JPH01211802A - Photosetting dielectric sintered paste - Google Patents

Photosetting dielectric sintered paste

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JPH01211802A
JPH01211802A JP3827788A JP3827788A JPH01211802A JP H01211802 A JPH01211802 A JP H01211802A JP 3827788 A JP3827788 A JP 3827788A JP 3827788 A JP3827788 A JP 3827788A JP H01211802 A JPH01211802 A JP H01211802A
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JP
Japan
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photosetting
resin composition
dielectric
paste
photocurable
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JP3827788A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiko Sakata
和彦 坂田
Kenichi Yokota
健市 横田
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Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain excellent thick film sintering property by including a cellulosic inductor, a photopolymerizing compound having a double bond in its molecule and a photopolymerizing initiator into a photosetting resin composition serving as a binder. CONSTITUTION:A photosetting dielectric sintered paste includes a vitreous frit and a photosetting resin composition. In the photosetting dielectric sintered paste, the photosetting resin composition incorporates a cellulosic inductor, a photopolymerizing compound having a double bond in its molecule and a photopolymerizing initiator thereinto. Using the photosetting dielectric sintered paste including the vitreous frit and the photosetting resin composition as requisite components, a predetermined pattern is printed on a ceramic board, and then it is sintered in an atmosphere of air after being subjected to photosetting, thereby obtaining a dielectric layer. The absence of solvents in the sintered paste can prevent any generation of pinholes caused by clogging of a screen board. In addition, preferable sintering property of the photosetting resin can prevent any pinhole, peeling and residual carbon caused by sintering.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は光硬化型樹脂組成物をバインダとする光硬化型
誘電体焼成ペーストに関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a photocurable dielectric firing paste using a photocurable resin composition as a binder.

(従来の技術) 従来、誘電体層を形成する誘電体焼成ペーストとしでは
、低融点ガラス質フリット、高融点ガラス質フリット金
属酸化物及び有機ビヒクルから成る溶剤型誘電、体焼成
ペーストが一般的である。
(Prior Art) Conventionally, as a dielectric firing paste for forming a dielectric layer, a solvent-based dielectric or body firing paste consisting of a low melting point vitreous frit, a high melting point vitreous frit metal oxide, and an organic vehicle has been commonly used. be.

(発明が解決しようとする課題) しかし、この様な、溶剤型誘電体焼成ペーストは高沸点
の溶剤を含有しているために、(1)乾燥時間が長い、
(2)スクリーン版の目詰まりによるピンホールが生じ
やすい、(4)ペーストの経時粘度変化が大きいため連
続印刷が困難、(5)職場環境汚染が著しい、などの問
題点がある。
(Problems to be Solved by the Invention) However, since such a solvent-based dielectric firing paste contains a high boiling point solvent, (1) the drying time is long;
There are problems such as (2) pinholes are likely to occur due to clogging of the screen plate, (4) continuous printing is difficult due to large changes in the viscosity of the paste over time, and (5) significant pollution of the workplace environment.

既に本発明の一部により熱分解性良好な光硬化型樹脂組
成物の提案がなされている。(特開昭57−15299
3) 、 Lかし、その光硬化型樹脂組成物を使用した
場合は、焼成膜厚が30μm以上の場合は、焼成性が不
良であることが判明した。
A photocurable resin composition with good thermal decomposition properties has already been proposed as part of the present invention. (Unexamined Japanese Patent Publication No. 57-15299
3) It was found that when a photocurable resin composition thereof was used, the firing properties were poor if the fired film thickness was 30 μm or more.

(課題を前夫するための手段) 本発明者らは、これらの欠点を解決し、厚膜焼成性に優
れた光硬化型誘電体焼成ペーストを得るべく鋭意研究し
た結果、本発明に到達した。
(Means for Solving the Problems) The present inventors have arrived at the present invention as a result of intensive research aimed at solving these drawbacks and obtaining a photocurable dielectric firing paste with excellent thick film firing properties.

