JPH012003A - Metal-based dichroic reflector - Google Patents
Metal-based dichroic reflectorInfo
- Publication number
- JPH012003A JPH012003A JP62-158257A JP15825787A JPH012003A JP H012003 A JPH012003 A JP H012003A JP 15825787 A JP15825787 A JP 15825787A JP H012003 A JPH012003 A JP H012003A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal
- base material
- film
- dichroic
- dichroic reflector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、主として照明器具に使用されるダイクロイ
ック反射鏡に関するものであり、さらに詳しくは、使用
中にランプより放熱される輻射熱を効率良く反射鏡の後
方に放射して反射鏡の温度上昇を防止する技術に関する
ものである。[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] This invention relates to a dichroic reflector mainly used in lighting equipment. This technology relates to a technology that prevents the temperature of a reflecting mirror from rising by emitting heat.
白熱灯やハロゲンランプを光源とした照明器具では、こ
れら光源より放射される不必要な赤外線が人体に不快感
を与え、被照射物に熱損傷を与える、と言う難点があっ
た。Lighting equipment using incandescent lamps or halogen lamps as a light source has the disadvantage that unnecessary infrared rays emitted from these light sources cause discomfort to the human body and cause thermal damage to objects to be irradiated.
このような難点を解消するため、ガラス基材表面に、屈
折率の互いに異なる2種の誘電体薄膜を交互に積層形成
してなるダイクロイック膜が形成されたダイクロイック
反射鏡が用いられている。In order to overcome these difficulties, a dichroic reflector is used in which a dichroic film formed by alternately laminating two types of dielectric thin films having different refractive indexes is formed on the surface of a glass substrate.
このダイクロイック反射鏡の表面に形成されたダイクロ
イック膜は、光源より出る赤外線を選択的に透過し、可
視光線のみを反射するようにしたもので、それにより、
照射光線中の赤外線を除去してその害を軽減するもので
ある。また、このダイクロイック膜によれば、反射光の
色をある程度調節することも可能である。The dichroic film formed on the surface of this dichroic reflector selectively transmits infrared rays emitted from the light source and reflects only visible rays.
It removes infrared rays from the irradiated light to reduce its harmful effects. Further, according to this dichroic film, it is also possible to adjust the color of reflected light to some extent.
ところが、このようなダイクロイック反射鏡は、前述し
たように、赤外線を透過する必要から基材がガラスでで
きており、ti械的、熱的衝撃に弱く、破損し易い、重
い等の問題がある。また、ガラスは成形条件が難しく、
(イ) 高温での成形が必要で金型が長持ちしない、
(ロ) 比較的簡単な形状に限定される、等の問題もあ
る。However, as mentioned above, the base material of such dichroic reflectors is made of glass because they need to transmit infrared rays, so they have problems such as being vulnerable to mechanical and thermal shocks, being easily damaged, and being heavy. . In addition, the molding conditions for glass are difficult;
(b) There are also problems such as being limited to relatively simple shapes.
そこで、これらの欠点を改良するため、アルミニウム等
の金属を基材とするダイクロイック反射鏡が開発された
。このものは、金属基材の表面に塗装あるいは蒸着等の
方法によって赤外線吸収層を形成し、さらにその上に上
記ダイクロイック膜を形成してなるものである。従来の
ガラス基材では透過して放出していた赤外線を、この金
属基材によるダイクロイック反射鏡では、前記赤外線吸
収層で吸収して照射光中より除去するようになっており
、基材として、成形加工が容易で軽量、かつ、衝撃に強
い金属を使用できるため、上記問題は解決する。Therefore, in order to improve these drawbacks, a dichroic reflector using a metal such as aluminum as a base material was developed. This is made by forming an infrared absorbing layer on the surface of a metal base material by a method such as painting or vapor deposition, and further forming the above-mentioned dichroic film thereon. In the dichroic reflector made of this metal base, the infrared rays that are transmitted and emitted by conventional glass base materials are absorbed by the infrared absorbing layer and removed from the irradiated light. The above problem is solved because a metal that is easy to mold, lightweight, and strong against impact can be used.
