JPH01203478A - 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤 - Google Patents

負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤

Info

Publication number
JPH01203478A
JPH01203478A JP63027270A JP2727088A JPH01203478A JP H01203478 A JPH01203478 A JP H01203478A JP 63027270 A JP63027270 A JP 63027270A JP 2727088 A JP2727088 A JP 2727088A JP H01203478 A JPH01203478 A JP H01203478A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
silica
powder
monovalent hydrocarbon
organosilicon compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63027270A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0819263B2 (ja
Inventor
Hideki Kobayashi
秀樹 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Toray Silicone Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Silicone Co Ltd filed Critical Toray Silicone Co Ltd
Priority to JP63027270A priority Critical patent/JPH0819263B2/ja
Publication of JPH01203478A publication Critical patent/JPH01203478A/ja
Publication of JPH0819263B2 publication Critical patent/JPH0819263B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Silicon Compounds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤に関し、詳
しくは、鉄粉や酸化鉄粉のような磁性粉末との摩擦にさ
らされるときに、マイナスに帯電する性質を付与された
疎水性シリカ系微粉末である流動性向上剤に関する。
〔従来の技術〕
シリカ系微粉末は、多くの工業分野で粉体の固化を防止
し、流動性を増大させるために、使用されてきた。
これらの使用例の中には、電子写真複写機用乾式トナー
のように静電荷を与えて使用する樹脂粉末があり、この
場合、添加剤の帯電性も問題となる。
すなわち、SsやCdSを感光媒体に用いる電子写真複
写機には負帯電性のトナーが要求され、その流動性向上
のための添加剤も負帯電性のものが好ましい。
負帯電性のトナーの流動性向上のための添加剤としては
、ジメチルジクロルシランで処理された疎水性シリカ微
粉末が使用されてきた(特公昭54−16219 、特
公昭54−16220) 、  この流動性向上剤は、
ジメチルジクロロシランで疎水化処理されているために
、長期間の貯蔵後も、吸湿による流動性向上効果の低下
が少ないという利点を有していた。また、鉄粉や酸化鉄
粉のような磁性粉と摩擦にさらされたときに、マイナス
に帯電する性質を有していた。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、その帯電量は一520μC/g程度と大きい
ためトナーの流動性向上のために好適な添加量(約0.
25〜約1重量%)を用いても、トナーの帯電量を大き
く変動させるという欠点があった。従って、この疎水性
シリカ微粉末を流動性向上剤として添加できるトナーの
範囲は限られていた。
そこで本発明者は、負帯電性トナーのような負帯電性樹
脂粉末のためのこのような欠点のない流動性向上剤を開
発すべく鋭意研究した結果1本発明に到達した。
本発明の目的は、負帯電性樹脂粉末に添加した際に、そ
の負帯電量に与える影響が無視しうる程に小さく、かつ
