JPH0121150B2 - - Google Patents
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- JPH0121150B2 JPH0121150B2 JP16929079A JP16929079A JPH0121150B2 JP H0121150 B2 JPH0121150 B2 JP H0121150B2 JP 16929079 A JP16929079 A JP 16929079A JP 16929079 A JP16929079 A JP 16929079A JP H0121150 B2 JPH0121150 B2 JP H0121150B2
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Description
本発明は、7−アミノ−3−置換メチルセフエ
ムカルボン酸またはその塩の製造法に関し、詳細
には、一般式
[式中、R1は水素原子を;Xはアセトキシ基を
示す。]
で表わされる化合物またはその塩に、有機溶媒
中、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸の錯化
合物の存在下、一般式
R2−H []
[式中、R2は置換されていてもよいフエニル、
インダニル、チエニルまたはフリル基を示す。]
で表わされる化合物を反応させることを特徴とす
る一般式
[式中、R1およびR2は前述した意味を示す。た
だし、−CH2R2はR2の炭素原子と隣接するエキソ
メチレン基の炭素原子と結合しているものとす
る。]
で表わされる7−アミノ−3−置換メチルセフエ
ムカルボン酸またはその塩の製造法に関する。
そして、その目的は種々のセフアロスポリン化
合物を製造する際、中間体として重様な一般式
[]で表わされる7−アミノ−3−置換メチル
セフエムカルボン酸またはその塩を、工業的に容
易な操作で好収率かつ高純度で得る方法を提供す
ることにある。
従来、一般式〔〕で表わされる7−アミノ−
3−置換メチルセフエムカルボン酸、その塩また
はそのエステルを製造する方法としては、ペニシ
リン類の環を開環させ、R2に相当する基を導入
した後、閉環させて製造する方法(特開昭48−
76888号;同48−76889号;同50−5393号)および
7位のアミノ基がアシル基された△2−セフアロ
スポリン類を出発原料に使用して製造する方法
(特開昭47−2582号)が報告されている。しかし、
これらの方法はいずれも反応工程数が非常に多
く、収率も悪いので工業的生産には不向きであ
る。
本発明者らは、一般式〔〕で表わされる化合
物を工業的に容易にかつ好収率に得る製造法を関
発せんとして鋭意研究した結果、有機溶媒中、プ
ロトン酸、ルイス酸またはルイス酸の錯化合物の
存在下、一般式〔〕で表わされる化合物または
その塩と、一般式〔〕で表わされる化合物を反
応させて、上記目的を達成することができること
を見出し本発明を完成した。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に於いて、R2におけるフエニル、イン
ダニル、チエニルまたはフリル基は、たとえば、
ハロゲン原子、アルキル基、ニトロ基、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミ
ノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、ア
シル基、アシルオキシ基、カルボキシル基、カル
バモイル基、アミノアルキル基、N−アルキルア
ミノアルキル基、N,N−ジアルキルアミノアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシアル
キル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル
基、スルホ基、スルフアモイル基またはカルバモ
イルアルキル基などの一種以上の置換基で置換さ
れていてもよい。上記置換基のうち、ヒドロキシ
ル基、アミノ基およびカルボキシル基は通常用い
られる適当な保護基で保護されていてもよい。こ
こに於いてヒドロキシル基の保護基としては、通
常ヒドロキシル基の保護基として使用し得るすべ
ての基を含み、たとえば、ベンジルオキシカルボ
ニル、4−ニトロベンジルオキシカルボニル、4
−ブロモベンジルオキシカルボニル、4−メトキ
シベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキ
シベンジルオキシカルボニル、4−(フエニルア
ゾ)ベンジルオキシカルボニル、4−(4−メト
キシフエニルアゾ)ベンジルオキシカルボニル、
tert.−ブトキシカルボニル、1,1−ジメチルプ
ロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ジフエニルメトキシカルボニル、2−ピリジ
ルメトキシカルボニル、2,2,2−トリクロロ
エトキシカルボニル、2,2,2−トリブロモエ
トキシカルボニル、2−フルフリルオキシカルボ
ニル、1−アダマンチルオキシカルボニル、1−
シクロプロピルエトキシカルボニル、3−キノリ
ルオキシカルボニルまたはトリフルオロアセチル
などの脱離しやすいアシル基およびベンジル、ト
リチル、メトキシメチル、2−ニトロフエニルチ
オ、2,4−ジニトロフエニルチオ基などが挙げ
られる。
また、アミノ基の保護基としては通常アミノ保
護基として使用し得るすべての基を含み、たとえ
ば、トリクロロエトキシカルボニル、トリブロモ
エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニ
ル、p−トルエンスルホニル、p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル、o−ブロモベンジルオキシ
カルボニル、o−ニトロフエニルスルフエニル、
(モノ−、ジ−、トリ−)クロロアセチル、トリ
フルオロアセチル、ホルミル、tert.−ブトキシカ
ルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニ
ル、4−(フエニルアゾ)ベンジルオキシカルボ
ニル、4−(4−メトキシフエニルアゾ)ベンジ
ルオキシカルボニル、ピリジン−1−オキサイド
−2−イル−メトキシカルボニル、2−ピリジル
メトキシカルボニル、2−フリルオキシカルボニ
ル、ジフエニルメトキシカルボニル、1,1−ジ
メチルプロポキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、1−シクロプロピルエトキシカルボニ
ル、フタロイル、サクシニル、1−アダマンチル
オキシカルボニル、8−キノリルオキシカルボニ
ルなどの脱離しやすいアシル基が挙げられ、更
に、トリチル、2−ニトロフエニルチオ、2,4
−ジニトロフエニルチオ、2−ヒドロキシベンジ
リデン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンジリデ
ン、2−ヒドロキシ−1−ナフチルメチレン、3
−ヒドロキシ−4−ピリジルメチレン、1−メト
キシカルボニル−2−プロピリデン、1−エトキ
シカルボニル−2−プロピリデン、3−エトキシ
カルボニル−2−ブチリデン、1−アセチル−2
−プロピリデン、1−ベンゾイル−2−プロピリ
デン、1−〔N−(2−メトキシフエニル)カルバ
モイル〕−2−プロピリデン、1−〔N−(4−メ
トキシフエニル)カルバモイル〕−2−プロピリ
デン、2−エトキシカルボニルシクロヘキシリデ
ン、2−エトキシカルボニルシクロペンチリデ
ン、2−アセチルシクロヘキシリデン、3,3−
ジメチル−5−オキソシクロヘキシリデンなどの
脱離しやすい基または、ジ−もしくはトリ−アル
キルシリルなどのアミノ基の保護基が挙げられ
る。更に、カルボキシル基の保護基としては通常
のカルボキシル基の保護基として使用し得るすべ
ての基を含み、たとえば、メチル、エチル、n−
プロピル、イソプロピル、tert.−ブチル、n−ブ
チル、ベンジル、ジフエニルメチル、トリチル、
p−ニトロベンジル、p−メトキシベンジル、ベ
ンゾイルメチル、アセチルメチル、p−ニトロベ
ンゾイルメチル、p−ブロモベンゾイルメチル、
p−メタンスルホニルベンゾイルメチル、フタル
イミドメチル、トリクロロエチル、1,1−ジメ
チル−2−プロペニル、1,1−ジメチルプロピ
ル、アセトキシメチル、プロピオニルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、1,1−ジメチル
−2−プロペニル、3−メチル−3−プテニル、
サクシンイミドメチル、1−シクロプロピルエチ
ル、メチルスルフエニルメチル、フエニルチオメ
チル、ジメチルアミノメチル、キノリン−1−オ
キサイド−2−イル−メチル、ピリジン−1−オ
キサイド−2−イル−メチル、ビス(p−メトキ
シフエニル)メチルなどの基で保護されている場
合、または四塩化チタンの如き、非金属化合物で
保護されている場合、更に、特開昭46−7073号お
よびオランダ国公開公報7105259号に記載されて
いる、たとえばジメチルジクロロシランの如きシ
リル化合物で保護されている場合などが挙げられ
る。
また、一般式〔〕および〔〕で表わされる
化合物の塩としては、通常知られている塩を挙げ
ることができる。アミノ基に於ける塩としてはた
とえば、塩酸または硫酸などの鉱酸との塩;シユ
ウ酸、ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリフルオロ
酢酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホ
ン酸、p−トルエンスルホン酸またはナフタレン
スルホン酸などのスルホン酸との塩を、また、カ
ルボキシル基に於ける塩としては、たとえば、ナ
トリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属との
塩;カルシウムまたはマグネシウムなどのアルカ
リ土類金属との塩;アンモニウム塩;トリエチル
アミン、ジエチルアミン、ピリジン、N−メチル
ピペリジン、N−メチルモルホリンまたはN,N
−ジメチルアニリンなどの含窒素有機塩基との塩
を挙げることができる。
また、所望により一般式[]で表わされる化
合物はエステル体としてもよく、一般式〔〕で
表わされる化合物のエステルとしては、通常知ら
れているエステル形成基によつて形成されるエス
テルを含み、そのエステル形成基としては、たと
えば、前述したカルボキシル基の保護基として挙
げたものと同一のものを挙げることができる。
本発明の反応に使用されるプロトン酸、ルイス
酸またはルイス酸の錯化合物について詳説する。
プロトン酸としては、たとえば硫酸類、スルホン
酸類または超強酸数(超強酸とは100%硫酸より
強い酸を示し、前記硫酸類およびスルホン酸類の
一部も含まれる)が挙げられ、更に具体的には、
硫酸類としては、硫酸、クロル硫酸またはフルオ
ロ硫酸など、スルホン酸類としては、メタンスル
ホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのア
ルキル(モノ−またはジ−)スルホン酸またはp
−トルエンスルホン酸などのアリール(モノ−、
ジ−またはトリ−)スルホン酸など、超強酸類と
しては、過塩素酸、マジツク酸(FSO3H−
SbF5)、FSO3H−AsF5、CF3SO3H−SbF5、HF
−BF3、H2SO4−SO3などが挙げられる。
また、ルイス酸としては、たとえば三弗化硼
素、塩化亜鉛または塩化第二スズなどが挙げら
れ、ルイス酸の錯化合物としては、たとえば、上
記したルイス酸と、ジエチルエーテル、ジ−n−
プロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテルなど
とのジアルキルエーテル錯塩;エチルアミン、n
−プロピルアミン、n−ブチルアミン、トリエタ
ノールアミンなどとのアミン錯塩;酢酸、プロピ
オン酸などとの脂肪酸錯塩;またはフエノール類
とのフエノール錯塩などが挙げられる。
次に、本発明方法の実施態様を説明する。本発
明方法は、一般式〔〕で表わされる化合物また
はその塩を、有機溶媒中、プロトン酸、ルイス酸
またはルイス酸の錯化合物の存在下、一般式
〔〕で表わされる化合物を反応させることによ
り実施される。
尚、上記した一般式〔〕で表わされる化合物
の塩を出発原料として用いるときは、予め単離し
て使用に供してもよいし、あるいは単離せずして
反応に供してもよい。
反応に使用することのできる有機溶媒として
は、反応に悪影響を与えない全ての有機溶媒また
は反応試薬自体を挙げることができ、たとえば、
ニトロメタン、ニトロエタン、ニトロプロパンな
どのニトロアルカン類;ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、トリフルオロ酢酸などの有機カルボン酸類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン類;ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、アニソールなどのエーテル類またはこれら溶
媒を二種以上混合したものを挙げることができ
る。
プロトン酸、ルイス酸、またはルイス酸の錯化
合物の使用量は、一般式〔〕で表わされる化合
物またはその塩に対し、当モル以上であればよ
く、個々の場合に応じ適宜増減することができ
る。特に、2〜10倍モル量の使用が好ましい。ル
イス酸の錯化合物を用いる場合には、これ自体を
溶媒として用いることができ、二種以上の錯化合
物を混合して用いてもよい。
また、一般式〔〕で表わされる化合物の使用
量は、一般式〔〕で表わされる化合物またはそ
の塩に対し当モル以上であればよいが、特に、
1.0〜1.5倍モル量の使用が好ましい。本反応は、
通常0℃〜80℃の温度にて行なわれ、数分〜数十
時間で完結する。本発明の反応系内に水分がある
と原料または生成物のラクトン化およびβ−ラク
タム環の開裂など好ましくない副反応を惹起する
恐れがあるので、反応系内を無水の状態に保つこ
とが望ましい。この要望を満たすために、反応系
内に適当な脱水剤、たとえば、五酸化リン、ポリ
リン酸、五塩化リン、三塩化リン、オキシ塩化リ
ンなどのリン化合物;N,O−ビス(トリメチル
シリル)アセトアミド、トリメチルシリルアセト
アミド、トリメチルクロロシラン、ジメチルジク
ロロシランなどの有機シリル化剤;アセチルクロ
リド、p−トルエンスルホニルクロリドなどの有
機酸クロリド;無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸
などの酸無水物;無水硫酸マグネシウム、無水塩
化カルシウム、モレキユラーシーブス、カルシウ
ムカーバイトなどの無機乾燥剤などが添加されて
いてもよい。
反応終了後、所望により常法にてエステル化
し、目的化合物のエステルを単離精製する。R2
の置換基であるヒドロキシル基、アミノ基、カル
ボキシル基が保護されている場合、常套の脱離反
応に付すことにより所望の置換基とすることがで
き、この脱離反応は本発明反応の生成物を単離す
ることなく続けて行なうこともできる。
次に、本発明を実施例により説明するが、これ
らは本発明を限定するものではない。
実施例 1
7−アミノセフアロスポラン酸2.72gを酢酸25
mlに懸濁させ、これに三弗化硼素−ジエチルエー
テル(1/1)4.26gを加えて溶解させた後、ベ
ンゼン0.9gを加え室温下5時間反応させる。反
応終了後、溶媒を減圧下に留去し、得られた残留
物を水15mlに溶解させ、氷冷下28%アンモニア水
を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取し、水
5mlおよびアセトン5mlで順次洗浄した後乾燥す
れば、融点189〜192℃(分解)を示す7−アミノ
−3−ベンジル−△3−セフエム−4−カルボン
酸2.4g(収率83%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1610、1520
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
3.38(2H、s、
