)又はメチル基を表わす。X−及びXll□は、電
子吸引性置換基を表わし、好ましくはハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子、フッ素原子等)、−CN、−
CONH2、−No□又は−3O□R8“ (R1“は
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、ベンジル基、フェニル基、トリル基、キシリル基
、メシチル基等の如き炭化水素基を表わす)を表わす。
nは1又は2を表わす。更に、X8Iがメチル基の場合
には、R1,及びR8□がメチル基でn=1を表わす。
には、R1,及びR8□がメチル基でn=1を表わす。
R11゜
L11〜Ll′3が一5i−R”4を表わす場合にR”
S おいて、Rゝ3、R”4及びR11,は、互いに同じで
も異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換され
てもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オク
タデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メト
キシブロビル基等)、置換されていてもよい脂環式基(
例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換
されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例エバヘ
ンシル基、フェネチル基、クロロヘンシル基、メトキシ
ベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族基(例
えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、ジクロロフェニル基等)又は−〇−RB Hl
(RII m は、炭化水素基を表わし、具体的には
、上記”II 、RB4、RBSの炭化水素基で述べた
置換基類を例として挙げることができる)を表わす。
S おいて、Rゝ3、R”4及びR11,は、互いに同じで
も異なっていてもよく、好ましくは水素原子、置換され
てもよい炭素数1〜18の直鎖状又は分岐状アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オク
タデシル基、クロロエチル基、メトキシエチル基、メト
キシブロビル基等)、置換されていてもよい脂環式基(
例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、置換
されてもよい炭素数7〜12のアラルキル基(例エバヘ
ンシル基、フェネチル基、クロロヘンシル基、メトキシ
ベンジル基等)又は置換されていてもよい芳香族基(例
えばフェニル基、ナフチル基、クロロフェニル基、トリ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、ジクロロフェニル基等)又は−〇−RB Hl
(RII m は、炭化水素基を表わし、具体的には
、上記”II 、RB4、RBSの炭化水素基で述べた
置換基類を例として挙げることができる)を表わす。
Lll、〜L!1.が−C−R86、−C−RB、、S
COR”a、COR”q、又は−8
S
−R”l。を表わす場合において、R”6、R”、、R
′′6、RI′、及びR11IOは、各々独立に炭化水
素基を表わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数
1〜6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基
、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シメチル基、フヱノキシメチル基、2,2.2−1リフ
ルオロエチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、
t−ブチル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、
置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例
えばヘンシル基、フェネチル基、メチルベンジル基、ト
リメチルベンジル基、ヘプタメチルヘンシル基、メトキ
シベンジル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12の
アリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基
、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホ
ニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフ
ルオロメチルフェニル基等)を表わす。
′′6、RI′、及びR11IOは、各々独立に炭化水
素基を表わす。好ましくは置換されていてもよい炭素数
1〜6の直鎖状又は分岐状アルキル基(例えばメチル基
、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シメチル基、フヱノキシメチル基、2,2.2−1リフ
ルオロエチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、
t−ブチル基、ヘキサフルオロ−1−プロピル基等)、
置換されていてもよい炭素数7〜9のアラルキル基(例
えばヘンシル基、フェネチル基、メチルベンジル基、ト
リメチルベンジル基、ヘプタメチルヘンシル基、メトキ
シベンジル基等)、置換されてもよい炭素数6〜12の
アリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基
、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、メタンスルホ
ニルフェニル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリフ
ルオロメチルフェニル基等)を表わす。
表わす場合において、Y6.及びYl′□は酸素原子又
はイオウ原子を表わす。
はイオウ原子を表わす。
本発明に用いられる官能基を少なくとも1種含有する樹
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VI[l)又
は(IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によっ
て保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基
により保護された形の官能基(例えば式(X)又は(X
I)の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体との重合反応により重合する
方法により製造される。
脂は、重合体に含有される上記の如き式(VI[l)又
は(IX)の親水性基(ホスホ基)を高分子反応によっ
て保護基により保護した形にする方法、又は予め保護基
により保護された形の官能基(例えば式(X)又は(X
I)の官能基)を含有する単量体又は該単量体及びこれ
と共重合し得る他の単量体との重合反応により重合する
方法により製造される。
いずれの方法においても、保護基を導入する方法として
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F、 W、 Mc、 0m1e、 rProt
ectivegroups in Organic C
hemistry J第6章(PlenumPress
、 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の方法
、あるいは日本化学会ir新実験化学講座第14巻、有
機化合物の合成と反応〔■]」第2497頁(丸善株式
会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記載の
ヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反応
、あるいはS。
は、同様の合成反応を用いることができる。具体的には
、J、 F、 W、 Mc、 0m1e、 rProt
ectivegroups in Organic C
hemistry J第6章(PlenumPress
、 1973年刊)の総説引例の公知文献に記載の方法
、あるいは日本化学会ir新実験化学講座第14巻、有
機化合物の合成と反応〔■]」第2497頁(丸善株式
会社刊、1978年)等の総説引例の公知文献に記載の
ヒドロキシル基への保護基導入の方法と同様の合成反応
、あるいはS。
Patai、 rThe Chemistry of
the Triol GroupPart2J第13章
、第14章(Wiley−1nterscience1
974年刊) 、T、 W、Greene、 rPr
otectivegroups in Organic
5ynthesis 」第6章(Wiley−Int
erscience 19 B 1年刊)等の総説引例
の公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の方法
と同様の合成反応により製造できる。
the Triol GroupPart2J第13章
、第14章(Wiley−1nterscience1
974年刊) 、T、 W、Greene、 rPr
otectivegroups in Organic
5ynthesis 」第6章(Wiley−Int
erscience 19 B 1年刊)等の総説引例
の公知文献等に記載のチオール基への保護基導入の方法
と同様の合成反応により製造できる。
保護基に用いられる一般式(X)及び/又は(XI)の
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
。
官能基を含有する重合成分の繰り返し単位となり得る具
体的な化合物例として以下の様な例を挙げることができ
る。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない
。
0−3 t (CH,):1
0 5i(CHz) 3
曜
0−3 i (CzHs)z
(60) −(−CH,−CH+−0H,−P−0
−3i (OCHz)*硼 0−3 i (OCR,)* CHユ (61) −+cH2−c−+− 暖 0=P−OCOC,H3 0COC,H3 暖 0−3 i (CH3)3 CH3 0−COCH) CH3 0−3i (CHz)i CHz (65) →CH2−C−÷− Coo(CHz)to P O5t(CH:+)z
cJq0 S i (CH3) zcallqH3 (66) −(−CH,−C−±−〇 Coo(CH,)zo−P−0−CH3牙 O5i(CHz)z CH。
−3i (OCHz)*硼 0−3 i (OCR,)* CHユ (61) −+cH2−c−+− 暖 0=P−OCOC,H3 0COC,H3 暖 0−3 i (CH3)3 CH3 0−COCH) CH3 0−3i (CHz)i CHz (65) →CH2−C−÷− Coo(CHz)to P O5t(CH:+)z
cJq0 S i (CH3) zcallqH3 (66) −(−CH,−C−±−〇 Coo(CH,)zo−P−0−CH3牙 O5i(CHz)z CH。
曜
5−COCH。
CH。
0COOC,H5
CH3
■
5−coocアH9
l ll
0−P OS i (OCHz)3
■
0−3i(OCR−)z
CH3
03i(CHzlh
0−C3CH3
CH3
(73) →CH、−C→−
j
CO2(CH□)、0−P−3−C3OCH35−C3
OCH3 o−s t (CzHs)ユ CH。
OCH3 o−s t (CzHs)ユ CH。
曙
CI。
CH3
(77) −(−CH,−C−)−CH。
0(CH,+)2CN
次に該分解によりアミノ基、例えば−NH,基及び/又
は−NHR’基を生成する官能基として、例えば下記−
飲代(XI[)〜(XIV)で表わされる基を挙げるこ
とができる。
は−NHR’基を生成する官能基として、例えば下記−
飲代(XI[)〜(XIV)で表わされる基を挙げるこ
とができる。
一般式(X■)
−N−Coo−Rc。
R’0
一般式(XI)
一般式(X■)
式(XI[)及び式(XIV) 中、Rcoは各々、水
素原子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2
−り四ロエチルL2−ブロモエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−シアンエチル基、2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等
)、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメト
キシフェニル基等)等を表わす。
素原子、炭素数1〜12の置換されてもよいアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、2
−り四ロエチルL2−ブロモエチル基、3−クロロプロ
ピル基、2−シアンエチル基、2−メトキシエチル基、
2−エトキシエチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、3−メトキシプロピル基、6−クロロヘキシル基等
)、炭素数5〜8の脂環式基(例えば、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換され
てもよいアラルキル基(例えば、ヘンシル基、フェネチ
ル基、3−フェニルプロピル基、1−フェニルプロピル
基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数6〜12の置
換されてもよいアリール基(例えばフェニル基、クロロ
フェニル基、ジクロロフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クロロメチル基、クロロフェニル基、
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、クロロメト
キシフェニル基等)等を表わす。
好ましくはRcOが該炭化水素基を表わす場合は、炭素
数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。
数1〜8の炭化水素基類が挙げられる。
式(XI[)で表わされる官能基において、Re。
は炭素数2〜12の置換されてもよい脂肪族基を表わし
、更に具体的にはRClは下記式(XV)で示される基
を表わす。
、更に具体的にはRClは下記式(XV)で示される基
を表わす。
弐(χ■)
証
一←−c +−y ’
式(XV)中、al+a2は各々水素原子、ハロゲン原
子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1〜12
の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキ
シル基、ヘンシル基、クロロベンジル基、メトキシヘン
シル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
クロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル
基等)を表わし、Ycは、水素原子、ハロゲン原子(例
えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(例
えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2,6−
シメチルフエニル基、2,4.6−)リメチルフェニル
基、ヘプタメチルフェニル基、2.6−シメトキシフエ
ニル基、2,4.6−)リメトキシフェニル基、2−プ
ロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−クロロ
−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−8O□
−Rcb (Rc6は、YCの炭化水素基と同様の内容
を表わす)等を表わす。nは1又は2を表わす。
子(例えば弗素原子、塩素原子等)又は炭素数1〜12
の置換されてもよい炭化水素基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、メトキシメ
チル基、エトキシメチル基、2−メトキシエチル基、2
−クロロエチル基、3−ブロモプロピル基、シクロヘキ
シル基、ヘンシル基、クロロベンジル基、メトキシヘン
シル基、メチルベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ジ
クロロフェニル基、クロロメチルフェニル基、ナフチル
基等)を表わし、Ycは、水素原子、ハロゲン原子(例
えば弗素原子、塩素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基等)、置換基を含有してもよい芳香族基(例
えばフェニル、トリル基、シアノフェニル基、2,6−
シメチルフエニル基、2,4.6−)リメチルフェニル
基、ヘプタメチルフェニル基、2.6−シメトキシフエ
ニル基、2,4.6−)リメトキシフェニル基、2−プ
ロピルフェニル基、2−ブチルフェニル基、2−クロロ
−6−メチルフェニル基、フラニル基等)又は−8O□
−Rcb (Rc6は、YCの炭化水素基と同様の内容
を表わす)等を表わす。nは1又は2を表わす。
より好ましくは、YCが水素原子又はアルキル基の場合
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のa、
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
には、ウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素上のa、
及びa2は、水素原子以外の置換基を表わす。
YCが水素原子又はアルキル基でない場合にはat及び
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
a2は上記内容のいずれの基でもよい。
即ち、 +d−+T−Ycにおいて、少なくとZ
も1つ以上の電子吸引性基を含有する基を形成する場合
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にがさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
あるいはウレタン結合の酸素原子に隣接する炭素が立体
的にがさ高い基を形成する場合が好ましい例であること
を示すものである。
又は具体的に、Rclは脂環式基(例えば単環式炭化水
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキシ
ル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化
水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビ
シクロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わ
す。
素基(シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、1−メチル−シクロヘキシ
ル基、1−メチルシクロブチル基等)又は架橋環式炭化
水素基(ビシクロオクタン基、ビシクロオクテン基、ビ
シクロノナン基、トリシクロへブタン基等)等)を表わ
す。
−飲代(XI[[)において、Re□及びRc:lは同
じでも異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化
水素基を表わし、具体的には、式(XII)のYCにお
ける脂肪族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
じでも異なっていてもよく、各々炭素数1〜12の炭化
水素基を表わし、具体的には、式(XII)のYCにお
ける脂肪族基又は芳香族基と同様の内容を表わす。
一般式(XIV)において、XC1及びXC□は同じで
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす。Rc4.Rc5は同じでも異なっていてもよく
、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的には
式(XII)のYoにおける脂肪族基又は芳香族基を表
わす。
も異なっていてもよく、各々酸素原子又はイオウ原子を
表わす。Rc4.Rc5は同じでも異なっていてもよく
、各々炭素数1〜8の炭化水素基を表わし、具体的には
式(XII)のYoにおける脂肪族基又は芳香族基を表
わす。
式(XII)〜(XIV)の官能基の具体例を以下に示
すが本発明はこれらに限定されるものではない。
すが本発明はこれらに限定されるものではない。
CH3
(79) −NHCOOC−CH3
CH。
Cb Hs
(80) −NHCOOCCH。
曜
C6H。
(81) −NHCOOCH2CF3(82) −
NHCOOCH,CCf。
NHCOOCH,CCf。
(83) −NCOOCH,CH,SO□CH。
CH3
CH3
(85) −NHCOOC−C(43CH。
CHl
■
リ
OCR。
(103) −N−P−OCH3
CH,0
0CHzCHzOCH3
(104) −NH−P−OCH2CH20CH。
OC4H。
(105) −NH−P−OC,H7]I
本発明に用いられる分解によりアミノ基(例えば−NH
,基及び/又は−NHR基)を生成する官能基、例えば
上記−形式(Xll)〜(XIV)の群から選択される
官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、例えば、日本
化掌編、「新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成
と反応〔■]」第2555頁(丸善株式会社刊) 、J
、 F、 W、 McOmie、’Protectiv
e groups in Organic Chemi
stry J第2章(Plenum Press 1
973年刊)、rProtec−tive group
s in Organic 5inthesis」第7
章(JohnWiley & 5ons、1981刊)
等の総説引例の公知文献記載の方法によって製造するこ
とができる。
,基及び/又は−NHR基)を生成する官能基、例えば
上記−形式(Xll)〜(XIV)の群から選択される
官能基を少なくとも1種含有する樹脂は、例えば、日本
化掌編、「新実験化学講座第14巻、有機化合物の合成
と反応〔■]」第2555頁(丸善株式会社刊) 、J
、 F、 W、 McOmie、’Protectiv
e groups in Organic Chemi
stry J第2章(Plenum Press 1
973年刊)、rProtec−tive group
s in Organic 5inthesis」第7
章(JohnWiley & 5ons、1981刊)
等の総説引例の公知文献記載の方法によって製造するこ
とができる。
重合体中の一般式(Xll)〜(XIV)の官能基を任
意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこ
と等の理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の
官能基を含有する単量体からの重合反応により製造する
方法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合を含む
1級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載
された方法に従って、そのアミノ基を一般式(XI)〜
(XTV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない製
造することができる。
意に調整し得ること、あるいは、不純物を混入しないこ
と等の理由から、予め一般式(XII)〜(XIV)の
官能基を含有する単量体からの重合反応により製造する
方法が好ましい。具体的には、重合性の二重結合を含む
1級又は2級アミノ基を、例えば前記公知文献等に記載
された方法に従って、そのアミノ基を一般式(XI)〜
(XTV)の官能基に変換した後、重合反応を行ない製
造することができる。
更に又該分解により少なくとも1つのスルホ基を生成す
る官能基としては、例えば、−形式(XI)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。
る官能基としては、例えば、−形式(XI)又は(X■
)で表わされる官能基が挙げられる。
一般式(XVT) −3Q、−0−Ro。
−形式(X■) −3O□−5−R”□D3
式(XVI)中R”lは−←C″F−Y′)、f14
又は−NHCOR11+、を表わす。
弐(X■)中、RD□は、炭素数1〜18の置換されで
もよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有して
もよいアリール基を表わす。
もよい脂肪族基、又は炭素数6〜22の置換基を有して
もよいアリール基を表わす。
上記−形式(XVI)、(X■)の官能基は、分解によ
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
って、スルホ基を生成するものであり、以下に更に詳し
く説明する。
RD3
普
RD、が −(−C)−i−Y”を表わす場合において
、瑠 RD。
、瑠 RD。
Ro、 、R”4は同じでも異なってもよく水素原子、
ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等
)又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル
基、メタンスルホニルメチル基、シアンメチル基、2−
メトキシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基
、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキ
シカルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチ
ル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、
炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ばビニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を
含有してもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基
、メタイスルホニルフェニル基、ベンゼンスルホニルフ
ェニル基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェニル
基、ニトロナフチル基等) 、又は−C−Ro、(R’
、 は、脂肪族基+1 又は芳香族基を表わし、具体的にはVDで記した該置換
基の内容と同一のものを表わす)を表わす。
ハロゲン原子(例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子等
)又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基)を表わす。Yは炭素数1〜18の置換されてもよい
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシ
ル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トリフロロメチル
基、メタンスルホニルメチル基、シアンメチル基、2−
メトキシエチル基、エトキシメチル基、クロロメチル基
、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、2−メトキ
シカルボニルエチル基、2−プロポキシカルボニルエチ
ル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基等)、
炭素数2〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ばビニル基、アリル基等)、炭素数6〜12の置換基を
含有してもよいアリール基(例えば、フェニル基、ナフ
チル基、ニトロフェニル基、ジニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、トリフロロメチルフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基
、メタイスルホニルフェニル基、ベンゼンスルホニルフ
ェニル基、トリル基、キシリル基、アセトキシフェニル
基、ニトロナフチル基等) 、又は−C−Ro、(R’
、 は、脂肪族基+1 又は芳香族基を表わし、具体的にはVDで記した該置換
基の内容と同一のものを表わす)を表わす。
nは0.1又は2を表わす。より好ましくは、〒°。
置換基: −←C)−Y ”において、少なくとも1つ
糺 の電子吸引性基を含有する官能基が挙げられる。
糺 の電子吸引性基を含有する官能基が挙げられる。
具体的には、nが0で、YDが置換基としして電子吸引
性基を含有しない炭化水素基の場合、〒°・ 一+ch−において、少なくとも1ヶ以上のハロRD。
性基を含有しない炭化水素基の場合、〒°・ 一+ch−において、少なくとも1ヶ以上のハロRD。
ゲン原子を含有する。又nがOll又は2で、YDが電
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更にRD3 は、n=1又は2で−C−RDll: +C)「℃−
RD6II I 11 OR’40 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−COO−1−C−1−SO□−1−CN、−NO
□等が挙げられる。
子吸引性基を少なくとも1つ含有する。更にRD3 は、n=1又は2で−C−RDll: +C)「℃−
RD6II I 11 OR’40 等が挙げられる。該電子吸引性基とは、ハメットの置換
基定数が正値を示す置換基であり、例えば、ハロゲン原
子、−COO−1−C−1−SO□−1−CN、−NO
□等が挙げられる。
もう1つの好ましい置換基として、−5Oz−0−RD
において酸素原子に隣接する炭素原子に少なくとも2つ
の炭化水素基が置換するかあるいは、n=O又は1で、