、負帯電性樹脂粉末の流動性を大巾に向上させ、かつ長
期間にわたって向上した流動性を保つことのできる流動
性向上剤を提供することにある。
〔課題の解決手段およびその作用〕
前記した本発明の目的は、 シリカ系微粉末を(イ)1分子中にケイ素原子に直結し
た加水分解性基もしくはシラノール基を少なくとも1個
と炭素−ケイ素結合によりケイ素原子に直結した非置換
もしくは置換一価炭化水素基(但しアミノ基置換一価炭
化水素基を除く)を少なくとも1個有する有機ケイ素化
合物および(ロ)1分子中にケイ素原子に直結した加水
分解性基もしくはシラノール基を少なくとも1個と炭素
−ケイ素結合によりケイ素原子に結合したアミノ基置換
一価炭化水素基を少なくとも1個有する有機ケイ素化合
物により表面処理してなる疎水性かつ負帯電性のシリカ
系微粉末を、負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤とするこ
とにより達成される6本発明の流動性向上剤を製造する
のに使用されるシリカ系微粉末としては、フユームドシ
リ力、シリカアエロゲル、沈殿シリカ、四塩化ケイ素と
他の金属ハロゲン化物、例えば三塩化アルミニウム、四
塩化チタン等とを併用して製造した、シリカと他の金属
酸化物との複合微粉末が例示されるが、フユームドシリ
力がもっとも好ましい。
シリカ系微粉末は、負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤と
しての性能上、40〜400rrr/gのBET法比表
面積を有するものが好ましい。
シリカ系微粉末は、完全に無水状態であるよりも、若干
の水分を含有している方が、処理効果を向上させるうえ
から好ましく、そのためのシリカ系微粉末の好ましい含
水量は、0.3〜5重量%である。この水分により、後
述する有機ケイ素化合物の加水分解性基とシリカ表面の
シラノール基との間の縮合反応が促進されるためと考え
られる。
このようなシリカ系微粉末のうちフユームドシリ力とし
ては、例えば以下の商品名で市販されているものがある
。
日本アエロジル株式会社製のAerosil 90、A
erosi1130、Aerosil 200、Aer
osil 300、Aerosil 380、Aero
sil 0X50、Aerosil MOX80、Ae
rosil MOX170、米国のキャボット社製のC
ab・0・Sil M−5、Cab・0・Sil MS
−7、Cab−0−3il MS−75、Cab・0・
Sil l5−5、Cab・O・Sil EH−5、西
独のワラカーケミ−社製のHDKN20.1(DK V
15. HDK T2O、)IDK T2Oなどである
。
シリカ系微粉末を処理するのに用いる2種の有機ケイ素
化合物のうち上述の有機ケイ素化合物(イ)の代表例は
、 一般式   (R)、5L(X)4−、      (
1)〔式中、Rは非置換もしくは置換一価炭化水素基、
(但しアミノ基結合一価炭化水素基を除く)であり、又
は加水分解性基もしくは水酸基であり、mは1,2また
は3である〕で示されるオルガノシランである。
ここで非置換一価炭化水素基としては、メチル基、エチ
ル基、ブチル基、デシル基などのアルキル基やフェニル
基、ベンジル基、ビニル基が例示され、置換一価炭化水
素基として、1−クロルメチル基、3−クロルプロピル
基、3,3.3−トリフルオロプロピル基、3−メタク
リロキシプロピル基が例示される。1分子中にRが2個
または3個存在するときは、Rは同一の基であっても異
eq”zS 種の基であってもよい。Xまゴ如わ=に、加水分解性基
としては水素原子;塩素原子や臭素原子のようなハロゲ
ン原子;メトキシ基やエトキシ基のようなアルコキシ基
;アセトキト基、プロピオノキシ基のようなアシロキシ
基;メチルエチルケトキシム基のようなオキシモ基が例
示される。
一般式(I)で示されるオルガノシランの具体例として
トリメチルクロルシラン、トリエチルクロルシラン、ト
リメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、
ジメチルフェニルクロルシラン、メチルビニルフェニル
クロルシラン、ジメチルジクロルシラン、ジメチルジェ
トキシシラン。
メチルフエニルジメトキシシラン、メチルビニルジメト
キシシラン、メチル・ヘキシルジアセトキシシラン、ジ
メチルヒドロジエンクロルシラン、メチルトリクロルシ
