JPH0534943A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 静電特性及び撮像性の改良された、特に液体
現像剤を用いての高精細な画像の再現性、低出力のレー
ザー光を用いたスキャニング露光方式による撮像性の優
れた、電子写真感光体を提供する。 【構成】 結着樹脂として、極性基含有の重合体成分を
含有するＡブロック及び式（Ｉ）の繰り返し単位の重合
体成分を含有するＢブロックからなる重量平均分子量１
×１０³ 〜２×１０⁴ のＡＢブロック共重合体である樹
脂〔Ａ〕と、極性基含有の重合体成分を含有するＡブロ
ック及び式（II）の繰り返し単位の重合体成分を含有す
るＢブロックからなる重量平均分子量２×１０⁴ 〜１×
１０⁶ のＡＢブロック共重合体である樹脂〔Ｂ〕とをそ
れぞれ少なくとも１種含有する電子写真感光体。 〔式（Ｉ）中、Ｒ¹¹は炭化水素基を表す。〕 〔式（II）中、ａ¹ 、ａ² は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｒ¹²は炭化水素基
を表す。〕 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。

【０００３】電子写真感光体の代表的なものとして、支
持体上に光導電層が形成されている感光体及び表面に絶
縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。支持
体と少なくとも１つの光導電層から構成される感光体
は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電、
画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形
成に用いられる。

【０００４】更には、ダイレクト製版用のオフセット原
版として電子写真感光体を用いる方法が広く実用されて
いる。特に近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から
数千枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式
として重要となってきている。こうした状況の中で、電
子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結着
樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着樹
脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。

【０００５】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。

【０００６】無機光導電材料、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層において、結着樹脂の
化学構造によって、平滑性のみならず静電特性が大きく
影響を受けることが判ってきた。特に静電特性におい
て、暗中電荷保持率（Ｄ．Ｒ．Ｒ．）や光感度が大きく
左右される。

【０００７】これに対し、特開昭６３−２１７３５４
号、同６４−７０７６１号、特開平２−６７５６３号、
同２−２３６５６１号、同２−２３８４５８号、同２−
２３６５６２号及び同２−２４７６５６号に記載の技術
によれば、酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダム
に存在する低分子量の樹脂、重合体主鎖の片末端に酸性
基を結合して成る低分子量の樹脂あるいは酸性基をグラ
フト部に含有する低分子量のグラフト型共重合体の樹
脂、酸性基をグラフト部に含有する低分子量のグラフト
型共重合体の樹脂等を結着樹脂として用いる事で平滑性
及び静電特性を良化できる様になった。これらは、該低
分子量の樹脂が、光導電体の分散を充分に行ない光導電
体同志の凝集を抑制する効果を有すること及び光導電体
と分光増感色素との吸着を疎外しないで該無機光導電体
の化学量論的な欠陥に充分に吸着するとともに光導電体
の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していることによる
と推定される。

【０００８】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。

【０００９】そして、これらの低分子量の樹脂のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるため
に、中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬
化性基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術
等が特開昭６４−５６４号、同６３−２２０１４９号、
同６３−２２０１４８号、特開平１−２８０７６１号、
同１−１１６６４３号、同１−１６９４５５号、同１−
２１１７６６号、同２−３４８５９号、同２−５３０６
４号、同２−５６５５８号、同３−２９９５４号、同３
−７７９５４号、同３−９２８６１号、同３−５３２５
７号等に記載されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の樹脂又は樹脂の組合せを用いても、環境が高温・高湿
から低温・低湿まで著しく変動した場合における安定し
た性能の維持においてはいまだ不充分であることが判っ
た。半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
では、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露
光時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対して、
より高い性能が要求される。

【００１１】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合，従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にＥ_1/2 とＥ_1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。

【００１２】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。

【００１３】従来公知の技術においては、低分子量の樹
脂と併用する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子
量の樹脂で高性能化された静電特性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像（特に連続階調画像）の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。

【００１４】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。

【００１５】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。

【００１６】本発明の更なる目的は、電子写真式平版印
刷原版として、静電特性（特に暗電荷保持性及び光感
度）に優れ、原画（特に高精細な連続階調画像）に対し
て忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面一様な
地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、また耐
刷性の優れた平版印刷原版を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記に示される樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下
記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³ 〜２×１０⁴ の重量平均分子量を有し、−Ｐ
Ｏ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃ Ｈ基、フェノール
性ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ ｛Ｒ¹は炭化水素基
又は−ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を示す）基を示す｝基
及び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも１つ
の極性基を含有する少なくとも１つの重合体成分から成
るＡブロックと下記一般式（Ｉ）で示される重合体成分
を少なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢ
ブロック共重合体。

【００１８】

【化５】

【００１９】〔式（Ｉ）中、Ｒ¹¹は炭化水素基を表
す。〕 樹脂〔Ｂ〕 ２×１０⁴ 〜１×１０⁶ の重量平均分子量を有し、−Ｐ
Ｏ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ₃ Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｐ（＝
Ｏ)(ＯＨ）Ｒ³ （Ｒ³ は上記Ｒ¹ と同様の意味を表す)
基及び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも１
種の極性基を含有する少なくとも１つの重合体成分を含
有することから成るＡブロックと下記一般式（II）で示
される重合体成分を少なくとも含有するＢブロックとか
ら構成されるＡＢブロック共重合体。

【００２０】

【化６】

【００２１】〔式（II）中、ａ¹ 及びａ² は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｒ
¹²は炭化水素基を表す。〕即ち、本発明の結着樹脂は、
上記特定の極性基含有成分を含有するＡブロックと上記
一般式（Ｉ）で示される重合体成分を含有するＢブロッ
クとのＡＢ型ブロック共重合体であって低分子量のもの
（樹脂〔Ａ〕) と、上記特定の極性基含有成分を含有す
るＡブロックと上記式（II）で示される重合体成分を含
有するＢブロックとのＡＢ型ブロック共重合体であって
高分子量のもの（樹脂〔Ｂ〕）とから少なくとも構成さ
れる。

【００２２】前述の如く、本発明の結着樹脂で用いられ
る樹脂は、樹脂中に含有される極性基が重合体主鎖中に
ランダムに存在するものでも重合体主鎖の末端にのみ結
合しているものでもなく、重合体主鎖中にブロックで存
在する様に、更に特定化された共重合体である。

【００２３】かかる共重合体を低分子量にして、即ち樹
脂〔Ａ〕として用いる場合には、重合体の主鎖のいずれ
か一方の片側部分に偏在化された極性基の部分の領域が
無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着するとと
もに、重合体主鎖を構成する他のブロック部分は、光導
電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していると推定
される。その作用機構により、本発明に従う低分子量の
共重合体は無機光導電体の化学量論的な欠陥部が多少変
動しても、充分な吸着領域をもつ事から常に安定した無
機光導電体と樹脂〔Ａ〕との相互作用が保たれると推論
され、従来公知の酸性基含有樹脂に比べて一段と良好に
光導電体のトラップを充分に補償すると共に湿度特性を
向上させる一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、凝
集を抑制するとともに高温・高湿から低温・低湿まで環
境変化が著しく変動しても安定した高性能の電子写真特
性を維持することが判った。