Yoがアリール基の場合に、アリール基の2−位及び6
−位に置換基を有する場合が挙げられる。
において酸素原子に隣接する炭素原子に少なくとも2つ
の炭化水素基が置換するかあるいは、n=O又は1で、
Yoがアリール基の場合に、アリール基の2−位及び6
−位に置換基を有する場合が挙げられる。
場合において、ZDは、環状イミド基を形成する有機残
基を表わす。好ましくは、−形式(X■)又は(XIX
)で示される有機残基を表わす。
基を表わす。好ましくは、−形式(X■)又は(XIX
)で示される有機残基を表わす。
−形式(X■)
一般式(XIX)
式(X■)中、RD+ 、R’+oは各々同じでも異な
ってもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチ
ル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル
)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)、
炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)
、炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例
えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、Rr′S 、R”6は各々水素原子、脂肪族基(
具体的には、Rr′3、RD4のそれは同一の内容を表
わす)又はアリール基(具体的にはRr′3、R114
のそれと同一の内容を表わす)を表わす。
ってもよく、各々、水素原子、ハロゲン原子(例えば塩
素原子、臭素原子等)、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドジテル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチ
ル基、3−クロロプロピル基、2−(メタンスルホニル
)エチル基、2−(エトキシオキシ)エチル基、等)、
炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)
、炭素数3〜18の置換されてもよいアルケニル基(例
えばアリル基、3−メチル−2−プロペニル基)、 いて、Rr′S 、R”6は各々水素原子、脂肪族基(
具体的には、Rr′3、RD4のそれは同一の内容を表
わす)又はアリール基(具体的にはRr′3、R114
のそれと同一の内容を表わす)を表わす。
但しRDS及びR’6がともに水素原子を表わすことは
ない。
ない。
RDlが−NHCORD7を表わす場合において、RD
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
Dl、R”4のそれは同一の内容を各々表わす。
、は脂肪族基又はアリール基を表わし、具体的には、R
Dl、R”4のそれは同一の内容を各々表わす。
弐(X■)中、RD□は、炭素数1〜18の置換されて
もよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有しても
よいアリール基を表わす。
もよい脂肪族基又は炭素数6〜22の置換基を有しても
よいアリール基を表わす。
更に具体的には前記した式(XVI)で表わされるYo
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす
。
における脂肪族基又はアリール基と同様の内容を表わす
。
本発明に用いられる、−形式(−3O2−0−RD、)
又は〔−8O□−0−R’□〕群から選択される官能基
を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有される
スルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又は
(X■)の官能基に変換する方法、又は、−形式(XV
I)又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有する
、1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと共
重合し得る他の単量体の重合反応により重合する方法に
より製造される。
又は〔−8O□−0−R’□〕群から選択される官能基
を少なくとも1種含有する樹脂は、重合体に含有される
スルホ基を、高分子反応によって一般式(XVI)又は
(X■)の官能基に変換する方法、又は、−形式(XV
I)又は(X■)の官能基を1種又はそれ以上含有する
、1種又はそれ以上の単量体又は該単量体及びこれと共
重合し得る他の単量体の重合反応により重合する方法に
より製造される。
高分子反応によって該官能基に変換する方法は、高分子
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
反応においても、単量体における合成方法と同様にして
行なうことができる。
更に具体的に一般式(XV[)7SO□−0−RD。
又は−形式(X■)−3O□−0−R’□の官能基とし
て以下の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲
はこれらに限定されるものではない。
て以下の様な例を挙げることができるが、本発明の範囲
はこれらに限定されるものではない。
(108) −5OzOCHzCF+(110)
−5O20CH2(CHF)ZCH2F(111)
−3o□0CH2C(1゜(113) S
OzO(CHz)zS 0ZC4H9((CH:l 6H5 (122)−3o□0−CH−COC4H。
−5O20CH2(CHF)ZCH2F(111)
−3o□0CH2C(1゜(113) S
OzO(CHz)zS 0ZC4H9((CH:l 6H5 (122)−3o□0−CH−COC4H。
(123) −3o□O(CH2)2SO2C2H
5(124) −5O2SC,H。
5(124) −5O2SC,H。
(125) −3o□S Cb H+ ’x(12
6) −5O2S(CH2)20C2H,。
6) −5O2S(CH2)20C2H,。
(128) −5O20CH2CHFCH,F前記
した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法におい
て用いられる一般式(1)〜(■)、(X)〜(XIV
)、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共重合
体成分について更に具体的に述べると、例えば下記−形
式(A)の如き成分が挙げられる。但しこれらの共重合
体成分例に限定されるものではない。
した如く、重合反応で所望の樹脂を製造する方法におい
て用いられる一般式(1)〜(■)、(X)〜(XIV
)、(XVI)及び(X■)の官能基を含有する共重合
体成分について更に具体的に述べると、例えば下記−形
式(A)の如き成分が挙げられる。但しこれらの共重合
体成分例に限定されるものではない。
一般式(A)
X’ −Y’ −W
式(A)中、Y′は、−O−、−CO−。
Q、 Qz
−C○O−、−OC○−、−NGO−、−CON−。
Q、 Q。
一3O□−、5OzN 、 N5Oz 、
CHzb。
CHzb。
COO−、−CH,0CC1−、−K)−T−、芳香族
基、又はヘテロ環基を示す〔但し、Q、、Q2.Q3゜
Q4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(Vl)中
の 千Y’−W)を表わし、b、、b2は同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(Vl)
中の +y’−w)を表わし、nは0〜18の整数を示
す]。
基、又はヘテロ環基を示す〔但し、Q、、Q2.Q3゜
Q4は、各々水素原子、炭化水素基、又は式(Vl)中
の 千Y’−W)を表わし、b、、b2は同じでも異な
っていてもよく、水素原子、炭化水素基又は式(Vl)
中の +y’−w)を表わし、nは0〜18の整数を示
す]。
Y′は、結合基X′と結合基(W)を連結する、ヘテロ
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 →℃+−r=cr−B−、−o−,−s=、 −N−
。
原子を介していてもよい炭素−炭素結合を表わしくヘテ
ロ原子としては、酸素原子、イオウ原子、窒素原子を示
す)、 →℃+−r=cr−B−、−o−,−s=、 −N−
。
−Coo−、−CONH−、−3o□−、−SO。
NH−、−NHCOO−、−NHCONH−、等の結合
単位の単独又は組合せの構成より成るものである(但し
b*、ba、bsは、各々前記す、。
単位の単独又は組合せの構成より成るものである(但し
b*、ba、bsは、各々前記す、。
b2と同義である。)
Wは式(T)〜(■)、(X)〜(XTV)、(XVI
)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
)又は(X■)で表わされる官能基を表わす。
a++22は同じでも異なっていてもよく、水素原子、
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカ
ルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基等のアリール等)、又は式(A)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18の
アルキル基、アキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、シアノ
基、炭化水素基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ヘキシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、ブトキシカ
ルボニルメチル基、等の置換されてもよい炭素数1〜1
2のアルキル基、ベンジル基、フェネチル基等のアラル
キル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフ
ェニル基等のアリール等)、又は式(A)中の−W基を
含む置換基で置換されていてもよい、炭素数1〜18の
アルキル基、アキル基、アルケニル基、アラルキル基、
脂環式基、芳香族基を示す)を表わす。
又、式(A)中の(−X’ −Y’ )結合残基は曜
干−C+部と=W部を直接連結させてもよい。
これらの本発明の共重合体成分とともに、共重合し得る
他の共重合体成分としては、それらに相当する単量体と
してその例を挙げれば、例えば、酢酸ビニル。プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸ア
リル等の如き脂肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエ
ステル類、アクリル酸、メタクリル酸、スロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマール酸等の如き不飽和カル
ボン酸及びこれらの不飽和カルボン酸のエステル類又は
アミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリ
ロニトリル、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドン
の如きビニル基置換のへテロ環化合物等が挙げられる。
他の共重合体成分としては、それらに相当する単量体と
してその例を挙げれば、例えば、酢酸ビニル。プロピオ
ン酸ビニル、酪酸ビニル、酢酸アリル、プロピオン酸ア
リル等の如き脂肪族カルボン酸ビニルあるいはアリルエ
ステル類、アクリル酸、メタクリル酸、スロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマール酸等の如き不飽和カル
ボン酸及びこれらの不飽和カルボン酸のエステル類又は
アミド類、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レンの如きスチレン誘導体、α−オレフィン類、アクリ
ロニトリル、メタクロニトリル、N−ビニルピロリドン
の如きビニル基置換のへテロ環化合物等が挙げられる。
本発明の樹脂は更に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、少なくともその一部分が架橋されていることを特徴
とする。
て、少なくともその一部分が架橋されていることを特徴
とする。
かかる樹脂としては、製版工程における感光層形成物塗
布時に予め架橋されている樹脂を用いてもよいし、ある
いは、熱及び/又は光で硬化反応を起こすような架橋性
官能基を含有する樹脂を用いて平版印刷用原版製造工程
中(例えば乾燥工程中)に架橋させてもよい。更にこれ
らを併用してもよい。
布時に予め架橋されている樹脂を用いてもよいし、ある
いは、熱及び/又は光で硬化反応を起こすような架橋性
官能基を含有する樹脂を用いて平版印刷用原版製造工程
中(例えば乾燥工程中)に架橋させてもよい。更にこれ
らを併用してもよい。
重合体の一部分が、予め架橋された樹脂(重合体中に架
橋構造を有する樹脂)を結着樹脂として用いる場合には
、該樹脂中に含有される前記のチオール基、ホスホ基、
アミノ基及び/又はスルホ基の親水性基を生成する官能
基が分解により該親水性基を生成したときに、酸性及び
アルカリ性の水溶液に対して難溶もしくは不溶性である
樹脂が好ましい。
橋構造を有する樹脂)を結着樹脂として用いる場合には
、該樹脂中に含有される前記のチオール基、ホスホ基、
アミノ基及び/又はスルホ基の親水性基を生成する官能
基が分解により該親水性基を生成したときに、酸性及び
アルカリ性の水溶液に対して難溶もしくは不溶性である
樹脂が好ましい。
具体的には、蒸留水に対する溶解度が20〜25°Cの
温度において好ましくは90重量%以下、より好ましく
は70重量%以下の溶解性を示すものである。
温度において好ましくは90重量%以下、より好ましく
は70重量%以下の溶解性を示すものである。
重合体中に架橋構造を導入する方法としては、通常知ら
れている方法を利用することができる。
れている方法を利用することができる。
即ち、単量体の重合反応において、多官能性単量体を共
存させて重合する方法及び重合体中に、架橋反応を進行
する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である
。
存させて重合する方法及び重合体中に、架橋反応を進行
する官能基を含有させ高分子反応で架橋する方法である
。
本発明の樹脂が、電子写真特性を損なわないこと、ある
いは製造方法が簡便なこと(例えば、長時間の反応を要
する、反応が定量的でない、反応促進助剤を用いる等で
不純物が混入する等)等から、自己橋かけ反応を有する
官能基ニーC0NHCH,OR′ (R′は水素原子又
はアルキル基)あるいは、重合による橋かけ反応が有効
である。
いは製造方法が簡便なこと(例えば、長時間の反応を要
する、反応が定量的でない、反応促進助剤を用いる等で
不純物が混入する等)等から、自己橋かけ反応を有する
官能基ニーC0NHCH,OR′ (R′は水素原子又
はアルキル基)あるいは、重合による橋かけ反応が有効
である。
重合反応性基において、好ましくは、重合性官能基を2
個以上有する単量体を本発明の分解により親水性基を生