すなわち本発明は、ガラス質フリット(^)、および光
硬化型樹脂組成物(B)を含む光硬化型誘電体焼成ペー
ストにおいて、光硬化型樹脂組成物(B)が、 ([)  セルロース系誘導体 (If)  分子内に二重結合を有する光重合性化合物
および (III)  光重合開始剤 を含有することを特徴とする光硬化型誘電体焼成ペース
トである。
That is, the present invention provides a photocurable dielectric firing paste containing a glassy frit (^) and a photocurable resin composition (B), in which the photocurable resin composition (B) contains ([) a cellulose derivative This is a photocurable dielectric firing paste characterized by containing (If) a photopolymerizable compound having a double bond in its molecule and (III) a photopolymerization initiator.

本発明で使用するガラス質フリット(A)とは、例えば
、酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化ナトリウム、
酸化カルシウム、酸化カドミウム、酸化アルミニウム、
酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸マンガン等の
化合物であり、その含有率は本発明の焼成ペーストの5
0〜90重量%である。その含有率が50重量%未満の
場合は誘電体層の電気特性に劣り、一方90重量%を越
える場合は、印刷性が悪くなる。
The vitreous frit (A) used in the present invention includes, for example, lead oxide, boron oxide, silicon oxide, sodium oxide,
Calcium oxide, cadmium oxide, aluminum oxide,
It is a compound such as magnesium oxide, zirconium oxide, manganese oxide, etc., and its content is 5% in the firing paste of the present invention.
It is 0 to 90% by weight. If the content is less than 50% by weight, the electrical properties of the dielectric layer will be poor, while if it exceeds 90% by weight, printability will be poor.

次に本発明で使用する光硬化型樹脂組成物(B)におい
て、セルロース系誘導体(1)とは、例えば、(+)メ
チルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチル
セルロース、オキシエチルセルロース、ベンジルセルロ
ース、プロピルセルロースなどのセルロースなどのセル
ロースエーテル類。
Next, in the photocurable resin composition (B) used in the present invention, the cellulose derivative (1) is, for example, a cellulose such as (+) methylcellulose, ethylcellulose, carboxymethylcellulose, oxyethylcellulose, benzylcellulose, propylcellulose, etc. Cellulose ethers such as.

(2)ギ酸セルロース、アセチルセルロース、プロピオ
ニルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、メ
タクリロイルセルロースなどのセルロース有機酸エステ
ル類、(3)ニトロセルロース、硫酸セルロース、リン
酸セルロースなどのセルロース無機酸エステル類等が挙
げられ、単独にまたは2種類以上併用して使用される。
(2) Cellulose organic acid esters such as cellulose formate, cellulose acetate, cellulose propionyl, cellulose acetylpropionyl, and cellulose methacryloyl; (3) cellulose inorganic acid esters such as cellulose nitrocellulose, cellulose sulfate, and cellulose phosphate; They may be used alone or in combination of two or more.

セルロース誘導体(1)の配合量は光硬化型樹脂組成物
中の2〜60重量%であり、更に好ましくは5〜55重
量%である。
The content of the cellulose derivative (1) in the photocurable resin composition is 2 to 60% by weight, more preferably 5 to 55% by weight.

また、セルロース系誘導体の分子IIMはM≦1.00
0,000セあり、分子IMが1 、000 、000
を越えた場合、分子内に二重結合を有する光重合成化合
物に難溶となる0本願発明のセルロース系誘導体は分子
内に二重結合を有する光重合性化合物に溶解することが
必要である。
In addition, the molecule IIM of cellulose derivative is M≦1.00
There are 0,000 ce, molecule IM is 1,000,000
If it exceeds 0, it becomes poorly soluble in photopolymerizable compounds having a double bond in the molecule.The cellulose derivative of the present invention needs to be dissolved in the photopolymerizable compound having a double bond in the molecule. .

分子内に二重結合を有する光重合性化合物(II)とは
、例えば、(1)スチレン、α−メチルスチレンなどの
スチレン系化合物、(2)メチル(メタ)アクリレート
、エチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリ
ル(メタ)アクリレートなどのモノ(メタ)アクリレー
ト化合物、(3)エチレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、1.6−ヘキサンシオールジ(メタ)アクリレ
ートなどのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト化合物、(4)トリメチロールプロパントリ(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレートなどの多価(メタ)アクリレート化合物など
である。
The photopolymerizable compound (II) having a double bond in the molecule includes, for example, (1) styrene compounds such as styrene and α-methylstyrene, (2) methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, Mono(meth)acrylate compounds such as tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, (3) alkylene glycol di(meth)acrylate compounds such as ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexanethiol di(meth)acrylate, ( 4) Trimethylolpropane tri(meth)
These include polyvalent (meth)acrylate compounds such as acrylate and pentaerythritol tetra(meth)acrylate.