しかし、このような金属基材による反射鏡では赤外線を
赤外線吸収層により吸収して放出しないため、使用時に
おける反射鏡自体の温度上昇が問題となる。このように
反射鏡の温度が上昇すると、光源たるランプのコード等
が熱により破壊される、と言う問題が発生する。このた
め、このような金属基材による反射鏡では、リード線等
の部品が反射鏡に接触しないよう、照明器具の設計にお
いて特別な配慮が必要となる。However, in such a reflecting mirror made of a metal base material, infrared rays are absorbed by the infrared absorbing layer and are not emitted, so that the temperature of the reflecting mirror itself increases during use. When the temperature of the reflector increases in this way, a problem arises in that the cord of the lamp, which is the light source, is destroyed by the heat. For this reason, with such a reflecting mirror made of a metal base material, special consideration must be taken in designing the lighting fixture so that parts such as lead wires do not come into contact with the reflecting mirror.
また、反射鏡の温度上昇に伴う熱により基材表面の各層
が基材から剥離してしまう、と言う問題もある。There is also the problem that each layer on the surface of the base material peels off from the base material due to the heat accompanying the temperature increase of the reflecting mirror.
この発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、
基材として加工の容易なアルミニウム等の金属を使用す
ることができ、しかも、使用時に温度上昇することがな
く、不必要な赤外線を効率良くカットして可視光を効率
良く反射できる金属ベースダイクロイック反射鏡を提供
することを目的としている。This invention was made in view of the above circumstances, and
Metal-based dichroic reflection allows the use of easily processable metals such as aluminum as the base material, does not cause temperature rise during use, efficiently cuts unnecessary infrared rays, and efficiently reflects visible light. The purpose is to provide a mirror.
上記目的を達成するため、この発明は、金属基材上に、
屈折率の互いに異なる2種の誘電体薄膜を交互に積層形
成してなるダイクロイック膜が形成された金属ベースダ
イクロイック反射鏡であって、前記金属基材が、その表
裏両面に赤外線吸収層を有するものであることを特徴と
する金属ベースダイクロイック反射鏡を要旨としている
。In order to achieve the above object, the present invention provides, on a metal base material,
A metal-based dichroic reflector on which a dichroic film is formed by alternately laminating two types of dielectric thin films with different refractive indexes, the metal base material having infrared absorbing layers on both the front and back surfaces thereof. The gist is a metal-based dichroic reflector that is characterized by:
以下に、この発明を、その一実施例をあられす図面を参
照しつつ、詳しく説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
第1図にみるように、この実施例の金属ベースダイクロ
イック反射鏡は、光源たるランプLを中央に保持する略
碗形の金属基材1の表裏両面に赤外線吸収層2.2が形
成され、表側(碗の内側)の赤外線吸収層2の上にダイ
クロイック膜3が積層形成されてなるものである。As shown in FIG. 1, the metal-based dichroic reflector of this embodiment has infrared absorbing layers 2.2 formed on both the front and back surfaces of a substantially bowl-shaped metal base 1 that holds a lamp L as a light source in the center. A dichroic film 3 is laminated on an infrared absorbing layer 2 on the front side (inside the bowl).
金属基材1としては、加工性等の点から、アルミニウム
やその合金等が好ましく用いられる。As the metal base material 1, aluminum, an alloy thereof, or the like is preferably used from the viewpoint of workability and the like.
金属基材1は、従来同様、これら金属の板材をプレス成
形等の加工法で加工することで得られる、もちろん、プ
レス成形以外の方法で作成することもできる。The metal base material 1 is obtained by processing these metal plate materials by a processing method such as press molding, as in the past, but of course, it can also be created by a method other than press molding.
金属基材1の表裏両面に形成される、赤外線吸収率の高
い物質からなる赤外線吸収層2.2は、従来の金属基材
による反射鏡に使用されていたものと同様でよい、すな
わち、赤外線吸収層2としては、従来同様、AItos
、NiO、Cu*0SSiOtx Zr01およびS
now等の*膜が使用される。金属基材lの両面に形成
される赤外線吸収層は同じであってもよいし、互いに異
なっていてもよい。The infrared absorbing layer 2.2 formed on both the front and back surfaces of the metal base material 1 and made of a substance with high infrared absorption rate may be the same as that used in a conventional reflecting mirror made of a metal base material. As the absorption layer 2, AItos is used as before.
