JPH01207190A - オゾン溶解装置 - Google Patents
オゾン溶解装置Info
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- JPH01207190A JPH01207190A JP63033051A JP3305188A JPH01207190A JP H01207190 A JPH01207190 A JP H01207190A JP 63033051 A JP63033051 A JP 63033051A JP 3305188 A JP3305188 A JP 3305188A JP H01207190 A JPH01207190 A JP H01207190A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
- B01F23/20—Mixing gases with liquids
- B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
- B01F23/237—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
- B01F23/2376—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media characterised by the gas being introduced
- B01F23/23761—Aerating, i.e. introducing oxygen containing gas in liquids
- B01F23/237613—Ozone
-
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- B01F23/231—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids by bubbling
- B01F23/23105—Arrangement or manipulation of the gas bubbling devices
- B01F23/2312—Diffusers
- B01F23/23123—Diffusers consisting of rigid porous or perforated material
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01F23/23126—Diffusers characterised by the shape of the diffuser element
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-
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- B01F2215/00—Auxiliary or complementary information in relation with mixing
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Landscapes
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- Nanotechnology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（発明の分野）
本発明は、オゾン溶解装置に関するものであり、特に水
等の液体中に高濃度にオゾンを溶解することを可能とす
る散気型オゾン溶解装置に関するものである。
等の液体中に高濃度にオゾンを溶解することを可能とす
る散気型オゾン溶解装置に関するものである。
（従来技術とその問題点）
廃水処理プラント、水処理プラント及び半導体等電子部
品の製造工程におけるクリーニング装置やレジストアッ
シング装置、医薬品・医療分野における殺菌・滅菌装置
には、水等に溶解したオゾンが広く用いられる。
品の製造工程におけるクリーニング装置やレジストアッ
シング装置、医薬品・医療分野における殺菌・滅菌装置
には、水等に溶解したオゾンが広く用いられる。
かかるオゾンの水への溶解は、通常のエアレーションに
おける酸素溶解と同様に、二重境膜論に従うとされてい
る。
おける酸素溶解と同様に、二重境膜論に従うとされてい
る。
即ち、以下の公式に従う。
％式％）
ここで、Ｎ ニオシンの移動速度
ＫＬ：源側の総括物質移動速度
Ａ ：気液接触面積
Ｃ：液中のオゾン濃度
Ｃ８：その圧力で平衡して存在す
るオゾン濃度
従って、オゾンを高濃度に溶解させるにはＮを大きくす
ることははがならず、上式がら明らかなように、ＫＬや
Ａを大きくするする必要がある。
ることははがならず、上式がら明らかなように、ＫＬや
Ａを大きくするする必要がある。
従来このＫＬあるいはＡを大きくする方法が種々検討さ
れてきた６例えば、気液接触面積ウ 有ガスに対して高圧ポンプあるいは撹伴機構等の外部動
力によるエアーレーショを併用する方法である。さらに
他の方法として、気液接触面積を大きくする方法として
、液体が導入される長い気泡塔を準備し、この気泡塔に
対してオゾン含有ガスを導入する方法である。
れてきた６例えば、気液接触面積ウ 有ガスに対して高圧ポンプあるいは撹伴機構等の外部動
力によるエアーレーショを併用する方法である。さらに
他の方法として、気液接触面積を大きくする方法として
、液体が導入される長い気泡塔を準備し、この気泡塔に
対してオゾン含有ガスを導入する方法である。
しかしながらこれらの従来技術は、いずれも高圧ポンプ