ラン、エチルトリクロルシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、プロピルトリエトキシシラン、デシルトリメトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、フェニルトリエ
トキシシラン、メチルトリ(メチルエチルケトキシム)
シラン、トリメチルシラノール、ジフェニルシランジオ
ールがある。
有機ケイ素化合物(イ)の他の具体例としてヘキサメチ
ルジシラザン、ジビニルテトラメチルジシラザン、オク
タメチルシクロテトラシラザンがある。
シリカ系微粉末を処理するのに用いる2種の有機ケイ素
化合物のうち上述の有機ケイ素化合物(ロ)の代表例は
、 A−3i(X)n (式中、Aはアミノ基置換一価炭化水素基であり、たは
2である)で示されるオルガノシランである。
ここで、アミノ基置換一価炭化水素基として1−アミノ
メチル基、2−アミノエチル基、3−アミノプロピル基
、4−アミノブチル基のようなアミノ基置換アルキル基
;1−(N−メチルアミノ)メチル基、2−(N−プロ
ピルアミノ)エチル基、3−(N−エチルアミノ)プロ
ピル基、3−(N−ブチルアミノ)プロピル基のような
N−アルキルアミノ基置換アルキル基;1−(N、N−
ジメチルアミノ)メ、チル基、2− (N、N−ジエチ
ルアミノ)エチル基、3− (N−メチル、N−エチル
アミノ)プロピル基、3− (N、N−ジブチルアミノ
)プロピル基のようなN、N−ジアルキルアミノ基置換
アルキル基;p−アミノフェニル基、p−アミノベンジ
ル基が例示され、 R1のアルキル基としてメチル基、
エチル基、プロピル基、へ#151 キシル基が例示され、X六おH#−加水分解性基として
は一般式(I)中の又として例示されたものと同様のも
のが例示される。
一般式(n)で示されるオルガノシラン(ロ)の具体例
として HzNCIIzSl (OCR3)3 1%NCH2CH25l(oc2Fls )3H3 82MCII2CH,CI(□Si (OらHs)zH
2NCHzCH,HNCHl、CH2CH2Si (O
CR,)。
H,NGst(OCR,)2 CiH’y      ”” ;NCII□CHzCHzSl(OCHa)zCH。
C,H,\、。H2S1(。。R3)21I′ およびこれらオルガノシランのアルコキシ基をイ也の加
水分解性基や水酸基に置換したもの力1ある。
これらの中では、1級アミノ基または2級アミノ基より
も3級アミノ基結合一価炭化水素基を有する有機ケイ素
化合物の方が、シリカ系微粉末をより疎水性とするので
好ましい。
かかる有機ケイ素化合物(イ)及び有機ケイ素化合物(
ロ)は、ケイ素原子結合加水分解性またはシラノール基
がシリカ系微粉末の表面シラノール基と縮合反応して、
ケイ素−酸素一ケイ素結合により、シリカ系微粉末表面
のケイ素原子と化学的に結合する。
シリカ系微粉末の十分な疎水化に必要な有機ケイ素化合
物(イ)の量は、シリカ系微粉末の比表面積、シリカ系
微粉末表面のシラノール基密度、有機ケイ素化合物(イ
)中の加水分解性またはシラノール基の含有量などによ
って適宜変るため特に限定されないが、通常、シリカ系
微粉末100重量部に対し、1〜50重量部、好ましく
は、5〜30重量部の範囲である。
有機ケイ素化合物(イ)単独で処理した疎水性シリカ系
微粉末は、鉄粉や酸化鉄粉のような磁性粉末との摩擦に
さらされるときに、マイナス数百μC/gという大きな
負帯電量を示す。
この負帯電量は、有機ケイ素化合物(ロ)による併用処
理によって大幅に減少する。
この負帯電量を減少させるのに必要な有機ケイ素化合物
(ロ)の量も、シリカ系微粉末の比表面積やシラノール
基密度、有機ケイ素化合物(イ)の種類などによって適
宜変るため、特に限定されないが、通常、シリカ系微粉
末100重量部に対し、0.1〜4.5重量部の範囲で
あ′る。シリカ系微粉末を処理するときの有機ケイ素化
合物(イ)と有機ケイ素化合物(ロ)の比率は(4〜1
00) : 1が好ましい。
この範囲をはずれると正帯電性になったり、負帯電性が
大きすぎる傾向がでてくることがあるからである。
かかる有機ケイ素化合物(イ)と有機ケイ素化合物(ロ
)によりシリカ系微粉末を処理するには、例えばシリカ
系微粉末に有機ケイ素化合物(イ)と有機ケイ素化合物
(ロ)を加え、均一になるまで混合してから加熱する。
あるいは、シリカ系微粉末を加熱下で混合しながら有機
ケイ素化合物(イ)と有機ケイ素化合物(ロ)を加えて
もよい。また、有機ケイ素化合物(イ)と有機ケイ素化
合物(ロ)、どちらか一方を前もってシリカ系微粉末に
添加し、混合しながら加熱し、ついで他方を添加し、混
合しながら加熱してもよい。