The present invention relates to a method for producing 7-amino-3-substituted methylcefemcarboxylic acid or a salt thereof, and specifically relates to a method for producing 7-amino-3-substituted methylcefemcarboxylic acid or a salt thereof, and in particular, [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom; X represents an acetoxy group. ] In an organic solvent, in the presence of a protonic acid, a Lewis acid, or a complex compound of a Lewis acid, a compound represented by the general formula R 2 −H [] [wherein R 2 may be substituted] phenyl,
Indicates an indanyl, thienyl or furyl group. ] A general formula characterized by reacting a compound represented by [In the formula, R 1 and R 2 have the above-mentioned meanings. However, it is assumed that -CH 2 R 2 is bonded to the carbon atom of the exomethylene group adjacent to the carbon atom of R 2 . ] It is related with the manufacturing method of 7-amino-3-substituted methyl cefem carboxylic acid or its salt represented by these. The purpose is to use 7-amino-3-substituted methyl cefemcarboxylic acid or its salt as an intermediate in the production of various cephalosporin compounds in an industrially easy manner. The object of the present invention is to provide a method for obtaining it in good yield and high purity. Conventionally, 7-amino- represented by the general formula []
A method for producing 3-substituted methyl cefemcarboxylic acid, its salt, or its ester is a method in which the ring of penicillins is opened, a group corresponding to R 2 is introduced, and then the ring is closed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 1972-
No. 76888; No. 48-76889; No. 50-5393) and a method for producing using Δ2 -cephalosporins in which the amino group at the 7th position is an acyl group as starting materials (Japanese Patent Application Laid-open No. 47-2582) has been reported. but,
All of these methods require a very large number of reaction steps and have poor yields, making them unsuitable for industrial production. The inventors of the present invention have conducted intensive research to find a method for producing the compound represented by the general formula [] industrially with ease and good yield. The present invention has been completed by discovering that the above object can be achieved by reacting a compound represented by the general formula [] or a salt thereof with a compound represented by the general formula [] in the presence of a complex compound. The present invention will be explained in detail below. In the present invention, phenyl, indanyl, thienyl or furyl group in R 2 is, for example,
Halogen atom, alkyl group, nitro group, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, alkylamino group, dialkylamino group, acylamino group, acyl group, acyloxy group, carboxyl group, carbamoyl group, aminoalkyl group, N-alkylaminoalkyl group, N,N-dialkylaminoalkyl group, hydroxyalkyl group, alkoxyalkyl group, carboxyalkyl group, sulfoalkyl group, sulfo group, sulfamoyl group or carbamoylalkyl group. . Among the above substituents, the hydroxyl group, amino group and carboxyl group may be protected with a commonly used appropriate protecting group. Here, the hydroxyl group-protecting group includes all groups that can normally be used as hydroxyl group-protecting groups, such as benzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl, 4-nitrobenzyloxycarbonyl,
-bromobenzyloxycarbonyl, 4-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylazo)benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl,
tert.-butoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 2-pyridylmethoxycarbonyl, 2,2,2-trichloroethoxycarbonyl, 2,2,2-tribromoethoxycarbonyl, 2-furfuryloxycarbonyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 1-
Examples include acyl groups that are easily eliminated such as cyclopropylethoxycarbonyl, 3-quinolyloxycarbonyl, or trifluoroacetyl, and benzyl, trityl, methoxymethyl, 2-nitrophenylthio, and 2,4-dinitrophenylthio groups. . In addition, protecting groups for amino groups include all groups that can normally be used as amino protecting groups, such as trichloroethoxycarbonyl, tribromoethoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, p-toluenesulfonyl, p-nitrobenzyloxycarbonyl, o-bromobenzyloxycarbonyl, o-nitrophenylsulfenyl,
(mono-, di-, tri-)chloroacetyl, trifluoroacetyl, formyl, tert.-butoxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycarbonyl, 3,4-dimethoxybenzyloxycarbonyl, 4-(phenylazo)benzyloxycarbonyl, 4-(4-methoxyphenylazo)benzyloxycarbonyl, pyridin-1-oxide-2-yl-methoxycarbonyl, 2-pyridylmethoxycarbonyl, 2-furyloxycarbonyl, diphenylmethoxycarbonyl, 1,1-dimethylpropoxy Easily eliminated acyl groups include carbonyl, isopropoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, phthaloyl, succinyl, 1-adamantyloxycarbonyl, 8-quinolyloxycarbonyl, and trityl, 2-nitrophenylthio. ,2,4
-dinitrophenylthio, 2-hydroxybenzylidene, 2-hydroxy-5-chlorobenzylidene, 2-hydroxy-1-naphthylmethylene, 3
-Hydroxy-4-pyridylmethylene, 1-methoxycarbonyl-2-propylidene, 1-ethoxycarbonyl-2-propylidene, 3-ethoxycarbonyl-2-butylidene, 1-acetyl-2
-Propylidene, 1-benzoyl-2-propylidene, 1-[N-(2-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 1-[N-(4-methoxyphenyl)carbamoyl]-2-propylidene, 2 -Ethoxycarbonylcyclohexylidene, 2-ethoxycarbonylcyclopentylidene, 2-acetylcyclohexylidene, 3,3-
Examples include groups that are easily eliminated such as dimethyl-5-oxocyclohexylidene, and protecting groups for amino groups such as di- or trialkylsilyl. Furthermore, the carboxyl group-protecting group includes all groups that can be used as ordinary carboxyl group-protecting groups, such as methyl, ethyl, n-
Propyl, isopropyl, tert.-butyl, n-butyl, benzyl, diphenylmethyl, trityl,
p-nitrobenzyl, p-methoxybenzyl, benzoylmethyl, acetylmethyl, p-nitrobenzoylmethyl, p-bromobenzoylmethyl,
p-methanesulfonylbenzoylmethyl, phthalimidomethyl, trichloroethyl, 1,1-dimethyl-2-propenyl, 1,1-dimethylpropyl, acetoxymethyl, propionyloxymethyl, pivaloyloxymethyl, 1,1-dimethyl-2 -propenyl, 3-methyl-3-putenyl,
Succinimidomethyl, 1-cyclopropylethyl, methylsulfenylmethyl, phenylthiomethyl, dimethylaminomethyl, quinolin-1-oxide-2-yl-methyl, pyridin-1-oxide-2-yl-methyl, bis When protected with a group such as (p-methoxyphenyl)methyl, or with a non-metallic compound such as titanium tetrachloride, furthermore, JP-A-46-7073 and Dutch Publication No. 7105259 Examples include the case where the compound is protected with a silyl compound such as dimethyldichlorosilane, as described in the above. Further, as the salts of the compounds represented by the general formulas [] and [], commonly known salts can be mentioned. Salts at amino groups include, for example, salts with mineral acids such as hydrochloric acid or sulfuric acid; salts with organic carboxylic acids such as oxalic acid, formic acid, trichloroacetic acid or trifluoroacetic acid; methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid. or salts with sulfonic acids such as naphthalenesulfonic acid, and salts at the carboxyl group, such as salts with alkali metals such as sodium or potassium; salts with alkaline earth metals such as calcium or magnesium; Ammonium salt; triethylamine, diethylamine, pyridine, N-methylpiperidine, N-methylmorpholine or N,N