【００２４】更に前述の如く、低分子量の酸性基含有樹
脂を中〜高分子量の樹脂と併用する公知の技術において
は、併用する中〜高分子量の樹脂により、上記低分子量
の樹脂で高性能化された静電特性が低下してしまうこと
のあることが判った。そしてこれらの中〜高分子量樹脂
が、該光導電層中で、光導電体、分光増感色素及び低分
子量の樹脂同志の相互作用に更に適切に相互作用させる
ことも、予想以上に重要な原因であることが明らかにな
ってきた。

【００２５】かかる検討を重ねた結果、本発明に従う極
性基含有のブロックＡと極性基非含有のブロックＢとを
有するＡＢ型ブロック共重合体の低分子量のものと高分
子量のものとを組み合わせて用いることにより、前記課
題が有効に解決されることが見出されたものである。

【００２６】この事は、本発明のＡＢ型ブロック共重合
体の低分子量体〔Ａ〕及び高分子量体〔Ｂ〕の相乗効果
により、光導電体粒子が充分に分散され且つ凝縮しない
状態で存在し、更に分光増感色素が光導電体粒子表面に
充分に吸着されていること及び光導電体表面の余分な活
性サイトを結着樹脂が充分に吸着してトラップを補償し
ていること等によるものと推定される。

【００２７】即ち、特定の極性基をＡブロックとして含
有する低分子量体の樹脂〔Ａ〕は、前記の如く、光導電
体粒子に充分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分
子鎖が非常に短いことにより凝集を抑制すること、又、
分光増感色素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作
用を有する。これに特定の極性基を含有するブロックＡ
とそれを含まないブロックＢとで構成された中〜高分子
量のＡＢブロック共重合体（樹脂〔Ｂ〕）を併用するこ
とで光導電層の機械的強度が充分に保持されるととも
に、静電特性が更に良化する効果を有する。これは、こ
の樹脂のブロックＡの部分が光導電体粒子と樹脂〔Ａ〕
よりも弱い相互作用であること及びブロックＢの部分同
志の高分子鎖間の絡み合い効果等によるものと考えられ
る。また、樹脂〔Ａ〕そのものの静電特性への寄与の増
大に加えて、樹脂〔Ｂ〕においても光導電体粒子と相互
作用をもつブロックＡ部分が極性基を有することから分
光増感色素の吸着疎外を抑制する働きをしているものと
考えられる。

【００２８】換言すれば、本発明に従い無機光導電体の
結着樹脂として、極性基を重合体主鎖中にブロックとし
て特定化されて含有する樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕を各
々樹脂の重量平均分子量並びに樹脂中の極性基の含有量
等を更に特定化することで、無機光導電体と樹脂との相
互作用の強さを適度に変えることができたことによると
推定される。即ち、相互作用のより強い樹脂〔Ａ〕が選
択的に無機光導電体に適切に吸着し、一方で高分子量の
樹脂〔Ｂ〕は、高分子鎖間の相互作用、更には極性基と
光導電性粒子との弱い相互作用等が相乗作用して、電子
写真特性及び膜強度において著しく優れた性能を両立し
ているものと考えられる。

【００２９】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。

【００３０】即ち、電子写真プロセスを経て複写画像を
形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理液
により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷用
原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に優
れた印刷用原版としての性能を示すものである。

【００３１】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。これは、上記した酸
化亜鉛粒子が均一に分散されていること及び酸化亜鉛粒
子表面に存在する結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化
処理液との不感脂化反応が疎外されず迅速に且つ効果的
に進行することによるものと考えられる。

【００３２】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量は１×１０³ 〜
２×１０⁴ 、好ましくは２×１０³ 〜１×１０⁴ であ
り、樹脂〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−１０℃〜
１００℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは−
５℃〜８５℃である。

【００３３】樹脂〔Ａ〕の分子量が１×１０³ より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が２×１０⁴ より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での暗減衰保持率及び光感度の変動が多少大きくなり、
安定した複写画像が得られるいとう本発明の効果が薄れ
てしまう。

【００３４】樹脂〔Ａ〕におけるＡＢ型ブロック共重合
体での特定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合
体〔Ａ〕１００重量部当り好ましくは０．５〜２０重量
部、より好ましくは３〜１５重量部の割合で含有され
る。

【００３５】樹脂〔Ａ〕における極性基含有量が０．５
重量％より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有量が２０重
量％よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性
が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高湿特性が低下
し、更にオフセットマスターとして用いるときに地汚れ
が増大する。

【００３６】一方、樹脂〔Ｂ〕もＡＢ型ブロック共重合
体であり、樹脂〔Ｂ〕としてのブロック共重合体におけ
る特定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合体
〔Ｂ〕１００重量部当り好ましくは０．１〜５重量部、
より好ましくは０．２〜３重量部の割合で含有される。

【００３７】樹脂〔Ｂ〕における極性基含有量が０．１
重量％より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができず、該極性基含有量が５重量％よりも
多いと、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特特性
の高温高湿が低下し、更にオフセットマスターとして用
いるときに地汚れが増大するため、好ましくない。

【００３８】樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は２×１０⁴
〜１×１０⁶ 、好ましくは３×１０⁴ 〜５×１０⁵ であ
り、樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、−１０℃〜１００℃
の範囲のものが好ましいが、より好ましくは０℃〜９０
℃である。

【００３９】樹脂〔Ｂ〕の分子量が２×１０⁴ より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、
また分子量が１×１０⁶ より大きくなると本発明の樹脂
〔Ｂ〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の
電子特性になってしまう。

【００４０】本発明のＡＢ型ブロック共重合体のＡブロ
ックを構成する特定の極性基を含有する重合成分につい
て、更に具体的に説明する。該極性基としては、樹脂
〔Ａ〕においては−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ₃ Ｈ基、−Ｃ
ＯＯＨ基、フェノール性ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ
¹ 基及び環状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは、
−ＳＯ₃ Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹
基及びフェノール性ＯＨ基が挙げられる。一方、樹脂
〔Ｂ〕においては−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ₃ Ｈ基、−Ｃ
ＯＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ 基及び環状酸無水物
含有基が挙げられる。

【００４１】ここで、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ は、下記
化７で表わされる基を示し、ここにおいて該Ｒ¹ は炭化
水素基又は−ＯＲ² 基（Ｒ² は炭化水素基を表す）を表
し、Ｒ¹ は好ましくは炭素数１〜２２の脂肪族基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデ
シル基、プロペニル基、メトキシメチル基、エトキシメ
チル基、２−エトキシエチル基，２−クロロエチル基、
２−ブロムエチル基、２−メトキシエチル基、２−フロ
ロエチル基、３−クロロプロピル基、３−メトキシプロ
ピル基、３−エトキシプロピル基、２−メトキシブチル
基、アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキ
シル基、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロ
ピル基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロ
ベンジル基、メトキシベンジル基等）又は置換されても
よいアリール基（例えば、フェニル基、トリル基、エチ
ルフェニル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル
基、フロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メ
チル−フェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフェニル基、
アセチルフェニル基、ブトキシフェニル基等）等を表わ
し、Ｒ² はＲ¹ と同一の内容を表す。

【００４２】

【化７】

【００４３】フェノール性ＯＨ基としては、ヒドロキシ
フェノール又はヒドロキシフェニル基を置換基として含
有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類を例とし
て挙げることができる。

【００４４】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も１つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。

【００４５】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−１，２−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物環、
２，３−ビシクロ〔２．２．２〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。