成する官能基を含有する単量体とともに重合する方法、
あるいは、該重合性官能基を2個以上有する単量体を親
水性基を含有する単量体とともに重合して共重合体とし
た後、前記した様に親水性基を保護する方法によって、
本発明の樹脂を製造することができる。
個以上有する単量体を本発明の分解により親水性基を生
成する官能基を含有する単量体とともに重合する方法、
あるいは、該重合性官能基を2個以上有する単量体を親
水性基を含有する単量体とともに重合して共重合体とし
た後、前記した様に親水性基を保護する方法によって、
本発明の樹脂を製造することができる。
重合性官能基として具体的に、CH2=CH−1CH2
=CH−CH21、CH2=CH−C−〇−1CH,C
H,0 1]11 CH2=C−(、−0−lCH=CH−C−0−1CH
3 CH2= CH−CON H−1CH2=C−CONH
−1CH,O l CH=CH−C0NH−1CH2=CH−0−(、−1
CH500 111I+ CH2=C−0−C−1CH2=CH−CH2−0−C
−1CH2=CH−NHCO−1CH,=CH−CH2
−NHCO−1CH2=CH−3O□−1CH2=CH
−C0−1CH2=CH−0−1CH,=CH−3−1
等を挙げることができるが、上記の重合性官能基を2個
以上有する単量体は、これらの重合性官能基を同一のも
のあるいは異なったものを2個以上有した単量体であれ
ばよく、重合によって非水溶剤に不溶な重合体を形成す
る。
=CH−CH21、CH2=CH−C−〇−1CH,C
H,0 1]11 CH2=C−(、−0−lCH=CH−C−0−1CH
3 CH2= CH−CON H−1CH2=C−CONH
−1CH,O l CH=CH−C0NH−1CH2=CH−0−(、−1
CH500 111I+ CH2=C−0−C−1CH2=CH−CH2−0−C
−1CH2=CH−NHCO−1CH,=CH−CH2
−NHCO−1CH2=CH−3O□−1CH2=CH
−C0−1CH2=CH−0−1CH,=CH−3−1
等を挙げることができるが、上記の重合性官能基を2個
以上有する単量体は、これらの重合性官能基を同一のも
のあるいは異なったものを2個以上有した単量体であれ
ばよく、重合によって非水溶剤に不溶な重合体を形成す
る。
重合性官能基を2個以上有した単量体の具体例は、例え
ば同一の重合性官能基を有する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、#400、#600,1.3−ブ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリス
リトールなど)又は、ポリヒドロキシフェノール(例え
ばヒドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそれら
の誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸
のエステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類
二二塩基酸(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタ
コン酸、等)のビニルエステル類、アリルエステル類、
ビニルアミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例え
ばエチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1
,4−ブチレンジアミン等)とビニル基を含有するカル
ボン酸(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン
酸、アリル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
ば同一の重合性官能基を有する単量体として、ジビニル
ベンゼン、トリビニルベンゼン等のスチレン誘導体:多
価アルコール(例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール#200、#400、#600,1.3−ブ
チレングリコール、ネオペンチルグリコール、ジプロピ
レングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチ
ロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリス
リトールなど)又は、ポリヒドロキシフェノール(例え
ばヒドロキノン、レゾルシン、カテコールおよびそれら
の誘導体)のメタクリル酸、アクリル酸又はクロトン酸
のエステル類、ビニルエーテル類又はアリルエーテル類
二二塩基酸(例えばマロン酸、コハク酸、グルタル酸、
アジピン酸、ピメリン酸、マレイン酸、フタル酸、イタ
コン酸、等)のビニルエステル類、アリルエステル類、
ビニルアミド類又はアリルアミド類:ポリアミン(例え
ばエチレンジアミン、1,3−プロピレンジアミン、1
,4−ブチレンジアミン等)とビニル基を含有するカル
ボン酸(例えば、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン
酸、アリル酢酸等)との縮合体などが挙げられる。
又、異なる重合性官能基を有する単量体として、例えば
、ビニル基を含有するカルボン酸〔例えば、メタクリル
酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢
酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピ
オン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオ
ン酸、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反応
体(例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリ
ルオキシカルボニル酢酸、2−アリルオキシカルボニル
安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸、等)
等〕のビニル基を含有したエステル誘導体又はアミド誘
導体(例えば、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル
、イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸
アリル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル
、メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイル
プロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボ
ニルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカルボニ
ルメチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−アリ
ルアクリルアミド、N−アリルメタクリルアミド、N−
アリルイタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸
アリルアミド、等)、又は、アミノアルコール類(例え
ばアミノエタノール、l−アミツブパノール、1−アミ
ノブタノール、1−アミノヘキサノール、2−アミノブ
タノール等)と、ビニル基を含有したカルボン酸の縮合
体などが挙げられる。
、ビニル基を含有するカルボン酸〔例えば、メタクリル
酸、アクリル酸、メタクリロイル酢酸、アクリロイル酢
酸、メタクリロイルプロピオン酸、アクリロイルプロピ
オン酸、イタコニロイル酢酸、イタコニロイルプロピオ
ン酸、カルボン酸無水物とアルコール又はアミンの反応
体(例えばアリルオキシカルボニルプロピオン酸、アリ
ルオキシカルボニル酢酸、2−アリルオキシカルボニル
安息香酸、アリルアミノカルボニルプロピオン酸、等)
等〕のビニル基を含有したエステル誘導体又はアミド誘
導体(例えば、メタクリル酸ビニル、アクリル酸ビニル
、イタコン酸ビニル、メタクリル酸アリル、アクリル酸
アリル、イタコン酸アリル、メタクリロイル酢酸ビニル
、メタクリロイルプロピオン酸ビニル、メタクリロイル
プロピオン酸アリル、メタクリル酸ビニルオキシカルボ
ニルメチルエステル、アクリル酸ビニルオキシカルボニ
ルメチルオキシカルボニルエチレンエステル、N−アリ
ルアクリルアミド、N−アリルメタクリルアミド、N−
アリルイタコン酸アミド、メタクリロイルプロピオン酸
アリルアミド、等)、又は、アミノアルコール類(例え
ばアミノエタノール、l−アミツブパノール、1−アミ
ノブタノール、1−アミノヘキサノール、2−アミノブ
タノール等)と、ビニル基を含有したカルボン酸の縮合
体などが挙げられる。
本発明に用いられる2個以上の重合性官能基を有する単
量体は、全単量体の10モル%以下、好ましくは5モル
%以下用いて重合し、樹脂を形成する。
量体は、全単量体の10モル%以下、好ましくは5モル
%以下用いて重合し、樹脂を形成する。
一方、本発明においては、前記の親水性基生成官能基と
ともに熱及び/又は光で硬化反応を起こす架橋性官能基
を含有する樹脂を結着樹脂として用いて、その後の原版
製造工程において架橋構造が形成されてもよい。
ともに熱及び/又は光で硬化反応を起こす架橋性官能基
を含有する樹脂を結着樹脂として用いて、その後の原版
製造工程において架橋構造が形成されてもよい。
該官能基は、分子間で化学反応を生じ化学結合を形成し
得るものであればいずれでもよい。即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。
得るものであればいずれでもよい。即ち、縮合反応、付
加反応等による分子間の結合あるいは重合反応による架
橋等を熱及び/又は光によって生じさせる反応様式を利
用することができる。
具体的には、解離性の水素原子を有する官能基〔(例え
ば−〇〇〇H基、−PO3H基、−P−R,”内容の基
又は−0R7′基(Rτ′はR′;の基と同一の内容)
を表わす)−〇H基、−3H基、−>H−R−;基(R
−zは、水素原子又はメチル基、エチル基、合せを少な
くとも1組含有する場合あるいは、CON HCHz
OR:l (R’ 3ば水素原子又はメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜
6のアルキル基を表わす)又は重合性二重結合基等が挙
げられる。
ば−〇〇〇H基、−PO3H基、−P−R,”内容の基
又は−0R7′基(Rτ′はR′;の基と同一の内容)
を表わす)−〇H基、−3H基、−>H−R−;基(R
−zは、水素原子又はメチル基、エチル基、合せを少な
くとも1組含有する場合あるいは、CON HCHz
OR:l (R’ 3ば水素原子又はメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等の炭素数1〜
6のアルキル基を表わす)又は重合性二重結合基等が挙
げられる。
該重合性二重結合基として具体的には、前記の重合性官
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。
能基の具体例として挙げたものを挙げることができる。
更には、例えば、遠藤剛、[熱硬化性高分子の精密化(
C,M、 C■、1986年刊)、原崎勇次、「最新
バインダー技術便覧」第11−1章(総合技術センター
、1985年刊)、大津随行「アクリル樹脂の合成・設
計と新用途開発」 (中部経営開発センター出版部、1
985年刊)、大森英三rifffl性アクリル系樹脂
」 (テクノシステム1985年刊)乾英夫、永松元太
部、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角
田隆弘、[新・感光性樹脂」 (印刷学会出版部、19
81年刊)、G、 E、 Green and、 B、
P、5tar R,J、 Macro、 5ciRev
s Macro、 Chem、、 C21(2)、 1
87〜273(19B1〜B2)。
C,M、 C■、1986年刊)、原崎勇次、「最新
バインダー技術便覧」第11−1章(総合技術センター
、1985年刊)、大津随行「アクリル樹脂の合成・設
計と新用途開発」 (中部経営開発センター出版部、1
985年刊)、大森英三rifffl性アクリル系樹脂
」 (テクノシステム1985年刊)乾英夫、永松元太
部、「感光性高分子」 (講談社、1977年刊)、角
田隆弘、[新・感光性樹脂」 (印刷学会出版部、19
81年刊)、G、 E、 Green and、 B、
P、5tar R,J、 Macro、 5ciRev
s Macro、 Chem、、 C21(2)、 1
87〜273(19B1〜B2)。
C,G、 Roffey、 rPhotopolym
erization of SurfaceCoati
ngs」(A、 Wiley rnterscienc
e Pub、 1982年刊)等の総説に引例された官
能基・化合物等を用いることができる。
erization of SurfaceCoati
ngs」(A、 Wiley rnterscienc
e Pub、 1982年刊)等の総説に引例された官
能基・化合物等を用いることができる。
これらの架橋性官能基は、親水性基生成官能基とともに
、一つの共重合体成分中に含有されていてもよいし、親
水性基生成官能基を含有する共重合体成分とは別個の共
重合体成分中に含有されていてもよい。
、一つの共重合体成分中に含有されていてもよいし、親
水性基生成官能基を含有する共重合体成分とは別個の共
重合体成分中に含有されていてもよい。
これらの架橋性官能基を含有する共重合体成分に相当す
る単量体の具体的なものとしては、例えば、前記−形式
(A)と共重合し得る該官能基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。
る単量体の具体的なものとしては、例えば、前記−形式
(A)と共重合し得る該官能基を含有するビニル系化合
物であればいずれでもよい。
例えば、高分子データ「高分子データ・ハンドブック〔
基礎編〕J培風館(1986刊)等に記載されている。
基礎編〕J培風館(1986刊)等に記載されている。
具体的には、アクリル酸α及び/又はβ置換アクリル酸
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテンIn)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸
、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリ
ル基の半エステル81N一体、及びこれらのカルボン酸
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該架橋性官能基を含有する化合物等が挙げられる
。
(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−(2−アミノメチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シア
ノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β−
メトキシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、
イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半ア
ミド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例
えば2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2
−オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチ
ル−2−オクテンIn)、マレイン酸、マレイン酸半エ
ステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカル
ボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸
、ビニルホスホ酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリ
ル基の半エステル81N一体、及びこれらのカルボン酸
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該架橋性官能基を含有する化合物等が挙げられる
。
本発明の樹脂における「架橋性官能基を含有する共電体
成分」の割合は、該樹脂中好ましくはI〜80重量%で
ある。より好ましくは、5〜50重量%である。
成分」の割合は、該樹脂中好ましくはI〜80重量%で
ある。より好ましくは、5〜50重量%である。
かかる樹脂には、架橋反応を促進させるために、必要に
応じて、反応促進剤を添加してもよい。例えば、酸(酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、P−1
−ルエンスルホンM等) 、iMM化物、アゾビス系化
合物、架橋剤、増感剤、光重合性単量体等が挙げられる
。具体的には、架橋剤としては、具体的には、山下晋三
、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(198
1年)等に記載されている化合物等を用いることができ
る。例えば、通常用いられる、有機シラン、ポリウレタ
ン、ポリイソシアナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、
メラミン樹脂の如き硬化剤等を用いることができる。
応じて、反応促進剤を添加してもよい。例えば、酸(酢
酸、プロピオン酸、酪酸、ベンゼンスルホン酸、P−1
−ルエンスルホンM等) 、iMM化物、アゾビス系化
合物、架橋剤、増感剤、光重合性単量体等が挙げられる
。具体的には、架橋剤としては、具体的には、山下晋三
、金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊(198
1年)等に記載されている化合物等を用いることができ
る。例えば、通常用いられる、有機シラン、ポリウレタ
ン、ポリイソシアナートの如き架橋剤、エポキシ樹脂、
メラミン樹脂の如き硬化剤等を用いることができる。
光架橋反応性の官能基を含有する場合には、前記した感
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。
光性樹脂に関する総説に引例された化合物等を用いるこ
とができる。
架橋性官能基を含有する樹脂を用いた場合には、重合体
の少なくとも一部における架橋は光導電層を形成する過
程あるいはエツチング処理前の加熱及び/又は光照射の
過程等で行なわれ得る。通常は、熱硬化処理を行なうの
が好ましい。この熱硬化処理は従来の怒光体作製時の乾
燥条件を厳しくすることにより行うことができる。例え
ば、60°C〜120°Cで5分〜120分間処理すれ
ばよい。
の少なくとも一部における架橋は光導電層を形成する過
程あるいはエツチング処理前の加熱及び/又は光照射の
過程等で行なわれ得る。通常は、熱硬化処理を行なうの
が好ましい。この熱硬化処理は従来の怒光体作製時の乾
燥条件を厳しくすることにより行うことができる。例え
ば、60°C〜120°Cで5分〜120分間処理すれ
ばよい。
上述の反応促進剤を併用すると、より穏かな条件で処理
することが可能となる。
することが可能となる。
本発明に供される樹脂とともに従来公知の樹脂も併用す
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、
スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられ
、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17巻
、第278頁(1968年)、宮木晴視、武井秀彦、イ
メージング、1973 (No、8)第9頁等の総説引
例の公知材料等が挙げられる。
ることができる。例えば、前記した如きシリコーン樹脂
、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、
スチレン−ブタジェン樹脂、アクリル樹脂等があげられ
、具体的には、栗田隆治・石渡次部、高分子、第17巻
、第278頁(1968年)、宮木晴視、武井秀彦、イ
メージング、1973 (No、8)第9頁等の総説引
例の公知材料等が挙げられる。
本発明に供される樹脂と公知の樹脂とは任意の割合で混
合することができるが、全樹脂量中の親水性基生成官能
基成分の含有量が0.5〜95重量%、好ましくは1〜
85重量%、含有されている必要がある。
合することができるが、全樹脂量中の親水性基生成官能
基成分の含有量が0.5〜95重量%、好ましくは1〜
85重量%、含有されている必要がある。
本発明の樹脂は、上記の如く、チオール基、ホスホ基、
アミノ基及び/又はスルホ基の親水性基を保護した官能
基とすることにより、酸化亜鉛粒子との強固な相互作用
を抑制し、一方で不感脂化処理により上記の親水性基を
生成させることにより、非画像部の親水性をより良好に
する作用を有する。
アミノ基及び/又はスルホ基の親水性基を保護した官能
基とすることにより、酸化亜鉛粒子との強固な相互作用
を抑制し、一方で不感脂化処理により上記の親水性基を
生成させることにより、非画像部の親水性をより良好に
する作用を有する。
更に、本発明の樹脂は、その原版において架橋構造を重
合体の少なくとも1部に有することから、親水性を保持
したまま、不感脂化処理により生成したヒドロキシル基
含有の樹脂が水溶性となり非画像部から溶出してゆく事
を防止する作用を有するものである。
合体の少なくとも1部に有することから、親水性を保持
したまま、不感脂化処理により生成したヒドロキシル基
含有の樹脂が水溶性となり非画像部から溶出してゆく事
を防止する作用を有するものである。
従って非画像部の親水性が樹脂中に生成される上記親水
性基によって、より一層高められる効果が向上し且つ持
続性が向上することとなった。
性基によって、より一層高められる効果が向上し且つ持
続性が向上することとなった。
より具体的な効果で言うならば、全結着樹脂中に含有さ
せる上記親水性基生成官能基含有樹脂を減量しても、親
水性向上の効果が変わらず維持できること、あるいは印
刷機の大型化あるいは印圧の変動等印刷条件が厳しくな
った場合でも、地汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数
枚印刷することが可能となる。
せる上記親水性基生成官能基含有樹脂を減量しても、親
水性向上の効果が変わらず維持できること、あるいは印
刷機の大型化あるいは印圧の変動等印刷条件が厳しくな
った場合でも、地汚れのない鮮明な画質の印刷物を多数
枚印刷することが可能となる。
本発明の平板印刷用原版は、光導電性亜鉛100重量部
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割
合、好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。
に対して上記した結着用樹脂を10〜60重量部なる割
合、好ましくは15〜40重量部なる割合で使用する。
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、8)第12頁、 C
,J、 Young等+ RCA Review上互
。
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、8)第12頁、 C
,J、 Young等+ RCA Review上互
。
469 (1954L清田航平等、電気通信学会論文誌
J 63−C(No、2)、97 (1980)、原
埼勇次等、工業化学雑誌66 7B 及び188 (
1963L谷忠昭2日本写真学会誌1五。
J 63−C(No、2)、97 (1980)、原
埼勇次等、工業化学雑誌66 7B 及び188 (
1963L谷忠昭2日本写真学会誌1五。
20B (1972)等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる
。
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる
。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭5Gl−114’227号
、特開昭53−39130号、特開昭53−82353
号、米国特許筒3゜052.540号、米国特許筒4,
054,450号、特開昭57−16456号等に記載
のものが挙げられる。
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭5Gl−114’227号
、特開昭53−39130号、特開昭53−82353
号、米国特許筒3゜052.540号、米国特許筒4,
054,450号、特開昭57−16456号等に記載
のものが挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 t(armmer rThe Cyanine
Dyes andRelated Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許筒3,047.384号、米国特許筒3,
110,591号、米国特許筒3,121,008号、
米国特許筒3゜125.447号、米国特許筒3. 1
28. 179号、米国特許筒3.132,942号、
米国特許筒3,622,317号、英国特許第1,22
6.892号、英国特許第1,309,274号、英国
特許第1,405,898号、特公昭48−7814号
、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられ
る。
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、
M、 t(armmer rThe Cyanine
Dyes andRelated Compound
s」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的に
は、米国特許筒3,047.384号、米国特許筒3,
110,591号、米国特許筒3,121,008号、
米国特許筒3゜125.447号、米国特許筒3. 1
28. 179号、米国特許筒3.132,942号、
米国特許筒3,622,317号、英国特許第1,22
6.892号、英国特許第1,309,274号、英国
特許第1,405,898号、特公昭48−7814号
、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げられ
る。
更に、700 nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を
分光増感するポリオチン色素として、特開昭47−84
0号、特開昭47−44180号、特公昭51−410
61号、特開昭49−5034号、特開昭49−451
22号、特開昭57−46245号、特開昭56−35
141号、特開昭57−157254号、特開昭61−
26044号、特開昭61−27551号、米国特許筒
3゜619.154号、米国特許筒4,175,956
号、rResearch Disclosure J
1982年、216、第117〜118頁等に記載のも
のが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併
用させても、その性能が増感色素により変動しにくい点
において優れている。更には、必要に応じて、化学増感
剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を
併用することもできる。例えば、前記した総説:イメー
ジング1973(Nα8)第12頁等の総説引例の電子
受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノン、クロラ
ニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最
近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6
章二日本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引
例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダードフェノー
ル化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられ
る。
分光増感するポリオチン色素として、特開昭47−84
0号、特開昭47−44180号、特公昭51−410
61号、特開昭49−5034号、特開昭49−451
22号、特開昭57−46245号、特開昭56−35
141号、特開昭57−157254号、特開昭61−
26044号、特開昭61−27551号、米国特許筒
3゜619.154号、米国特許筒4,175,956
号、rResearch Disclosure J
1982年、216、第117〜118頁等に記載のも
のが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併
用させても、その性能が増感色素により変動しにくい点
において優れている。更には、必要に応じて、化学増感
剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を
併用することもできる。例えば、前記した総説:イメー
ジング1973(Nα8)第12頁等の総説引例の電子
受容性化合物(例えばハロゲン、ベンゾキノン、クロラ
ニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最
近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6
章二日本科学情報(株)出版部(1986年)の総説引
例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダードフェノー
ル化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙げられ
る。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0゜0001〜2.
0重量部である。
通常光導電体100重量部に対して0゜0001〜2.