- Salts with nitrogen-containing organic bases such as dimethylaniline can be mentioned. Further, if desired, the compound represented by the general formula [] may be an ester, and esters of the compound represented by the general formula [] include esters formed by commonly known ester-forming groups, Examples of the ester-forming group include the same groups as those listed above as the carboxyl group-protecting group. The protonic acid, Lewis acid, or complex compound of Lewis acid used in the reaction of the present invention will be explained in detail.
Examples of protonic acids include sulfuric acids, sulfonic acids, and super strong acids (super strong acids refer to acids stronger than 100% sulfuric acid, and include some of the above sulfuric acids and sulfonic acids). teeth,
Examples of sulfuric acids include sulfuric acid, chlorosulfuric acid, and fluorosulfuric acid; examples of sulfonic acids include alkyl (mono- or di-)sulfonic acids such as methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid;
-Aryl (mono-,
Super strong acids such as di- or tri-)sulfonic acids include perchloric acid and magicic acid (FSO 3 H-
SbF 5 ), FSO 3 H−AsF 5 , CF 3 SO 3 H−SbF 5 , HF
-BF 3 , H 2 SO 4 -SO 3 and the like. Examples of Lewis acids include boron trifluoride, zinc chloride, and stannic chloride. Examples of complex compounds of Lewis acids include the above-mentioned Lewis acids, diethyl ether, di-n-
Dialkyl ether complex salts with propyl ether, di-n-butyl ether, etc.; ethylamine, n
- Amine complex salts with propylamine, n-butylamine, triethanolamine, etc.; fatty acid complex salts with acetic acid, propionic acid, etc.; or phenol complex salts with phenols. Next, embodiments of the method of the present invention will be described. The method of the present invention involves reacting a compound represented by the general formula [] or a salt thereof with a compound represented by the general formula [] in the presence of a protonic acid, a Lewis acid, or a complex compound of a Lewis acid in an organic solvent. Implemented. In addition, when the salt of the compound represented by the above general formula [] is used as a starting material, it may be isolated beforehand and used, or it may be used for the reaction without being isolated. As organic solvents that can be used in the reaction, mention may be made of all organic solvents or reaction reagents themselves that do not adversely affect the reaction, for example,
Nitroalkanes such as nitromethane, nitroethane, and nitropropane; Organic carboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, and trifluoroacetic acid;
Examples include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone; ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether, and anisole; and mixtures of two or more of these solvents. The amount of protonic acid, Lewis acid, or complex compound of Lewis acid to be used should be at least the equivalent molar amount of the compound represented by the general formula [] or its salt, and can be increased or decreased as appropriate depending on the individual case. . In particular, it is preferable to use 2 to 10 times the molar amount. When a Lewis acid complex compound is used, it can be used by itself as a solvent, or two or more types of complex compounds may be used in combination. In addition, the amount of the compound represented by the general formula [] may be at least equivalent molar to the compound represented by the general formula [] or its salt, but in particular,
It is preferable to use 1.0 to 1.5 times the molar amount. This reaction is
It is usually carried out at a temperature of 0°C to 80°C and is completed in several minutes to several tens of hours. The presence of moisture in the reaction system of the present invention may cause undesirable side reactions such as lactonization of raw materials or products and cleavage of the β-lactam ring, so it is desirable to maintain the reaction system in an anhydrous state. . To meet this requirement, a suitable dehydrating agent is added to the reaction system, such as a phosphorus compound such as phosphorus pentoxide, polyphosphoric acid, phosphorus pentachloride, phosphorus trichloride, or phosphorus oxychloride; N,O-bis(trimethylsilyl)acetamide. , trimethylsilylacetamide, trimethylchlorosilane, dimethyldichlorosilane; organic acid chlorides such as acetyl chloride, p-toluenesulfonyl chloride; acid anhydrides such as acetic anhydride, trifluoroacetic anhydride; anhydrous magnesium sulfate, anhydrous chloride An inorganic desiccant such as calcium, molecular sieves, calcium carbide, etc. may be added. After the reaction is completed, if desired, esterification is carried out by a conventional method, and the ester of the target compound is isolated and purified. R2
When a hydroxyl group, an amino group, or a carboxyl group that is a substituent of It can also be carried out continuously without isolating. Next, the present invention will be explained by examples, but these are not intended to limit the present invention. Example 1 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was mixed with 25 g of acetic acid.
ml, 4.26 g of boron trifluoride-diethyl ether (1/1) was added and dissolved, and then 0.9 g of benzene was added and reacted at room temperature for 5 hours. After the reaction, the solvent is distilled off under reduced pressure, the resulting residue is dissolved in 15 ml of water, and the pH is adjusted to 3.5 using 28% aqueous ammonia under ice cooling. The precipitated crystals were collected, washed successively with 5 ml of water and 5 ml of acetone, and then dried to yield 2.4 g of 7-amino-3-benzyl-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid (decomposition) having a melting point of 189-192°C (decomposition). Yield: 83%). IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1610, 1520 NMR ( D2O - CF3COOD ) ppm value; 3.38 (2H, s,
【式】)
3.90、4.23(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.90, 4.23 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 5.16(1H、d J=5cps、C6−H) 5.29(1H、d J=5cps、C7−H) 7.30(5H、s、[Formula]) 5.16 (1H, d J = 5cps, C 6 - H) 5.29 (1H, d J = 5cps, C 7 - H) 7.30 (5H, s,
【式】)
実施例 2
7−アミノセフアロスポラン酸2.72gをトリフ
ルオロ酢酸20mlに溶解させ、これに三弗化硼素−
ジエチルエーテル(1/1)7.1gと、フラン−
2−カルボン酸1.6gを加え室温下5時間反応さ
せる。反応終了後、溶媒を減圧下に留去し、得ら
れた残留物を水15mlに溶解させ、氷冷下28%アン
モニア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を
取し、水5mlおよびアセトン5mlで順次洗浄した
後乾燥すれば、融点190〜197℃(分解)を示す、
7−アミノ−3−(5−カルボキシ−フルフリル)
−△3−セフエム−4−カルボン酸2.37g(収率
73%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1660、1610、1510
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
3.60(2H、s、[Formula]) Example 2 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was dissolved in 20 ml of trifluoroacetic acid, and boron trifluoride-
7.1g of diethyl ether (1/1) and furan
Add 1.6 g of 2-carboxylic acid and react at room temperature for 5 hours. After the reaction, the solvent is distilled off under reduced pressure, the resulting residue is dissolved in 15 ml of water, and the pH is adjusted to 3.5 using 28% aqueous ammonia under ice cooling. If you take the precipitated crystals, wash them with 5 ml of water and 5 ml of acetone, and then dry them, they will show a melting point of 190-197°C (decomposition).