, NiO, Cu*0SSiOtx Zr01 and S
*Membranes such as now are used. The infrared absorbing layers formed on both sides of the metal base material 1 may be the same or may be different from each other.
赤外線吸収層2の形成方法は特に限定されず、これら材
料からなる薄膜を形成する通常の方法が採用される。た
とえば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレー
ティング法等の物理的蒸着法やCVD法等の化学的蒸着
法を用いるようであってもよいし、焼成により上記金属
酸化物となる有機金属化合物の塗膜を金属基材1表面に
形成し、焼成して上記金属酸化物の薄膜を得る方法を用
いるようであってもよい、また、金属基材1と赤外線吸
収層2の金属が同じである場合には、基材1表面を化学
的、あるいは、物理的に酸化させることでも赤外線吸収
層2を得ることができる。The method for forming the infrared absorbing layer 2 is not particularly limited, and a normal method for forming a thin film made of these materials may be employed. For example, a physical vapor deposition method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion blating method, or a chemical vapor deposition method such as a CVD method may be used, or an organic metal compound that becomes the metal oxide by baking may be used. A method may be used in which a coating film is formed on the surface of the metal base material 1 and fired to obtain a thin film of the metal oxide, and the metal of the metal base material 1 and the infrared absorbing layer 2 are the same. In some cases, the infrared absorbing layer 2 can also be obtained by chemically or physically oxidizing the surface of the base material 1.
赤外線吸収層2の膜厚は、この発明では特に限定されな
いが、1〜10x程度の範囲内であることが好ましい。Although the film thickness of the infrared absorbing layer 2 is not particularly limited in the present invention, it is preferably within the range of about 1 to 10x.
なぜなら、膜厚が1μ未満では、充分な赤外線吸収効果
が得られず、10mを超えると、基材1と赤外線吸収層
2との、あるいは、赤外線吸収層2とダイクロイック膜
3との間の密着性が著しく低下する恐れがあるからであ
る。This is because if the film thickness is less than 1μ, a sufficient infrared absorption effect cannot be obtained, and if it exceeds 10m, there will be no close contact between the base material 1 and the infrared absorption layer 2, or between the infrared absorption layer 2 and the dichroic film 3. This is because there is a risk that sexual performance may be significantly reduced.
赤外線吸収層2となる上記化合物は、言うまでもなく赤
外線の吸収率が高いものであるが、このことは、すなわ
ち、これら化合物が赤外線の放射率の高いものであるこ
とをも意味する。この発明は、上記化合物の、この特性
を利用したものである。すなわち、ダイクロイック膜3
の下に形成された赤外線吸収N2で従来同様に赤外線を
吸収し、それを、基材1の反対側に形成された赤外線吸
収N2により放出し、基材1の温度上昇を防ぐのである
。Needless to say, the above-mentioned compounds forming the infrared absorbing layer 2 have a high infrared absorption rate, but this also means that these compounds have a high infrared emissivity. This invention utilizes this property of the above compound. That is, the dichroic film 3
The infrared absorbing layer N2 formed under the base material 1 absorbs infrared rays as in the conventional case, and the infrared absorbing material N2 formed on the opposite side of the base material 1 emits the infrared rays, thereby preventing the temperature of the base material 1 from rising.
一方の赤外線吸収層2の上に形成されるダイクロイック
膜3は、従来と同じものでよい。The dichroic film 3 formed on one of the infrared absorbing layers 2 may be the same as the conventional one.
すなわち、Ties、Cent、 Zr0t等の金属酸
化物やZnS等からなる高屈折率の誘電体薄膜(屈折率
n−2,0〜2.6程度)と、5iO−1Al*Ot等
の金属酸化物やCaFz、 MgF*等の金属フッ化物
等からなる低屈折率の誘電体薄膜(屈折率n = 1.
3〜1.6)を交互に積層成形してなるものが使用され
る。両店電体薄膜は、目的とする波長λの1/4すなわ
ち、λ/4程度の膜厚を有していればよい。That is, a high refractive index dielectric thin film (refractive index n-2, about 0 to 2.6) made of metal oxides such as Ties, Cent, ZrOt, etc. and ZnS, and metal oxides such as 5iO-1Al*Ot. A dielectric thin film with a low refractive index (refractive index n = 1.
