JPH01201328A - 芳香族ポリカーボネートフイルム - Google Patents
芳香族ポリカーボネートフイルムInfo
- Publication number
- JPH01201328A JPH01201328A JP2275188A JP2275188A JPH01201328A JP H01201328 A JPH01201328 A JP H01201328A JP 2275188 A JP2275188 A JP 2275188A JP 2275188 A JP2275188 A JP 2275188A JP H01201328 A JPH01201328 A JP H01201328A
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- bis
- hydroxyphenyl
- film
- phenyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、各種の電子・電気機器の部品として用いられ
る芳香族ポリカーボネートフィルムに関するものである
。さらに詳しくは、本発明は、本質的に非品性であり、
透明性、耐熱性、機械的強度に優れるとともに、低透湿
性及び表面硬度において改良された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムに関するものである。
る芳香族ポリカーボネートフィルムに関するものである
。さらに詳しくは、本発明は、本質的に非品性であり、
透明性、耐熱性、機械的強度に優れるとともに、低透湿
性及び表面硬度において改良された芳香族ポリカーボネ
ートフィルムに関するものである。
〔従来の技術〕
芳香族ポリカーボネートフィルムは、透明性、耐熱性、
機械的強度、電気的性質などにおいてバランスのとれた
ものとして知られており、電子・電気機器の部品等、各
種のエンジニアリングプラスチックとして使用されてい
る。従来一般に用いられてきた芳香族ポリカーボネート
フィルムは、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ビスフェノールＡ）とホスゲン等のカーボネ
ート前駆体との反応から得られる式 で表される繰り返し単位からなる市販の芳香族ポリカー
ボネートから作成されるものであった。
機械的強度、電気的性質などにおいてバランスのとれた
ものとして知られており、電子・電気機器の部品等、各
種のエンジニアリングプラスチックとして使用されてい
る。従来一般に用いられてきた芳香族ポリカーボネート
フィルムは、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ビスフェノールＡ）とホスゲン等のカーボネ
ート前駆体との反応から得られる式 で表される繰り返し単位からなる市販の芳香族ポリカー
ボネートから作成されるものであった。
しかし、近時、電子・電気機器の部品としてのフィルム
に要求される特性が高度化するにつれ、市販のポリカー
ボネートから成形されるフィルムの透湿度が大きい、表
面硬度が低い等の欠点が露顕するに至った。さらに、市
販のポリカーボネートには、溶剤などによるゲル化及び
結晶化傾向があり、フィルムの機械的強度や透明性の低
下を招くという問題があった。
に要求される特性が高度化するにつれ、市販のポリカー
ボネートから成形されるフィルムの透湿度が大きい、表
面硬度が低い等の欠点が露顕するに至った。さらに、市
販のポリカーボネートには、溶剤などによるゲル化及び
結晶化傾向があり、フィルムの機械的強度や透明性の低
下を招くという問題があった。
本発明は、上記の欠点が解消され、低透湿性及び表面硬
度において改良されたものであって、その重合体材料の
溶剤などによるゲル化や結晶化傾向がない芳香族ポリカ
ーボネートフィルムを提供することを目的とするもので
ある。
度において改良されたものであって、その重合体材料の
溶剤などによるゲル化や結晶化傾向がない芳香族ポリカ
ーボネートフィルムを提供することを目的とするもので
ある。
すわなち、請求項１の発明は、−ｉ式（１）〔式中、Ｒ
１は、 −Ｃ−（ここで、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原子、炭
素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表し、互いに
同一であっても異なっていてもよい。）、−＋ＣＬｈ
（ここで、ｎは２〜１０の整数を表す。
１は、 −Ｃ−（ここで、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ水素原子、炭
素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表し、互いに
同一であっても異なっていてもよい。）、−＋ＣＬｈ
（ここで、ｎは２〜１０の整数を表す。
）、
）、
単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、又は一５Ｏ２−を表す。〕で
表される繰り返し単位を有するポリカーボネートから成
形された芳香族ポリカーボネートフィルムを提供するも
のである。
表される繰り返し単位を有するポリカーボネートから成
形された芳香族ポリカーボネートフィルムを提供するも
のである。
請求項２の発明は、−形式（１）及び−形式（ｎ）
〔式中、Ｒ１及びＲ４は、
炭素数１〜６のアルキル基又はフェニル基を表し、互い
に同一であっても異なっていてもよい、）、４ＣＨｚｈ
（ここで、ｎは２〜１０の整数を表す。
に同一であっても異なっていてもよい、）、４ＣＨｚｈ
（ここで、ｎは２〜１０の整数を表す。
）、
）、
単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＳＯ，−を表し、Ｘは
それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、又はハロゲン原子
を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 ！及びｍはそれぞれ０〜４の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい、〕で表される繰り返し単
位を有し、−形式ＣＩ）で表される繰り返し単位のモル
分率をｑとし、−形式（ｎ）で表される繰り返し単位の
モル分率をｒるポリカーボネートから成形された芳香族
ポリカーボネートフィルムを提供するものである。