7-amino-3-(5-carboxy-furfuryl)
-△ 3 -Cefem-4-carboxylic acid 2.37g (yield
73%). IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1660, 1610, 1510 NMR ( D2O − CF3COOD ) ppm value; 3.60 (2H, s,
【式】) 4.13(2H、s、【formula】) 4.13 (2H, s,
【式】)
5.17(1H、d J=5cps、C6−H)
5.28(1H、d J=5cps、C7−H)
6.40(1H、d J=4cps、
[Formula]) 5.17 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.28 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.40 (1H, d J = 4 cps,
【式】)
7.10(1H、d J=4cps、
[Formula]) 7.10 (1H, d J = 4cps,
【式】)
同様にして次の化合物を得た。
Γ7−アミノ−3−(4−クロロベンジル)−△3
−セフエム−4−カルボン酸
融点 198〜204℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1780、1610、1520
NMR(d6−DMSO)ppm値;
3.05、3.53(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) The following compound was obtained in the same manner. Γ7-amino-3-(4-chlorobenzyl)-△ 3
-Cefem-4-carboxylic acid Melting point 198-204℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1780, 1610, 1520 NMR (d 6 -DMSO) ppm value; 3.05, 3.53 (2H, ABq J=18cps ,
【式】
3.50、3.95(2H、ABq J=14cps、
[Formula] 3.50, 3.95 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.75(1H、ABq J=5cps、C6−H) 4.97(1H、ABq J=5cps、C7−H) 7.30(4H、s、[Formula]) 4.75 (1H, ABq J=5cps, C 6 −H) 4.97 (1H, ABq J=5cps, C 7 −H) 7.30 (4H, s,
【式】)
Γ7−アミノ−3−(3−クロロ−4−ヒドロキ
シベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
融点 186〜190℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1610、1530
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
3.40(2H、s、[Formula]) Γ7-amino-3-(3-chloro-4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point 186-190℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1610, 1530 NMR ( D2O - CF3COOD ) ppm value; 3.40 (2H, s,
【式】)
3.90、4.10(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.90, 4.10 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 5.16(1H、d J=5cps、C6−H) 5.29(1H、d J=5cps、C7−H) 6.75〜7.40(3H、m、[Formula]) 5.16 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.29 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.75 - 7.40 (3H, m,
【式】)
Γ3−(3−アセチル−2−ヒドロキシベンジル)
−7−アミノ−△3−セフエム−4−カルボン
酸
融点 180〜185℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1615、1530
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
2.65(3H、s、−COCH3)
3.45(2H、s、[Formula]) Γ3-(3-acetyl-2-hydroxybenzyl)
-7-amino-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point 180-185℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1615, 1530 NMR (D 2 O-CF 3 COOD) ppm value; 2.65 (3H, s, −COCH 3 ) 3.45 (2H, s,
【式】)
4.10、4.17(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 4.10, 4.17 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 5.16(1H、d J=5cps、C6−H) 5.29(1H、d J=5cps、C7−H) 7.00〜7.80(3H、m、[Formula]) 5.16 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.29 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 7.00 - 7.80 (3H, m,
【式】)
Γ7−アミノ−3−(5−カルボキシ−2−テニ
ル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
融点 180〜185℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1690、1610、
1530
NMR(d6−DMSO)ppm値;
3.15、3.55(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-(5-carboxy-2-tenyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point 180-185℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1690 , 1610,
1530 NMR ( d6 -DMSO) ppm value; 3.15, 3.55 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.53、3.90(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.53, 3.90 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.80(1H、d J=5cps、C6−H) 5.03(1H、d J=5cps、C7−H) 7.60(2H、m、[Formula]) 4.80 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.03 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 7.60 (2H, m,
【式】)
Γ7−アミノ−3−(5−メトキシカルボニル−
2−テニル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
融点 208〜215℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1710、1605、
1520
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
3.30、3.68(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-(5-methoxycarbonyl-
2-tenyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point 208-215℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1710, 1605,
1520 NMR ( D2O − CF3COOD ) ppm value; 3.30, 3.68 (2H, ABq J=18cps,
【式】) 3.90(3H、s、CH3) 3.80〜4.30(2H、m、[Formula]) 3.90 (3H, s, CH 3 ) 3.80~4.30 (2H, m,
【式】)
5.15(1H、d J=5cps、C6−H)
5.30(1H、d J=5cps、C7−H)
7.50(1H、d J=3.5cps、
[Formula]) 5.15 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.30 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 7.50 (1H, d J = 3.5 cps,
【式】)
7.70(1H、d J=3.5cps、
[Formula]) 7.70 (1H, d J = 3.5cps,
【式】)
Γ7−アミノ−3−〔5−(4−ニトロベンジルオ
キシカルボニル)−2−テニル〕−△3−セフエ
ム−4−カルボン酸
融点 200〜205℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1710、1600、
1510
NMR(CF3COOD)ppm値;
3.40、3.72(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-[5-(4-nitrobenzyloxycarbonyl)-2-tenyl]-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point 200-205℃ (decomposition) IR (KBr) cm - 1 ; νc=o1790, 1710, 1600,
1510 NMR (CF 3 COOD) ppm value; 3.40, 3.72 (2H, ABq J = 18cps,
【式】)
4.10、4.41(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 4.10, 4.41 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 5.37(1H、d J=5cps、C6−H) 5.47(1H、d J=5cps、C7−H) 5.52(2H、s、[Formula]) 5.37 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.47 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 5.52 (2H, s,
【式】)
7.10(1H、d J=4cps、
[Formula]) 7.10 (1H, d J = 4cps,
【式】)
7.70、8.30(4H、ABq J=9cps、
[Formula]) 7.70, 8.30 (4H, ABq J=9cps,
【式】) 7.87(1H、d J=4cps、【formula】) 7.87 (1H, dJ=4cps,
【式】)
Γ7−アミノ−3−(5−メトキシカルボニルフ
ルフリル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
融点 180〜185℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1800、1730、1610、
1530
NMR(d6−DMSO)ppm値;
3.18、3.55(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-(5-methoxycarbonylfurfuryl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid Melting point 180-185℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1800, 1730, 1610,
1530 NMR ( d6 -DMSO) ppm value; 3.18, 3.55 (2H, ABq J=18cps,
【式】) 3.75(3H、s、CH3) 3.84(2H、s、[Formula]) 3.75 (3H, s, CH 3 ) 3.84 (2H, s,
【式】)
4.65(1H、d J=5cps、C6−H)
4.90(1H、d J=5cps、C7−H)
6.30(1H、d J=4cps、
[Formula]) 4.65 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.90 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.30 (1H, d J = 4 cps,
【式】) 7.15(1H、d J=4cps、【formula】) 7.15 (1H, dJ=4cps,
【式】)
実施例 3
(i) 7−アミノセフアロスポラン酸2.72gをトリ
フルオロ酢酸20mlに溶解させ、これに三弗化硼
素・ジエチルエーテル(1/1)5.6gとフエ
ノール1.2gを加え室温下4時間反応させる。
反応終了後、溶媒を減圧下に留去し、得られた
残留物を水15mlに溶解させ、氷冷下28%アンモ
ニア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を
取し水5mlおよびアセトン5mlで順次洗浄した
後乾燥すれば、7−アミノ−3−(4−ヒドロ
キシベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン
酸と7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベンジ
ル)−△3−セフエム−4−カルボン酸の混合物
の粗結晶2.8gが得られる。
(ii) (i)で得られた粗結晶2.8gをメタノール30ml
に懸濁させ、これにp−トルエンスルホン酸1
水和物1.75gを加え溶解させた後、ジフエニル
ジアゾメタン8.8gを徐々に加え室温下15分間
反応させる。反応終了後、溶媒を減圧下に留去
し、残留物を酢酸エチル15mlおよび水15mlから
成る混合溶媒に溶解させ、炭酸水素ナトリウム
を用いてPH7に調整する。有機層を分取し、無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に
留去し、残留物をカラムクロマトグラフイー
(和光シリカゲルC−200;展開溶媒、ベンゼ
ン:酢酸エチル=5:1)で精製すれば、融点
98〜102℃(分解)を示す7−アミノ−3−(2
−ヒドロキシベンジル)−△3−セフエム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル1.39gおよ
び融点85〜90℃(分解)を示す7−アミノ−3
−(4−ヒドロキシベンジル)−△3−セフエム
−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル2.31
gが得られた。
Γ7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベンジル)−
△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1725
NMR(d6−DMSO)ppm値;
2.70〜3.10(2H、m、NH2)
3.08、3.50(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Example 3 (i) 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was dissolved in 20 ml of trifluoroacetic acid, and 5.6 g of boron trifluoride/diethyl ether (1/1) and 1.2 g of phenol were added thereto. React at room temperature for 4 hours.