【００４６】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等）等が置換されていてもよい。

【００４７】以上の如き「特定の極性基を含有する重合
体成分」としては、例えば一般式（Ｉ）で示される繰り
返し単位に相当する単量体と共重合し得る該極性基を含
有するビニル系化合物であればいずれでもよく、例え
ば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基礎
編〕」培風館（１９８６年刊）等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び／又はβ置換アクリル酸
（例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−（２−アミノ）メチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シ
アノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−β
−メトキシ体、α，β−ジクロロ体等）、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、２−アルケニルカルボン酸類
（例えば２−ペンテン酸、２−メチル−２−ヘキセン
酸、２−オクテン酸、４−メチル−２−ヘキセン酸、４
−エチル−２−オクテン酸等）、マレイン酸、マレイン
酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼ
ンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基
又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらのカルボン
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該極性基を含有する化合物等が挙げられる。

【００４８】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、ｂ¹ はーＨ、ーＣＨ₃ 、ーＣｌ、ーＢ
ｒ、ーＣＮ、ーＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃ 又はーＣＨ₂ ＣＯＯ
Ｈを示し、ｂ² はーＨ又はーＣＨ₃ を示し、ｆは２〜１
８の整数を示し、ｇは１〜１２の整数を示し、ｈは１〜
４の整数を示す。

【００４９】

【化８】

【００５０】

【化９】

【００５１】

【化１０】

【００５２】

【化１１】

【００５３】

【化１２】

【００５４】

【化１３】

【００５５】

【化１４】

【００５６】

【化１５】

【００５７】

【化１６】

【００５８】

【化１７】

【００５９】

【化１８】

【００６０】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該Ａブロック中に２種以上含有されていてもよく、
その場合における該２種以上の極性基含有成分は該Ａブ
ロック中においてランダム共重合又はブロック共重合の
いずれの態様で含有されていてもよい。

【００６１】また、該極性基を含有しない成分がＡブロ
ック中に含まれていてもよく、該成分の例としては、Ｂ
ブロック中に含有され得る成分と同様のもの、例えば後
述の一般式（Ｉ）、（II）又は（III)で示される成分あ
るいはその他の成分として挙げられたもの等が挙げられ
る。かかる極性基非含有成分の含有量はＡブロック中好
ましくは０〜５０重量％、より好ましくは０〜２０重量
％であるが、かかる極性基非含有成分がＡブロック中に
含まれないことが最も好ましい。

【００６２】次にＡＢ型ブロック共重合体〔Ａ〕におい
て、Ｂブロック成分を構成する重合成分について詳しく
説明する。Ｂブロック成分は、樹脂〔Ａ〕においては少
なくとも一般式（Ｉ）で示されるメタクリレート成分を
含有し、該式（Ｉ）のメタクリレート成分は好ましくは
Ｂブロック成分中、３０〜１００重量％、より好ましく
は５０〜１００重量％含有される。

【００６３】一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位にお
いて、Ｒ¹¹の炭化水素基は置換されていてもよい。 Ｒ¹¹は好ましくは炭素数１〜１８の置換されていてもよ
い炭化水素基を表わす。置換基としては上記該ＡＢ型ブ
ロック共重合体のＡブロックを構成する重合成分に含有
される前記極性基以外の置換基であればいずれでもよ
く、例えば、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等）、ーＯＺ¹ 、−ＣＯＯ−Ｚ¹ 、−Ｏ
ＣＯＺ¹ （Ｚ¹ は炭素数１〜２２のアルキル基を表わ
し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基等である）等の置換基
が挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数１
〜１８の置換されてもよいアルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−
ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカ
ルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモ
プロピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいア
ルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、
２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メチル−２−
ペンテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、
２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基
等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基
（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチル
ベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８
の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル
基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロペンチル
エチル基等）又は炭素数６〜１２の置換されてもよい芳
香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、
オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、
デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、ア
セチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェ
ニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）等があげら
れる。

【００６４】Ｒ¹¹の炭化水素基において、Ｒ¹¹が脂肪族
基の場合には好ましくは炭素数１〜５の炭化水素基を式
（Ｉ）で表わされる成分中の６０重量％以上含有するこ
とが好ましい。

【００６５】更に、該樹脂〔Ａ〕において、Ｂブロック
成分を構成する一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位の
一部又は全部が下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）
で示される、２位に、及び／又は２位と６位に特定の置
換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含
有する、特定の置換基をもつメタクリレート成分である
ことが好ましい（以降この低分子量体をとくに樹脂〔Ａ
Ａ〕と称する）。従ってＢブロック成分中下記一般式
（Ｉａ）及び（Ｉｂ）から選択される少なくとも１つの
繰り返し単位がＢブロック中３０重量％以上、特に５０
〜１００重量％含有されることが好ましい。

【００６６】

【化１９】

【００６７】

【化２０】

【００６８】〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹ 及びＡ
² は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＺ² 又は−
ＣＯＯＺ² （Ｚ² は炭素数１〜１０の炭化水素基を示
す）を表す。

【００６９】Ｂ¹ 及びＢ² はそれぞれ−ＣＯＯ−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数１〜４個の連
結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔ＡＡ〕を用いると樹
脂〔Ａ〕の場合よりもより一層電子写真特性（特に
Ｖ₁₀、Ｄ．Ｒ．Ｒ、Ｅ_1/10）の向上が達成できる。

【００７０】この事の理由は不明であるが、１つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。

【００７１】式（Ｉａ）において、好ましいＡ¹ 及びＡ
² として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数７〜９のアラ
ルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基
（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基）、並びに−ＣＯＯＺ² 及び−ＣＯＯ
Ｚ² （好ましいＺ² としては上記の炭素数１〜１０の好
ましい炭化水素基として記載したものを挙げることがで
きる）を挙げることができる。但し、Ａ¹ とＡ² がとも
に水素原子を表わすことはない。

【００７２】式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｂ¹ 及
びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ₂ ）_a −（ａは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−（Ｃ
Ｈ₂ ）_b −（ｂは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ₂ Ｃ
Ｈ₂ Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、
より好ましくは単結合又は結合原子数１〜２個の連結基
を挙げることができる。

【００７３】本発明の樹脂〔Ａ〕で用いられる式（Ｉ
ａ）又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。

【００７４】

【化２１】

【００７５】

【化２２】

【００７６】

【化２３】

【００７７】

【化２４】

【００７８】

【化２５】

【００７９】

【化２６】

【００８０】

【化２７】

【００８１】

【化２８】

【００８２】

【化２９】

【００８３】

【化３０】

【００８４】一方、樹脂〔Ｂ〕においては、 Ｂブロッ
ク成分は少なくとも前記一般式（II）で示される繰り返
し単位で示される重合体成分を含有する。該式（II）で
示される成分は好ましくはＢブロック成分中、３０〜１
００重量％、より好ましくは５０〜１００重量％含有さ
れる。

【００８５】一般式（II）で示される重合体成分におい
て、ａ¹ 及びａ² は各々水素原子、ハロゲン原子（例え
ば塩素原子、臭素原子等）、シアノ基又は炭素数１〜４
のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等）等を表す。特に、ａ¹ が水素原子を表
し、ａ² がメチル基を表す場合が好ましい。

【００８６】Ｒ¹²は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。更に具体的なＲ¹²
としては、前記式（Ｉ）で記載したＲ¹¹と同様のものを
挙げることができる。