0重量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが
好適である。
好適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適で
ある。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適で
ある。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、A1等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、A1等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等、が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、 14. (No、1)。
坂本幸男、電子写真、 14. (No、1)。
22〜11 (1975)、森賀弘之、 「入門特殊紙
の化学」高分子刊行会(1975)、M、F。
の化学」高分子刊行会(1975)、M、F。
Hoover、 J、 Macromol、 Sct、
Chem、 A −4(6) 。
Chem、 A −4(6) 。
第1327〜1417頁(1970)等に記載されてい
るもの等を用いる。
るもの等を用いる。
(実施例)
以下本発明と実施例により例証する。
実施例1及び比較例A−C
ヘンシルメタクリレート73.3g、下記の化合物例(
A)の単量体25g、アクリル酸0. 2gジビニルベ
ンゼン1.5g及びトルエン300gの混合溶液を窒素
気流下75°Cの温度に加温した後、2,2′−アゾビ
スイソブチロニトリル(AIBN)1.0gを加え8時
間反応した。得られた共重合体〔1〕の重量平均分子量
は1.Oo、oooであった。
A)の単量体25g、アクリル酸0. 2gジビニルベ
ンゼン1.5g及びトルエン300gの混合溶液を窒素
気流下75°Cの温度に加温した後、2,2′−アゾビ
スイソブチロニトリル(AIBN)1.0gを加え8時
間反応した。得られた共重合体〔1〕の重量平均分子量
は1.Oo、oooであった。
単量体[A)
続いて、この共重合物40g〔固形分量として)、酸化
亜鉛200g、ローズベンガル0.05g、無水フタル
酸0.OIg及びトルエン300gの混合物をボールミ
ル中で2時間分散して感光層形成物を調整し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量が25 g/nTとなるよ
うにワイヤーバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥し
、ついで暗所で20°C,65%RHの条件下で24時
間放置することにより電子写真窓光材料を作製した。
亜鉛200g、ローズベンガル0.05g、無水フタル
酸0.OIg及びトルエン300gの混合物をボールミ
ル中で2時間分散して感光層形成物を調整し、これを導
電処理した紙に、乾燥付着量が25 g/nTとなるよ
うにワイヤーバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥し
、ついで暗所で20°C,65%RHの条件下で24時
間放置することにより電子写真窓光材料を作製した。
上記製造例において、感光層形成物を以下の共重合体に
代えて、比較用の感光材料A、 B、 Cの3種を
作製した。
代えて、比較用の感光材料A、 B、 Cの3種を
作製した。
比較用感光材料A:
ペンジルメタクリレート74. 8g、化合物例(1)
の単量体25g、アクリル酸0.2g及びトルエン30
0gの混合溶液とし、温度60°Cで、A、IBNを0
,5gの条件として以下は、実施例1と同様にして重量
平均分子量so、oooO共重合体〔2〕を得た。以下
は実施例1において、共重合体〔1〕の代わりに共重合
体〔2〕を用いた他は、実施例1と同様にして、感光材
料を作製した。
の単量体25g、アクリル酸0.2g及びトルエン30
0gの混合溶液とし、温度60°Cで、A、IBNを0
,5gの条件として以下は、実施例1と同様にして重量
平均分子量so、oooO共重合体〔2〕を得た。以下
は実施例1において、共重合体〔1〕の代わりに共重合
体〔2〕を用いた他は、実施例1と同様にして、感光材
料を作製した。
比較用感光材料B:
ペンジルメタクリレート95g1下記の化合物例(B)
の単量体5g及びトルエン100g、イソプロピルアル
コール100gの混合溶液とし温度75°C,AlBN
2.Ogとした他は比較例Aと同様の条件で反応し重量
平均分子量が28.000の共重合体[3]を得た。
の単量体5g及びトルエン100g、イソプロピルアル
コール100gの混合溶液とし温度75°C,AlBN
2.Ogとした他は比較例Aと同様の条件で反応し重量
平均分子量が28.000の共重合体[3]を得た。
CH。
■
単量体(B)
以下は、実施例1と同様にして感光材料を作製した。
比較用感光材料C:
光導電層の結着樹脂として、[ベンジルメタクリレート
/アクリル酸(99,810,2)重量比]共重合体(
重量平均分子量83.000)40gを用いた他は、実
施例1と同様にして、感光材料を作製した。
/アクリル酸(99,810,2)重量比]共重合体(
重量平均分子量83.000)40gを用いた他は、実
施例1と同様にして、感光材料を作製した。
注)比較例Bとして、化合物(2)の単量体を共重合成
分として5重量%以上にすると感光層形成用分散物を調
整する工程において、凝集物を形成し、塗布できる分散
物を調整することができなかった。更に、比較例Bにお
いて用いる共重合体の組成比において、重量平均分子量
を50,000以上にすると上記と同様の現象を生じ、
塗布膜を形成することができなかった。
分として5重量%以上にすると感光層形成用分散物を調
整する工程において、凝集物を形成し、塗布できる分散
物を調整することができなかった。更に、比較例Bにお
いて用いる共重合体の組成比において、重量平均分子量
を50,000以上にすると上記と同様の現象を生じ、
塗布膜を形成することができなかった。
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の
水との接触角で表わす)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等
)を調べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V
(富士写真フィルム■製)に現像剤ELP−Tを用いて
、露光・現像処理して、画像を形成し、不感脂化液EL
P−Eを用いてエツチングプロセッサーでエツチングし
て得られた平版印刷版を用いて調べた(なお、印刷機に
はハマダスターrm製ハマダスター800SX型を用い
た)、。
、光導電層の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の
水との接触角で表わす)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等
)を調べた。印刷性は、全自動製版機ELP404V
(富士写真フィルム■製)に現像剤ELP−Tを用いて
、露光・現像処理して、画像を形成し、不感脂化液EL
P−Eを用いてエツチングプロセッサーでエツチングし
て得られた平版印刷版を用いて調べた(なお、印刷機に
はハマダスターrm製ハマダスター800SX型を用い
た)、。
以上の結果をまとめて、表−1に示す。
表−1
表−1に記した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
る。
注1)光導電層の平滑性:
得られた感光材料を、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容ffi I CCの条件にて、その
平滑度(sec/cc)を測定した。
製)を用い、空気容ffi I CCの条件にて、その
平滑度(sec/cc)を測定した。
注2)静電特性:
温度20″C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6KVで20秒間コロナ
放電をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位■。
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6KVで20秒間コロナ
放電をさせた後10秒間放置し、この時の表面電位■。
を測定し、ついで光導電層表面を照度20ルツクスの可
視光で照射し、表面電位■。が1/10に減衰するまで
の時間を求め、これから露光量E、/、。
視光で照射し、表面電位■。が1/10に減衰するまで
の時間を求め、これから露光量E、/、。
(ルックス・秒)を算出する。
注3)水との接触角:
各感光材料を、不感脂化処理液ELF−E(富士写真フ
ィルム■製)を用いてエツチングプロセッサーに1回通
して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水2
μ!の水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオメ
ータ−で測定する。
ィルム■製)を用いてエツチングプロセッサーに1回通
して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留水2
μ!の水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニオメ
ータ−で測定する。
注4)複写画像の画質:
各感光材料及び全自動製版機ELP404V(富士写真
フィルム■製)を1昼夜常温・常温(20°C165%
)に放置した後、製版して複写画像を形成し、得られた
複写原版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察す
る(これを1とする)。複写画像の画質■は、製版を高
温・高温(30°C280%)で行なう他は、前記■と
同様の方法で試験する。
フィルム■製)を1昼夜常温・常温(20°C165%
)に放置した後、製版して複写画像を形成し、得られた
複写原版の画像(カブリ、画像の画質)を目視で観察す
る(これを1とする)。複写画像の画質■は、製版を高
温・高温(30°C280%)で行なう他は、前記■と
同様の方法で試験する。
注5)印刷物の地汚れ:
各感光材料を、全自動製版機ELP404V(富士写真
フィルム■製)で製版してトナー画像を形成し、上記性
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター■製ハマダ
スター800SX型)にかけ上質紙上に500枚印刷し
、全印刷物の地汚れを目視により判定する。
フィルム■製)で製版してトナー画像を形成し、上記性
3)と同条件で不感脂化処理し、これをオフセットマス
ターとしてオフセット印刷機(ハマダスター■製ハマダ
スター800SX型)にかけ上質紙上に500枚印刷し
、全印刷物の地汚れを目視により判定する。
これを印刷物の地汚れIとする。
印刷物の地汚れ■は、不感脂化処理液を5倍に希釈し、
且つ、印刷時の湿し水を2倍に希釈した。又印刷機の印
圧を強めに設定した。その他は、前記の地汚れIと同様
の方法で試験する。
且つ、印刷時の湿し水を2倍に希釈した。又印刷機の印
圧を強めに設定した。その他は、前記の地汚れIと同様
の方法で試験する。
■の場合は、■よりも著しく厳しい条件で印刷したこと
に相当する。
に相当する。
本発明及び比較例Aの感光材料を用いて得られた複写画
像はいずれも鮮明な画質であって、比較例Bのそれは光
導電層表面の平滑性が著しく悪化し、且つ非画像部のカ
ブリが多く画質が鮮明でなかった。又、各感光材料を(
30°C380%)の環境下で製版した所比較例B及び
Cは、その複写画像が著しく低下してしまった(地力ブ
リが発生し、画像濃度が0.6以下となった)。
像はいずれも鮮明な画質であって、比較例Bのそれは光
導電層表面の平滑性が著しく悪化し、且つ非画像部のカ
ブリが多く画質が鮮明でなかった。又、各感光材料を(
30°C380%)の環境下で製版した所比較例B及び
Cは、その複写画像が著しく低下してしまった(地力ブ
リが発生し、画像濃度が0.6以下となった)。
更に、不感脂化液で不感脂化処理した各感光材料の水と
の接触角は、本発明及び比較例Aの材料の値が15°C
以下と小さく、充分に親水化されていることを示した。
の接触角は、本発明及び比較例Aの材料の値が15°C
以下と小さく、充分に親水化されていることを示した。
又、これらをオフセット印刷用マスタープレートとして
印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好な
ものは、本発明及び比較例Aのプレートのみであった。
印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好な
ものは、本発明及び比較例Aのプレートのみであった。
更にこの両者のプレートを印圧が強い戯しい条件で1万
枚印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷した印刷
物の画質は良好で地汚れも発生しなかったが、比較例A
は7000枚目で地汚れが発生した。比較例B及びCの
プレートは刷り出しから地汚れの発生が生じた。
枚印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷した印刷
物の画質は良好で地汚れも発生しなかったが、比較例A
は7000枚目で地汚れが発生した。比較例B及びCの
プレートは刷り出しから地汚れの発生が生じた。
以上の事実より、本発明の感光材料のみが、環境条件が
変動して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成
し且つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ること
ができた。
変動して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成
し且つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ること
ができた。
実施例2〜14
実施例1において、本発明の樹脂(1)の代わりに表−
2に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様に
操作して各電子写真感光材料を作製した。
2に示される共重合体を用いた他は、実施例1と同様に
操作して各電子写真感光材料を作製した。
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度ハエ。0以上で
画質は鮮明であった。更にエンチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮
明な画質であった。
フセット印刷用マスタープレートの濃度ハエ。0以上で
画質は鮮明であった。更にエンチング処理して印刷機で
印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない鮮
明な画質であった。
更に、この感光材料を(45°C175%RH)の条件
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変わらなかった。
下に放置した後上記と全く同様の処理を行なったが、経
時前と全く変わらなかった。
実施例15
ベンジルメタクリレート72g、前記化合物例(1)の
単量体20g、N−メトキシメチルメタクリルアミド8
gt−ルエン200g及びイソプロピルアルコール50
gの混合溶液を窒素気流下75°Cの温度に加温した後
、A、1. B、 N、 2gを加え8時間反応
した。更に、温度を100″Cに加温しイソプロピルア
ルコール共沸溶媒を留出しながら2時間反応した。
単量体20g、N−メトキシメチルメタクリルアミド8
gt−ルエン200g及びイソプロピルアルコール50
gの混合溶液を窒素気流下75°Cの温度に加温した後
、A、1. B、 N、 2gを加え8時間反応
した。更に、温度を100″Cに加温しイソプロピルア
ルコール共沸溶媒を留出しながら2時間反応した。
得られた共重合体〔17〕の重量平均分子量は98.0
00であった。
00であった。
この共重体〔17〕を、実施例1における共重合体〔1
〕の代わりに用いた他は、実施例1と同様に行なって、
電子写真感光材料を作製した。
〕の代わりに用いた他は、実施例1と同様に行なって、
電子写真感光材料を作製した。
これを実施例1と同様に、全自動製版機ELP404■
で製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、1万枚印
刷後の印刷物は、非画像部のカプリがなく、画像も鮮明
であった。
で製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、1万枚印
刷後の印刷物は、非画像部のカプリがなく、画像も鮮明
であった。
実施例16及び比較例D
エチルメタクリレート60g、下記構造の単量体(c〕
20gアリルメタクリレート20g及びトルエン500
gの混合溶液を窒素気流下60゛Cの温度に加温した後
、2,2′−アゾビスバレロニトリル1.Ogを加え8
時間反応した。得られた共重合体〔18〕の重量平均分
子量は53,000であった。
20gアリルメタクリレート20g及びトルエン500
gの混合溶液を窒素気流下60゛Cの温度に加温した後
、2,2′−アゾビスバレロニトリル1.Ogを加え8
時間反応した。得られた共重合体〔18〕の重量平均分
子量は53,000であった。
本発明の共電体成分相当の単量体(C) H3
CH,=C
■
C00(CHz)4so□OCH,CH(12続いて、
この共重合物30g (固形分量として)及び[ブチル
メタクリレート/アクリル酸(99/1)重量比1共重
合体(重量平均分子量45000)Log、酸化亜鉛2
00g、ローズベンガル0.05g、無水フタル酸0.