それぞれ炭素数１〜６のアルキル基、又はハロゲン原子
を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 ！及びｍはそれぞれ０〜４の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい、〕で表される繰り返し単
位を有し、−形式ＣＩ）で表される繰り返し単位のモル
分率をｑとし、−形式（ｎ）で表される繰り返し単位の
モル分率をｒるポリカーボネートから成形された芳香族
ポリカーボネートフィルムを提供するものである。
請求項２の発明のフィルムの成形に用いられるポリカー
ボネートは、重合体の主鎖が、前記−形式（１）で表さ
れる繰り返し単位と、前記−形式（Ｉりで表される繰り
返し単位とからなる構造をである。この値が０．０５未
満であると、フィルムの低透湿性化、表面硬度の改良の
効果が得られなくなる。また、重合体材料の溶剤などに
よるゲル化及び結晶化の防止の効果が得られなくなる。
ボネートは、重合体の主鎖が、前記−形式（１）で表さ
れる繰り返し単位と、前記−形式（Ｉりで表される繰り
返し単位とからなる構造をである。この値が０．０５未
満であると、フィルムの低透湿性化、表面硬度の改良の
効果が得られなくなる。また、重合体材料の溶剤などに
よるゲル化及び結晶化の防止の効果が得られなくなる。
請求項１及び２の発明のフィルムには、一般にいう薄膜
の他、物品の表面を薄く被覆する膜も含まれる。
の他、物品の表面を薄く被覆する膜も含まれる。
請求項１及び２の発明において用いられる芳香族ポリカ
ーボネートの分子量は、フィルムの種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度０．５ｇ／ｄ１の塩化メチレン溶
液の２０°Ｃにおける還元粘度（７７３１）／Ｃ）が０
．３〜４．０ ｄ１／ｇ、好ましくは０．４〜３、５
ｄ／ｇとなるようなものであることが望ましい。
ーボネートの分子量は、フィルムの種類に応じて適宜選
定すればよいが、濃度０．５ｇ／ｄ１の塩化メチレン溶
液の２０°Ｃにおける還元粘度（７７３１）／Ｃ）が０
．３〜４．０ ｄ１／ｇ、好ましくは０．４〜３、５
ｄ／ｇとなるようなものであることが望ましい。
この還元粘度が０．３ａ７ｇ未満のものを用いた場合、
得られるフィルムの強度が不十分となることかある。ま
た、４．０４１１ｇを超えると、フィルムの成形が実質
的に困難となる場合がある。
得られるフィルムの強度が不十分となることかある。ま
た、４．０４１１ｇを超えると、フィルムの成形が実質
的に困難となる場合がある。
■
の具体例としては、例えば水素原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
フェニル基等を挙げることができる。
基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、
フェニル基等を挙げることができる。
Ｒ１の特に好適なものとしては、例えば■
Ｈ３
が挙げられる。
前記Ｘの具体例としては、例えばフッ素原子、臭素原子
、塩素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
、ヘプチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基等を挙げる
ことができる。
、塩素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基
、ヘプチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基等を挙げる
ことができる。
請求項１及び２の発明で用いられるポリカーボネートは
、従来公知の様々な方法により製造することができるが
、例えば−形式（ＩＩ［）〔式中、Ｒ１は先に規定した
と同じ意味を有する〕で表される二価フェノール化合物
とホスゲン、又は前記−形式（Ｉ［［）で表される二価
フェノール化合物及び−形式（ＩＶ） 〔式中、Ｘ、Ｒ’、！、及びｍは先に規定したと同じ意
味を有する。〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反
応、或いは前記二価フェノール化合物とビスアリールカ
ーボネートとのエステル交換反応などの方法を採用する
ことができる。
、従来公知の様々な方法により製造することができるが
、例えば−形式（ＩＩ［）〔式中、Ｒ１は先に規定した
と同じ意味を有する〕で表される二価フェノール化合物
とホスゲン、又は前記−形式（Ｉ［［）で表される二価
フェノール化合物及び−形式（ＩＶ） 〔式中、Ｘ、Ｒ’、！、及びｍは先に規定したと同じ意
味を有する。〕 で表される二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反
応、或いは前記二価フェノール化合物とビスアリールカ
ーボネートとのエステル交換反応などの方法を採用する
ことができる。
前者の二価フェノール化合物とホスゲンとの直接反応法
においては、通常、酸結合剤及び溶媒の存在下において
、前記二価フェノール化合物とホスゲンとを反応させる
。酸結合剤としては、例えばピリジンや水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物など
が用いられ、また、溶媒としては、例えば塩化メチレン
、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。さらに
、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのよ
うな第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒
を、また、重合度を調整するために、ｐ−ｔ−７”チル
フェノールやフェニルフェノールなどの分子ｉｉ調節剤
を添加して反応を行うことが望ましい、また、所望に応
じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイドなどの酸
化防止剤を少量添加してもよい０反応は通常０〜１５０
°Ｃ１好ましくは５〜４０°Ｃの範囲の温度で行われる
。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常０．
５分〜ｌＯ時間、好ましくは１分〜２時間である。また
、反応中は、反応系のｐＨを１０以上に保持することが
望ましい。
においては、通常、酸結合剤及び溶媒の存在下において
