JPH01205973A - 研磨用組成物 - Google Patents

研磨用組成物

Info

Publication number
JPH01205973A
JPH01205973A JP63027941A JP2794188A JPH01205973A JP H01205973 A JPH01205973 A JP H01205973A JP 63027941 A JP63027941 A JP 63027941A JP 2794188 A JP2794188 A JP 2794188A JP H01205973 A JPH01205973 A JP H01205973A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
alumina
water
boehmite
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP63027941A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2632898B2 (ja
Inventor
Tsutomu Yamada
勉 山田
Kouichi Ootani
大谷 孝弌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Kasei Corp, Mitsubishi Chemical Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Kasei Corp
Priority to JP63027941A priority Critical patent/JP2632898B2/ja
Priority to DE68927116T priority patent/DE68927116T2/de
Priority to EP89100801A priority patent/EP0325232B1/en
Priority to US07/298,048 priority patent/US4956015A/en
Priority to KR1019890000536A priority patent/KR0141694B1/ko
Publication of JPH01205973A publication Critical patent/JPH01205973A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2632898B2 publication Critical patent/JP2632898B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は研磨剤組成物に関するものである。
詳しくは、研磨能率がよく、すぐれた研磨表面を形成す
ることができる研磨剤組成物に関するものである。
〔従来技術〕
従来、水とアルミナからなる研磨剤組成物は知られてい
る(例えば、特開昭!T’l−g93gq号参照)が、
研磨速度が十分でなく、研磨速度を上げる目的でアルミ
ナの粒径な大きくすると。
研磨表面に荒れが生ずるようになり、研磨速度と表面状
態の両方を満足するものとは言えなかった。
過去io年間に於いて、工業的規模の生産が飛曜的に増
加したシリコン及び化合物半導体基板、各種の磁気メモ
リーハードディスク、レーザ一部品等の材料の精密研磨
加工においては。
特に加工面の平滑度、無欠陥性(スクラッチ。
オレンジビール、ビット、ノジュール、クラック等の欠
陥がない事)に対する要求水準が、過去の研磨加工技術
水準に比して遥かに高度化すると共に、他方、生産、検
査設備等に多額の投資が必要な為、生産スピードの向上
、不良欠陥ロスの低減に依るコストカットも重要な課題
となっている。
従りて、これらの分野で使用される研磨剤に就いても加
工精度と共に研磨速度の向上に対する要望が極めて強い
ものとなっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明者らは、かかる要望を満足するよりすぐれた研磨
剤組成物を得るぺ〈、鋭意研究を重ねた結果、水とα−
アルミナからなる研磨剤組成物に、ベーマイト及び水溶
性の金属塩を存在させるときは、加工物加工面の平滑度
、或は表面欠陥(スクラッチ、オレンジピール等)発生
防止等の研磨仕上がり効果を低下させることなく、シか
も研磨速度を大幅に向上させることが出来ることを知得
して本発明を完成した。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の要旨は、水、α−アルミナ、ベーマイト及び水
溶性の金属塩を含有してなる研磨剤組成物に存する。
以下1本発明を更に詳細に説明する。
本発明で使用するα−アルミナとしては、特に限定され
ないがバイヤライト、ジブサイト、バイトラージライト
のような水酸化アルミニウム、ベーマイト、γ−アルミ
ナ、θ−アルミナのようなα−アルミナ以外、のアルミ
ナを、常法に従い1ioo℃以上の温度で焼成して得た
アルミナが挙げられる。此の焼成温度は高い程研磨速度
が大きくなる傾向があるので/200℃以上、lコOQ
〜/!TOO℃で焼成して得られたα−アルミナが好ま
しい。
加工精度及び研磨速度を考慮すると本発明で使用される
α−アルミナは平均粒径でo、i〜ioμ、好ましくは
0./〜3μであり、又最大粒径で30μ以下、好まし