After the reaction, the solvent is distilled off under reduced pressure, the resulting residue is dissolved in 15 ml of water, and the pH is adjusted to 3.5 using 28% aqueous ammonia under ice cooling. The precipitated crystals are washed with 5 ml of water and 5 ml of acetone and dried to form 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid and 7-amino-3-(2 2.8 g of crude crystals of a mixture of -hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acids are obtained. (ii) 2.8g of the crude crystals obtained in (i) were added to 30ml of methanol.
to which p-toluenesulfonic acid 1
After adding and dissolving 1.75 g of hydrate, 8.8 g of diphenyldiazomethane was gradually added and reacted for 15 minutes at room temperature. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is dissolved in a mixed solvent of 15 ml of ethyl acetate and 15 ml of water, and the pH is adjusted to 7 using sodium hydrogen carbonate. The organic layer was separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C-200; developing solvent, benzene: ethyl acetate = 5:1). If purified, the melting point
7-Amino-3-(2
-Hydroxybenzyl)-△ 3 -Cefem-4-
7-amino-3 showing 1.39 g of carboxylic acid benzhydryl ester and a melting point of 85-90°C (decomposition)
-(4-Hydroxybenzyl)-△ 3 -Cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester 2.31
g was obtained. Γ7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-
△ 3 -Cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester IR (KBr) cm -1 ; νc = o1760, 1725 NMR (d 6 -DMSO) ppm value; 2.70-3.10 (2H, m, NH 2 ) 3.08, 3.50 ( 2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.50、3.78(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.50, 3.78 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.75(1H、d J=5cps、C6−H) 4.98(1H、d J=5cps、C7−H) 6.65〜7.45(15H、m、[Formula]) 4.75 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.98 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.65 - 7.45 (15 H, m,
【式】【formula】
【式】−COOCH〜−)
Γ7−アミノ−3−(4−ヒドロキシベンジル)−
△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1720
NMR(d6−DMSO)ppm値;
2.70〜3.10(2H、m、NH2)
3.08、3.50(2H、ABq J=18cps、
[Formula] -COOCH~-) Γ7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-
△ 3 -Cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester IR (KBr) cm -1 ; νc = o1760, 1720 NMR (d 6 -DMSO) ppm value; 2.70-3.10 (2H, m, NH 2 ) 3.08, 3.50 ( 2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.37、3.65(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.37, 3.65 (2H, ABq J=14cps,
【式】)
4.76(1H、d J=5cps、C6−H)
5.00(1H、d J=5cps、C7−H)
6.63、6.90(4H、ABq J=9cps、
[Formula]) 4.76 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.00 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.63, 6.90 (4H, ABq J = 9 cps,
【式】) 6.90(1H、s、−COOCH) 7.30(10H、s、【formula】) 6.90 (1H, s, -COOCH) 7.30 (10H, s,
【式】)
同様にして次の化合物を得た。
Γ7−アミノ−3−(4−ヒドロキシ−3−メチ
ルベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル
融点 83〜85℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
2.05(3H、s、CH3)
2.95、3.27(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) The following compound was obtained in the same manner. Γ7-amino-3-(4-hydroxy-3-methylbenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 83-85℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1760, 1720 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 2.05 (3H, s, CH 3 ) 2.95, 3.27 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.29、3.74(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.29, 3.74 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.57(1H、d J=5cps、C6−H) 4.80(1H、d J=5cps、C7−H) 6.42〜7.47(13H、m、[Formula]) 4.57 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.80 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.42 - 7.47 (13 H, m,
【式】【formula】
【式】)
6.95(1H、s、CH)
Γ7−アミノ−3−(2−ヒドロキシ−3−メチ
ルベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル
融点 78〜81℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
2.17(3H、s、CH3)
3.13、3.45(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) 6.95 (1H, s, CH) Γ7-amino-3-(2-hydroxy-3-methylbenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 78-81℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1760, 1720 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 2.17 (3H, s, CH 3 ) 3.13, 3.45 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.53、4.05(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.53, 4.05 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.64(1H、d J=5cps、C6−H) 4.87(1H、d J=5cps、C7−H) 6.48〜7.58(14H、m、[Formula]) 4.64 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.87 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.48 - 7.58 (14 H, m,
【式】【formula】
【式】CH)
Γ3−(3−アセトアミド−4−ヒドロキシベン
ジル)−7−アミノ−△3−セフエム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル
融点 88〜90℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1763、1720、1650
NMR(CDCl3)ppm値;
1.98(2H、s、NH2)
2.08(3H、s、CH3)
2.92、3.24(2H、ABq J=18cps、
[Formula] CH) Γ3-(3-acetamido-4-hydroxybenzyl)-7-amino-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 88-90℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1763, 1720, 1650 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 1.98 (2H, s, NH 2 ) 2.08 (3H, s, CH 3 ) 2.92, 3.24 (2H, ABq J=18 cps,
【式】)
3.21、3.74(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.21, 3.74 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.44(1H、d J=5cps、C6−H) 4.67(1H、d J=5cps、C7−H) 6.48〜7.52(14H、m、[Formula]) 4.44 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.67 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.48 - 7.52 (14 H, m,
【式】【formula】
【式】CH)
8.65(1H、bs、−NHCO−)
Γ3−(4−アセトアミド−2−ヒドロキシベン
ジル)−7−アミノ−△3−セフエム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル
融点 100〜101℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1768、1720、1632
NMR(CDCl3)ppm値;
1.96(2H、s、NH2)
2.01(3H、s、CH3)
3.04、3.36(2H、ABq J=18cps、
[Formula] CH) 8.65 (1H, bs, -NHCO-) Γ3-(4-acetamido-2-hydroxybenzyl)-7-amino-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 100-101℃ ( decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1768, 1720, 1632 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 1.96 (2H, s, NH 2 ) 2.01 (3H, s, CH 3 ) 3.04, 3.36 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.54、3.91(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.54, 3.91 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.57(1H、d J=5cps、C6−H) 4.79(1H、d J=5cps、C7−H) 6.48〜7.50(14H、m、[Formula]) 4.57 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.79 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.48 ~ 7.50 (14 H, m,
【式】【formula】
【式】CH)
8.66(1H、bs、−NHCO−)
Γ7−アミノ−3−(2,4−ジヒドロキシ−3
−メチルベンジル)−△3−セフエム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル
融点 93〜95℃(分解)
IR(KBr)cm-1;1760、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
2.01(2H、s、NH2)
2.07(3H、s、CH3)
3.14、3.46(2H、ABq J=18cps、
[Formula] CH) 8.66 (1H, bs, -NHCO-) Γ7-amino-3-(2,4-dihydroxy-3
-Methylbenzyl)-△ 3 -Cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 93-95℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; 1760, 1720 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 2.01 (2H, s, NH 2 ) 2.07 (3H, s, CH 3 ) 3.14, 3.46 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.52、4.05(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.52, 4.05 (2H, ABq J=14cps,
【式】)
4.64(1H、d J=5cps、C6−H)
Γ7−アミノ−3−(2,6−ジメチル−4−ヒ
ドロキシベンジル)−△3−セフエム−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル
融点 89〜91℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1762、1718
NMR(CDCl3)ppm値;
2.02(6H、s、CH3×2)
2.84(2H、s、[Formula]) 4.64 (1H, d J = 5cps, C 6 -H) Γ7-amino-3-(2,6-dimethyl-4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 89-91℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1762, 1718 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 2.02 (6H, s, CH 3 ×2) 2.84 (2H, s,
【式】) 3.40(2H、bs、NH2) 3.88(2H、s、[Formula]) 3.40 (2H, bs, NH 2 ) 3.88 (2H, s,
【式】) 4.58(1H、d J=5cps、C6−H) 4.78(1H、d J=5cps、C7−H) 6.44(2H、s、[Formula]) 4.58 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.78 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.44 (2H, s,
【式】)
6.99(1H、s、−CHCH〜〜)
7.02〜7.58(10H、m、
[Formula]) 6.99 (1H, s, -CHCH~~) 7.02~7.58 (10H, m,
【式】)
Γ7−アミノ−3−(4−ヒドロキシ−3−メト
キシベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル
融点 73〜75℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1762、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
3.04、3.36(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-(4-hydroxy-3-methoxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 73-75℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc = o1762, 1720 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 3.04, 3.36 (2H, ABq J = 18cps,
【式】) 3.64(3H、s、−OCH2) 3.76(2H、s、[Formula]) 3.64 (3H, s, -OCH 2 ) 3.76 (2H, s,
【式】) 4.60(1H、d J=5cps、C6−H) 4.83(1H、d J=5cps、C7−H) 6.38〜7.48(14H、m、[Formula]) 4.60 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.83 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.38 - 7.48 (14 H, m,
【式】【formula】
【式】CH)
Γ7−アミノ−3−(5−クロロ−2−ヒドロキ
シベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル
融点 113〜115℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1758、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
3.14、3.46(2H、ABq J=18cps、
[Formula] CH) Γ7-amino-3-(5-chloro-2-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 113-115℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1758, 1720 NMR ( CDCl3 ) ppm value; 3.14, 3.46 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.26、3.74(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.26, 3.74 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.77(1H、d J=5cps、C6−H) 5.01(1H、d J=5cps、C7−H) 6.63〜7.52(13H、m、[Formula]) 4.77 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.01 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.63 - 7.52 (13 H, m,
【式】【formula】
【式】)
6.88(1H、s、CH)
Γ7−アミノ−3−(4−メトキシベンジル)−△
3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル
融点 169〜174℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1720
NMR(d6−DMSO)ppm値;
3.16(2H、bs、NH2)
3.09、348(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) 6.88 (1H, s, CH) Γ7-amino-3-(4-methoxybenzyl)-△
3 -Cefem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 169-174℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1760, 1720 NMR (d 6 -DMSO) ppm value; 3.16 (2H, bs, NH 2 ) 3.09, 348 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.41、3.70(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.41, 3.70 (2H, ABq J=14cps,
【式】)
3.70(3H、s、−OCH3)
4.78(1H、d J=5cps、C6−H)
5.01(1H、d J=5cps、C7−H)
6.76〜7.05(4H、ABq J=8cps、
[Formula]) 3.70 (3H, s, -OCH 3 ) 4.78 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.01 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.76 ~ 7.05 (4H, ABq J =8cps,
【式】) 6.92(1H、s、CH) 7.32(10H、s、【formula】) 6.92 (1H, s, CH) 7.32 (10H, s,
【式】)
Γ7−アミノ−3−(4−ヒドロキシ−3−ニト
ロベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル
融点 80〜83℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1765、1725
NMR(d6−DMSO)ppm値;
3.45(2H、bs、NH2)
3.00、3.54(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-(4-hydroxy-3-nitrobenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 80-83℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc = o1765, 1725 NMR ( d6- DMSO) ppm value; 3.45 (2H, bs, NH2 ) 3.00, 3.54 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.34、3.76(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.34, 3.76 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 3.69(1H、d J=5cps、C6−H) 3.91(1H、d J=5cps、C7−H) 6.62〜7.02(2H、m、CH、[Formula]) 3.69 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 3.91 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.62 ~ 7.02 (2H, m, CH,
【式】) 7.20(11H、s、【formula】) 7.20 (11H, s,
【式】【formula】
【式】) 7.90(1H、d J=2cps、【formula】) 7.90 (1H, dJ=2cps,
【式】)
Γ7−アミノ−3−〔4−(ジフエニルメチルオキ
シカルボニルメチル)ベンジル〕−△3−セフエ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
融点 120〜125℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1765、1720
NMR(d6−DMSO)ppm値;
3.20、3.60(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ7-amino-3-[4-(diphenylmethyloxycarbonylmethyl)benzyl]-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 120-125℃ (decomposition) IR (KBr) cm - 1 ; νc=o1765, 1720 NMR ( d6 -DMSO) ppm value; 3.20, 3.60 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.45、3.80(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.45, 3.80 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 3.55(2H、s、【formula】) 3.55 (2H, s,
【式】) 4.20(1H、d J=5cps、C6−H) 4.90(1H、d J=5cps、C7−H) 6.80(1H、s、−COOCHCH) 7.00(1H、s、−COOCHCH) 6.95〜7.55(24H、m、[Formula]) 4.20 (1H, d J=5cps, C 6 −H) 4.90 (1H, d J=5cps, C 7 −H) 6.80 (1H, s, −COOCHCH) 7.00 (1H, s, −COOCHCH) 6.95~7.55 (24H, m,
【式】【formula】
【式】)
Γ3−(5−アセタミド−2−ヒドロキシベンジ
ル)−7−アミノ−△3−セフエム−4−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル
融点 104〜106℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1720、1650
NMR(CDCl3)ppm値;
1.98(2H、s、−NH2)
2.09(3H、s、−NHCOCH〜〜3)
3.03、3.35(2H、ABq J=18cps、
[Formula]) Γ3-(5-acetamido-2-hydroxybenzyl)-7-amino-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 104-106℃ (decomposition) IR (KBr) cm -1 ; νc = o1760, 1720, 1650 NMR (CDCl3) ppm value; 1.98 (2H, s, -NH2 ) 2.09 (3H, s, -NHCOCH~~ 3 ) 3.03, 3.35 (2H, ABq J=18cps,
【式】)
3.35、3.85(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.35, 3.85 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.46(1H、d J=5cps、C6−H) 4.74(1H、d J=5cps、C7−H) 6.48〜7.51(13H、m、[Formula]) 4.46 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.74 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.48 - 7.51 (13 H, m,
【式】【formula】
【式】)
6.88(1H、s、−CHCH)
8.09(1H、bs、−NH〜CO−)
Γ7−アミノ−3−(3,5−ジ−tert.−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)−△3−セフエム−
4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
融点 78〜81℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1762、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
1.23(18H、s、CH3×6)
3.21(2H、s、[Formula]) 6.88 (1H, s, -CHCH) 8.09 (1H, bs, -NH~CO-) Γ7-amino-3-(3,5-di-tert.-butyl-4-hydroxybenzyl) -△ 3 -Sefuem-
4-Carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 78-81℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1762, 1720 NMR (CDCl 3 ) ppm value; 1.23 (18H, s, CH 3 ×6) 3.21 (2H ,s,
【式】)
3.27、3.91(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.27, 3.91 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.47(1H、d J=5cps、C6−H) 4.75(1H、d J=5cps、C7−H) 6.55〜7.57(13H、m、[Formula]) 4.47 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.75 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.55 - 7.57 (13 H, m,
【式】【formula】
【式】−CH)
Γ7−アミノ−3−(5−ヒドロキシ−4−イン
ダニルメチル)−△3−セフエム−4−カルボン
酸ベンズヒドリルエステル
融点 84〜85℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1760、1720
NMR(CDCl3)ppm値;
1.70〜2.28(2H、m、[Formula] -CH) Γ7-amino-3-(5-hydroxy-4-indanylmethyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester Melting point 84-85℃ (decomposition) IR (KBr) cm - 1 ; νc=o1760, 1720 NMR ( CDCl3 ) ppm value; 1.70-2.28 (2H, m,
【式】) 2.36〜3.37(4H、m、【formula】) 2.36~3.37 (4H, m,
【式】) 3.26(2H、s、【formula】) 3.26 (2H, s,
【式】)
3.53、3.88(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.53, 3.88 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 4.53(1H、d J=5cps、C6−H) 4.79(1H、d J=5cps、C7−H) 6.40〜7.01(13H、m、[Formula]) 4.53 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 4.79 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.40 ~ 7.01 (13 H, m,
【式】【formula】
【式】−CHCH〜〜)
実施例 4
7−アミノ−3−(4−ヒドロキシベンジル)−
△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル4.72gをアニソール20mlおよびトリフル
オロ酢酸25mlの混合液に溶解させ、室温下30分間
反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、残留物を水20mlおよび酢酸エチル20mlを加え
て溶解させる。次いで、氷冷下28%アンモニア水
を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取し、水
6mlおよびアセトン6mlで順次洗浄した後乾燥す
れば、融点173〜183℃(分解)を示す7−アミノ
−3−(4−ヒドロキシベンジル)−△3−セフエ
ム−4−カルボン酸2.9g(収率95%)を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=o1790、1610、1530
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
3.38(2H、s、[Formula] -CHCH~~) Example 4 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-
4.72 g of Δ3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester is dissolved in a mixture of 20 ml of anisole and 25 ml of trifluoroacetic acid, and reacted at room temperature for 30 minutes. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is dissolved in 20 ml of water and 20 ml of ethyl acetate. Next, adjust the pH to 3.5 using 28% ammonia water while cooling on ice. If the precipitated crystals are collected, washed successively with 6 ml of water and 6 ml of acetone, and then dried, 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-, which has a melting point of 173-183°C (decomposed), is obtained. 2.9 g (95% yield) of carboxylic acid are obtained. IR (KBr) cm -1 ; νc=o1790, 1610, 1530 NMR ( D2O - CF3COOD ) ppm value; 3.38 (2H, s,