、前記二価フェノール化合物とホスゲンとを反応させる
。酸結合剤としては、例えばピリジンや水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物など
が用いられ、また、溶媒としては、例えば塩化メチレン
、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。さらに
、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミンのよ
うな第三級アミン又は第四級アンモニウム塩などの触媒
を、また、重合度を調整するために、ｐ−ｔ−７”チル
フェノールやフェニルフェノールなどの分子ｉｉ調節剤
を添加して反応を行うことが望ましい、また、所望に応
じ、亜硫酸ナトリウム、ハイドロサルファイドなどの酸
化防止剤を少量添加してもよい０反応は通常０〜１５０
°Ｃ１好ましくは５〜４０°Ｃの範囲の温度で行われる
。反応時間は反応温度によって左右されるが、通常０．
５分〜ｌＯ時間、好ましくは１分〜２時間である。また
、反応中は、反応系のｐＨを１０以上に保持することが
望ましい。
一方、後者のエステル交換法においては、前記二価フェ
ノール化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、
減圧下で高温において反応させる。
ノール化合物とビスアリールカーボネートとを混合し、
減圧下で高温において反応させる。
反応は通常１５０〜３５０°Ｃ１好ましくは２００〜３
００°Ｃの範囲の温度において行われ、また減圧度は最
終で好ましくはｌｍｍＨｇ以下にして、エステル交換反
応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来
するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応
温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜４時
間程度である０反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前
記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して、反応を
行ってもよい。
００°Ｃの範囲の温度において行われ、また減圧度は最
終で好ましくはｌｍｍＨｇ以下にして、エステル交換反
応により生成した該ビスアリールカーボネートから由来
するフェノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応
温度や減圧度などによって左右されるが、通常１〜４時
間程度である０反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス
雰囲気下で行うことが好ましく、また、所望に応じて前
記の分子量調節剤や酸化防止剤などを添加して、反応を
行ってもよい。
一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、
例えば２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、１−フェニル−１゜１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１．１−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、３．３−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン、３．３’−ジフェニル−４
゜４′−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１−フェニル−１
，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１゜２−ビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）エタン、ｌ、３−ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
１．４−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキジフェニル
）ブタン、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルブタン、２．２−ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１．
８−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）オ
クタン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）エーテル、ビス−（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）スルフィド、１．１−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）シクロペンクン等を挙げること
ができる。
例えば２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、１−フェニル−１゜１−ビス（３−
フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１．１−
ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）シクロ
ヘキサン、３．３−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）ペンタン、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホン、３．３’−ジフェニル−４
゜４′−ジヒドロキシビフェニル、ビス（３−フェニル
−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１−フェニル−１
，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシ
フェニル）エタン、１゜２−ビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）エタン、ｌ、３−ビス（３−フェ