【００８７】また、樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕のいずれ
においても、前記の特定の極性基を含有する重合成分か
ら成るＡブロックとは別に構成される該Ｂブロックにお
いて、前記式（Ｉ）｛好ましくは（Ｉａ）、（Ｉｂ）｝
又は前記式（II）で示される繰り返し単位は２種以上含
有されていてもよく、更にこれら以外の他の重合成分を
含有していてもよい。極性基を含有しないＢブロックに
おいて２種以上の重合成分が含有される場合には、該Ａ
Ｂブロック共重合成分は該Ｂブロック中においてランダ
ム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有され
ていてもよいが、ランダムに含有されることが好まし
い。但し、ブロックＢにおいては、ブロックＡで含有さ
れる特定の極性基含有成分を含有しないことを特徴とす
る。

【００８８】前記した式（Ｉ）又は（II）で示される繰
り返し単位から選ばれた重合成分とともにＢブロック中
に含有され得る他の重合成分は、これらと共重合する成
分であればいずれでもよい。

【００８９】例えば下記一般式（III)で示される繰り返
し単位が挙げられる。

【００９０】

【化３１】

【００９１】〔式（III)中、Ｖ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣ
Ｏ−、−（ＣＨ₂ ）_i ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ）_i ＣＯＯ
−、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯＮ（Ｒ²²）−、−ＳＯ
₂ Ｎ（Ｒ²²）−、−ＣＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−Ｃ
ＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす（ここで、
ｉは１又は２の整数を表わし、Ｒ²²は式（Ｉ）中のＲ¹¹
と同一の内容を表わす）。Ｒ¹³は式（Ｉ) 中のＲ¹¹と同
一の内容を表わす。

【００９２】Ｖ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等）等が挙げられる。

【００９３】ｄ¹ 及びｄ² は、互いに同じでも異なって
もよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素
数１〜８の炭化水素基、−ＣＯＯＺ³ 又は炭素数１〜８
の炭化水素基を介した−ＣＯＯＺ³ （ここでＺ³ は炭素
数１〜18の炭化水素基を表わす) を表わす。〕より好ま
しくは、ｄ¹ 及びｄ² は、互いに同じでも異なってもよ
く、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基（例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基等）、−ＣＯＯＺ³ 又は
−ＣＨ₂ ＣＯＯＺ³ （ここでＺ³ はより好ましくは炭素
数１〜１８のアルキル基又はアルケニル基を表わし、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、デ
セニル基等が挙げられ、これらアルキル基、アルケニル
基は前記Ｒ¹¹で示したと同様の置換基を有していてもよ
い) を表わす。

【００９４】更に含有され得るこれら以外の繰り返し単
位を構成する共重合成分として、例えば一般式（Ｉ）で
説明した以外の置換基を含有するメタクリル酸エステル
類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エステル類に加
え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸
エステル類（例えばカルボン酸として、酢酸、プロピオ
ン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸
等）、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、ビニル
エーテル類、イタコン酸エステル類（例えばジメチルエ
ステル、ジエチルエステル等）、アクリルアミド類、メ
タクリルアミド類、スチレン類（例えばスチレン、ビニ
ルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレン、
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシカル
ボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレン、ビ
ニルナフタレン等）、ビニルスルホン含有化合物、ビニ
ルケトン含有化合物、複素環ビニル類（例えばビニルピ
ロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニ
ルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテトラ
ゾール、ビニルオキサジン等）等が挙げられる。

【００９５】本発明の樹脂〔Ａ〕又は樹脂〔Ｂ〕で用い
られるＡＢブロック共重合体は、従来公知の重合反応法
によって製造することができる。具体的には、該特定の
極性基を含有する重合体成分に相当する単量体において
該極性基を予め保護した官能基としておき、有機金属化
合物（例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプロ
ピルアミド、アルキルマグネシウムハライド類等）もし
くはヨウ化水素／ヨウ素系等によるイオン重合反応、ポ
ルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応又はグルー
プ移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応で
ＡＢブロック共重合体を合成した後、極性基を保護した
官能基を加水分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応
又は光分解反応等によって脱保護反応を行ない、極性基
を形成させる方法が挙げられる。その１つの例を下記の
反応スキーム（１）に示した。

【００９６】

【化３２】

【００９７】これらは、例えば、Ｐ．Ｌｕｔｚ、Ｐ．Ｍ
ａｓｓｏｎ ｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．１
２．，７９（１９８４）、Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ、
Ｇ．Ｄ．Ａｎｄｒｅｗｓ ｅｔａｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ、１４、１６０１（１９８１）、Ｋ．Ｈａ
ｔａｄａ、Ｋ．Ｕｔｅ．ｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１
７、９７７（１９８５）、１８、１０３７（１９８
６）、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６、３６６
（１９８７）、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４
６、１８９（１９８９）、Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ、Ｔ．Ａｉ
ｄａ、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０９、４７３７
（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４
３、３００（１９８５）、Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇａｈ、Ｗ．
Ｒ．Ｈｅｒｔｌｅｒｅｔａｌ．Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕ
ｌｅｓ、２０、１４７３（１９８７）等に記載の合成方
法に従って容易に合成することができる。

【００９８】更に、ＡＢブロック共重合体は、極性基を
保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基
を含有する化合物及び／又はザンテート基を含有する化
合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合
成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、３
７，２４８（１９８８）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１９８８）、
特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号、東
信行等、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ、Ｊａｐ
ａｎ、３６、（６）、１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉ
ｗａ、Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｍａｃｒｏ
ｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４（５）、５６７（１
９８７）等に記載の合成方法に従って合成することがで
きる。

【００９９】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」（株）講談社刊
（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、「Ｐｒｏｔｅ
ｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏ
ｎｓ（１９８１年）、Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ、「Ｐ
ｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎ
ｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ、
（１９７３年）等の総説に詳細に記載されている方法を
適宜選択して行なうことができる。

【０１００】更には、ブロックＡはブロックＢのいずれ
かの部分を含有するアゾビス化合物（即ち、高分子アゾ
ビス開始剤）を合成し、これを開始剤として、他の一方
のブロックを形成するに相当する単量体類をラジカル重
合反応で合成する方法を用いることもできる。

【０１０１】具体的には、上田明、永井進、高分子論文
集、４４、４６９（１９８７）、上田明、大阪市立工業
研究所報告、８４（１９８９）等に記載された方法で合
成することができる。

【０１０２】本反応を利用して合成する場合には、高分
子アゾビス開始剤の合成のし易さ及びブロック化の重合
反応の規則性等から該高分子開始剤の重量平均分子量
は、２×１０⁴ 以下が好ましい。一方、本発明の樹脂
は、特に樹脂〔Ｂ〕において、ブロックＢの方がブロッ
クＡよりも高分子鎖が長い方が好ましい。

【０１０３】以上のことから、本反応で合成する場合、
ブロックＡ含有の高分子開始剤を用いる方法が好まし
い。例えば下記に示す様な反応スキーム（２）で反応す
ることができる。

【０１０４】

【化３３】

【０１０５】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量％を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。

【０１０６】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。

【０１０７】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅ ｅｔ
ａｌ、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。

【０１０８】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。

【０１０９】本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割
合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜
０．８／０．９５〜０．２０であることが好ましく、よ
り好ましくは０．１０〜０．５０／０．９０〜０．５０
である。

【０１１０】結着樹脂の総量比が１０重量部以下となる
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又１００重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。

【０１１１】又、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使
用割合において樹脂〔Ａ〕の重量比が０．０５以下にな
ると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方０．８
以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる
場合（特に電子写真式平版印刷用原版として）が生じ
る。