特に有機ケイ素化合物(イ)の加水分解性基がハロゲン
原子やアシロキシ基のような酸性基である場合は、シリ
カ系微粉末表面のシラノール基との縮合反応により副生
ずる酸を十分に除去しておいてから有機ケイ素化合物(
ロ)により処理することが望ましい、一方、有機ケイ素
化合物(イ)と有機ケイ素化合物(ロ)の加水分解性基
が、共にアルコキシ基のように同一の基である場合には
、あらかじめ両有機ケイ素化合物を混合してからシリカ
系微粉末に添加して熱処理してもよい。
上記加熱時の好ましい温度範囲は、100℃以上である
。100℃未満では、シリカ系微粉末と有機ケイ素化合
物との縮合反応が完結しにくくなるからである。
有機ケイ素化合物(イ)および有機ケイ素化合物(ロ)
により表面処理されてなるシリカ系微粉末は、その表面
ケイ素原子に酸素原子−ケイ素原子を介して非置換もし
くは置換一価炭化水素基(但しアミノ基置換一価炭化水
素基を除く)およびアミノ基置換一価炭化水素基が結合
している。有機ケイ素化合物(イ)または有機ケイ素化
合物(ロ)が分子中に2個または3個のケイ素原子結合
加水分解性基もしくは水酸基を有するときは、それぞれ
のケイ素原子同士が酸素原子を介して結合していること
や有機ケイ素化合物(イ)同士、有機ケイ素化合物(ロ
)同士あるいは有機ケイ素化合物(イ)と有機ケイ素化
合物(ロ)とが縮合してオルガノポリシロキサンを形成
してシリカ系微粉末表面を被覆していることがありうる
。
有機ケイ素化合物(イ)に由来する非置換一価炭化水素
基や前述したような置換一価炭化水素基は負帯電性の付
与および疎水性の付与に寄与する。
有機ケイ素化合物(ロ)に由来するアミノ基置換一価炭
化水素基は正帯電性の付与に寄与するが、有機ケイ素化
合物(イ)に由来する一価炭化水素基のだめに、負帯電
性の緩和に寄与するにとどまる。
該アミノ基置換一価炭化水素中のアミノ基が1級アミノ
基であり、かつ、アミノ基含有量が多いときは親水性の
付与に寄与するが、有機ケイ素化合物(イ)に由来する
一価炭化水素基の疎水性付与効果のために全体として疎
水性となる。
該アミノ基置換一価炭化水素基中のアミノ基が2級アミ
ノ基や3級アミノ基であるとき、および1級アミノ基で
あってもアミノ基含有量が小さいときは疎水性の付与に
著しく寄与する。
したがって、有機ケイ素化合物(イ)および有機ケイ素
化合物(ロ)により表面処理されてなるシリカ系微粉末
は、全体として負帯電性であり、0より小さく、−10
0μC/g以上というようにその程度が緩和されており
、かつ、全体として疎水性が大きい、そのため、鉄粉や
酸化鉄粉のような磁性粉末と摩擦されるときに負に帯電
するが、その帯電量は小さく保たれるので、流動性向上
剤として負帯電性樹脂粉末に添加した場合に該樹脂粉末
の負帯電性に与える影響が小さい。
有機ケイ素化合物(イ)および有機ケイ素化合物(ロ)
により表面処理されてなるシリカ系微粉末は、疎水性で
あるので負帯電性樹脂粉末に添加すると、該樹脂粉末の
流動性を著しく向上させ、向上した流動性は長期間経過
後も維持される。なお、負帯電性樹脂粉末として、負帯
電性トナー、アニオン交換樹脂粉末が例示される。
負帯電性トナーとして、ポリスチレンやスチレン−n−
ブチルメタクリレート共重合体のような熱可塑性樹脂に
カーボンブラックのような顔料や染料や電荷調節剤を分
散させたものを粒径1〜40−程度に微粉砕したトナー
、およびさらにマグネタイトのような磁性体粒子を含有
せしめた一成分系トナーが例示される。負帯電性トナー
は、通常、Oより小さく一40μC/gより大きい負帯
電量を有する。本発明の流動性向上剤の負帯電性樹脂粉
末への適切な添加量は0.1から5重量%である。
〔実施例〕
以下に、本発明の実施例および比較例を示す。
実施例および比較例中、部とあるのは重量部を意味する
。
■粉体および粉体に流動性向上剤を添加混合したものの
流動性は、安息角の測定によって求めた。
■疎水化度は、次のようにして求めた。
処理したシリカ系微粉末0.2gを100mQビーカー
に採取し、純水50m1を加えた(該シリカ系微粉末が
十分に疎水性であれば液面上に浮いている。)ビーカー
内をマグネティックスターラーで撹拌しながら、液面下
へメタノールを加え、液面上に該シリカ系微粉末が認め
られなくなった点を終点とし、それまでに要したメタノ
ール量から疎水化度を次式により算出した。
X:メタノール使用量(tQ) ■帯電量は、酸化鉄粉との接触帯電量であり、東芝ケミ
カルー製ブローオフ粉体帯電量測定装置を用いて測定し
た。