(但し、(メタ)アクリレートはメタアリレートおよび
アクリレートを示す。) これらの晃重合可能な化合物(ff)の配合量は、光硬
化型樹脂組成物中の40〜95重量%であることが好ま
しい。
(However, (meth)acrylate refers to metharylate and acrylate.) The compounding amount of these photopolymerizable compounds (ff) is preferably 40 to 95% by weight in the photocurable resin composition.

光重合開始剤とは、例えば、ベンゾイン系化合物、ベン
ゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物である。
The photopolymerization initiator is, for example, a benzoin compound, a benzophenone compound, or a thioxanthone compound.

光重合開始剤の配合量は光硬化型樹脂組成物中1〜lO
重世%であることが好ましい。
The amount of the photopolymerization initiator is 1 to 1 O in the photocurable resin composition.
Preferably, it is %.

光硬化型樹脂組成物(B)の含有率は本発明の焼成ペー
ストの10〜50重量%である。含有率が10重量%未
満の場合は、ペースト粘度が高くなり印刷が困難であり
、一方、50重量%を越えると誘電体層の電気特性が不
良となる。光硬化型樹脂組成物(B)には公知の熱重合
禁止剤、レベリング剤、消泡剤、揺変剤などを添加し、
粘度、保存安定剤、印刷適性などを調節しして使用され
るのが一般的である。
The content of the photocurable resin composition (B) is 10 to 50% by weight of the fired paste of the present invention. When the content is less than 10% by weight, the paste viscosity becomes high and printing is difficult, while when it exceeds 50% by weight, the electrical properties of the dielectric layer become poor. A known thermal polymerization inhibitor, leveling agent, antifoaming agent, thixotropic agent, etc. are added to the photocurable resin composition (B),
It is generally used after adjusting the viscosity, storage stabilizer, printability, etc.

本発明では前記ガラス質フリッl−(A)、光硬化型樹
脂組成物([1)を必須成分とする光硬化型誘電体焼成
ペーストを用いて、アルミナなどのセラミック基板上に
所定のパターンを印刷し、光硬化後空気雰囲気モ焼成し
て誘電体層を得る。
In the present invention, a predetermined pattern is formed on a ceramic substrate such as alumina using a photocurable dielectric firing paste containing the glassy frit (A) and the photocurable resin composition ([1) as essential components. The dielectric layer is obtained by printing, photocuring, and baking in an air atmosphere.

本発明では印刷に使用する誘電体焼成ペーストが光硬化
型誘電体焼成ペーストであるため、溶剤を全く含まず、
従ってスクリーン版の目詰りによるピンホールを生じな
い。本発明の焼成ベーストについては光硬化する条件は
特に制限はない。光照射に用いられる光源としては太陽
光、ケミカルランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタル
ハライド、ランプ、キセノン、ランプなどが使用される
In the present invention, since the dielectric firing paste used for printing is a photocurable dielectric firing paste, it does not contain any solvent.
Therefore, no pinholes occur due to clogging of the screen plate. Regarding the fired base of the present invention, there are no particular limitations on the conditions for photocuring. As a light source used for light irradiation, sunlight, a chemical lamp, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, and the like are used.

基板としてはアルミナ基板、ホーロ基板、バリリア基板
、窒素アルミニウム基板、炭化ケイ素基板などが使用さ
れる。
As the substrate, an alumina substrate, a hollow substrate, a Varilia substrate, a nitrogen aluminum substrate, a silicon carbide substrate, etc. are used.

(実施例) 本発明を更に詳細に説明するために実施例を挙げるが、
本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもので
はない、実施例中、単に部または%とあるのはそれぞれ
重量部、または重量%を示す、性能評価のための測定は
次の方法によった。
(Example) Examples will be given to explain the present invention in more detail.
The present invention is not limited to these examples in any way. In the examples, parts or % simply refer to parts by weight or % by weight. Measurements for performance evaluation were carried out by the following method. Ta.

印刷通性:所定の回路パターンを250メツシユのステ
ンレス・スクリーン版を用いて印11、ステンレス・ス
クリーン版の目詰まりがするまでの印刷枚数により印刷
適性を測定した。
Printability: A predetermined circuit pattern was printed using a 250-mesh stainless steel screen plate with 11 marks, and the printability was measured by the number of prints until the stainless steel screen plate became clogged.