【０１１２】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。

【０１１３】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング１９７３（Ｎ
ｏ．８）第１２頁、Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡ Ｒ
ｅｖｉｅｗ １５、４６９（１０５４）、清田航平等、
電気通信学会論文誌Ｊ６３ −Ｃ（Ｎｏ．２）、９７
（１９８０）、原崎勇次等、工業科学雑誌６６７８及び
１８８（１９６３）、谷忠昭、日本写真学会誌３５、２
０８（１９７２）等の総説引例のカーボニウム系色素、
ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサ
ンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素（例
えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン
色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等）、フタロシ
アニン色素（金属を含有してもよい）等が挙げられる。

【０１１４】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。

【０１１５】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｍｅｒ 「Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉ
ｎｅＤｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕ
ｎｄ」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１
０，５９１号、同３，１２１，００８号、同３，１２
５，４４７号、同３，１２８，１７９号、同３，１３
２，９４２号、同３，６２２，３１７号、英国特許第
１，２２６，８９２号、同１，３０９，２７４号、同
１，４０５，８９８号、特公昭４８−７８１４号、同５
５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。

【０１１６】更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１
２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等、「細菌の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第４章〜第６章・日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。

【０１１７】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μ、特に１０〜５０μが好適である。

【０１１８】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは０．０１〜１μ、特に０．０５〜０．５
μが好適である。

【０１１９】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。

【０１２０】後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０
μ、特には、１０〜５０μに設定される。積層型感光体
の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オキ
サゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメタ
ン系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては５〜４
０μ、特には１０〜３０μが好適である。

【０１２１】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の
熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。

【０１２２】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。

【０１２３】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．１）
第２〜１１頁（１９７５）、森賀弘之、「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏｖｅ
ｒ，Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ−４
（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等に記
載されているもの等を用いる。

【０１２４】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。

【０１２５】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる（例えば、滝
沢九郎、「写真工業」３３、３４（１９７５年）、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告」７７、１７（１９
７７年）等に記載の方法）。

【０１２６】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。

【０１２７】

【実施例】以下に本発明の実施例を例示するが、本発明
の内容がこれらに限定されるものではない。 〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：〔Ａ−１〕 エチルメタクリレート９５ｇ及びテトラヒドロフラン２
００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−２０
℃に冷却した。１，１−ジフェニルブチルリチウム１．
５ｇを加え１２時間反応した。更に、この混合溶液に、
トリフェニルメチルメタクリレート５ｇ及びテトラヒド
ロフラン５ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した
後添加し、更に８時間反応した。この混合物を０℃にし
た後、メタノール１０mlを加え３０分間反応し、重合を
停止させた。得られた重合体溶液を攪拌下にて温度３０
℃とし、これに３０％塩化水素エタノール溶液３mlを加
え１時間攪拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量
が半分になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル１リ
ットル中に再沈した。

【０１２８】沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重
合体の重量平均分子量（Ｍｗ）８．５×１０³ で収量７
０ｇであった。

【０１２９】

【化３４】

【０１３０】樹脂〔Ａ〕の合成例２：〔Ａ−２〕 ｎ−ブチルメタクリレート４６ｇ、( テトラフェニルポ
ルフィナート)アルミニウムメチル０．５ｇ及び塩化メ
チレン６０ｇの混合溶液を窒素気流下にて温度３０℃と
した。これに３００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィ
ルターを通して２５cmの距離から光照射し、１２時間反
応した。この混合物に更に、ベンジルメタクリレート４
ｇを加え、同様に８時間光照射した後、この反応混合物
にメタノール３ｇを加えて３０分間攪拌し反応を停止さ
せた。次にこの反応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温度２５
℃で１時間接触還元反応を行なった。

【０１３１】不溶物を濾別した後石油エーテル５００ml
中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体
のＭｗ９．３×１０³ 、収量３３ｇであった。

【０１３２】

【化３５】

【０１３３】樹脂〔Ａ〕の合成例３：〔Ａ−３〕 ２−クロロ−６−メチルフェニルメタクリレート９０ｇ
及びトルエン２００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に
脱気し０℃に冷却した。次いで１，１−ジフェニル−３
−メチルペンチルリチウム２．５ｇを加え、６時間攪拌
した。更にこの混合物に４−ビニルフェニルオキシトリ
メチルシラン１０ｇを加え６時間攪拌した後、メタノー
ル３ｇを加えて３０分間攪拌した。

【０１３４】次にこの反応混合物に３０％塩化水素エタ
ノール溶液１０ｇを加え２５℃で１時間攪拌した後、石
油エーテル１リットル中に再沈し捕集した沈澱物をジエ
チルエーテル３００mlで２回洗浄し乾燥した。得られた
重合体のＭｗ７．８×１０³ 、収量５８ｇであった。

【０１３５】

【化３６】

【０１３６】樹脂〔Ａ〕の合成例４：〔Ａ−４〕 フェニルメタクリレート９５ｇ、ベンジルＮ，Ｎ−ジエ
チルジチオカーバメート４．８ｇの混合物を、窒素気流
下に容器に密閉し、温度６０℃に加温した。これに、４
００Ｗの高圧水銀灯で１０cmの距離からガラスフィルタ
ーを通して、１０時間光照射し光重合した。

【０１３７】これにアクリル酸５ｇ及びメチルエチルケ
トン１８０ｇを加えた後窒素置換し再び１０時間光照射
した。得られた反応物をヘキサン１．５リットルに再
沈、捕集し乾燥した。得られた重合体はＭｗ９．５×１
０³ 、収量６８ｇであった。

【０１３８】

【化３７】

【０１３９】樹脂〔Ａ〕の合成例５〜１９：〔Ａ−５〕
〜〔Ａ−１９〕 前記樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様にして下記表−Ａに示
す樹脂〔Ａ〕を合成した。各樹脂のＭｗは６×１０³ 〜
９．５×１０³ であった。

【０１４０】

【表１】

【０１４１】

【表２】

【０１４２】

【表３】

【０１４３】樹脂〔Ａ〕の合成例１９〜２３：〔Ａ−１
９〕〜〔Ａ−２３〕 前記樹脂〔Ａ〕の合成例４と同様にして下記表−Ｂに示
す樹脂〔Ａ〕を合成した。各樹脂のＭｗは８×１０³ 〜
１×１０⁴ であった。

【０１４４】

【表４】

【０１４５】〔樹脂〔Ｂ〕の合成〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例１：〔Ｂ−１〕 メチルメタクリレート１００ｇ及びテトラヒドロフラン
２００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−２
０℃に冷却した。１，１−ジフェニルブチルリチウム
０．８ｇを加え１２時間反応した。更に、この混合溶液
に、メチルアクリレート６０ｇ、トリフェニルメチルメ
タクリレート６ｇ及びテトラヒドロフラン５ｇの混合溶
液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、更に８時間
反応した。この混合物を０℃にした後、メタノール１０
mlを加え３０分間反応し、重合を停止させた。得られた
重合体溶液を攪拌下にて温度３０℃とし、これに３０％
塩化水素エタノール溶液３mlを加え１時間攪拌した。次
に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶媒
を留去した後、石油エーテル１リットル中に再沈した。
沈殿物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体のＭｗ
は７．３×１０⁴ で、収量７２ｇであった。