(イ)炭素含有量と窒素含有量は機料有機分析法により
求めた。
実施例1 ジメチルジクロロシランで疎水化処理した市販の疎水性
フュームドシリカ100gを5Qセパラブルフラスコに
とった。該フユームドシリ力は、約1重量%の炭素含有
量を有しており、比表面積は約130rrr/gであり
、従って、シリカ表面上のケイ素原子と結合したジメチ
ルシロキシ基数はシリカ表面100人2当たり1.9個
である。該疎水性フユームドシリ力は、未処理時には表
面100人2当たり約3個のシラノール基を持っていた
。従って、該疎水性フユームドシリ力はシラノール基の
約64モル%の水素原子がジメチルシリル基と置換して
おり、残り約36モル%がシラノール基として残存して
いた。ジメチルシリル基はその一つの手でシリカ表面の
ケイ素原子と酸素を介して結合し、他の一つの手で他の
ジメチルシリル基と酸素を介して結合していると考えら
れる。
この疎水性フュームドシリカ100gを混合しながら、
下記シラン2.Og CH3 (C4H,) 2 N (CH,)3 Sl (OCH
3)!を滴下して1時間混合した。ついで、撹拌しなが
ら150℃に昇温し、反応副生物であるメタノールか発
生しなくなるまで窒素ガスを流した。得られた疎水性フ
ユームドシリ力の窒素含有量は、0.1重量%であった
。したがって該アミノプロピル基結合ケイ素原子はシリ
カ微粉末表面100人2当り、約0.3ケが酸素原子を
介してシリカ微粉末表面のケイ素原子に結合しているこ
とになる。
得られた処理済疎水性フユームドシリ力の特性は、疎水
化度40%、帯電量−20μC/gであった。
スチレン−ブチルメタクリレート−ジビニルベンゼン共
重合体97重量%、カーボンブラック3.0重量%から
成る平均粒径20.の負帯電性トナー100部に、上記
処理済疎水性フュームドシリカ1.0部を添加し、ター
ビュラーミキサーを用いて混合したところ、該トナーの
帯電量は、−20μC/gのまま変化せず、安息角は5
0°から39°に低下して流動性の向上がみられた。こ
のトナーの混合粉末を、温度25℃、湿度70%RHの
雰囲気で1ケ月放置後も、帯電量、安息角ともに変化が
なかった。
比較例1 実施例1における市販の疎水性フユームドシリ力自体の
特性は、疎水化度40%、帯電量−530μC/gであ
った。
この疎水性フュームドシリカ1.0部を実施例1で使用
したトナー100部に添加し、 タービュラーミキサー
を用いて混合したところ、安息角は50″から40@に
低下して流動性の向上がみられたが。
帯電量が一20μC/gから一25μC/gに変化した
。したがってこのものをそのままでトナーとして用いる
ことは困芝となった。
実施例2 比表面積が200rrr/gであり、 3重量%の水含
有率を有するフュームドシリカ100gを5Qセパラブ
ルフラスコにとり、ジメチルジメトキシシラン23gと
下記シラン CH3 (c4os)2N(cua)isi(oc2Hs)2(
m )2.0gとの混合物を滴下して、1時間混合した
。
ついでこれを撹拌しながら150℃に昇温しで反応副生
物であるメタノールとエタノールが発生しなくなるまで
窒素ガスを流して、疎水性フユームドシリ力を得た。
得られた疎水性フユームドシリ力の特性は、疎水化度5
0%、帯電量−30tt C/gであり、炭素含有量は
2.1重量%であり、窒素含有量は0.1重量%であっ
た。
実施例1で使用したトナー100部にこの疎水性フュー
ムドシリカ0.7部を添加し、 タービュラーミキサー
を用いて混合したところ、同様に流動性の向上がみられ
、安息角は50’から38@に低下した。また、トナー
の帯電量は一20μC/gのまま変化しなかった。
トナーの安息角と帯電量は、温度25℃、湿度70%R
Hの雰囲気で1ケ月放置後も変化しなかった。
比較例2 実施例2で使用した式(m)で示されるシランの替りに
、 ジメチルジメトキシシラン2.0gを添加した以外
は実施例2と同様の条件によりフユームドシリ力のシラ
ン処理を実施したところ、得られた疎水性フユームドシ
リ力の特性は、炭素含有量2.1重量%、窒素含有量0
重量%、疎水化度50%、帯電量−400μC/gであ
った。
この疎水性フュームドシリカ0.7部を実施例2と同様
にしてトナー100部に混合したところ、 同様に流動
性の向上がみられ、安息角は50’から38゜に低下し
たが、 トナーの帯電量は一20μC/gから一23μ
C/gへと変化した。 したがって、このものをそのま
までトナーとして用いることは困難となった。
実施例3 比表面積130rrr/gであり、 2重量%の水含有