くは20μ以下の微粉体である。従って、焼成して得ら
れたα−アルミナは通常の微粉砕装置即ち湿式スラリ方
式ではボールミル、振動ミル等で粉砕し粗大粒子は重力
沈降、遠心沈降等の装置で分級するか。
或は乾式方式即ちジェット気流に依る粉砕分級処理によ
り所望の粒度に整粒する。
α−アルミナの含有量は1組成物全量に対して7〜30
重量%、好ましくは2〜75重量%である。あまりに少
ないと研磨速度が小さくなり、逆にあまりに多いと均一
分散が保てなくなり、かつ、スラリー粘度が過大となっ
て取扱いが困難となる。
一方、ベーマイトは、アルミナ水和物の1種である。ア
ルミナ水和物には結晶形の違いによりジブサイト、バイ
アライト、ノルストランダイト、ベーマイト、ジアスポ
ア等が存在するが。
本発明の研磨剤組成物ではベーマイトを含有することを
必須の要件とする。
ベーマイトとは、ジブサイト等を25θ℃程度で加圧水
熱処理するか、或はチl−グラー法で合成されるアルミ
ニウム有機化合物CAt(OR)s ](但し、Rはア
ルキル基である)の加水分解に依って製造する方法で一
般的に生産されており。
アルミナゾル、セラミックバインダー、繊維製品カーペ
ットの帯電防止処理、水の浄化処理、化粧品、軟こうの
増粘剤、アルミナ系触媒又は触媒担体等の原料として広
く利用されている工業材料である。
ベーマイトは、 At・αΣ又はAt、O,・H2Oの
化学式で表示される物質で、粉体製品としては1例えば
、 KAISER(米国) 、 VISTA Chem
ical (米国) +1 Condea Chemi
e (ドイツ)等から市販されている。例えば200μ
以下95%、4’jμ以下so%の粒子からなる粉体な
水中又は酸性の水中で攪拌1分散させると、一部繊維状
、大部分は粒状で、且つそのサイズが0.O1μ以下の
超微細粒子の形で分散し、コロイド状のゾルを形成する
性質を有する。ベーマイトのゾルに等電点9.りであり
1粒子自身が陽性に帯電している事が電気泳動法により
観測される。
本発明で水に分散されるベーマイトは粉体でもベーマイ
トゾルでも使用可能であるが、いずれの場合も、水に分
散させた場合の粒子径が0.07μ以下のゾルを形成す
るものを使用する。
ベーマイトの含有量は組成物全i:に対しo、i〜20
重量%、好ましくは0.3− / 0重量%である。ベ
ーマイト含有量が余りに少ないと研磨速度向上の効果が
期待出来ず、逆に余りに多いと見掛粘度、チキントロピ
ー性が増大し、α−アルミナの均一分散性を損なう事と
なると同時に研磨剤組成物の容器からの取出しが困難と
なる等ハンドリング上不適な物性となる。
更に本発明では水、α−アルミナ及びベーマイトからな
る系に1粒子の分散性、或は逆に凝集性を高めるために
水溶性の金属塩を添加することが必要である。
水溶性の金属塩としては、水に対する溶解度が1y7i
ooy水以上のものであれば使用出来るが、好ましくは
!; f / / 00 f水以上のものであることが
望ましい。
このような水溶性の金属塩の例としては、リチウム、ナ
トリウム、カリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、
カルシウムのようなアルカリ土類金属、亜鉛、アルミニ
ウム、ニッケル等の金属と、硝酸、硫酸、塩酸、燐酸の
ような無機酸又は蟻酸、酢酸、クエン酸のような有機酸
との塩があげられる。
具体的には、硝酸リチウム、硫酸リチウム。
クエン酸リチウム、硝酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、
チオ硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム。
酢酸ナトリウム、硫酸カリウム、塩化カリウム。
硝酸マグネシウム、硫酸マグネシウム、硫駿マグネシウ
ムアンモン、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、硝
酸カルシウム、塩化カルシウム、硫駿亜鉛、塩化亜鉛、
酢酸亜鉛、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、燐酸
アルミニウム、塩化アルミニウム、カリ明ばん、硝酸ニ
ッケル、硫酸ニッケル、蟻酸ニッケル、酢酸ニッケル等
があげられる。
これらの中では、アルミナ−水スラリー系に対する分散
又は凝集作用が高い点で硝酸マグネシウム、塩化マグネ
シウム、硫酸マグネシウム。
硝酸カルシウム、硝酸アルミニウム、硫酸アルミニウム
のようなマグネシウム、カルシウム又はアルミニウムの
無機酸塩が好ましい。
水溶性の金属塩の含有量は1組成物全量に対して0.5
〜20重量%、好ましくは/−/D重t%である。この
量があまりに少ないと本発明の効果が期待出来なくなる
。逆にあまりに多くても、添加効果が向上する事もなく
、冬時低現時に塩の結晶が析出するとか、排水浄化処理
の負担を増す等の不都合を生じるようになる。
本発明の研磨剤組成物が優れた研磨効果を有することの
詳細は不明であるが、ベーマイト及び水溶性の金属塩の
存在が研磨剤組成物中のα−アルミナの分散状態に何等
からの影響を及ぼし、かかる分散状態が研磨加工に有利
に作用すると思われる。即ち前述のα−アルミナ粒子を
水中又は酸性の水中で攪拌し分散させると1個々の粒子
は陽性の電荷を保有し、水又は電解質の陰イオンを吸着
し電気的二重層を形成する。