【０１４６】

【化３８】

【０１４７】樹脂〔Ｂ〕の合成例２：〔Ｂ−２〕 メチルメタクリレート７０ｇ、メチルアクリレート３０
ｇ、（テトラフェニルポルフィナート）アルミニウムメ
チル０．５ｇ及び塩化メチレン６０ｇの混合溶液を窒素
気流下にて温度３０℃とした。これに３００Ｗ−キセノ
ンランプ光をガラスフィルターを通して２５cmの距離か
ら光照射し、１２時間反応した。この混合物に更に、メ
チルアクリレート６０ｇ及びベンジルメタクリレート
３．２ｇを加え、同様に８時間光照射した後、この反応
混合物にメタノール３mlを加えて３０分間攪拌し反応を
停止させた。次にこの反応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温
度２５℃で１時間接触還元反応を行なった。

【０１４８】不溶物を濾別した後石油エーテル５００ml
中に再沈し、沈殿物を捕集し乾燥した。得られた重合体
は収量１１８ｇでＭｗ８×１０⁴ であった。

【０１４９】

【化３９】

【０１５０】樹脂〔Ｂ〕の合成例３：〔Ｂ−３〕 エチルメタクリレート１００ｇ及びトルエン２００ｇの
混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し０℃に冷却した。
次いで１，１−ジフェニル−３−メチルペンチルリチウ
ム２．５ｇを加え、６時間攪拌した。更にこの混合物に
メチルメタクリレート６０ｇ及び４−ビニルフェニルオ
キシトリメチルシラン４．６ｇを加え６時時間攪拌した
後、メタノール１リットル中に再沈し捕集した沈殿物を
メタノール３００mlで２回洗浄し乾燥した。得られた重
合体は、収量１２１ｇでＭｗ６．５×１０⁴ であった。

【０１５１】

【化４０】

【０１５２】樹脂〔Ｂ〕の合成例４：〔Ｂ−４〕 メチルメタクリレート６７ｇ及びベンジルＮ，Ｎ−ジエ
チルジチオカーバメート４．８ｇの混合物を、窒素気流
下に容器に密閉し、温度５０ｇに加温した。これに、４
００Ｗの高圧水水銀灯で１０cmの距離からガラスフィル
ターを通して、６時間光照射し光重合した。

【０１５３】これにメチルアクリレート３２ｇ、アクリ
ル酸１ｇ及びメチルエチルケトン１８０ｇを加えた後窒
素置換し、再び１０時間光照射した。得られた反応物を
メタノール１リットルに再沈、捕集し乾燥した。得られ
た重合体は、収量７３ｇでＭｗ４．８×１０⁴ であっ
た。

【０１５４】

【化４１】

【０１５５】樹脂〔Ｂ〕の合成例５：〔Ｂ−５〕 メチルメタクリレート５０ｇ、エチルメタクリレート２
５ｇ及びベンジルイソプルザンテート１．０ｇの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉し、温度５０℃に加温し
た。これに４００Ｗの高圧水銀灯で１０cmの距離からガ
ラスフィルターを通して６時間光照射し光重合した。

【０１５６】この重合物をテトラヒドロフランで濃度４
０％の溶液にし、これにメチルアクリレート２２ｇを加
えて窒素置換し再び１０時間光照射した。次にこの混合
物に２−（２′−カルボキシエチル）カルボニルオキシ
エチルメタクリレート３ｇを加えて再び窒素置換し再び
８時間光照射した。

【０１５７】得られた反応物を、メタノール２リットル
中に再沈し、捕集した粉末を乾燥した。得られた重合体
は収量６３ｇでＭｗ６×１０⁴ であった。

【０１５８】

【化４２】

【０１５９】樹脂〔Ｂ〕の合成例６：〔Ｂ−６〕 エチルアクリレート９７ｇ、メタクリル酸３ｇ、２−メ
ルカプトエタノール２ｇ及びテトラヒドロフラン２００
ｇの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度６０℃に加
温した。これに、２，２′−アゾビスイソバレロニトリ
ル（Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．）１．０ｇを加え４時間反応し、
更にＡ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．０．５ｇを加え４時間反応した。

【０１６０】この反応混合物を温度２０℃にした後、
４，４′−アゾビス（シアノ吉草酸）８．６ｇ、ジシク
ロヘキシルジカルボジイミド１２ｇ、４−（Ｎ，Ｎ−ジ
メチル）ピリジル０．２ｇ及びテトラヒドロフラン３０
ｇの混合溶液を１時間で滴下した。そのまま更に２時間
攪拌した後、８５％ギ酸水溶液を５ｇ加えて更に３０分
間攪拌した。次に析出した結晶を濾別後、濾液を温度２
５℃で溶媒を減圧下に留去した。得られた下記構造の重
合体（高分子開始剤）のＭｗは６．３×１０³ であっ
た。

【０１６１】

【化４３】

【０１６２】メチルメタクリレート７０ｇ及びトルエン
１７０ｇの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度７０
℃に加温した。これに、上記重合体３０ｇをトルエン３
０ｇに溶解した溶液を予かじめ窒素置換した後、加え
て、８時間反応した。得られた重合体をメタノール２リ
ットル中に再沈し、補集した粉末を乾燥した。得られた
重合体は収量７２ｇでＭｗ４×１０⁴ であった。

【０１６３】

【化４４】

【０１６４】樹脂〔Ｂ〕の合成例７〜１６：〔Ｂ−７〕
〜〔Ｂ−１６〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例３と同様の反応方法で、下記表−Ｃ
に示す樹脂〔Ｂ〕を合成した。得られた共重合体のＭｗ
は５×１０⁴ 〜９×１０⁴ の範囲であった。

【０１６５】

【表５】

【０１６６】

【表６】

【０１６７】

【表７】

【０１６８】樹脂〔Ｂ〕の合成例１７〜２３：〔Ｂ−１
７〕〜〔Ｂ−２３〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例４と同様の反応方法で、下記表ーＤ
に示す樹脂〔Ｂ〕を合成した。得られた共重合体のＭｗ
は４×１０⁴ 〜８×１０⁴ の範囲であった。

【０１６９】

【表８】

【０１７０】

【表９】

【０１７１】実施例１並びに比較例１及び比較例２ 樹脂〔Ａ−５〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
１〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のシアニン色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ、無
水フタル酸０．１５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を
ホモジナイザー（日本精機（株）製）中、回転数６×１
０³ ｒｐｍで１０分間分散して、感光層形成物を調製
し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が２２ｇ／ｍ
² となる様にワイヤバーで塗布し、１１０℃で１０秒間
乾燥し、ついで暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下で２
４時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。

【０１７２】

【化４５】

【０１７３】比較例１ 実施例１において、樹脂〔Ｂ−１〕３４ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−１〕３４ｇを用いた他は、実施例１
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１７４】

【化４６】

【０１７５】比較例２ 実施例１において、樹脂〔Ｂ−１〕３４ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−２〕とした他は、実施例１と同様に
操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１７６】

【化４７】

【０１７７】これらの感光材料について、静電特性、撮
像性並びに環境条件（２０℃、６５％ＲＨ）、（３０
℃、８０％ＲＨ）及び（１５℃、３０％ＲＨ）とした時
の撮像性を調べた。