率を有するフユームドシリヵ100gを5Qセパラブル
フラスコにとり、ブチルトリメトキシシランLog。
3−7ミノプロビルトリメトキシシラン1.0gを加え
て、1時間混合し、ついでこのものを150℃に昇温し
で反応副生物が発生しなくなるまで撹拌しながら窒素ガ
、スを流すことにより、疎水性フユームドシリ力を得た
。
得られた疎水性フュームドシリカの特性は、炭素含有量
2.0重量%、窒素含有量0.08重量%であり、疎水
化度50%、帯電量は一35μC/gであった。
窒素含有量から、3−アミノプロピルシリル基は、 シ
リカ微粉末表面100人2当り約0.2個の密度で、酸
素原子を介してシリカ微粉末上のケイ素原子と化学的に
結合しており、炭素含有量から、ブチルシリル基は、1
00人2当り、約1.7個の密度で同様に化学結合して
存在していることになる。
実施例1で使用したトナー100部にこの疎水性フュー
ムドシリカ0.6部を添加し、 タービュラーミキサー
を用いて混合したところ、同様に流動性の向上がみられ
、安息角は50°から39@に低下し、一方、 トナー
の帯電量は一20μC/gのまま変化しなかった。
〔発明の効果〕
この発明の流動性向上剤は、シリカ系微粉末を有機ケイ
素化合物(イ)と有機ケイ素化合物(ロ)により表面処
理してなる。疎水性かつ負帯電性のシリカ系微粉末であ
るので、負帯電性樹脂粉末に添加した際に、その負帯電
性に与える影響が無視し得るほど小さく、かつ、負帯電
性樹脂粉末の流動性を大巾に向上させ、かつ、長期間に
わたって向上した流動性を保持することができるという
顕著な作用効果を奏する。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 シリカ系微粉末を(イ)1分子中にケイ素原子に直
    結した加水分解性基もしくはシラノール基を少なくとも
    1個と炭素−ケイ素結合によりケイ素原子に直結した非
    置換もしくは置換一価炭化水素基(但しアミノ基置換一
    価炭化水素基を除く)を少なくとも1個有する有機ケイ
    素化合物および(ロ)1分子中にケイ素原子に直結した
    加水分解性基もしくはシラノール基を少なくとも1個と
    炭素−ケイ素結合によりケイ素原子に結合したアミノ基
    置換一価炭化水素基を少なくとも1個有する有機ケイ素
    化合物により表面処理してなる疎水性かつ負帯電性のシ
    リカ系微粉末であることを特徴とする、負帯電性樹脂粉
    末の流動性向上剤。 2 シリカ系微粉末がフュームドシリカである特許請求
    の範囲第1項記載の流動性向上剤。 3 有機ケイ素化合物(イ)が一般式 (R)_mSi(X)_4_−_m( I ) 〔式中、Rは非置換もしくは置換一価炭化水素基(但し
    アミノ基置換一価炭化水素基を除く)であり、Xは加水
    分解性基もしくは水酸基であり、mは1、2または3で
    ある〕で示されるオルガノシランであり、有機ケイ素化
    合物(ロ)が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^1は一価炭化水素基であり、R^2はアミ
    ノ基置換一価炭化水素基であり、Yは加水分解性基もし
    くは水酸基であり、nは0、1または2である)で示さ
    れるオルガノシランである、特許請求の範囲第1項記載
    の流動性向上剤。 4 一般式( I )中のRがアルキル基であり、Xが塩
    素原子またはアルコキシ基であり、一般式(II)中のR
    ^1がアルキル基であり、R^2がアミノ基置換アルキ
    ル基であり、Yがアルコキシ基である、特許請求の範囲
    第3項記載の流動性向上剤。 5 アミノ基置換アルキル基がN、N−ジアルキルアミ
    ノアルキル基である特許請求の範囲第4項記載の流動性
    向上剤。 6 酸化鉄粉との接触帯電量が−100〜0(0を含ま
    ない)μC/gであり、負帯電性樹脂粉末が負帯電性ト
    ナーである、特許請求の範囲第1項記載の流動性向上剤
    。
JP63027270A 1988-02-08 1988-02-08 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤 Expired - Lifetime JPH0819263B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63027270A JPH0819263B2 (ja) 1988-02-08 1988-02-08 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63027270A JPH0819263B2 (ja) 1988-02-08 1988-02-08 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01203478A true JPH01203478A (ja) 1989-08-16