焼成性:所定の回路パターンを焼成膜厚が40μm以上
になる様に印刷し、セラミック基板を空気雰囲気中で最
高温度850℃で15分間保持、焼成時間35分で焼成
を行ないピンホール、剥離の有無を判定した。
Firing properties: Print a predetermined circuit pattern so that the fired film thickness is 40 μm or more, hold the ceramic substrate in an air atmosphere at a maximum temperature of 850°C for 15 minutes, and bake for 35 minutes to prevent pinholes and peeling. The presence or absence was determined.

製造例1゜ 平均分子125 、000のエチルセルロースi1m、
2−ヒドロキシルエチルメタクリレート66部、ポリエ
チレングリコール(エチレンオキサイド14モル付加物
)ジメタクリレート15部、光重合開始剤としてベンジ
ルジメチルケタール4部、2−エチルアントラキノン4
部を室温で混合溶解し、光硬化型樹脂組成物(a)を得
た。
Production Example 1 Ethyl cellulose i1m with an average molecular weight of 125,000,
66 parts of 2-hydroxylethyl methacrylate, 15 parts of polyethylene glycol (adduct of 14 moles of ethylene oxide) dimethacrylate, 4 parts of benzyl dimethyl ketal as a photopolymerization initiator, 4 parts of 2-ethylanthraquinone
The components were mixed and dissolved at room temperature to obtain a photocurable resin composition (a).

同様にして、セルロース系誘導体と光重合性化合物が第
1表に示される成分である光硬化型樹脂組成物(ロ)と
(C)を得た。尚、光重合開始剤は(a)と同じ化合物
を同量使用した。
Similarly, photocurable resin compositions (B) and (C) containing a cellulose derivative and a photopolymerizable compound as shown in Table 1 were obtained. As the photopolymerization initiator, the same compound and the same amount as in (a) were used.

次いで、ガラス質フリット〔^5F−1360、旭硝子
■製〕70%、゛および上記光硬化型樹脂組成物(a)
 30%をセラミック3本ロールを用いてよく混練し、
光硬化型誘電体焼成ペースl−(a’ )を得た。同様
に光硬化型誘電体焼成ペース) (b”)、(C′)を
得た。
Next, vitreous frit [^5F-1360, manufactured by Asahi Glass ■] 70%, ゛ and the above photocurable resin composition (a)
30% was well kneaded using three ceramic rolls,
A photocurable dielectric firing paste l-(a') was obtained. Similarly, photocurable dielectric firing pastes (b") and (C') were obtained.

第  1  表 ($1) 2−ヒドロギシルエチルメタクリレート($
2)テトラヒドロフルフリルメタクリレート(傘3)ポ
リエチレングリコール〔(エチレンオキサイド(EO)
付加物)〕ジメタクリレート 製造参考例1 平均分子量75,000のメタクリル酸メチル(HMA
) −メタクリル酸−n−ブチル(n−HMA)共重合
体(HMA/n−11M^、4G/60重量比)25部
、2−ヒドロキシルエチルメタクリレート52部、ポリ
エチレングリコール(エチレンオキサイド14モル付加
物)ジメタクリレー)15部、光重合開始剤としてベン
ジルジメチルケタール4部および2−エチルアントラキ
ノン4部を室温で溶解し、光硬化型樹脂組成物(d)を
得た。同様にして、表2に示される。光硬化型樹脂組成
物(e)を得た。尚、光開始剤は(d)と同じ化合物を
同量使用した。
Table 1 ($1) 2-Hydroxylethyl methacrylate ($
2) Tetrahydrofurfuryl methacrylate (Umbrella 3) Polyethylene glycol [(ethylene oxide (EO)
Adduct)] Dimethacrylate Production Reference Example 1 Methyl methacrylate (HMA) with an average molecular weight of 75,000
) - 25 parts of n-butyl methacrylate (n-HMA) copolymer (HMA/n-11M^, 4G/60 weight ratio), 52 parts of 2-hydroxylethyl methacrylate, polyethylene glycol (14 moles of ethylene oxide adduct) ) dimethacrylate), 4 parts of benzyl dimethyl ketal and 4 parts of 2-ethyl anthraquinone as photopolymerization initiators were dissolved at room temperature to obtain a photocurable resin composition (d). Similarly, it is shown in Table 2. A photocurable resin composition (e) was obtained. As the photoinitiator, the same compound and the same amount as in (d) were used.