【０１７８】以上の結果を表−Ｅに示す。

【０１７９】

【表１０】

【０１８０】表−Ｅに示した評価項目の実施の態様は以
下通りである。 注１）静電特性：温度２０℃、６５％ＲＨの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー（川口電機（株）製
ペーパーアナライザーＳＰ−４２８型）を用いて−６ｋ
Ｖで２０００００ナ放電させた後、１０秒間放置し、こ
の時の表面電位Ｖ₁₀を測定した。次いでそのまま暗中で
９０秒間静置させた後の電位Ｖ₁₀₀ を測定し、９０秒間
暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率
〔ＤＲＲ（％）〕を（Ｖ₁₀₀ ／Ｖ₁₀）×１００（％）で
求めた。

【０１８１】又コロナ放電により光導電層表面を−４０
０Ｖに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）
光で照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０に減衰するま
での時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10（ｅｒｇ／ｃｍ
² ）を算出する。測定時の環境条件は、２０℃６５％Ｒ
Ｈ（Ｉ）、３０℃８０％ＲＨ（II）及び１５℃３０％Ｒ
Ｈで行なった。 注２）撮像性：各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放
置した後、各感光材料を−６ｋＶで帯電し、光源として
２．８ｍＷ出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導
体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）を用いて、感光材料
表面上で６４ｅｒｇ／ｃｍ² の照射量下、ピッチ２５μ
ｍ及びスキャンニング速度３００ｍ／ｓｅｃのスピード
露光後液体現像剤として、ＥＬＰ−Ｔ（富士写真フィル
ム（株）製）を用いて現像し、イソパラフィンアイソパ
ーＧ（エッソ化学（株）製）溶媒のリンス液で洗浄後定
着することで得られた複写画像（カブリ、画像の画質）
を目視評価した。

【０１８２】撮像時の環境条件は２０℃６５％ＲＨ
（Ｉ）、３０℃８０％ＲＨ（II）及び１５℃３０％ＲＨ
で実施した。表−Ｅに示す様に、本発明の感光材料は、
環境条件が変動しても静電特性が良好で、実際の複写画
像も地カブリがなく複写画質も鮮明であった。一方、比
較例１及び２は、常温常湿（Ｉ）の条件下では良好な撮
像性を示したが、高温高湿（II）の条件下では、静電特
性とは必ずしも対応しないが、高精細な複写画稿である
複写原稿の連続階調部分の中間濃度でのムラの発生が生
じてしまった。

【０１８３】また、リンス処理した後でも微かな地かぶ
りが除去されずに残存してしまった。更に、低温低湿
（III)の条件下では、ベタ画像部に無秩序に微小な白ヌ
ケのムラの発生を生じてしまった。

【０１８４】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ静電特性及び撮像性（特に０精細な画像）を満
足する電子写真感光体が得られ、特に半導体レーザー光
スキャンニング露光方式の感光体システムに優位になる
ことが明らかとなった。 実施例２並びに比較例３及び比較例４ 樹脂〔Ａ−２１〕５ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３５ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素（II）０．０２０ｇ、Ｎ−
ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及びトルエン３０
０ｇの混合物を、実施例１と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。

【０１８５】

【化４８】

【０１８６】比較例３ 実施例２において、樹脂〔Ｂ−２〕３５ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−３〕３５ｇを用いた他は、実施例２
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１８７】

【化４９】

【０１８８】比較例４ 実施例２において、樹脂〔Ｂ−２〕３５ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−４〕３５ｇを用いた他は、実施例２
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１８９】

【化５０】

【０１９０】各感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、光
導電層の機械的強度、静電特性、撮像性、及び環境条件
を３０℃、８０％ＲＨと１５℃、３０％ＲＨとした時の
静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式平版印刷
用原版として用いた時の印刷性を調べた。その結果を表
−Ｆに示す。

【０１９１】

【表１１】

【０１９２】表−Ｆに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注３）表面層の平滑性：得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機（熊谷理工（株）製）を用い、空気容量１ｃ
ｃの条件にて、その平滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定し
た。 注４）光導電層の機械的強度：得られた感光材料表面を
ヘイドン−１４型表面性試験材（新東化学（株）製）を
もちいて荷重７５ｇ／cm² のものでエメリー紙（＃１０
００）で１０００回繰り返し探り磨耗粉を取り除き感光
層の重量減少から残膜率（％）を求め機械的強度とし
た。 注５）生版保水性：各感光材料（製版しないもの）を不
感脂化処理液ＥＰＬ−ＥＸ（富士写真フィルム（株）
製）を蒸留水で５倍に希釈した溶液を用いて、エッチン
グプロセッサーに２回通して光導電層面を不感脂化処理
した後、湿し水として蒸留水を用いて、オフセット印刷
機（（株）浜田印刷機械製造所製６１１ＸＬＡ−II型）
にかけ、刷り出しから５０枚目の印刷物の地汚れの程度
を目視で評価した（不感脂化処理された原版の保水性の
度合いを調べる強制条件に相当）。 注６）耐刷性：前記注２）の撮像性と同条件にして製版
して、トナー画像を形成した後、ＥＬＰ−ＥＸを用いて
エッチングプロセッサーに２回通して不感脂化処理し、
これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
（桜井製作所（株）製オリバー５２型）にかけ、印刷物
の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じない
で印刷できる枚数を示す（印刷枚数が多い程、印刷性が
良好なことを表わす）。

【０１９３】表−Ｆに示す様に、本発明の感光材料は、
光導電層の平滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好
で、実際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明で
あった。このことは光導電体と結着樹脂が充分に吸着
し、且つ、粒子表面を被覆していることによるものと推
定される。同様の理由で、オフセットマスター原版とし
て用いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化処理が
充分に進行し、強制条件での保水性を評価しても充分に
親水化され、インキ付着が全く認められなかった。実際
に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れは全く認
められず、鮮明な画質の印刷物が１万枚得られた。

【０１９４】一方、比較例３及び比較例４は、撮像時の
条件が過酷になると、非画像部に微かではあるが地汚れ
が発生し、また光精細な連続階調部でムラの発生あるい
ベタ画像部の白ムケムラ等の問題を生じた。

【０１９５】またオフセットマスター原版として不感脂
化処理した生版保水性はインキ付着が現れた。実際の印
刷性も４〜６千枚止まりであった。以上の事は、本発明
の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互
作用し、不感脂化処理液による不感脂化反応が容易に且
つ充分に進行し易すい状態を形成している事及び樹脂
〔Ｂ〕の働きによる膜強度の著しい向上を達成している
ことを示すものである。 実施例３〜２２ 実施例２における樹脂〔Ａ−２１〕及び樹脂〔Ｂ−２〕
に代えて、下記表−Ｇの各樹脂〔Ａ〕及び各樹脂〔Ｂ〕
に代えた他は、実施例２と同様に操作して、各電子写真
感光体を作製した。

【０１９６】

【表１２】

【０１９７】各感光材料の静電特性及び撮像性を実施例
１と同様にして測定した。いづれの感光材料も静電特性
は良好であった。これらの感光材料の実際の撮像性を調
べた所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生
もなく、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得
られた。

【０１９８】また、オフセットマスター原版として用い
て、実施例２と同様にして印刷したところ、いづれも少
なくとも１万枚以上良好に印刷することができた。以上
のことから、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。 実施例２３〜２６ 実施例１において用いたメチン色素〔Ｉ〕の代わりに下
記表−Ｈの色素に代えた他は実施例１と同様の条件で電
子写真感光体材料を作製した。