JPH0819263B2 JPH0819263B2 (ja) 1996-02-28

Family

ID=12216388

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63027270A Expired - Lifetime JPH0819263B2 (ja) 1988-02-08 1988-02-08 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0819263B2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01226713A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Jgc Corp ケイ酸化合物の表面改質法
US5665511A (en) * 1991-05-14 1997-09-09 Fuji Xerox Co., Ltd. Surface-treated inorganic fine particle and electrophotographic developer using the same
WO2000077105A1 (en) * 1999-06-16 2000-12-21 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Coating composition
JP2001139814A (ja) * 1999-11-11 2001-05-22 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd シリコーンゴム組成物およびその製造方法
JP2003149855A (ja) * 2001-11-14 2003-05-21 Denki Kagaku Kogyo Kk 疎水性シリカ微粉体、その製造方法および用途
JP2009155138A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Admatechs Co Ltd 微小粒子含有組成物及び微小粒子含有樹脂組成物並びにそれらの製造方法
JP4697569B2 (ja) * 1999-09-22 2011-06-08 日本アエロジル株式会社 表面改質シリカ微粉末とその用途
JP2011527982A (ja) * 2008-07-15 2011-11-10 ユニバーシテート デュースブルク−エッセン 多孔質炭素基板へのシリコン及び/若しくは錫の差込
JP2013181229A (ja) * 2012-03-02 2013-09-12 Hitachi Powdered Metals Co Ltd 粉末混合物および焼結部材の製造方法
JP2014156638A (ja) * 2013-02-18 2014-08-28 Hitachi Chemical Co Ltd 粉末混合物
JP2022136773A (ja) * 2021-03-08 2022-09-21 日本アエロジル株式会社 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01226713A (ja) * 1988-03-07 1989-09-11 Jgc Corp ケイ酸化合物の表面改質法
US5665511A (en) * 1991-05-14 1997-09-09 Fuji Xerox Co., Ltd. Surface-treated inorganic fine particle and electrophotographic developer using the same
WO2000077105A1 (en) * 1999-06-16 2000-12-21 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Coating composition