や、長い気泡塔を使用するとうの点で設備コストが高い
、あるいは設備スペースが広く必要とする等の問題点が
あり、小型低価格のオゾン溶解装置としては適当ではな
い。
や、長い気泡塔を使用するとうの点で設備コストが高い
、あるいは設備スペースが広く必要とする等の問題点が
あり、小型低価格のオゾン溶解装置としては適当ではな
い。
（発明の目的）
本発明は、上記した従来技術の欠点を解決するためのも
のであり、安価な設備でかつ大きな設備スペースを必要
としないオゾン溶解装置を提供せんとするものである。
のであり、安価な設備でかつ大きな設備スペースを必要
としないオゾン溶解装置を提供せんとするものである。
（発明の構成）
本発明は、水等の液体中に配した０、１〜１０ミクロン
径の細孔を多数有するセラミック又はガラス製の中空フ
ィルターの該中空部分にオゾン含有ガスを導入し、該細
孔からオゾンガスを噴出せしめて液体中にオゾンガスを
溶解させることを特徴とするオゾン溶解装置である。
径の細孔を多数有するセラミック又はガラス製の中空フ
ィルターの該中空部分にオゾン含有ガスを導入し、該細
孔からオゾンガスを噴出せしめて液体中にオゾンガスを
溶解させることを特徴とするオゾン溶解装置である。
（実施例）
以下、本発明を図面に示した実施例に基づいて詳細に説
明するが、本発明は、この実施例に限定されるものでは
ない。
明するが、本発明は、この実施例に限定されるものでは
ない。
第１図において、１は溶解槽であり、例えば市水が貯蔵
されている。２はオゾン含有ガスの導入管であり、例え
ば図示しないオゾン発生装置に接続されている。３は該
オゾンガスの導入管２に接続され、前記溶解槽１に貯蔵
された市水に浸漬された０、１〜１０ミクロン径の細孔
を多数有するセラミック又はガラス製の中空フィルター
である。該中空フィルターの解放端部は閉そくされてい
る。
されている。２はオゾン含有ガスの導入管であり、例え
ば図示しないオゾン発生装置に接続されている。３は該
オゾンガスの導入管２に接続され、前記溶解槽１に貯蔵
された市水に浸漬された０、１〜１０ミクロン径の細孔
を多数有するセラミック又はガラス製の中空フィルター
である。該中空フィルターの解放端部は閉そくされてい
る。
二重境膜論に従う式、即ち、
Ｎ＝ＫＬ−Ａ （ＣＳ−Ｃ）
ここで、Ｎ ニオシンの移動速度
ＫＬ：液間の総括物質移動速度
Ａ ：気液接触面積
Ｃ：液中のオゾン濃度
Ｃ８：その圧力で平衡して存在す
るオゾン濃度
においては、オゾンの短時間かつ高濃度の水等液体への
溶解を行わせる際には、液間の総括物質移動係数（ＫＬ
）、気液接触面積（Ａ）、気液オゾン濃度差（ＣＳ−Ｃ
）を大きくする必要がある。特に、ＫＬやＡ）は、気／
液比、気泡径、気泡上昇速度、レイノルズ係数、水温、
ＰＨに関係し、オゾン含有ガスの液中への注入方法が重
要となる。
溶解を行わせる際には、液間の総括物質移動係数（ＫＬ
）、気液接触面積（Ａ）、気液オゾン濃度差（ＣＳ−Ｃ
）を大きくする必要がある。特に、ＫＬやＡ）は、気／
液比、気泡径、気泡上昇速度、レイノルズ係数、水温、
ＰＨに関係し、オゾン含有ガスの液中への注入方法が重
要となる。
上記した本発明のオゾン溶解装置においては、溶解槽１
に貯蔵された市水に浸漬された０、１〜ｌＯミクロン径
の細孔を多数有するセラミック又はガラス製の中空フィ
ルターを用いることによって、気液接触面積 められるように、できる限り小さい気泡径を作り、かつ
無数に液中に放出可能としたものである。
に貯蔵された市水に浸漬された０、１〜ｌＯミクロン径
の細孔を多数有するセラミック又はガラス製の中空フィ
ルターを用いることによって、気液接触面積 められるように、できる限り小さい気泡径を作り、かつ
無数に液中に放出可能としたものである。
上記したオゾン溶解装置において、０．５ミクロンの細
孔を無数に有する多孔質セラミックチューブ（内径８ｍ
ｍ）の一端を封じて、他端を導入管２に接続した。この
時のオゾンガスの圧力は０．３Ｋｇ／ａｍ”以下で、流
量は１〜２リットル／分程度であった。その結果、セラ
ミックチューブの外側に噴出したオゾンガスは、セラミ
ック／液界面で液と激しく混ざりあい、細かな気泡同志
が集合し、ある程度大きくなって後、液上面に向かつて
移動して行くことが分かった。その結果、気液接触面積
が極めて大きくなり、気／液比も高くなることからＫＬ
も大きくなり、溶解オゾン量が短時間で多くなることが
分かった。
孔を無数に有する多孔質セラミックチューブ（内径８ｍ
ｍ）の一端を封じて、他端を導入管２に接続した。この
時のオゾンガスの圧力は０．３Ｋｇ／ａｍ”以下で、流
量は１〜２リットル／分程度であった。その結果、セラ
ミックチューブの外側に噴出したオゾンガスは、セラミ
ック／液界面で液と激しく混ざりあい、細かな気泡同志
が集合し、ある程度大きくなって後、液上面に向かつて
移動して行くことが分かった。その結果、気液接触面積
が極めて大きくなり、気／液比も高くなることからＫＬ
も大きくなり、溶解オゾン量が短時間で多くなることが
分かった。
第３図にその結果をグラフで示す、溶解槽には約２０リ
ツトルの市水を貯蔵し、前記セラミックチューブ１本に
６０．ＯＯＯｐｐｍのオゾンガスを導入し、無数の細か
い気泡を発生させたところ、約５分位で１１〜１２ｐｐ
ｍのオゾン溶解水が得られた。これは、従来のオゾン溶
解装置における同じ条件のオゾン溶解水濃度の約３倍の
値であった。
ツトルの市水を貯蔵し、前記セラミックチューブ１本に
６０．ＯＯＯｐｐｍのオゾンガスを導入し、無数の細か
い気泡を発生させたところ、約５分位で１１〜１２ｐｐ
ｍのオゾン溶解水が得られた。これは、従来のオゾン溶
解装置における同じ条件のオゾン溶解水濃度の約３倍の