かかる微粒子の分散系にあってはファンデルワールス引
力に依る凝集と電気的斥力に依る反発作用力とで成る種
の平衡状態を形成するのであるが、こ\にベーマイトを
共存させると、ベーマイトは該水中で陽性に帯電するた
め、全体の分散系としては電気的斥力に依る粒子相互間
の分散効果が強まる事となる。かかるスラリー状研磨剤
による精密研磨加工に於ては遊離砥粒であるα−アルミ
ナ粒子が単分散又は凝集状態で研磨パッドに保持され、
成る加工圧で被加工物表面を摺動するにつれて、砥粒(
α−アルミナ粒子)がころがりつ\或は渭りつ\研削作
用を及ぼしている事になり、砥粒が被加工物表面を研削
する作用点の数が多く且つ各作用点での研削作用力が均
一である程、加工時の単位摺動量。
単位時間当りの研磨量が大きく且つ加工表面精度が高く
なる筈である。しかしながら、研磨パッドと被加工物表
面の接触面では砥粒(α−アルミナ)と被加工物が研削
されて発生した微細粒子(削りかす)が水に懸濁したス
ラリ状態が存在するため1個々の粒子の分散又は凝集状
態が研磨量、断層仕上り性に強く影響を及ぼすであろう
事が推定されるが1本発明の如く水、α−アルミナ、ベ
ーマイト及び水溶性金属塩を含有してなる研磨剤に於て
はベーマイト及び水溶性金属塩が各粒子の分散又は凝集
状態に影響し。
研磨性能の向上をもたらすと思われる。
本発明の研磨剤組成物の調製は、前記各成分を混合攪拌
すればよく、混合順序等も特に制限されるものではない
又、この研磨剤組成物の調製に際しては、被加工物の種
類、加工条件等の研磨加工上の必要条件に応じて、下記
の如き各種の公知の添加剤を加えてもよい。
添加剤としては、例えば、エタノール、プロパツール、
エチレングリコールの様な水溶性アルコール類、アルキ
ルベンゼンスルホン酸ソーダ、ナフタリンスルホン酸の
ホルマリン縮合物の様な界面活性剤、硫酸、塩酸、硝駿
、酢酸の様な酸類、リグニンスルホン酸塩、カルボキシ
メチルセルロース塩、ポリアクリル酸塩の様な有機ポリ
アニオン系物質、セルロース、カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロースの様なセルロース類
、硫酸アンモニウム。
塩化アンモニウム、酢酸アンモニウムの様な無機塩類等
があげられる。
尚、本発明の研磨剤組成物の pHとしては。
3〜g、好ましくはμ〜7である。pHは一塩の種類、
添加量等に依って変動するものであるが、一般に、水−
アルミナ系研磨剤でpHをアルカリサイドに偏倚させる
と、高粘度となり、多孔質網状組織からなる研磨パッド
の目詰まり劣化、被加工物表面へのスクラッチ発生トラ
ブル等を起こし易くなるので、研磨剤組成物のpHを酸
性サイドに調整するのが通例であって、かかる目的で酸
類な少量添加する場合がある。
本発明の研磨剤組成物は、金属、ガラス、プラスチック
等の研磨に使用されるが、欠陥のない研磨表面が得られ
ることから、メモリーハードディスク等の研磨に特に好
適である。
〔実施例〕
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが1本
発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定され
るものではない。
実施例1−コダ、及び比較例1 〔研磨剤組成物の調整〕 水酸化アルミニウムを1300℃、!r待時間条件で焼
成し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ(平均粒子
径O,S Uμ、最大粒子径gμ)を、高速ミキサーを
用いて水に分散させてα−アルミナ濃度6重量−のスラ
リーを調製した。
これにベーマイト及び水溶性の金属塩を第1ffK記載
の割合で添加分散させて研磨剤組成物を調製した。
’A Pural  (W3 %名)SCF (平均粒
子径的2゜μ)を使用した。
〔研磨試験〕
被加工物としてアルミニウム基板にニッケル・リンの無
電解メツキにッケル90〜92%。
リン1O−ff%の合金メツキ層)を施したJ、5イン
チメモリハードディスク(外径約q s % )の基板
を使用した。
此のディスクを両面研磨機に装填して研磨する。研磨機
の上下定盤に、夫々、スェードタイプのポリウレタン基
質研磨パッドが装着しである両面研磨機に該ディスクを
装填し、ディスクと両研磨パッドを相対的に摺動させて
S分間研磨を行なった。
研磨はディスクと両研磨パッドの間に上記研磨剤試料を
毎分当り、? 00 ccの割合で供給し。
加工圧100ft/Cdで行なった。
研磨の後、ディスクを両面研磨機より取出し。
超音波洗浄をくり返し、ディスク加工面を清浄にして、
目視検査に依り1表面欠陥の有無程度を評価した。
次にディスクの厚さの計測を行ない厚さの減少量から毎
分当りの平均研磨速度を算出した。
此の試験結果は第1表に示す通りである。
第  7  表 実施例25〜2g、及び比較例コ 〔研磨剤組成物の調整〕 水酸化アルミニウムな/200℃、5時間の条件で焼成
し、乾式方法で粉砕整粒したα−アルミナ(平均粒子径
θ、lI9μ、最大粒子径Sμ)を、高速ミキサーを用
いて水に分散させてα−アルミナ濃度3重量%のスラリ
ーを調整した。
これにベーマイト及び水溶性の金属塩を第2表に記載の
割合で添加分散させて研磨剤組成物を調製した。
なお、ベーマイトとしては水酸化アルミニウムをオート
クレーブ中230℃で水熱処理して得たベーマイトゾル
を使用した。