01g及びトルエン300gの混合物をボールミル中で
2時間分散した。
この共重合物30g (固形分量として)及び[ブチル
メタクリレート/アクリル酸(99/1)重量比1共重
合体(重量平均分子量45000)Log、酸化亜鉛2
00g、ローズベンガル0.05g、無水フタル酸0.
01g及びトルエン300gの混合物をボールミル中で
2時間分散した。
次に、この分散物にアリルメタクリレート10g及び2
,2′ −アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え
、ボールミル中10分間分散して、感光層形成物を調整
した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/
n(となる様にワイヤーバーで塗布し、100°Cで3
0分間乾燥した。次いで暗所で20°C165%RHの
条件下で24時間放置することにより電子写真感光体を
作製した。
,2′ −アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え
、ボールミル中10分間分散して、感光層形成物を調整
した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/
n(となる様にワイヤーバーで塗布し、100°Cで3
0分間乾燥した。次いで暗所で20°C165%RHの
条件下で24時間放置することにより電子写真感光体を
作製した。
比較例D
エチルメタクリレート80g、単量体〔0320g及び
トルエン200gの混合ン容液を窒素気流下75°Cの
温度に加温した後、2.2′−アゾビスイソブチロニト
リル1.0gを加え、8時間反応した。得られた共重合
体〔19〕の重量平均分子量は45,000であった。
トルエン200gの混合ン容液を窒素気流下75°Cの
温度に加温した後、2.2′−アゾビスイソブチロニト
リル1.0gを加え、8時間反応した。得られた共重合
体〔19〕の重量平均分子量は45,000であった。
続いて、実施例16において用いた共重合体〔18〕の
代わりに、上記共重合体〔19〕を用いた他は実施例1
6と同様の組成物とし、実施例1と同様にしてボールミ
ル中2時間分散した。これを感光層形成物として、導電
処理した紙に、乾燥付着量が25 g/n(となるよう
にワイヤーバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥し、
ついで暗所で20“C165%RHの条件下で24時間
放置することにより電子写真感光材料を作製した。
代わりに、上記共重合体〔19〕を用いた他は実施例1
6と同様の組成物とし、実施例1と同様にしてボールミ
ル中2時間分散した。これを感光層形成物として、導電
処理した紙に、乾燥付着量が25 g/n(となるよう
にワイヤーバーで塗布し、110°Cで1分間乾燥し、
ついで暗所で20“C165%RHの条件下で24時間
放置することにより電子写真感光材料を作製した。
これらの各感光材料を実施例1と同様にして、各特性を
調べた。得られたオフセット印刷用マスタープレートの
濃度は、本発明の実施例16及び比較例りともに1.0
以上で、画質も鮮明であった。更にエツチング処理をし
て印刷機で印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷
した印刷物でもその画質は鮮明で地汚れも認められかっ
た。しかし比較例りのプレートは7000枚印刷後の印
刷物で地汚れが発生した。
調べた。得られたオフセット印刷用マスタープレートの
濃度は、本発明の実施例16及び比較例りともに1.0
以上で、画質も鮮明であった。更にエツチング処理をし
て印刷機で印刷した所、本発明のプレートは1万枚印刷
した印刷物でもその画質は鮮明で地汚れも認められかっ
た。しかし比較例りのプレートは7000枚印刷後の印
刷物で地汚れが発生した。
実施例17〜22
実施例16において、本発明の樹脂〔18〕の代わりに
表3に示される共重合体を用いた他は、実施例16と同
様に操作して、各感光材料を作製した。
表3に示される共重合体を用いた他は、実施例16と同
様に操作して、各感光材料を作製した。
表−3
I
C411,C00(CHz) =SO□0C11□CH
FC)12Fこれを実施例1と同様の装置で製版した所
、4−1)られたオフセットEpH用マスタープレート
の濃度ハエ。0以上で画質は鮮明であった。更にエツチ
ング処理して印刷機で印刷した所、1B枚印刷後の印刷
物は、カブリのない鮮明な画質であった。
FC)12Fこれを実施例1と同様の装置で製版した所
、4−1)られたオフセットEpH用マスタープレート
の濃度ハエ。0以上で画質は鮮明であった。更にエツチ
ング処理して印刷機で印刷した所、1B枚印刷後の印刷
物は、カブリのない鮮明な画質であった。
実施例23
n−プロピルメタクリレート60g、前記単量体(A)
15g、アリルメタクリレート25gアクリル酸0.3
g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下70゛
Cの温度に加温した後、2゜2′−アゾビス(2,4−
ジメチルバレロニトリル)1.5gを加え10時間反応
した。得られた共重合体〔26]の重量平均分子量は9
6,000であった。続いて、実施例1において用いた
共重合体〔1〕の代わりに、上記共重合体〔26〕40
gを用いた他は、実施例1と同様にして感光層形成用分
散物を調整した。更に、実施例1において、乾燥条件を
100°C,1時間とした他は、実施例1と同様の操作
で感光材料を作製した。
15g、アリルメタクリレート25gアクリル酸0.3
g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下70゛
Cの温度に加温した後、2゜2′−アゾビス(2,4−
ジメチルバレロニトリル)1.5gを加え10時間反応
した。得られた共重合体〔26]の重量平均分子量は9
6,000であった。続いて、実施例1において用いた
共重合体〔1〕の代わりに、上記共重合体〔26〕40
gを用いた他は、実施例1と同様にして感光層形成用分
散物を調整した。更に、実施例1において、乾燥条件を
100°C,1時間とした他は、実施例1と同様の操作
で感光材料を作製した。
これを実施例1と同様に、全自動製版機ELP404V
で製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、−万枚印
刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明
であった。
で製版した所、得られたオフセット印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、−万枚印
刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明
であった。
実施例24
下記に示される化学構造の本発明の共重合体〔27〕及
び〔28〕を各々15g用いた他は、実施例23と同様
に操作して電子写真窓光材料を作製した。
び〔28〕を各々15g用いた他は、実施例23と同様
に操作して電子写真窓光材料を作製した。
共重合体[27]:重量平均分子量43,000共重合
体(2B):重量平均分子量38,000これを、実施
例1と同様の装置で製版し、次いでエツチング処理して
印刷機で印刷した。製版後得られたオフセット印刷用マ
スタープレートの濃度は1. 0以上で、画質は鮮明で
あった。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地力ブリのな
い鮮明な画像のものであった。
体(2B):重量平均分子量38,000これを、実施
例1と同様の装置で製版し、次いでエツチング処理して
印刷機で印刷した。製版後得られたオフセット印刷用マ
スタープレートの濃度は1. 0以上で、画質は鮮明で
あった。又1万枚印刷後の印刷物の画質は地力ブリのな
い鮮明な画像のものであった。
実施例25及び比較例E、 F
エチルメタクリレ−)30g、下記構造の単量体(D)
40gアリルメタクリレート30g及びトルエン500
gの混合溶液を窒素気流下60°Cの温度に加温した後
、2.2′、 −アゾビスバレロニトリル1.0gを
加え8時間反応した。得られた共重合体CI)の重量平
均分子量は62,000であった。
40gアリルメタクリレート30g及びトルエン500
gの混合溶液を窒素気流下60°Cの温度に加温した後
、2.2′、 −アゾビスバレロニトリル1.0gを
加え8時間反応した。得られた共重合体CI)の重量平
均分子量は62,000であった。
本発明の共重合体成分相当の単量体(D)続いて、この
共重合物30g(固形分量として)及び〔ブチルメタク
リレート/アクリル酸(99/1)重量比〕共重合体(
重量平均分子量45000)Log、酸化亜鉛200g
、ローズベンガル0.05g、無水フタル酸0.01g
及びトルエン300gの混合物をボールミル中で2時間
分散した。
共重合物30g(固形分量として)及び〔ブチルメタク
リレート/アクリル酸(99/1)重量比〕共重合体(
重量平均分子量45000)Log、酸化亜鉛200g
、ローズベンガル0.05g、無水フタル酸0.01g
及びトルエン300gの混合物をボールミル中で2時間
分散した。
次に、この分散物に、アリルメタクリレートlog及び
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え
、ボールミル中、10分間分散して感光層形成物を調整
した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/
rdとなる様にワイヤーバーで塗布し、100°Cで3
0分間乾燥した。
2,2′−アゾビスイソブチロニトリル0.5gを加え
、ボールミル中、10分間分散して感光層形成物を調整
した。これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25g/
rdとなる様にワイヤーバーで塗布し、100°Cで3
0分間乾燥した。
次いで暗所で20“C165%RHの条件下で24時間
放置することにより電子写真感光体を作製した。
放置することにより電子写真感光体を作製した。
比較例E
エチルメタクリレート60g、単量体〔0340g及び
トルエン200gの混合溶液を窒素気流下75°Cの温
度に加温した後、2.2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル1.0gを加え8時間反応した。得られた共重合体(
A)の重量平均分子量は45,000であった。
トルエン200gの混合溶液を窒素気流下75°Cの温
度に加温した後、2.2′−アゾビスイソブチロニトリ
ル1.0gを加え8時間反応した。得られた共重合体(
A)の重量平均分子量は45,000であった。
続いて、実施例25において用いた共重合体〔29]の
代わりに、上記共重合体(A)を用いた他は、実施例2
5と同様にして、まずボールミル中2時間分散した。こ
れを感光層形成物として、導電処理した紙に、乾燥付着
量が25g/rfとなるようにワイヤーバーで塗布し、
110°Cで1分間乾燥し、ついで暗所で20゛C16
5%RHの条件下で24時間放置することにより電子写
真感光体料を作製した。
代わりに、上記共重合体(A)を用いた他は、実施例2
5と同様にして、まずボールミル中2時間分散した。こ
れを感光層形成物として、導電処理した紙に、乾燥付着
量が25g/rfとなるようにワイヤーバーで塗布し、
110°Cで1分間乾燥し、ついで暗所で20゛C16
5%RHの条件下で24時間放置することにより電子写
真感光体料を作製した。
比較例F
エチルメタクリレート99g、4−スルホブチルメタク
リレート1g及びトルエン200gの混合?g ?(l
とし、以下は比較例Eと同様にして重量平均分子ff1
48. 000の共重合体(B)を得た。
リレート1g及びトルエン200gの混合?g ?(l
とし、以下は比較例Eと同様にして重量平均分子ff1
48. 000の共重合体(B)を得た。
次に、比較例已において、共重体(A)の代わりに上記
共重合体CB)を用いた他は、比較例Eと同様にして感
光材料を作製した。
共重合体CB)を用いた他は、比較例Eと同様にして感
光材料を作製した。
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、静像性及び環境条件を30°C180%RHとした時
の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセッ
トマスター用原版として用いた時の光導電層の不感脂化
性(不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす
)及び印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べた。
、静像性及び環境条件を30°C180%RHとした時
の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセッ
トマスター用原版として用いた時の光導電層の不感脂化
性(不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わす
)及び印刷性(地汚れ、耐刷性等)を調べた。
↑静像性及び印刷性は、全自動製版ELP404V(富
士写真フィルム■製)に現像剤ELP−Tを用いて露光
・現像処理して画像を形成し、不感脂化液ELP−Eを
用いてエツチングプロセッサーでエツチングして得られ
た平版印刷版を用いて調べた(なお、印刷機にはハマダ
スター株製ハマダスター300SX型を用いた)。
士写真フィルム■製)に現像剤ELP−Tを用いて露光
・現像処理して画像を形成し、不感脂化液ELP−Eを
用いてエツチングプロセッサーでエツチングして得られ