値であった。
（発明の効果）
以上詳細に説明したごとく本発明のオゾン溶解装置は、
高圧ポンプ、撹伴手段あるいは長い気泡塔等の高価で大
きな設備スペースを必要とせずの高濃度のオゾン溶解水
を売ることができる。
高圧ポンプ、撹伴手段あるいは長い気泡塔等の高価で大
きな設備スペースを必要とせずの高濃度のオゾン溶解水
を売ることができる。
従って、このようなオゾン溶解装置を用いることにより
、廃水処理プラント・水処理プラントのの小型化・低価
格化、半導体等電子部品等の製造工程におけるクリーニ
ング装置や、レジストアッシング装！、あるいは医薬品
・医療分野における殺菌・滅菌装置を小型化・低価格化
することが可能である。
、廃水処理プラント・水処理プラントのの小型化・低価
格化、半導体等電子部品等の製造工程におけるクリーニ
ング装置や、レジストアッシング装！、あるいは医薬品
・医療分野における殺菌・滅菌装置を小型化・低価格化
することが可能である。
第１図は本発明のオゾン溶解装置の概略斜視図である。
１：溶解槽 ２：導入管
３：中空フィルター
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 水等の液体中に配した０．１〜１０ミクロ ン径の細孔を多数有するセラミック又はガラス製の中空
フィルターの該中空部分にオゾン含有ガスを導入し、該
細孔からオゾンガスを噴出せしめて液体中にオゾンガス
を溶解させることを特徴とするオゾン溶解装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63033051A JPH01207190A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | オゾン溶解装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63033051A JPH01207190A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | オゾン溶解装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01207190A true JPH01207190A (ja) | 1989-08-21 |
Family
ID=12375969
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63033051A Pending JPH01207190A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | オゾン溶解装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01207190A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03154690A (ja) * | 1989-11-10 | 1991-07-02 | Permelec Electrode Ltd | 高濃度オゾン水の製造方法及び装置 |
| FR2683158A1 (fr) * | 1991-11-06 | 1993-05-07 | Tarting Philippe | Production de microbulles de gaz au sein d'un liquide. |
| DE19701971C1 (de) * | 1997-01-22 | 1998-11-26 | Invent Gmbh Entwicklung Neuer Technologien | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substratoberflächen |
| ES2161129A1 (es) * | 1999-03-23 | 2001-11-16 | Orti Javier Porcar | Filtro de ozono para la reduccion de la contaminacion atmosferica. |
-
1988
- 1988-02-16 JP JP63033051A patent/JPH01207190A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03154690A (ja) * | 1989-11-10 | 1991-07-02 | Permelec Electrode Ltd | 高濃度オゾン水の製造方法及び装置 |
| FR2683158A1 (fr) * | 1991-11-06 | 1993-05-07 | Tarting Philippe | Production de microbulles de gaz au sein d'un liquide. |
| DE19701971C1 (de) * | 1997-01-22 | 1998-11-26 | Invent Gmbh Entwicklung Neuer Technologien | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substratoberflächen |
| ES2161129A1 (es) * | 1999-03-23 | 2001-11-16 | Orti Javier Porcar | Filtro de ozono para la reduccion de la contaminacion atmosferica. |
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