次いで、ガラス質フリット〔^5F−1380、旭硝子
■製〕70%および上記光硬化型樹脂組成物(d)をセ
ラミック3本ロールを用いてよく混練し、光硬化型誘電
体焼成ペースト(d′)を得た。同様に′して、光硬化
型樹脂組成物(e)を用い、光硬化型誘電体焼成ぺ一気
) (e’ )を得た。
Next, 70% glassy frit [^5F-1380, manufactured by Asahi Glass ■] and the above photocurable resin composition (d) were thoroughly kneaded using a three-roll ceramic roll to form a photocurable dielectric firing paste (d' ) was obtained. Similarly, using the photocurable resin composition (e), a photocurable dielectric fired film (e') was obtained.

製造参考例2 平均分子量25,000のエチルセルロース18部、溶
剤(テルピネオール/トルエン=70/30  (重量
比))82部を室温で溶解し溶剤型樹脂組成物(f)を
得た。
Production Reference Example 2 18 parts of ethyl cellulose having an average molecular weight of 25,000 and 82 parts of a solvent (terpineol/toluene = 70/30 (weight ratio)) were dissolved at room temperature to obtain a solvent-type resin composition (f).

次いで、ガラス質フリント(八5F−1380、旭硝子
rj勾製) 70%および上記溶剤型樹脂組成物(f)
をセラミック3本ロールを用いてよ< ?Tl練し、溶
剤型誘電体焼成ペースト(f′)を得た。
Next, 70% of vitreous flint (Hachi5F-1380, manufactured by Asahi Glass RJ Co., Ltd.) and the above solvent-based resin composition (f) were added.
Use three ceramic rolls. Tl kneading was carried out to obtain a solvent type dielectric firing paste (f').

第  2  表 (本4)メタクリル酸メチル−メタクリルブチルエステ
ル酸共重合体 (HMA/n−BMA=40/60重量比)(本5)2
−ヒドロキシルエチルメタクリレート(本6)テトラヒ
ドロフルフリルメタクリレート(傘7)ポリエチレング
リコール(エチレンオキサイド14モル付加物)ジメタ
クリレート(ネ8)テルピネオール/トルエン=70/
30(重量比) 実施例1 アルミナ基板(アルミナ含有率96%、N 5 cm 
X横5 cm X厚み0.6mm)上に、光硬化型誘電
体焼成ペースト(a’)をステンレス・スクリーン版ヲ
用いて所定のパターンを連続印刷した。
Table 2 (Book 4) Methyl methacrylate-methacryl butyl ester acid copolymer (HMA/n-BMA=40/60 weight ratio) (Book 5) 2
-Hydroxylethyl methacrylate (Book 6) Tetrahydrofurfuryl methacrylate (Umbrella 7) Polyethylene glycol (14 mole ethylene oxide adduct) Dimethacrylate (Part 8) Terpineol/Toluene = 70/
30 (weight ratio) Example 1 Alumina substrate (alumina content 96%, N 5 cm
A predetermined pattern was continuously printed using a stainless steel screen plate with the photo-curable dielectric firing paste (a') on a substrate (width: 5 cm x thickness: 0.6 mm).

この場合、印刷枚数が500枚を越えてもスクリーン版
の目詰りは全く発生しなかった。この印刷されたアルミ
ナ基板を5.6KW水冷式高圧水銀灯下、15C11の
距離で10秒間照射し、焼成ペーストを硬化させた.次
いで、このアルミナ基板を前出の焼成条件で焼成したの
ち、焼成性を判定した。その結果を第3表に示した。
In this case, no clogging of the screen plate occurred even when the number of printed sheets exceeded 500 sheets. The printed alumina substrate was irradiated for 10 seconds at a distance of 15C11 under a 5.6KW water-cooled high-pressure mercury lamp to harden the fired paste. Next, this alumina substrate was fired under the above-mentioned firing conditions, and then the firing properties were determined. The results are shown in Table 3.