ニル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビ
ス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、
１．４−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキジフェニル
）ブタン、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルブタン、２．２−ビス（３
−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）オクタン、１．
８−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）オ
クタン、ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）エーテル、ビス−（３−フェニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）スルフィド、１．１−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）シクロペンクン等を挙げること
ができる。
これらの中で、特に２．２−ビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１−フェニル−１，１
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、及びビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）スルホンが好適に用いられる。
ヒドロキシフェニル）プロパン、１−フェニル−１，１
−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１．１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、及びビス（３−フェニル−４−
ヒドロキシフェニル）スルホンが好適に用いられる。
前記−形式（ＩＶ）で表される二価フェノール化合物の
具体例としては、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル
）メタン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
タン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン
、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブ
タン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタ
ン、４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へブタン
、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−
ジフェニルメタン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン、１．１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
スルホン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シ
クロペンクン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）シクロヘキサン、２．２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１．１−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン
、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフ
ィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１．１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、４．４’ −ジヒドロキシビ
フェニル、２．２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチル−ヒドロキシフェニル）ブタン
、１．１−ビス（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）エタン、１゜１−ビス（２−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン
、１，１−ビス（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ブタン、１．１−ビス（２−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタ
ン、１．１−ビス（２−も−ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）へブタン、１，１−ビス（２−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１
−フェニルメタン、１．１−ビス（２−ｔ−アミル−４
−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３
−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３
，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２
゜２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２．２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、２．２−ビス（３−７’ロモー４
−ヒドロキシフェニル）フロパン、２．２−ビス（３，
５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２