〔研磨試験〕 被加工物として一3QrH1径のポリカーボネートディ
スクを用い、これを両面研磨機に装填して研磨した。
尚、研磨機の上下定盤には夫々スェードタイプの軟質ポ
リウレタン基質研磨パッドが装着されており、ディスク
と研磨パッドの間に研磨剤試料を毎分当りs o o 
ccの割合で供給しながら。
加工圧goff/crdの条件でディスクと研磨パッド
を相対的に摺動させてS分間研磨を行なった。
研磨終了後ディスクを研磨機より取出し、超音波洗浄に
より加工面を清浄にして目視検査で表面欠陥の有無程度
を評価した。
次にディスクの重量を測定して、研磨前後の重量損失量
を算出して、毎分当りの平均研磨量を求めた。
此の試験結果は第2表に示す通りである。
第  λ  表 〔発明の効果〕 本発明に従いα−アルミナ−水分散系にベーマイト及び
水溶性の金属塩を添加した研磨剤組成物は、研磨加工面
に表面欠陥を発生する事なく、より高い研磨速度を発現
し、研磨加工能率を高めることができる。しかも1本発
明の研磨剤組成物は研磨速度が高いため、研磨加工時間
の短縮、研磨剤消費量の低減、高価なる研磨パッドの損
耗、劣化の減少等による加工コストの低下をもたらし、
極めて有用である。
出願人  三菱化成工業株式会社 代理人  弁理士 長谷用  − ほか1名 1 事件の表示 昭和63年特許願第27941号 2 発明の名称 研磨剤組成物 3 補正をする者

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)水、α−アルミナ、ベーマイト及び水溶性の金属
    塩を含有してなる研磨剤組成物。
JP63027941A 1988-01-19 1988-02-09 研磨用組成物 Expired - Lifetime JP2632898B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63027941A JP2632898B2 (ja) 1988-02-09 1988-02-09 研磨用組成物
DE68927116T DE68927116T2 (de) 1988-01-19 1989-01-18 Poliermasse
EP89100801A EP0325232B1 (en) 1988-01-19 1989-01-18 Polishing composition
US07/298,048 US4956015A (en) 1988-01-19 1989-01-18 Polishing composition
KR1019890000536A KR0141694B1 (ko) 1988-01-19 1989-01-19 연마제 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63027941A JP2632898B2 (ja) 1988-02-09 1988-02-09 研磨用組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01205973A true JPH01205973A (ja) 1989-08-18
JP2632898B2 JP2632898B2 (ja) 1997-07-23

Family

ID=12234921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63027941A Expired - Lifetime JP2632898B2 (ja) 1988-01-19 1988-02-09 研磨用組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2632898B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10195421A (ja) * 1996-11-14 1998-07-28 Nissan Chem Ind Ltd アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法
US6007592A (en) * 1996-11-14 1999-12-28 Nissan Chemical Industries, Ltd. Polishing composition for aluminum disk and polishing process therewith
US6336945B1 (en) 1996-11-14 2002-01-08 Kao Corporation Abrasive composition for the base of magnetic recording medium and process for producing the base by using the same
WO2008102672A1 (ja) * 2007-02-20 2008-08-28 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 研磨スラリーおよびその製造方法、ならびに窒化物結晶体およびその表面研磨方法
JP2015109128A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 花王株式会社 ガラスハードディスク基板用研磨液組成物