た平版印刷版を用いて調べた(なお、印刷機にはハマダ
スター株製ハマダスター300SX型を用いた)。
以上の結果をまとめて表−4に示す。
表−4
表−4に記した評価項目の実施の態様は前記の表−1の
ものと同しである。
ものと同しである。
表−4に示す様に、本発明及び比較例Eの感光材料は、
光導電層の平滑性及び静電特性が良好で、実際の複写画
像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。
光導電層の平滑性及び静電特性が良好で、実際の複写画
像も地力ブリがなく複写画質も鮮明であった。
比較例Fのそれは光導電層表面の平滑性が著しく悪化し
、且つ非画像部のカブリが多く画質が、鮮明でなかった
。
、且つ非画像部のカブリが多く画質が、鮮明でなかった
。
更に、不感脂化液で不感脂化処理した各感光材料の水と
の接触角は、本発明及び比較例Eの材料の値が15゛C
以下と小さく、充分に親水化されていることを示した。
の接触角は、本発明及び比較例Eの材料の値が15゛C
以下と小さく、充分に親水化されていることを示した。
又、これらをオフセント印刷用マスタープレートとして
印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好な
ものは、本発明及び比較例Eのプレートのみであった。
印刷してみると、非画像部の地汚れの発生しない良好な
ものは、本発明及び比較例Eのプレートのみであった。
更にこの両者のプレート印圧が強い条件で1万枚印刷し
た所、本発明のプレートは1万枚印刷した印刷物の画質
は良好で地汚れも発生しなかった。比較例Eは7000
枚目で地汚れが発生した。比較例Fのプレートは刷り出
しから地汚れの発生が生した。
た所、本発明のプレートは1万枚印刷した印刷物の画質
は良好で地汚れも発生しなかった。比較例Eは7000
枚目で地汚れが発生した。比較例Fのプレートは刷り出
しから地汚れの発生が生した。
以上の事実より、本発明の感光材料のみが、環境条件が
変動して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成
し且つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ること
ができた。
変動して製版された場合でも常に鮮明な複写画像を形成
し且つ地汚れの発生しない印刷物を1万枚以上得ること
ができた。
実施例26〜36
実施例25において、共重合体〔1]の代わりに、表−
5の共重合体を用いた他は、実施例25と同様にして、
各感光材料を作製した。
5の共重合体を用いた他は、実施例25と同様にして、
各感光材料を作製した。
表−3
CH,CH3
[重量比]
これを、実施例1と同様の装置で製版し、次いでエツチ
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ント印刷用マスタープレートの濃度は1. 0以上で、
画質は鮮明であった。又、l万枚印刷後の印刷物の画質
は地力ブリのない鮮明な画像のものであった。
ング処理して印刷機で印刷した。製版後得られたオフセ
ント印刷用マスタープレートの濃度は1. 0以上で、
画質は鮮明であった。又、l万枚印刷後の印刷物の画質
は地力ブリのない鮮明な画像のものであった。
実施例37〜42
実施例25において、本発明の樹脂(1)の代わりに表
6に示される共重合体を用いた他は、実施例25と同様
に操作して、各感光材料を作製した。
6に示される共重合体を用いた他は、実施例25と同様
に操作して、各感光材料を作製した。
表−6
これを実施例1と同様の装置で製版した所、得られたオ
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
、画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
フセット印刷用マスタープレートの濃度は1.0以上で
、画質は鮮明であった。更にエツチング処理して印刷機
で印刷した所、1万枚印刷後の印刷物は、カブリのない
鮮明な画質であった。
実施例43
実施例25において用いる[ブチルメタクリレート/ア
クリル酸1共重合体の代わりに[ブチルメタクリレート
/アリルメタクリレート/アクリル酸(79/20/1
)重量比]共重合体を用いた他は、実施例25と同様
にして、感光材料を作製した。
クリル酸1共重合体の代わりに[ブチルメタクリレート
/アリルメタクリレート/アクリル酸(79/20/1
)重量比]共重合体を用いた他は、実施例25と同様
にして、感光材料を作製した。
これを実施例1と同様に、全自動製版機ELP404■
で製版した所、得られたオフセント印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、一方杖印
刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明
であった。
で製版した所、得られたオフセント印刷用マスタープレ
ートの濃度は1.0以上で画質は鮮明であった。更に、
エツチング処理をして、印刷機で印刷した所、一方杖印
刷後の印刷物は、非画像部のカブリがなく、画像も鮮明
であった。
(発明の効果)
本発明によれば、地汚れ、耐剛力の非常に優れた電子写
真式平版印刷用原版が得られる。
真式平版印刷用原版が得られる。
手続補正書
平成1年3月ユゾ日
Claims (3)
- (1)導電性支持体上に、少なくとも1層の光導電性酸
化亜鉛と結着樹脂とを含有することから成る光導電層を
設けて成る電子写真感光体を利用した平版印刷用原版に
おいて、該結着樹脂が、分解によりチオール基、ホスホ
基、アミノ基、及びスルホ基のうちの少なくとも1つの
基を生成する官能基を少なくとも1種含有し且つ少なく
とも一部分が架橋されている樹脂を少なくとも1種含有
してなることを特徴とする電子写真式平版印刷用原版。 - (2)該樹脂が、分解によりチオール基、ホスホ基、ア
ミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成
する官能基を少なくとも1種含有する共重合成分を含有
し且つ分解により該基を生成したときに水に対して難溶
又は不溶となる様に予め架橋されている樹脂である特許
請求の範囲第(1)項記載の電子写真式平版印刷用原版
。 - (3)該樹脂が、分解によりチオール基、ホスホ基、ア
ミノ基及びスルホ基のうちの少なくとも1つの基を生成
する官能基を少なくとも1種及び熱及び/又は光で硬化
反応を起こす官能基を少なくとも1種各々含有する樹脂
である特許請求の範囲第(1)項記載の電子写真式平版
印刷用原版。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63022839A JPH07101321B2 (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 電子写真式平版印刷用原版 |
| US07/306,418 US4977049A (en) | 1988-02-04 | 1989-02-06 | Electrophotographic lithographic printing plate precursor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63022839A JPH07101321B2 (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 電子写真式平版印刷用原版 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01200271A true JPH01200271A (ja) | 1989-08-11 |
| JPH07101321B2 JPH07101321B2 (ja) | 1995-11-01 |
Family
ID=12093876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63022839A Expired - Fee Related JPH07101321B2 (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 電子写真式平版印刷用原版 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4977049A (ja) |
| JP (1) | JPH07101321B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5860820B2 (ja) * | 2011-02-03 | 2016-02-16 | 株式会社クラレ | アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5219705A (en) * | 1988-07-04 | 1993-06-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor of direct image type |
| JP2585795B2 (ja) * | 1989-06-13 | 1997-02-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式平版印刷用原版 |
| EP0405499B1 (en) * | 1989-06-28 | 1996-02-14 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
| JPH03153392A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-01 | Iwatsu Electric Co Ltd | 電子写真製版物非画像部の溶出液 |
| US5250376A (en) * | 1991-09-13 | 1993-10-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic lithographic printing plate |
| WO1993014447A1 (fr) * | 1992-01-10 | 1993-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Plaque originale pour lithographie electrophotographique |
| US5310795A (en) * | 1993-03-18 | 1994-05-10 | General Electric Company | Carbamate-functionalized addition polymers and addition polymer-rubber copolymers derived therefrom |
| US5334659A (en) * | 1993-03-18 | 1994-08-02 | General Electric Company | Elastomeric blends and method for their preparation |
| US7014968B2 (en) | 2003-12-30 | 2006-03-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Organophotoreceptor with charge transport material having a thiiranyl group |
| EP2953992B1 (en) * | 2013-02-06 | 2021-11-24 | 3M Innovative Properties Company | Polymers, preparation and use thereof |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4101326A (en) * | 1976-02-09 | 1978-07-18 | Eastman Kodak Company | Process for making stabilized polyesters used in radiation-sensitive compositions for lithographic plates having improved wear life including hindered phenols and phosphoric acid esters |
| JPH0750338B2 (ja) * | 1986-05-02 | 1995-05-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真式平版印刷用原版 |
-
1988
- 1988-02-04 JP JP63022839A patent/JPH07101321B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-02-06 US US07/306,418 patent/US4977049A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5860820B2 (ja) * | 2011-02-03 | 2016-02-16 | 株式会社クラレ | アクリル酸エステル誘導体、高分子化合物およびフォトレジスト組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07101321B2 (ja) | 1995-11-01 |
| US4977049A (en) | 1990-12-11 |
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