．２−ビス（３゜５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２．２−ビス（３，５−ジブロモ−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビス（３−
フロモー４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパ
ン、２．２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、２．２−ビス（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１．１−ビス（３−
フルオロ−４＝ヒドロキシフエニル）−１−フェニルエ
タン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）
エーテル、３．３′−ジフルオロ−４，４′−ジヒドロ
キシビフェニル等を挙げることができる。
具体例としては、例えばビス（４−ヒドロキシフェニル
）メタン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
タン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン
、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブ
タン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタ
ン、４．４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へブタン
、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−
ジフェニルメタン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１−フェニルエタン、１．１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）
スルホン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シ
クロペンクン、１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）シクロヘキサン、２．２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビス（３，５−
ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−
（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、１．１−ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン
、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフ
ィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ス
ルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メタン、１．１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、４．４’ −ジヒドロキシビ
フェニル、２．２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチル−ヒドロキシフェニル）ブタン
、１．１−ビス（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）エタン、１゜１−ビス（２−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン
、１，１−ビス（２−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ブタン、１．１−ビス（２−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタ
ン、１．１−ビス（２−も−ブチル−４−ヒドロキシ−
５−メチルフェニル）へブタン、１，１−ビス（２−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１
−フェニルメタン、１．１−ビス（２−ｔ−アミル−４
−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３
−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３
，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２
゜２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２．２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシ
フェニル）プロパン、２．２−ビス（３−７’ロモー４
−ヒドロキシフェニル）フロパン、２．２−ビス（３，
５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２
．２−ビス（３゜５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２．２−ビス（３，５−ジブロモ−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２−ビス（３−
フロモー４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパ
ン、２．２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ
フェニル）ブタン、２．２−ビス（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１．１−ビス（３−
フルオロ−４＝ヒドロキシフエニル）−１−フェニルエ
タン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）
エーテル、３．３′−ジフルオロ−４，４′−ジヒドロ
キシビフェニル等を挙げることができる。
なかでも、２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンが特に好ましい。