3 to 1.6) are alternately laminated and molded. It is sufficient that the two electric conductor thin films have a thickness of about 1/4 of the target wavelength λ, that is, about λ/4.
これら薄膜は、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法等の物理的蒸着法やCVD
法等の化学的蒸着法により形成することができる。また
、焼成により上記誘電体となる有機金属化合物の塗膜を
金属基材1表面に形成し、焼成して上記誘電体の薄膜を
得る方法を用いるようであってもよい。These thin films can be formed by, for example, physical vapor deposition methods such as vacuum evaporation, sputtering, and ion blating, or CVD.
It can be formed by a chemical vapor deposition method such as a method. Alternatively, a method may be used in which a coating film of an organometallic compound that becomes the dielectric is formed on the surface of the metal base material 1 by firing, and then the thin film of the dielectric is obtained by firing.
形成にあたっては、基材を室温以上に加熱するようであ
ってもよい、一般に、基材温度が高ければ高い程、形成
される薄膜の硬度は高く、その耐久性も向上するからで
ある。しかし、あまり基材温度が高すぎると、作業性、
生産性等が悪くなる恐れがある。したがって、基材温度
は、室温〜300℃程度であることが好ましい。During the formation, the substrate may be heated above room temperature, because generally speaking, the higher the substrate temperature, the higher the hardness of the formed thin film and the better its durability. However, if the base material temperature is too high, workability may deteriorate.
Productivity, etc. may deteriorate. Therefore, the substrate temperature is preferably about room temperature to 300°C.
以上のような、この発明のダイクロイック反射鏡によれ
ば、従来の金属基材反射鏡が備える特徴、すなわち、軽
量で加工が容易であり、しかも、機械的、熱的衝撃にも
強く複雑な形状を形成できる、と言う利点はそのままで
、しかも、使用時にも温度上昇することのない金属基材
ダイクロイック反射鏡を得ることができるようになる。As described above, the dichroic reflector of the present invention has the characteristics of conventional metal-based reflectors, namely, it is lightweight and easy to process, and is resistant to mechanical and thermal shocks and has a complex shape. It is now possible to obtain a metal-based dichroic reflector that maintains the advantage of being able to form a dichroic mirror without increasing its temperature during use.
このため、設計にあたり、この温度上昇に対する特別の
配慮をする必要はなくなるし、基材表面の各層が熱によ
り破壊される恐れも全くなくなってしまうなお、これま
では、この発明の金属ベースダイクロイック反射鏡につ
いて、上記実施例にもとづいてのみ説明してきたが、こ
の発明は上記実施例に限定されるものではない。Therefore, there is no need to take special consideration to this temperature rise when designing, and there is no fear that each layer on the surface of the base material will be destroyed by heat. Although the mirror has been described only based on the above embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments.
たとえば、基材1の形状は図の腕形に限定されないし、
ダイクロイック膜の層数も図の実施例には限定されない
。ダイクロイック反射鏡の用途は照明器具に限定されな
い。For example, the shape of the base material 1 is not limited to the arm shape shown in the figure,
The number of dichroic film layers is also not limited to the illustrated embodiment. The use of dichroic reflectors is not limited to lighting equipment.
要するに、金属基材上に、屈折率の互いに異なる2種の
誘電体薄膜を交互に積層形成してなるダイクロイック膜
が形成された金属ベースダイクロイック反射鏡であって
、前記金属基材が、その表裏両面に赤外線吸収層を有す
るのであれば、その他の構成は特に限定されないのであ
る。In short, it is a metal-based dichroic reflector in which a dichroic film is formed by alternately laminating two types of dielectric thin films having different refractive indexes on a metal base material, and the metal base material is Other configurations are not particularly limited as long as both sides have infrared absorbing layers.
つぎに、この発明の実施例について、比較例と併せて説
明する。Next, examples of the present invention will be described together with comparative examples.