【式】)
3.85、4.15(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 3.85, 4.15 (2H, ABq J=14cps,
【式】)
5.13(1H、d J=5cps、C6−H)
5.25(1H、d J=5cps、C7−H)
6.85、7.13(4H、ABq J=9cps、
[Formula]) 5.13 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.25 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.85, 7.13 (4H, ABq J = 9 cps,
【式】)
同様にして、7−アミノ−3−(2−ヒドロキ
シベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸を
得た。
融点 168℃(分解)
IR(KBr)cm-1;νc=o1785、1610、1550
NMR(D2O−CF3COOD)ppm値;
3.40(2H、s、[Formula]) In the same manner, 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem -4-carboxylic acid was obtained. Melting point 168℃ (decomposed) IR (KBr) cm -1 ; νc=o1785, 1610, 1550 NMR (D 2 O−CF 3 COOD) ppm value; 3.40 (2H, s,
【式】)
4.00、4.10(2H、ABq J=14cps、
[Formula]) 4.00, 4.10 (2H, ABq J=14cps,
【式】) 5.16(1H、d J=5cps、C6−H) 5.29(1H、d J=5cps、C7−H) 6.65〜7.20(4H、m、[Formula]) 5.16 (1H, d J = 5 cps, C 6 - H) 5.29 (1H, d J = 5 cps, C 7 - H) 6.65 - 7.20 (4 H, m,
【式】)
実施例 5
(i) 7−アミノセフアロスポラン酸2.72gを酢酸
25mlに懸濁させ、これに無水塩化第二スズ7.8
gを加えて溶解させた後、フエノール1.2gを
加えて室温下8時間反応させる。反応終了後、
溶媒を減圧下に留去し、残留物に水20mlを加
え、氷冷下にて28%アンモニア水を用いてPH
3.5に調整する。このとき析出してくる結晶を
取し、水洗する。得られた結晶を再び水15ml
に懸濁させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH7
に調整する。
次いで、不溶分を除去し、溶液を氷冷下2N
−塩酸を用いてPH3.5に調整する。析出晶を
取し、水5mlおよびアセトン5mlで順次洗浄し
た後乾燥すれば、7−アミノ−3−(4−ヒド
ロキシベンジル)−△3−セフエム−4−カルボ
ン酸と、7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベ
ンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸の混
合物の粗結晶2.1gを得る。
(ii) (i)で得た粗結晶2.1gをメタノール21mlに懸
濁させ、これにp−トルエンスルホン酸1水和
物1.32gを加えて溶解させた後、ジフエニルジ
アゾメタン6.7gを徐々に添加し、室温下15分
間反応させる。反応終了後、溶媒を減圧下に留
去し、残留物を酢酸エチル15mlおよび水15mlか
ら成る溶媒に溶解させ、この溶液に炭酸水素ナ
トリウムを添加し、PH7に調整する。次いで、
有機層を分取し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧下に留去し、残留物をカラムク
ロマトグラフイー(和光シリカゲルC−200;
展開溶媒、ベンゼン:酢酸エチル=5:1)で
精製すれば、融点98〜102℃(分解)を示す7
−アミノ−3−(2−ヒドロキシベンジル)−△
3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒドリル
エステル1.05gおよび融点85〜90℃(分解)を
示す7−アミノ−3−(4−ヒドロキシベンジ
ル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル1.70gを得る。尚、これらの化
合物の物性(IRおよびNMR)は実施例3で得
られたものと一致した。
実施例 6
(i) 7−アミノセフアロスポラン酸2.72gを酢酸
25mlに懸濁させ、これに濃硫酸10gを加えて溶
解させた後、フエノール1.2gを加え室温下5
時間反応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を
留去し、残留物に水20mlを加え氷冷下28%アン
モニア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を
取し、水5mlおよびアセトン5mlで順次洗浄
した後乾燥すれば、7−アミノ−3−(4−ヒ
ドロキシベンジル)−△3−セフエム−4−カル
ボン酸と7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベ
ンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸の混
合物の粗結晶2.5gを得る。
(ii) (i)で得た粗結晶2.5gをメタノール25mlに懸
濁させ、これにp−トルエンスルホン酸1水和
物1.55gを加えて溶解させた後、ジフエニルジ
アゾメタン7.9gを徐々に加え、室温下15分間
反応させる。反応終了後減圧下に溶媒を留去
し、残留物を酢酸エチル15mlおよび水15mlを加
えて溶解させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH
7.0に調整する。有機層を分取し無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後減圧下に溶媒を留去し、残留
物をカラムクロマトグラフイー(和光シリカゲ
ルC−200;展開溶媒、ベンゼン:酢酸エチル
=5:1)で精製すれば、融点98〜102℃(分
解)を示す7−アミノ−3−(2−ヒドロキシ
ベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル1.27gと融点85〜90℃
(分解)を示す7−アミノ−3−(4−ヒドロキ
シベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステル2.08gを得る。
尚、これらの化合物の物性(IRおよび
NMR)は実施例3で得られたものと一致し
た。
実施例 7
(i) 7−アミノセフアロスポラン酸2.72gを酢酸
25mlに懸濁させ、これにフルオロスルホン酸7
gを加えて溶解させた後、フエノール1.2gを
加え室温下8時間反応させる。反応終了後、減
圧下に溶媒を留去し、残留物に水20mlを加え氷
冷下28%アンモニア水を用いてPH3.5に調整す
る。析出晶を取し、水5mlおよびアセトン5
mlで順次洗浄した後乾燥すれば、7−アミノ−
3−(4−ヒドロキシベンジル)−△3−セフエ
ム−4−カルボン酸と7−アミノ−3−(2−
ヒドロキシベンジル)−△3−セフエム−4−カ
ルボン酸の混合物の粗結晶2.5gを得る。
(ii) (i)で得た粗結晶2.5gをメタノール25mlに懸
濁させ、これにp−トルエンスルホン酸1水和
物1.55gを加えて溶解させた後、ジフエニルジ
アゾメタン7.9gを徐々に加え室温下15分間反
応させる。反応終了後減圧下に溶媒を留去し、
残留物を酢酸エチル15mlおよび水15mlを加えて
溶解させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH7.0
に調整する。有機層を分取し無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に溶媒を留去し、残留物
をカラムクロマトグラフイー(和光シリカゲル
C−200;展開溶媒、ベンゼン:酢酸エチル=
5:1)で精製すれば、融点98〜102℃(分解)
を示す7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベン
ジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル1.30gと融点85〜90℃(分
解)を示す7−アミノ−3−(4−ヒドロキシ
ベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル2.0gを得る。
尚、これらの化合物の物性(IRおよび
NMR)は実施例3で得られたものと一致し
た。
実施例 8
(i) 7−アミノセフアロスポラン酸2.72gを酢酸
25mlに懸濁させ、これにトリフルオロメタンス
ルホン酸12gを加えて溶解させた後、フエノー
ル1.2gを加え室温で5時間反応させる。反応
終了後、減圧下に溶媒を留去し、残留物に水20
mlを加え氷冷下28%アンモニア水を用いてPH
3.5に調整する。析出晶を取し、水5mlおよ
びアセトン5mlで順次洗浄した後乾燥すれば、
7−アミノ−3−(4−ヒドロキシベンジル)−
△3−セフエム−4−カルボン酸と7−アミノ
−3−(2−ヒドロキシベンジル)−△3−セフ
エム−4−カルボン酸の混合物の粗結晶2.3g
を得る。
(ii) (i)で得た粗結晶2.3gをメタノール23mlに懸
濁させ、これにp−トルエンスルホン酸1水和
物1.42gを加えて溶解させた後、ジフエニルジ
アゾメタン7.3gを徐々に加え室温下15分間反
応させる。反応終了後減圧下に溶媒を留去し、
残留物を酢酸エチル15mlおよび水15mlを加えて
溶解させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH7.0
に調整する。有機層を分取し無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後減圧下に溶媒を留去し残留物をカ
ラムクロマトグラフイー(和光シリカゲルC−
200;展開溶媒、ベンゼン:酢酸エチル=5:
1)で精製すれば、融点98〜102℃(分解)を
示す7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベンジ
ル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル1.14gと融点85〜90℃(分解)
を示す7−アミノ−3−(4−ヒドロキシベン
ジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル1.88gを得る。
尚、これらの化合物の物性(IRおよび
NMR)は実施例3で得られたものと一致し
た。
実施例 9
(i) 7−アミノセフアロスポラン酸2.72gをトリ
フルオロ酢酸25mlに懸濁させ、これにp−トル
エンスルホン酸1水和物13gを加えて溶解させ
た後、フエノール1.2gを加え室温で5時間反
応させる。反応終了後、減圧下に溶媒を留去
し、残留物に水20mlを加え氷冷下28%アンモニ
ア水を用いてPH3.5に調整する。析出晶を取
し水洗する。得られた結晶を再び水15mlに懸濁
させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH7.0に調
整する。次いで、不溶分を除去した後、溶液を
氷冷下2N−塩酸を用いてPH3.5に調整する。析
出晶を取し、水5mlおよびアセトン5mlで順
次洗浄した後乾燥すれば、7−アミノ−3−
(4−ヒドロキシベンジル)−△3−セフエム−
4−カルボン酸と7−アミノ−3−(2−ヒド
ロキシベンジル)−△3−セフエム−4−カルボ
ン酸の混合物の粗結晶2.2gを得る。
(ii) (i)で得た粗結晶2.2gをメタノール22mlに懸
濁させ、これにp−トルエンスルホン酸1水和
物1.35gを加えて溶解させた後、ジフエニルジ
アゾメタン6.9gを徐々に加え室温下15分間反
応させる。反応終了後減圧下に溶媒を留去し、
残留物を酢酸エチル15mlおよび水15mlを加えて
溶解させ、炭酸水素ナトリウムを用いてPH7.0
に調整する。有機層を分取し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後減圧下に溶媒を留去し、残留物
をカラムクロマトグラフイー(和光シリカゲル
C−200;展開溶媒、ベンゼン:酢酸エチル=
5:1)で精製すれば、融点98〜102℃(分解)
を示す7−アミノ−3−(2−ヒドロキシベン
ジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル1.10gと融点85〜90℃(分
解)を示す7−アミノ−3−(4−ヒドロキシ
ベンジル)−△3−セフエム−4−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル1.80gを得る。
尚、これらの化合物の物性(IRおよび
NMR)は実施例3で得られたものと一致し
た。[Formula]) Example 5 (i) 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was dissolved in acetic acid.
Suspend in 25 ml and add anhydrous stannic chloride 7.8
After adding and dissolving 1.2 g of phenol, the mixture was allowed to react at room temperature for 8 hours. After the reaction is complete,
The solvent was distilled off under reduced pressure, 20 ml of water was added to the residue, and the pH was adjusted using 28% ammonia water under ice cooling.
Adjust to 3.5. At this time, remove the crystals that precipitate and wash them with water. Pour the obtained crystals back into 15 ml of water.
and adjust the pH to 7 using sodium bicarbonate.
Adjust to. Next, insoluble matter was removed and the solution was diluted with ice for 2N.
- Adjust the pH to 3.5 using hydrochloric acid. The precipitated crystals are collected, washed successively with 5 ml of water and 5 ml of acetone, and then dried to form 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid and 7-amino-3- 2.1 g of crude crystals of a mixture of (2-hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid are obtained. (ii) Suspend 2.1 g of the crude crystals obtained in (i) in 21 ml of methanol, add and dissolve 1.32 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and then gradually add 6.7 g of diphenyldiazomethane. and react for 15 minutes at room temperature. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, the residue is dissolved in a solvent consisting of 15 ml of ethyl acetate and 15 ml of water, and sodium hydrogen carbonate is added to this solution to adjust the pH to 7. Then,
The organic layer was separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (Wako Silica Gel C-200;
When purified using a developing solvent (benzene: ethyl acetate = 5:1), it exhibits a melting point of 98-102°C (decomposition).
-Amino-3-(2-hydroxybenzyl)-△
1.05 g of 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester and 1.70 g of 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester having a melting point of 85-90°C (decomposition). get g. The physical properties (IR and NMR) of these compounds were consistent with those obtained in Example 3. Example 6 (i) 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was dissolved in acetic acid.