ロパンが特に好ましい。
請求項１及び２の発明に用いられる芳香族ポリカーボネ
ートには、フィルムの特性を損なわない範囲で、他の二
価フェノール化合物を加えて製造される変性ポリカーボ
ネートも含まれる。上記の他の二価フェノール化合物と
しては、レゾルシン、ハイドロキノン等が挙げられる。
ートには、フィルムの特性を損なわない範囲で、他の二
価フェノール化合物を加えて製造される変性ポリカーボ
ネートも含まれる。上記の他の二価フェノール化合物と
しては、レゾルシン、ハイドロキノン等が挙げられる。
さらに、少量の、例えば、使用した二価フェノール化合
物の０．０５〜２．０モル％程度のポリヒドロキシ化合
物などを加えることにより製造された分岐を有する芳香
族ポリカーボネートも含まれる。
物の０．０５〜２．０モル％程度のポリヒドロキシ化合
物などを加えることにより製造された分岐を有する芳香
族ポリカーボネートも含まれる。
請求項１及び２の発明のフィルムを製造するにあたって
は、上記の１種又は２種以上の芳香族ポリカーボネート
に、必要に応じ、ポリアルキレンテレフタレート、ポリ
オレフィン、他のポリカーボネート、ポリエーテルサル
ホン、ボリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレン
サルファイドなどの熱可塑性樹脂を配合することができ
る。
は、上記の１種又は２種以上の芳香族ポリカーボネート
に、必要に応じ、ポリアルキレンテレフタレート、ポリ
オレフィン、他のポリカーボネート、ポリエーテルサル
ホン、ボリアリレート、ポリサルホン、ポリフェニレン
サルファイドなどの熱可塑性樹脂を配合することができ
る。
また、これら芳香族ポリカーボネートには、必要に応じ
、公知の添加剤、例えば、難燃剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、充填剤、耐衝撃性改良剤、紫外線吸収剤、可塑剤
、加水分解安定剤、顔料、染料、着色安定剤等を配合す
ることができる。
、公知の添加剤、例えば、難燃剤、酸化防止剤、帯電防
止剤、充填剤、耐衝撃性改良剤、紫外線吸収剤、可塑剤
、加水分解安定剤、顔料、染料、着色安定剤等を配合す
ることができる。
請求項１及び２の発明のフィルムの成形方法としては、
従来公知の製膜法を用いることができる。
従来公知の製膜法を用いることができる。
例えば、熱プレス成形などのプレス成形；キャストロー
ル法、インフレーション法、チュブラ−法などの押出法
；ポリマー溶液をベルト上で流延し、溶媒を蒸発除去し
て薄膜化する方法；ポリマー溶液を物品に塗布した後溶
剤除去するコーティング法などが挙げられる。
ル法、インフレーション法、チュブラ−法などの押出法
；ポリマー溶液をベルト上で流延し、溶媒を蒸発除去し
て薄膜化する方法；ポリマー溶液を物品に塗布した後溶
剤除去するコーティング法などが挙げられる。
ポリマー溶液の調整に用いられる溶剤としては、クロロ
ホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶剤、トルエン等
の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
剤等が挙げられる。
ホルム、塩化メチレン等のハロゲン系溶剤、トルエン等
の芳香族系溶剤、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶
剤等が挙げられる。
また、このようにして製膜されたフィルムは、必要に応
じ、従来慣用されている延伸法、例えばテンター法、チ
エ−プラー法、多段延伸法などにより延伸してもよい、
また、必要に応じ、熱処理を行うこともできる。
じ、従来慣用されている延伸法、例えばテンター法、チ
エ−プラー法、多段延伸法などにより延伸してもよい、
また、必要に応じ、熱処理を行うこともできる。
請求項１及び２の発明のフィルムの厚さについては、特
に制限はないが、通常０．１〜１０００μｍ１好ましく
は１〜５００μｍの範囲で選ばれる。
に制限はないが、通常０．１〜１０００μｍ１好ましく
は１〜５００μｍの範囲で選ばれる。
このようにして成形されたフィルムは、耐熱性、機械的
強度、電気絶縁性等においても、従来の芳香族ポリカー
ボネートフィルムと同様に優れているのみならず、低透
湿性及び表面硬度において著しく改良されたものである
。従って、耐熱性フィルム、低透湿フィルム、電気絶縁
性フィルムとして、各種の電子・電気機器の部品、塗膜
等として好適に用いることができる。さらに、重合体材
料の溶剤等によるゲル化、結晶化が解消されたため、重
合体溶液を用いる製膜法による製膜が可能となった。
強度、電気絶縁性等においても、従来の芳香族ポリカー
ボネートフィルムと同様に優れているのみならず、低透
湿性及び表面硬度において著しく改良されたものである
。従って、耐熱性フィルム、低透湿フィルム、電気絶縁
性フィルムとして、各種の電子・電気機器の部品、塗膜
等として好適に用いることができる。さらに、重合体材
料の溶剤等によるゲル化、結晶化が解消されたため、重
合体溶液を用いる製膜法による製膜が可能となった。
以下、請求項１及び２の発明を実施例に基づいてさらに
詳細に説明するが、これらの発明は下記の実施例により
なんら限定されるものではない。
詳細に説明するが、これらの発明は下記の実施例により
なんら限定されるものではない。
実施例１
金底■
２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン６０ｇと分子量調節剤のｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール０．５ｇを塩化メチレン５００ｄに溶解し、水３
００ｄ、触媒としてトリエチルアミンｌｄを加え、攪拌
下ホスゲンガスを３００〜４００ｄ／分の割合で吹き込
んだ。ホスゲンガスを吹き込む間、反応系のｐＨが１０
以下にならないように１２規定濃度の水酸化ナトリウム
水溶液を滴下した。ホスゲンガスを２５分間吹き込んだ
のち、１時間反応させ、生成物を塩化メチレン７００ｄ
で希釈し、水、０．０１規定の塩酸、水の順に洗浄し、
５１のメタノール中に注入と、て重合物を回収した。重
合物の収率は９６％で、下記構造の繰り返し単位を有し
ていた。
）プロパン６０ｇと分子量調節剤のｐ−ｔ−ブチルフェ
ノール０．５ｇを塩化メチレン５００ｄに溶解し、水３
００ｄ、触媒としてトリエチルアミンｌｄを加え、攪拌
下ホスゲンガスを３００〜４００ｄ／分の割合で吹き込