実施例2および3 実施例1における光硬化型誘電体焼成ペースト(a′)
の代りに光硬化型誘電体焼成ペースト(b′)および(
C′)を用いアルミナ基板上にパターンを形成した。
Examples 2 and 3 Photocurable dielectric firing paste (a') in Example 1
Instead of photocurable dielectric firing paste (b') and (
A pattern was formed on an alumina substrate using C').

印刷適性と焼成性の結果をそれぞれ実施例2、3として
表3に示した。
The results of printability and firing properties are shown in Table 3 as Examples 2 and 3, respectively.

比較例1 実施例1のアルミナ基板上に光硬化型誘電体焼成ペース
ト(d”)をステンレス・スクリーン版を用いてパター
ンを連続印刷した。印刷されたアルミナ基板を5.6に
一水冷式高圧水銀灯下、l 5 cmの距離で10秒間
照射し硬化させた。次いで、印刷されたアルミナ基板を
前出の焼成条件で焼成したのち、焼成性゛を判定した。
Comparative Example 1 A pattern was continuously printed on the alumina substrate of Example 1 using a stainless steel screen plate with the photocurable dielectric firing paste (d''). The printed alumina substrate was cured by irradiation for 10 seconds under a mercury lamp at a distance of 1 5 cm.The printed alumina substrate was then fired under the above-mentioned firing conditions, and the firing properties were evaluated.

その結果を第4表に示した。The results are shown in Table 4.

比較例2 比較例1における光硬化型誘電体控成ペースト(d′)
の代りに光硬化型誘電体焼成ペースト(e′)を用いア
ルミナ基板上にパターンを形成した。印刷適性と焼成性
の結果を第4表に示した。
Comparative Example 2 Photocurable dielectric preforming paste (d') in Comparative Example 1
Instead, a pattern was formed on an alumina substrate using a photocurable dielectric firing paste (e'). The results of printability and firing properties are shown in Table 4.

比較例3 実施例1のアルミナ基板上に、溶剤型誘電体焼成ペース
ト(f′)を用いてパターンを連続印刷した.この印刷
されたアルミナ基板150℃×20分で乾燥させた.次
いで印刷されたアルミナ基板を前出の焼成条件で焼成し
焼成性を判定した。
Comparative Example 3 A pattern was continuously printed on the alumina substrate of Example 1 using a solvent-based dielectric firing paste (f'). This printed alumina substrate was dried at 150°C for 20 minutes. Next, the printed alumina substrate was fired under the above-mentioned firing conditions, and the firing properties were evaluated.

その結果を第3表に示した。The results are shown in Table 3.

第  3  表 (発明の効果) 本発明の光硬化型誘電体焼成ペーストの優れた効果とし
て次の点が挙げられる。
Table 3 (Effects of the Invention) The following points are listed as excellent effects of the photocurable dielectric firing paste of the present invention.

(1)  使用する焼成ペーストが光硬化型誘電体焼成
ペーストであるため、全く溶剤を含有せず、スクリーン
版の目詰りによるピンホールの発生が生じない。
(1) Since the firing paste used is a photocurable dielectric firing paste, it does not contain any solvent and pinholes do not occur due to clogging of the screen plate.

(2)  そのためパターンの連続印刷が可能である。(2) Therefore, continuous printing of patterns is possible.

(3)  光硬化型樹脂の焼成性が良好なため焼成によ
るピンホール、剥離、カーボン残存がない。
(3) Since the photocurable resin has good firing properties, there are no pinholes, peeling, or carbon residue due to firing.

特許出願人  東洋紡績株式会社Patent applicant: Toyobo Co., Ltd.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 ガラス質フリット(A)、および光硬化型樹脂組成物(
B)を含む光硬化型誘電体焼成ペーストにおいて、光硬
化型樹脂組成物(B)が、 ( I )セルロース系誘導体 (II)分子内に二重結合を有する光重合性化合物および (III)光重合開始剤 を含有することを特徴とする光硬化型誘電体焼成ペース
ト。
[Claims] Glassy frit (A), and photocurable resin composition (
In the photocurable dielectric baking paste containing B), the photocurable resin composition (B) contains (I) a cellulose derivative (II) a photopolymerizable compound having a double bond in the molecule; A photocurable dielectric firing paste characterized by containing a polymerization initiator.
JP3827788A 1988-02-19 1988-02-19 Photosetting dielectric sintered paste Pending JPH01211802A (en)

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