Suspend in 25 ml, add 10 g of concentrated sulfuric acid to dissolve it, add 1.2 g of phenol, and stir at room temperature for 5 minutes.
Allow time to react. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, 20 ml of water is added to the residue, and the pH is adjusted to 3.5 using 28% aqueous ammonia under ice cooling. The precipitated crystals were collected, washed successively with 5 ml of water and 5 ml of acetone, and then dried. 2.5 g of crude crystals of a mixture of 2-hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid are obtained. (ii) Suspend 2.5 g of the crude crystals obtained in (i) in 25 ml of methanol, add and dissolve 1.55 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and then gradually add 7.9 g of diphenyldiazomethane. Add and react for 15 minutes at room temperature. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 15 ml of ethyl acetate and 15 ml of water, and the pH was adjusted using sodium hydrogen carbonate.
Adjust to 7.0. The organic layer was separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was purified by column chromatography (Wako silica gel C-200; developing solvent, benzene: ethyl acetate = 5:1). For example, 1.27 g of 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester with a melting point of 98-102°C (decomposition) and a melting point of 85-90°C.
2.08 g of 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem -4-carboxylic acid benzhydryl ester showing (decomposition) was obtained. In addition, the physical properties of these compounds (IR and
NMR) was consistent with that obtained in Example 3. Example 7 (i) 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was dissolved in acetic acid.
Suspend in 25 ml and add fluorosulfonic acid 7 to this.
After adding and dissolving 1.2 g of phenol, the mixture was allowed to react at room temperature for 8 hours. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, 20 ml of water is added to the residue, and the pH is adjusted to 3.5 using 28% aqueous ammonia under ice cooling. Take the precipitated crystals and add 5 ml of water and 5 ml of acetone.
7-amino-
3-(4-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid and 7-amino-3-(2-
2.5 g of crude crystals of a mixture of hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid are obtained. (ii) Suspend 2.5 g of the crude crystals obtained in (i) in 25 ml of methanol, add and dissolve 1.55 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and then gradually add 7.9 g of diphenyldiazomethane. Add and react for 15 minutes at room temperature. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure.
The residue was dissolved by adding 15 ml of ethyl acetate and 15 ml of water, and the pH was adjusted to 7.0 using sodium bicarbonate.
Adjust to. The organic layer was separated and dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C-200; developing solvent, benzene: ethyl acetate =
5:1), the melting point is 98-102℃ (decomposition).
1.30 g of 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester and 7-amino-3-(4-hydroxy 2.0 g of benzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester are obtained. In addition, the physical properties of these compounds (IR and
NMR) was consistent with that obtained in Example 3. Example 8 (i) 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was dissolved in acetic acid.
Suspend in 25 ml, add 12 g of trifluoromethanesulfonic acid and dissolve, then add 1.2 g of phenol and react at room temperature for 5 hours. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was diluted with water.
ml and pH using 28% ammonia water under ice cooling.
Adjust to 3.5. Take the precipitated crystals, wash them sequentially with 5 ml of water and 5 ml of acetone, and then dry them.
7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-
2.3 g of crude crystals of a mixture of △ 3 -cephem-4-carboxylic acid and 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem -4-carboxylic acid
get. (ii) Suspend 2.3 g of the crude crystals obtained in (i) in 23 ml of methanol, add and dissolve 1.42 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and then gradually add 7.3 g of diphenyldiazomethane. Add and react for 15 minutes at room temperature. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure.
The residue was dissolved by adding 15 ml of ethyl acetate and 15 ml of water, and the pH was adjusted to 7.0 using sodium bicarbonate.
Adjust to. The organic layer was separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C-
200; developing solvent, benzene: ethyl acetate = 5:
Purification by step 1) yields 1.14 g of 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester with a melting point of 98-102°C (decomposition) and a melting point of 85-90°C. (Disassembly)
1.88 g of 7-amino-3-(4-hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester having the following formula is obtained. In addition, the physical properties of these compounds (IR and
NMR) was consistent with that obtained in Example 3. Example 9 (i) 2.72 g of 7-aminocephalosporanic acid was suspended in 25 ml of trifluoroacetic acid, 13 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added and dissolved, and 1.2 g of phenol was added. React for 5 hours at room temperature. After the reaction is complete, the solvent is distilled off under reduced pressure, 20 ml of water is added to the residue, and the pH is adjusted to 3.5 using 28% aqueous ammonia under ice cooling. Remove the precipitated crystals and wash with water. The obtained crystals are suspended again in 15 ml of water, and the pH is adjusted to 7.0 using sodium hydrogen carbonate. Next, after removing insoluble matter, the solution was adjusted to pH 3.5 using 2N hydrochloric acid under ice cooling. Take the precipitated crystals, wash them with 5 ml of water and 5 ml of acetone, and dry them to obtain 7-amino-3-
(4-Hydroxybenzyl)-△ 3 -Cefem-
2.2 g of crude crystals of a mixture of 4-carboxylic acid and 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid are obtained. (ii) Suspend 2.2 g of the crude crystals obtained in (i) in 22 ml of methanol, add and dissolve 1.35 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate, and then gradually add 6.9 g of diphenyldiazomethane. Add and react for 15 minutes at room temperature. After the reaction was completed, the solvent was distilled off under reduced pressure.
The residue was dissolved by adding 15 ml of ethyl acetate and 15 ml of water, and the pH was adjusted to 7.0 using sodium bicarbonate.
Adjust to. The organic layer was separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and the residue was subjected to column chromatography (Wako silica gel C-200; developing solvent, benzene: ethyl acetate =
5:1), the melting point is 98-102℃ (decomposition).
1.10 g of 7-amino-3-(2-hydroxybenzyl)-△ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester exhibiting 1.80 g of benzyl)-Δ 3 -cephem-4-carboxylic acid benzhydryl ester are obtained. In addition, the physical properties of these compounds (IR and
NMR) was consistent with that obtained in Example 3.
Claims (1)
示す。] で表わされる化合物またはその塩に、有機溶媒
中、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸の錯化
合物の存在下、一般式、 R2−H [式中、R2は置換されていてもよいフエニル、
インダニル、チエニルまたはフリル基を示す。] で表わされる化合物を反応させることを特徴とす
る、一般式 [式中、R1およびR2は前述した意味を示す。た
だし、−CH2R2はR2の炭素原子と隣接するエキソ
メチレン基の炭素原子と結合しているものとす
る。] で表わされる7−アミノ−3−置換メチルセフエ
ムカルボン酸またはその塩の製造法。 2 有機溶媒が有機カルボン酸類である特許請求
の範囲第1項記載の7−アミノ−3−置換メチル
セフエムカルボン酸またはその塩の製造法。 3 プロトン酸が硫酸類、スルホン酸類または超
強酸類である特許請求の範囲第1項または第2項
記載の7−アミノ−3−置換メチルセフエムカル
ボン酸またはその塩の製造法。 4 ルイス酸またはルイス酸の錯化合物が、三弗
化硼素、塩化亜鉛、塩化第二スズまたはこれらル
イス酸の錯化合物である特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載の7−アミノ−3−置換メチルセ
フエムカルボン酸またはその塩の製造法。[Claims] 1. General formula [In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, and X represents an acetoxy group. ] In an organic solvent, in the presence of a protonic acid, a Lewis acid, or a complex compound of a Lewis acid, a compound represented by the formula R 2 −H [wherein R 2 is an optionally substituted phenyl ,
Indicates an indanyl, thienyl or furyl group. ] A general formula characterized by reacting a compound represented by [In the formula, R 1 and R 2 have the above-mentioned meanings. However, it is assumed that -CH 2 R 2 is bonded to the carbon atom of the exomethylene group adjacent to the carbon atom of R 2 . ] A method for producing 7-amino-3-substituted methyl cefemcarboxylic acid or a salt thereof. 2. The method for producing 7-amino-3-substituted methyl cefem carboxylic acid or a salt thereof according to claim 1, wherein the organic solvent is an organic carboxylic acid. 3. The method for producing 7-amino-3-substituted methyl cefemcarboxylic acid or a salt thereof according to claim 1 or 2, wherein the protonic acid is sulfuric acid, sulfonic acid, or super strong acid. 4. 7-amino-3 according to claim 1 or 2, wherein the Lewis acid or a complex compound of a Lewis acid is boron trifluoride, zinc chloride, stannic chloride, or a complex compound of these Lewis acids. - A method for producing substituted methyl cefem carboxylic acid or a salt thereof.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16929079A JPS5692290A (en) | 1979-12-27 | 1979-12-27 | Preparation of 7-amino-3-substituted methylcephem carboxylic acid, its salt or ester |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16929079A JPS5692290A (en) | 1979-12-27 | 1979-12-27 | Preparation of 7-amino-3-substituted methylcephem carboxylic acid, its salt or ester |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5692290A JPS5692290A (en) | 1981-07-25 |
| JPH0121150B2 true JPH0121150B2 (en) | 1989-04-19 |
Family
ID=15883766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16929079A Granted JPS5692290A (en) | 1979-12-27 | 1979-12-27 | Preparation of 7-amino-3-substituted methylcephem carboxylic acid, its salt or ester |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5692290A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0699443B2 (en) * | 1989-09-29 | 1994-12-07 | ファイザー製薬株式会社 | Cephalosporin compounds |
-
1979
- 1979-12-27 JP JP16929079A patent/JPS5692290A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5692290A (en) | 1981-07-25 |
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