CN117120564A (zh) * 2021-03-29 2023-11-24 恩特格里斯公司 用于化学机械平坦化(cmp)的悬浮液和使用所述悬浮液的方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278587A (ja) * 1985-06-04 1986-12-09 Fujimi Kenmazai Kogyo Kk 研磨用組成物
JPS6215282A (ja) * 1985-07-12 1987-01-23 Fujimi Kenmazai Kogyo Kk プラスチツク製品の研磨用組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278587A (ja) * 1985-06-04 1986-12-09 Fujimi Kenmazai Kogyo Kk 研磨用組成物
JPS6215282A (ja) * 1985-07-12 1987-01-23 Fujimi Kenmazai Kogyo Kk プラスチツク製品の研磨用組成物

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10195421A (ja) * 1996-11-14 1998-07-28 Nissan Chem Ind Ltd アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法
US6007592A (en) * 1996-11-14 1999-12-28 Nissan Chemical Industries, Ltd. Polishing composition for aluminum disk and polishing process therewith
US6336945B1 (en) 1996-11-14 2002-01-08 Kao Corporation Abrasive composition for the base of magnetic recording medium and process for producing the base by using the same
WO2008102672A1 (ja) * 2007-02-20 2008-08-28 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 研磨スラリーおよびその製造方法、ならびに窒化物結晶体およびその表面研磨方法
JP2015109128A (ja) * 2013-12-05 2015-06-11 花王株式会社 ガラスハードディスク基板用研磨液組成物
CN117120564A (zh) * 2021-03-29 2023-11-24 恩特格里斯公司 用于化学机械平坦化(cmp)的悬浮液和使用所述悬浮液的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2632898B2 (ja) 1997-07-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0325232B1 (en) Polishing composition
TW555696B (en) Alumina powder, process for producing the same and polishing composition
US6117220A (en) Polishing composition and rinsing composition
CA1297304C (en) Abrasive grains in the shape of platelets
US5114437A (en) Polishing composition for metallic material
JPH04363385A (ja) 研磨剤組成物
EP0842997B1 (en) Polishing composition for aluminium disk and polishing process therewith
KR940000662B1 (ko) 연마용 조성물 및 연마 방법
US6193790B1 (en) Polishing composition
WO2002031079A1 (en) Abrasive material
JP2001260005A (ja) 混成研磨用スラリー
JPH11268911A (ja) アルミナ粉末及びその製造方法並びに研磨用組成物
JPH01205973A (ja) 研磨用組成物
JP4557105B2 (ja) 研磨用組成物
JP2725192B2 (ja) 研磨剤組成物
JP2725191B2 (ja) 研磨剤組成物
JP3831982B2 (ja) アルミニウムディスクの研磨用組成物
JP2850254B2 (ja) 研磨剤組成物
JP3160820B2 (ja) 研磨剤組成物
JP3055060B2 (ja) 研磨剤組成物
JPH03277683A (ja) 精密研磨用組成物
JP2841235B2 (ja) 研磨剤組成物
JP2632889B2 (ja) 研磨用組成物
US4491478A (en) Compositions and methods for polishing metal surfaces
JP4114018B2 (ja) アルミニウムディスクの研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term