US6635735B1 (en) 1999-06-16 2003-10-21 Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. Coating composition
JP4697569B2 (ja) * 1999-09-22 2011-06-08 日本アエロジル株式会社 表面改質シリカ微粉末とその用途
JP2001139814A (ja) * 1999-11-11 2001-05-22 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd シリコーンゴム組成物およびその製造方法
JP2003149855A (ja) * 2001-11-14 2003-05-21 Denki Kagaku Kogyo Kk 疎水性シリカ微粉体、その製造方法および用途
JP2009155138A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Admatechs Co Ltd 微小粒子含有組成物及び微小粒子含有樹脂組成物並びにそれらの製造方法
JP2011527982A (ja) * 2008-07-15 2011-11-10 ユニバーシテート デュースブルク−エッセン 多孔質炭素基板へのシリコン及び/若しくは錫の差込
JP2013181229A (ja) * 2012-03-02 2013-09-12 Hitachi Powdered Metals Co Ltd 粉末混合物および焼結部材の製造方法
JP2014156638A (ja) * 2013-02-18 2014-08-28 Hitachi Chemical Co Ltd 粉末混合物
JP2022136773A (ja) * 2021-03-08 2022-09-21 日本アエロジル株式会社 表面改質無機酸化物粉末及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0819263B2 (ja) 1996-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2630946B2 (ja) 正帯電性樹脂粉末の流動性向上剤
JP4118637B2 (ja) シリカのシラノール基含有率が低いシリカ
US5376172A (en) Metal oxide processes and toners thereof
JP4579265B2 (ja) 高度の流動性を有する疎水性球状シリカ微粒子、その製造方法、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤およびそれを含有する有機樹脂組成物
JP6962296B2 (ja) 正帯電型疎水性球状シリカ粒子、その製造方法及びそれを用いた正帯電トナー組成物
JP4615952B2 (ja) 改質疎水化シリカ及びその製造方法
JPH0131442B2 (ja)
JPH0959533A (ja) 表面改質金属酸化物微粉末およびその製造方法
JP2001281914A (ja) 表面改質金属酸化物微粉末およびその製造方法と用途
JP3327125B2 (ja) 静電潜像現像剤及び画像形成方法
JPH0819263B2 (ja) 負帯電性樹脂粉末の流動性向上剤
TW202009615A (zh) 正電荷型疏水性球形二氧化矽顆粒、其製造方法以及使用該正電荷型疏水性球形二氧化矽顆粒的正電荷調色劑組成物
JP4060241B2 (ja) 疎水性球状シリカ系微粒子、その製造方法、および、それを用いた静電荷像現像用トナー外添剤
JP3930236B2 (ja) 静電荷像現像用トナー外添剤
KR20070092251A (ko) 넓은 pH 범위에 걸쳐 영구 포지티브 표면 전하를 갖는금속 산화물
JP3319114B2 (ja) 疎水性シリカ粉体、その製法とそれを含む電子写真用現像剤
JPS63139367A (ja) 負荷電性の電子写真用現像剤
JPH0132161B2 (ja)
JP3166014B2 (ja) 疎水性酸化チタンおよび電子写真用現像剤
JP4628760B2 (ja) 球状疎水性ポリジオルガノシロキサン含有シリカ微粒子、静電荷像現像用トナー外添剤およびトナー
JP7708604B2 (ja) 沈降珪酸を用いた表面改質シリカ粉末及びその製造方法
JP2006154479A (ja) 静電荷像現像用トナー外添剤およびトナー
JP2964750B2 (ja) 疎水性シリカ
JP3344203B2 (ja) 疎水性金属酸化物粉体とその用途
JPH0255206A (ja) 表面改質金属酸化物微粉末