(実施例1)
プレス成形により碗状に成形されたアルミニウム基材1
に対し、アルマイト処理を行って、表裏両面に膜厚3n
のAffix、膜を形成し、赤外線吸収WI2.2とし
た。基材表面たる腕内側の赤外線吸収層2上に、5 X
10−’Torrの真空中で電子ビーム蒸着を行い、
高屈折率の誘電体薄膜たるTiO□膜3aと、低屈折率
の誘電体薄膜たるMgF*膜とを交互に積層して、ダイ
クロイック膜3を形成し、金属ベースダイクロイック反
射鏡を作成した。得られた金属ベースダイクロイック反
射鏡の層構成を第2図+8)に示す。(Example 1) Aluminum base material 1 formed into a bowl shape by press molding
On the other hand, alumite treatment was performed to form a film thickness of 3n on both the front and back sides.
Affix, a film was formed and the infrared absorption WI was set to 2.2. On the infrared absorbing layer 2 on the inside of the arm, which is the surface of the base material, 5
Electron beam evaporation is performed in a vacuum of 10-' Torr,
A dichroic film 3 was formed by alternately laminating a TiO□ film 3a, which is a dielectric thin film with a high refractive index, and an MgF* film, which is a dielectric thin film with a low refractive index, to create a metal-based dichroic reflector. The layer structure of the obtained metal-based dichroic reflector is shown in Figure 2+8).
このようにして作成した金属ペースダイクロイツク反射
鏡の反射率分布を第3図に示す。FIG. 3 shows the reflectance distribution of the metal paced dichroic reflector thus produced.
図にみるように、この実施例の金属ベースダイクロイッ
ク反射鏡では、可視光(400〜700nm)の平均反
射率は約90%、それより長波長の赤外線の平均反射率
は約20%で、赤外線の80%をカットできるものであ
った。As shown in the figure, the metal-based dichroic reflector of this example has an average reflectance of about 90% for visible light (400 to 700 nm), and an average reflectance of longer wavelength infrared rays of about 20%. It was possible to cut 80% of the
この金属ベースダイクロイック反射鏡をスポットライト
に装着して光源を点灯し、反射鏡表面の温度を測定した
が250℃を超えるミとはなかった。また、基材表面に
形成された各層が剥離することもなかった。This metal-based dichroic reflector was attached to a spotlight, the light source was turned on, and the temperature of the reflector surface was measured, but no temperature exceeded 250°C. Furthermore, the layers formed on the surface of the base material did not peel off.
(実施例2)
グイクロインタ膜を、焼成によりTi1tおよび5t0
8となる有機金属化合物を含む塗料の塗布、焼成により
積層形成したTiOオ膜(高屈折率の誘電体薄膜3a)
と、5iOtI臭(低屈折率の誘電体薄膜3b)とした
以外は、実施IN1と同様にして、第2図(a)に見る
層構成の金属ベースダイクロイック反射鏡を作成した。(Example 2) Ti1t and 5t0
TiO2 film (high refractive index dielectric thin film 3a) formed by applying and baking a paint containing an organometallic compound of No. 8
A metal-based dichroic reflector having the layer structure shown in FIG. 2(a) was prepared in the same manner as in Example IN1 except that the 5iOtI odor (low refractive index dielectric thin film 3b) was used.
得られた金属ベースダイクロイック反射鏡は、可視光(
400〜700nm)の平均反射率は約90%、それよ
り長波長の赤外線の平均反射率は約20%で、赤外線の
80%をカットできるものであった。The resulting metal-based dichroic reflector is capable of transmitting visible light (
The average reflectance for infrared rays (400 to 700 nm) was about 90%, and the average reflectance for infrared rays with longer wavelengths was about 20%, meaning that 80% of infrared rays could be cut.
この金属ベースダイクロイック反射鏡をスポットライト
に装着して光源を点灯し、反射鏡表面の温度を測定した
が250℃を超えることはなかった。また、基材表面に
形成された各層が剥離することもなかった。This metal-based dichroic reflector was attached to a spotlight, the light source was turned on, and the temperature of the reflector surface was measured, but the temperature did not exceed 250°C. Furthermore, the layers formed on the surface of the base material did not peel off.
(実施例3)
プレス成形により碗状に成形されたアルミニウム基材1
を、ジルコンイソプロピネートのアルコール溶液に浸漬
し、この液中より引き上げて乾燥させ、塗膜を形成した
。この操作を繰り返して塗膜を所定の膜厚にしたあと焼
成を行い、基材の表裏両面に、膜厚3μのZr0t膜を
形成し、赤外線吸収層2.2とした。このあと、実施例
1と同様の操作を行い、高屈折率の誘電体薄膜たるTi
1t膜3aと、低屈折率の誘電体WI#膜たるMgFz
膜とを交互に積層して、ダイクロイック膜3を形成し、
第2図(a)に見る層構成の金属ベースダイクロイ7り
反射鏡を作成した。(Example 3) Aluminum base material 1 formed into a bowl shape by press molding
was immersed in an alcohol solution of zircon isopropinate, pulled out from the solution and dried to form a coating film. This operation was repeated until the coating film had a predetermined thickness, and then baking was performed to form a Zr0t film with a thickness of 3 μm on both the front and back surfaces of the base material, thereby forming an infrared absorbing layer 2.2. After that, the same operation as in Example 1 was carried out to form a Ti dielectric thin film with a high refractive index.
1t film 3a and MgFz which is a low refractive index dielectric WI# film
The dichroic film 3 is formed by alternately stacking the films.
A metal-based dichroic 7 reflector having the layer structure shown in FIG. 2(a) was prepared.
得られた金属ベースダイクロイック反射鏡は、可視光(
400〜b
0%、それより長波長の赤外線の平均反射率は約20%
で、赤外線の80%をカットできるものであった。The resulting metal-based dichroic reflector is capable of transmitting visible light (
400-b 0%, average reflectance of infrared rays with longer wavelengths is approximately 20%
It was able to cut out 80% of infrared rays.
この金属ベースダイクロイック反射鏡をスポットライト
に装着して光源を点灯し、反射鏡表面の温度を測定した
が25(lを超えることはなかった。また、基材表面に
形成された各層が剥離することもなかった。This metal-based dichroic reflector was attached to a spotlight, the light source was turned on, and the temperature of the reflector surface was measured, but the temperature did not exceed 25 l.In addition, each layer formed on the base material surface peeled off. There was no such thing.
(実施例4)
ダイクロイック膜3の形成を実施例2と同様にした以外
は、実施例3と同様にして、第2図(a)に見る層構成
の金属ベースダイクロイック反射鏡を作成した。(Example 4) A metal-based dichroic reflecting mirror having the layer structure shown in FIG. 2(a) was produced in the same manner as in Example 3 except that the dichroic film 3 was formed in the same manner as in Example 2.
得られた金属ベースダイクロイック反射鏡は、可視光(
400〜700rv)の平均反射率は約90%、それよ
り長波長の赤外線の平均反射率は約20%で、赤外線の
80%をカットできるものであった。The resulting metal-based dichroic reflector is capable of transmitting visible light (
400 to 700 rv) was approximately 90%, and the average reflectance of infrared rays with longer wavelengths was approximately 20%, meaning that 80% of infrared rays could be cut.
この金属ベースダイクロイック反射鏡をスポットライト
に装着して光源を点灯し、反射鏡表面の温度を測定した
が250℃を超えることはなかった。また、基材表面に
形成された各層が剥離することもなかった。This metal-based dichroic reflector was attached to a spotlight, the light source was turned on, and the temperature of the reflector surface was measured, but the temperature did not exceed 250°C. Furthermore, the layers formed on the surface of the base material did not peel off.
(実施例5)
プレス成形により碗状に成形されたアルミニウム基材l
に対し、5 X 10−”Torrの真空中で電子ビー
ム蒸着を行い、表裏両面に膜厚3nのZrOx膜を形成
し、赤外線吸収層2.2とした。このあと、実施例1と
同様の操作を行い、高屈折率の誘電体薄膜たるrtol
ll葵3aと、低屈折率の誘電体薄膜たるMgF、膜と
を交互に積層して、ダイクロイック1!13を形成し、
第2図+8)に見る層構成の金属ベースダイクロイック
反射鏡を作成した。(Example 5) Aluminum base material formed into a bowl shape by press molding
Then, electron beam evaporation was performed in a vacuum of 5 x 10-'' Torr to form a ZrOx film with a thickness of 3 nm on both the front and back surfaces, forming an infrared absorbing layer 2.2. The high refractive index dielectric thin film rtol
A dichroic 1!13 is formed by alternately laminating Aoi 3a and a MgF film, which is a dielectric thin film with a low refractive index.
A metal-based dichroic reflector with the layered structure shown in Figure 2+8) was created.
得られた金属ペースダイクロイック反射鏡は、可視光(
400〜700ns+)の平均反射率は約90%、それ
より長波長の赤外線の平均反射率は約20%で、赤外線
の80%をカットできるものであった。The resulting metal-paced dichroic reflector is capable of transmitting visible light (
The average reflectance for infrared rays (400 to 700 ns+) was about 90%, and the average reflectance for infrared rays with longer wavelengths was about 20%, meaning that 80% of infrared rays could be cut.
この金属ペースダイクロイック反射鏡をスポットライト
に装着して光源を点灯し、反射鏡表面の温度を測定した
が250℃を超えることはなかった。また、基材表面に
形成された各層が剥離することもなかった。This metal pace dichroic reflector was attached to a spotlight, the light source was turned on, and the temperature of the reflector surface was measured, but the temperature did not exceed 250°C. Furthermore, the layers formed on the surface of the base material did not peel off.
(比較例)
プレス成形により碗状に成形されたアルミニウム基材1
の表面側(碗の内側)に、スプレーにより黒色の塗料を
塗布し、乾燥させて黒色塗膜からなる膜厚5nの赤外線
吸収層2′を作成した。このあと、実施例1と同様の操
作を行い、高屈折率の誘電体薄膜たるTi0J契3aと
、低屈折率の誘電体薄膜たるMgFt膜とを交互に積層
して、ダイクロイック膜3を形成し、第2図(b)に見
る層構成の金属ペースダイクロイック反射鏡を作成した
。(Comparative example) Aluminum base material 1 formed into a bowl shape by press molding
A black paint was applied by spraying to the surface side (inner side of the bowl) and dried to form an infrared absorbing layer 2' having a thickness of 5 nm and consisting of a black paint film. After that, the same operation as in Example 1 was performed to form the dichroic film 3 by alternately laminating the TiOJ film 3a, which is a dielectric thin film with a high refractive index, and the MgFt film, which is a dielectric thin film with a low refractive index. A metal-based dichroic reflector having the layer structure shown in FIG. 2(b) was fabricated.
得られた金属ペースダイクロイック反射鏡は、可視光(
400〜700n−)の平均反射率は約90%、それよ
り長波長の赤外線の平均反射率は約20%で、赤外線の
80%をカットできるものであった。The resulting metal-paced dichroic reflector is capable of transmitting visible light (
The average reflectance of infrared rays (400 to 700 n-) was about 90%, and the average reflectance of infrared rays with longer wavelengths was about 20%, meaning that 80% of infrared rays could be cut.
この金属ペースダイクロイック反射鏡をスポットライト
に装着して光源を点灯し、反射鏡表面の温度を測定した
ところ、350℃に達し、基材表面に形成された各層の
一部が剥離してしまった。When this metal pace dichroic reflector was attached to a spotlight, the light source was turned on, and the temperature of the reflector surface was measured, it reached 350 degrees Celsius, and some of the layers formed on the base material surface peeled off. .
この発明の金属ペースダイクロイック反射鏡は、以上の
ようであり、金属基村上に、屈折率の互いに異なる2種
の誘電体薄膜を交互に積層形成してなるダイクロイック
膜が形成された金属ペースダイクロイック反射鏡であっ
て、前記金属基材が、その表裏両面に赤外線吸収層を有
していて、表側の赤外線吸収層で吸収した赤外線を裏側
の赤外線吸収層から放出できるようになっているため、
基材として加工の容易なアルミニウム等の金属を使用す
ることができ、しかも、使用時に温度上昇することがな
く、不必要な赤外線を効率良くカットして可視光を効率
良く反射できるものとなっている。The metal-paced dichroic reflector of the present invention is as described above, and has a dichroic film formed by alternately laminating two types of dielectric thin films having different refractive indexes on a metal substrate. It is a mirror, and the metal base material has an infrared absorbing layer on both the front and back surfaces, and the infrared rays absorbed by the infrared absorbing layer on the front side can be emitted from the infrared absorbing layer on the back side.
Metals such as aluminum, which are easy to process, can be used as the base material, and the temperature does not rise during use, and unnecessary infrared rays can be efficiently cut and visible light can be efficiently reflected. There is.
第1図はこの発明の金属ペースダイクロイック反射鏡の
一実施例をあられす一部切り欠き側面図とその部分拡大
図、第2図(alはこの発明の実施例における層構成を
説明するN構成図、第2図(blは比較例における層構
成を説明する層構成図、第3図は実施例における反射率
分布の一例をあられすグラフである。
1・・・金属基材 3a、3b・・・誘電体薄膜 3・
・・グイクロイック膜 2・・・赤外線吸収層代理人
弁理士 松 本 武 彦
第1 図FIG. 1 is a partially cutaway side view and partially enlarged view showing an embodiment of the metal pace dichroic reflector of the present invention, and FIG. 2 is an N configuration explaining the layer structure in the embodiment of the invention 2 (bl is a layer structure diagram explaining the layer structure in a comparative example, and FIG. 3 is a graph showing an example of the reflectance distribution in an example. 1... Metal base material 3a, 3b.・Dielectric thin film 3・
・・Gucroic film 2・・Infrared absorbing layer agent
Patent Attorney Takehiko Matsumoto Figure 1
Claims (2)
体薄膜を交互に積層形成してなるダイクロイック膜が形
成された金属ベースダイクロイック反射鏡であって、前
記金属基材が、その表裏両面に赤外線吸収層を有するも
のであることを特徴とする金属ベースダイクロイック反
射鏡。(1) A metal-based dichroic reflector in which a dichroic film formed by alternately laminating two types of dielectric thin films having different refractive indexes on a metal base material, wherein the metal base material is A metal-based dichroic reflector characterized by having infrared absorbing layers on both the front and back sides.
2O、SiO_2、ZrO_2およびSnO_2からな
る群より選ばれた少なくとも一つで形成された薄膜であ
る特許請求の範囲第1項記載の金属ベースダイクロイッ
ク反射鏡。(2) Infrared absorption layer is Al_2O_2, NiO, Cu_
2. The metal-based dichroic reflector according to claim 1, which is a thin film formed of at least one selected from the group consisting of 2O, SiO_2, ZrO_2 and SnO_2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62158257A JPS642003A (en) | 1987-06-25 | 1987-06-25 | Metal base dichroic reflecting film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62158257A JPS642003A (en) | 1987-06-25 | 1987-06-25 | Metal base dichroic reflecting film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH012003A true JPH012003A (en) | 1989-01-06 |
| JPS642003A JPS642003A (en) | 1989-01-06 |
Family
ID=15667670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62158257A Pending JPS642003A (en) | 1987-06-25 | 1987-06-25 | Metal base dichroic reflecting film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS642003A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006220872A (en) * | 2005-02-09 | 2006-08-24 | Olympus Corp | Optical filter, manufacturing method of optical filter, and imaging device |
-
1987
- 1987-06-25 JP JP62158257A patent/JPS642003A/en active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3758185A (en) | Thermal control filter | |
| JPH012003A (en) | Metal-based dichroic reflector | |
| JPH05127004A (en) | Reflecting mirror | |
| US6471376B1 (en) | Increased life reflector lamps | |
| JP2016535929A (en) | Thin film coating for improved outdoor LED reflector | |
| JPS59219701A (en) | Light reflector | |
| JPH10268129A (en) | Infrared reflective film, tube and lighting equipment | |
| JP2687243B2 (en) | Multilayer optical interference film | |
| JPS61190853A (en) | Incandescent bulb | |
| JP2778784B2 (en) | Multilayer reflector for light source | |
| JP2928784B2 (en) | Multilayer reflector | |
| JPH0629882B2 (en) | Multilayer film mirror | |
| JP3102959B2 (en) | High durability thin film | |
| JP2698623B2 (en) | Reflector | |
| JP3054663B2 (en) | Multilayer reflector | |
| JPH0259585B2 (en) | ||
| JPH0469883B2 (en) | ||
| JP3560638B2 (en) | Reflective film | |
| JP3110131B2 (en) | High durability thin film | |
| JPH036619B2 (en) | ||
| JPH0215213Y2 (en) | ||
| JPS58135565A (en) | Incandescent bulb | |
| JP2602033B2 (en) | Incandescent light bulb with infrared reflection filter | |
| JPH0316211Y2 (en) | ||
| JP2548533B2 (en) | High pressure discharge lamp |