【０１９９】

【表１３】

【０２００】

【表１４】

【０２０１】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿（３０℃、８０％ＲＨ）及び低温低湿（１５℃、３０
％ＲＨ）の過酷な条件においても、地カブリの発生のな
い、鮮明な画像を与えた。実施例２７及び２８並びに比
較例５樹脂〔Ａ−１〕（実施例２７）又は樹脂〔Ａ−
７〕（実施例２８）のいずれか６．５ｇ、樹脂〔Ｂ−２
３〕３３．５ｇ、酸化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２
ｇ、下記構造のメチン色素（VII)０．０３ｇ、下記構造
のメチン色素（VIII）０．０３ｇ、ｐ−ヒドロキシ安息
香酸０．１８ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホモジ
ナイザー中で回転数７×１０³ ｒｐｍで１０分間分散し
て感光層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾
燥付着量が２５ｇ／ｍ² となる様にワイヤ−バーで塗布
し、１１０℃で２０秒間乾燥した。次いで暗所で２０
℃、６５％ＲＨの条件下で２４時間放置することにより
各電子写真感光体を作製した。

【０２０２】

【化５１】

【０２０３】

【化５２】

【０２０４】比較例５ 実施例２７における樹脂〔Ｂ−２３〕の代わりに、下記
構造の樹脂〔Ｒ−５〕３３．５ｇを用いた他は、実施例
２７と同様にして、感光材料を作製した。

【０２０５】

【化５３】

【０２０６】実施例１と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Ｉにまとめた。

【０２０７】

【表１５】

【０２０８】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は実施例１と同様の操
作で行なった。 注７）静電特性のＥ_1/10の測定方法：コロナ放電により
光導電層表面を−４００Ｖに帯電させた後、該光導電層
表面を照度２．０ルックスの可視光で照射し、表面電位
（Ｖ₁₀）が１／１０に減衰するまでの時間を求め、これ
から露光量Ｅ_1/10（ルックス・秒）を算出する。 注８）撮像性：各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放
置した後、全自動製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フ
ィルム（株）製）でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製
版して得られた複写画像（カブリ、画像の画質）を目視
評価した。撮像時の環境条件は２０℃６５％ＲＨ
（Ｉ）、３０℃８０％ＲＨ（II）及び１５℃３０％ＲＨ
（III)で実施した。但し、複写用の原稿（即ち、版下原
稿）には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込みを行なっ
て作成したものを用いた。

【０２０９】本発明の感光材料はいづれも光導電層の機
械的強度は良好であったが、比較例５はこれに比べて低
下した。静電特性は、常温常湿（Ｉ）ではいづれも良好
な性能を示したが、特に低温低湿ではＥ_1/10が低下し
た。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更に、
特定の置換基を有する樹脂〔ＡＡ〕を用いた実施例２８
は、非常に良好であり、特にＥ_1/10の値が小さくなっ
た。

【０２１０】実際の撮像性を調べて見ると、比較例５
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠（即ち、貼り込み跡）が非画像部の地汚れとし
て認められた。更に、撮像時の環境条件が高温高湿（I
I）、低温低湿（III)下で複写画像の連続階調部の中間
調域にムラの発生、ベタ画像部の白ヌケの微小のムラの
発生等がみられた。しかし、本発明のものは、いずれ
も、地汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。

【０２１１】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が１万枚得られた。
しかし、比較例５は、上記の貼り込み跡が、不感脂化処
理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生してしま
った。

【０２１２】以上から、本発明の各感光材料は光導電層
の平滑性、膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点にお
いて良好なものであった。さらに、樹脂〔ＡＡ〕を用い
ることにより静電特性がさらに向上することが判った。 実施例２９ 樹脂〔Ａ−２３〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−２２〕３５ｇ、酸
化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズベンガル
０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３ｇ、無水
フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、
実施例２７と同様に以下操作して、感光材料を作成し
た。本発明の感光材料を実施例２７と同様に操作して各
性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保持率、光感
度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿（３０℃、−８
０％ＲＨ）及び低温低湿（１５℃、３０％ＲＨ）の過酷
な条件においても、地カブリの発生のない、鮮明な画像
を与えた。

【０２１３】更に、これをオフセットマスターの原版と
して用いて印刷した所、１万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。 実施例３０〜５３ 実施例２９において、樹脂〔Ａ−２３〕５ｇ及び樹脂
〔Ｂ−２２〕３５ｇの代わりに、下記表−Ｊの樹脂
〔Ａ〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ〕３５ｇを用いた他は、実施例
２９と同様にして各感光材料を作製した。

【０２１４】

【表１６】

【０２１５】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
（３０℃、８０％ＲＨ）及び低温低湿（１５℃、３０％
ＲＨ）の過酷な条件においても地カブリの発生や細線飛
びの発生等のない鮮明な画像を与えた。

【０２１６】更にオフセットマスター原版として印刷し
た所、１万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。

【０２１７】

【発明の効果】本発明によれば、静電特性（とくに厳し
い条件下での静電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。

【０２１８】式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で示される特定の
メタクリレート成分を含有する繰り返し単位を本発明の
樹脂に用いることにより、更に静電特性が向上する。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
   樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
   光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔Ａ〕の少なく
   とも１種及び下記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有し
   て成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³ 〜２×１０⁴ の重量平均分子量を有し、−Ｐ
   Ｏ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃ Ｈ基、フェノール
   性ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ ｛Ｒ¹は炭化水素基
   又は−ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を示す）基を示す｝基
   及び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも１つ
   の極性基を含有する少なくとも１つの重合体成分から成
   るＡブロックと下記一般式（Ｉ）で示される重合体成分
   を少なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢ
   ブロック共重合体。 【化１】 〔式（Ｉ）中、Ｒ¹¹は炭化水素基を表す。〕 樹脂〔Ｂ〕 ２×１０⁴ 〜１×１０⁶ の重量平均分子量を有し、−Ｐ
   Ｏ₃ Ｈ₂ 基、−ＳＯ₃ Ｈ基、−ＣＯＯＨ基、−Ｐ（＝
   Ｏ)(ＯＨ）Ｒ³ Ｒ³ は上記Ｒ¹と同様の意味を表す) 基
   及び環状酸無水物基から選択される少なくとも１種の極
   性基を含有する少なくとも１つの重合体成分を含有する
   ことから成るＡブロックと下記一般式（II）で示される
   重合体成分を少なくとも含有するＢブロックとから構成
   されるＡＢブロック共重合体。 【化２】 〔式（II）中、ａ¹ 、ａ² は各々水素原子、ハロゲン原
   子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｒ¹²は炭化水素基
   を表す。〕
2. 【請求項２】 上記樹脂〔Ａ〕が、一般式（Ｉ）で示さ
   れる共重合体成分として下記一般式（Ｉａ）及び下記一
   般式（Ｉｂ）で示されるアリール基含有のメタクリレー
   ト成分のうちの少なくとも１つを含有することを特徴と
   する請求項１記載の電子写真感光体。 【化３】 【化４】 〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹ 及びＡ² は互いに独
   立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、塩素
   原子、−ＣＯＺ² 又は−ＣＯＯＺ² （Ｚ² は炭素数１〜
   １０の炭化水素基を表す）を表し、Ｂ¹ 及びＢ² は各々
   −ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子
   数１〜４個の連結基を表す。〕
3. 【請求項３】 上記樹脂〔Ｂ〕において、全共重合体中
   に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
   記樹脂〔Ａ〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
   分の総量に対し１０重量％〜５０重量％であることを特
   徴とする請求項１又は２記載の電子写真感光体。