んだ。ホスゲンガスを吹き込む間、反応系のｐＨが１０
以下にならないように１２規定濃度の水酸化ナトリウム
水溶液を滴下した。ホスゲンガスを２５分間吹き込んだ
のち、１時間反応させ、生成物を塩化メチレン７００ｄ
で希釈し、水、０．０１規定の塩酸、水の順に洗浄し、
５１のメタノール中に注入と、て重合物を回収した。重
合物の収率は９６％で、下記構造の繰り返し単位を有し
ていた。
この重合物のテトラヒドロフラン１０重量パーセント溶
液を調製し、常温で一カ月間放置し、溶液粘度を測定し
た。−カ月放置後も白濁、ゲルの発生は起こらず、まっ
たく粘度変化は見られなかった。
液を調製し、常温で一カ月間放置し、溶液粘度を測定し
た。−カ月放置後も白濁、ゲルの発生は起こらず、まっ
たく粘度変化は見られなかった。
ヱ土火ムΩ戒彰
ここで得られた重合体１重量部をクロロホルム５０重量
部中に溶解させて重合体溶液とした。この重合体溶液を
ガラス板上にドクターナイフを用いてキャストし、減圧
下に１２０°Ｃで２４時間乾燥して、肉厚２０μｍのフ
ィルムを得た。
部中に溶解させて重合体溶液とした。この重合体溶液を
ガラス板上にドクターナイフを用いてキャストし、減圧
下に１２０°Ｃで２４時間乾燥して、肉厚２０μｍのフ
ィルムを得た。
つぎに、オートグラフを用いて、得られたフィルムの引
張試験を行った。また、Ｊ Ｉ ５−Ｚ−０２０８、カ
ップ法Ｂ（４０°Ｃ，湿度９０％）により透湿度を、さ
らに、ＪＩＳ−に−５４００に準じて鉛筆硬度試験を行
い、表面硬度を測定した。
張試験を行った。また、Ｊ Ｉ ５−Ｚ−０２０８、カ
ップ法Ｂ（４０°Ｃ，湿度９０％）により透湿度を、さ
らに、ＪＩＳ−に−５４００に準じて鉛筆硬度試験を行
い、表面硬度を測定した。
これらの測定結果を第１表に示す。
実施例２
２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパンのかわりに、１−フェニル−１、１−ビス（
３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタンを用い
る以外、実施例１と同様の操作をし、下記構造の繰り返
し単位を有する重合体を得た。
）プロパンのかわりに、１−フェニル−１、１−ビス（
３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）エタンを用い
る以外、実施例１と同様の操作をし、下記構造の繰り返
し単位を有する重合体を得た。
この重合体を用い、実施例１のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第１表に示す。
実施例３
２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパンのかわりに、１，１−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを用いる以外
、実施例１と同様の操作をし、下記構造の繰り返し単位
を有する重合体を得た。
）プロパンのかわりに、１，１−ビス（３−フェニル−
４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンを用いる以外
、実施例１と同様の操作をし、下記構造の繰り返し単位
を有する重合体を得た。
この重合体を用い、実施例１のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第１表に示す。
実施例４
２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパンのかわりに、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホンを用いる以外、実施例１と同
様の操作をし、下記構造の繰り返し単位を有する重合体
を得た。
）プロパンのかわりに、ビス（３−フェニル−４−ヒド
ロキシフェニル）スルホンを用いる以外、実施例１と同
様の操作をし、下記構造の繰り返し単位を有する重合体
を得た。
この重合体を用い、実施例１のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第１表に示す。
実施例５
２．２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル
）プロパンにかえて、２．２−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン３８、０ ｇ、２．２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２０ｇを用
いる以外、実施例１と同様の操作をし、下記構造の繰り
返し単位を有する重合体を得た。
）プロパンにかえて、２．２−ビス（３−フェニル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン３８、０ ｇ、２．２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２０ｇを用
いる以外、実施例１と同様の操作をし、下記構造の繰り
返し単位を有する重合体を得た。
この重合体を用い、実施例１のフィルムの成形と同様の
操作を行い、フィルムを得た。
操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第１表に示す。
比較例１
市販ポリカーボネート〔出光石油化学■製：出光ポリカ
ーボネートＡ２５００）のテトラヒドロフラン１０重量
％溶液を調整し、常温で１力月間放置したところ、白濁
、ゲルの発生が起こった。
ーボネートＡ２５００）のテトラヒドロフラン１０重量
％溶液を調整し、常温で１力月間放置したところ、白濁
、ゲルの発生が起こった。
この市販のポリカーボネートを用い、実施例１のフィル
ムの成形と同様の操作を行い、フィルムを得た。
ムの成形と同様の操作を行い、フィルムを得た。
各試験結果を第１表に示す。
〔発明の効果〕
請求項１及び２の発明により、低透湿性で表面硬度も高
く、耐熱性、機械的特性等において従来の芳香族ポリカ
ーボネートフィルムと比較して遜色なく、またはそれを
上回る芳香族ポリカーボネートフィルムを得ることがで
きた。このような芳香族ポリカーボネートフィルムは各
種の電子・電気機器の部品、塗膜として掻めて有用であ
る。また、重合体が本質的に非品性であることから、溶
剤等によるゲル化や結晶化がなく、フィルムの機械的強
度や透明性の低下を招くようなことがない。
く、耐熱性、機械的特性等において従来の芳香族ポリカ
ーボネートフィルムと比較して遜色なく、またはそれを
上回る芳香族ポリカーボネートフィルムを得ることがで
きた。このような芳香族ポリカーボネートフィルムは各
種の電子・電気機器の部品、塗膜として掻めて有用であ
る。また、重合体が本質的に非品性であることから、溶
剤等によるゲル化や結晶化がなく、フィルムの機械的強
度や透明性の低下を招くようなことがない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、Ｒ＾１は、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ここで、Ｒ＾２及
びＲ＾３はそれぞれ水素原子、炭素数１〜６のアルキル
基又はフェニル基を表し、互いに同一であっても異なっ
ていてもよい。）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ここで、ｎは２〜
１０の整数を 表す。）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ここで、ｐは４〜
１０の整数を表 す。）、 単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＳＯ＿２−を表す。〕
で表される繰り返し単位を有するポリカーボネートから
成形された芳香族ポリカーボネートフィルム。 ２、一般式（ I ）及び一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＾１及びＲ＾４は、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ここで、Ｒ＾２及
びＲ＾３はそれぞれ水素原子、、炭素数１〜６のアルキ
ル基又はフェニル基を表し、互いに同一であっても異な
っていてもよい。）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ここで、ｎは２〜
１０の整数を 表す。）、 ▲数式、化学式、表等があります▼（ここで、ｐは４〜
１０の整数を表 す。）、 単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＳＯ＿２−を表し、Ｘ
はそれぞれ炭素数１〜６のアルキル基、又はハロゲン原
子を表し、互いに同一であっても異なっていてもよく、 ｌ及びｍはそれぞれ０〜４の整数を表し、互いに同一で
あっても異なっていてもよい。〕で表される繰り返し単
位を有し、一般式（ I ）で表される繰り返し単位のモ
ル分率をｑとし、一般式（II）で表される繰り返し単位
のモル分率をｒとしたとき、ｑ／（ｑ＋ｒ）の値が０．
０５以上のものであるポリカーボネートから成形された
芳香族ポリカーボネートフィルム。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63022751A JP2557931B2 (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
| EP89101816A EP0329991A1 (en) | 1988-02-04 | 1989-02-02 | Aromatic polycarbonate film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63022751A JP2557931B2 (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201328A true JPH01201328A (ja) | 1989-08-14 |
| JP2557931B2 JP2557931B2 (ja) | 1996-11-27 |
Family
ID=12091395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63022751A Expired - Fee Related JP2557931B2 (ja) | 1988-02-04 | 1988-02-04 | 芳香族ポリカーボネートフイルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2557931B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05339390A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートフィルム |
| JPH0675113A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 位相差補償フィルム |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56115765A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of 4,4'-bisphenol sulfone derivative |
-
1988
- 1988-02-04 JP JP63022751A patent/JP2557931B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56115765A (en) * | 1980-02-20 | 1981-09-11 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of 4,4'-bisphenol sulfone derivative |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05339390A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネートフィルム |
| JPH0675113A (ja) * | 1992-08-26 | 1994-03-18 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 位相差補償フィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2557931B2 (ja) | 1996-11-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |