JPH01213530A - 分光計 - Google Patents

分光計

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JPH01213530A
JPH01213530A JP63335703A JP33570388A JPH01213530A JP H01213530 A JPH01213530 A JP H01213530A JP 63335703 A JP63335703 A JP 63335703A JP 33570388 A JP33570388 A JP 33570388A JP H01213530 A JPH01213530 A JP H01213530A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 本発明は凹面ホログラフ回折格子を使用して光を波長に
ついて分離する分光計に関する。特に、本発明は広範囲
の波長にわたり良好な焦点合せを行い、より良い視感度
(luminosity)で非点収差(astigma
tism)がより小さい凹面回折格子を使用する分光計
に関する。
(従来技術とその問題点) 凹面格子分光計は光を波長について分離し、一つまたは
それ以上の波長の測定あるいは記録を可能にする。その
最も簡単な構成では、光検出器、凹面格子、および光ビ
ームを格子に導く人口スリットからなる。格子は、一般
に平行で且つ−様な間隔をおいて配置される溝の精細な
パターンで覆われた球形反射表面から構成されている。
曲面を成す格子表面は波長を分離すると共に光のフォー
カシングを行う働きをする。
の検出器上にフォーカスする球面ミラーのような補助的
フォーカシング装置を必要としないという点では良好で
ある。このため廉価で、装置構成が簡単になり且つ、真
空紫外線(UVU)波長領域で、補助的装置に伴う光の
損失機構が無くなる。
しかしながら、凹面格子は設計が簡単であることからい
ろいろな光学的誤差(optical difficu
lti−es)を補正するため調節すること夢できるパ
ラメータが非常に少いことである。
柔軟な金属表面(soft metal 5urfac
e)に溝の線引きすること(scribing)すなわ
ちルーリング(ruling)により機械的に作られる
、従来の凹面格子では、−船釣な制限事項は非点収差で
ある。
これは各種波長の像が最も狭い水平焦点面(ho口z−
ontal focal plane)と呼ばれる焦点
曲線が、同じ像の高さが最小となる垂直焦点面と呼ばれ
る曲線と実質工具なる状態である。非点収差によって光
の損失が生じ、他の幾つかの収差における厳正が増す。
この問題は二つの焦点曲線の位置が互いにかなり離れる
場合において悪化する。
機械的にルーリングした凹面格子を改善したものがホロ
グラフ格子である。ここでは、溝はコヒーレント・レー
ザで形成した干渉パターンを用いて作られる。レーザ・
ビームは二つの点にフォーカスする二つの部分に分割さ
れる。二つの焦点から発散する光は感光面でコーティン
グされた球表面を照らす。露光後、表面を化学的にエツ
チングさせ、反射材料でコーティングする。二つのレー
ザ焦点の位置を定義する四つのパラメータを備えるこの
プロセスは、溝間隔という一つのパラメータで特徴づけ
られる機械的ルーリングを行なった表面より一般的であ
る。
ホログラフ格子の利点は、レーザの焦点の位置を調節す
ることにより、二つの焦点曲線の形状と大きさとを修正
することができるということである。水平焦点曲線は、
垂直焦点曲線の平坦に近い形状により良く対応するよう
に一層平坦に作ることができるということ及び二つの曲
線は成る程度接近し1回以上公差するようにも作ること
ができるということは非常に早くから認められていた。
これら交差点(crossover points)の
長所は非点収差がそこに形成された像に対してOである
ことである。
1969年(ロンドン、0riel Press)発行
の「光学装置と技術(口PTI(:AL INsTRI
IMENTs AND TBC)INIQII−BS)
 Jと題する本の第117頁から第124頁記載の、[
:ordell等による「ホログラフ的に作った収差補
正凹面格子(Aberration −Corr−ec
ted Concave Gratings Made
 Biographically) Jという論文には
、二つの焦点曲線が3点において交差している格子配列
が説明されている。しかしなから、この設計には幾つか
の重大な制約がある。
三つの交点の一つを入口にスリットとして使用するので
、像位置として利用することができない。
また、レーザ焦点に対して可能な位置は三つしか無く、
実現可能な設計は極めて制限される。
少くとも1974年のJournal of the 
0ptical 5oc−iety of Ameri
caのvol、64.第1037頁から第1042頁に
記載され、H,Noda等によって凹面ホログラフ格子
分光計に関する正確な光線追跡(ray −tr−ac
ing)の手順を開発した、「ホログラフ格子を通して
の光線追跡(Ray Tracing Through
 Holograp−hic Gratings) J
の発表以来、原理的には、コンピュータ・プログラムを
使用して最良の光学的設計に対するすべての可能性を探
索することができることが知られている。このアプロー
チは、部分的には最適であるが設計全体では最良ではな
い設計を表わす点で上述の探索が早期終了してしまう等
の幾つかの周知の困難により制限されていた。
、:(7)方法(7)−例Lt1987年8月号(D 
APPLIED 0PTIC3゜Vol、26.第31
08頁に記載されたWayne R,Mckin−ne
y等による論文に示されている。彼等の目的は所定の波
長範囲に対し、特定の長さの平坦な焦平面を用いて、適
度な分解能を備える分光計を設計することにあった。彼
等は各種光学パラメータをコンピュータを用いて最適化
することにより最良設計を見出そうとした。しかしなが
ら、これは彼等の目的に対して最も優れた設計を与える
ものではなかった。
米国特許第4,279.511号に示される凹面格子分
光計では、検出器を直線上に沿って動かすことより、異
なる波長を検出器により交差させることができるという
有利な点を備えている。−般に、凹面格子は、ホログラ
フ格子でさえ、この目的には水平焦点曲線が直線でなく
、焦点はずれ誤差を引起すことより、適切ではない。加
えて、はぼ直線の垂直焦点曲線は、一般に水平焦点曲線
に沿って配置されていないので非点収差誤差を引起こす
ことになる。それ故、平坦な焦点フィールドで、角度範
囲(angular range)が広く、非点収差が
小さく、高分解能で光学的スルーブツトが大きい分光計
を提供することが望まれる。
(発明の目的) 本発明の目的は上述の問題点を解消し、非点収差を最小
化し、広範囲な波長領域において測定可能な分光計を得
ることにある。
(発明の概要) 本発明は光源、光源からの光を受けるホログラフ凹面格
子、および格子からの回折光を受ける検出手段を備える
形式の分光計に関する。本発明では格子の曲率中心を通
って延長し格子の垂直焦点曲線と3点で交差する格子の
水平焦点曲線の一部である経路に実質上沿って検出手段
を位置決めすることが含まれている。この3点のうち2
点はホログラフ格子を形成するために用いるレーザ・ビ
(発明の実施例) 第1図に本発明の一実施例である分光計lOを示す。分
光計10は光源12を備え、これは被測定試料を含むプ
ラズマを形成させるマイクロ波空洞を用いることができ
る。光源12からの光線(light 5a−ys) 
14はレンズ16等の光学装置を通してスリット部材1
8に送られる。スリット部材18は矢印20で示したよ
うに光路に沿って移動することが可能である。スリット
部材18からの光線22はホログラフ凹面格子24へ指
向される。凹面格子24の凹表面25より反射した回折
光線(diffracted light 5ays)
26は光検出器28へ送られる。図示するように、光検
出器28はフォトダイオード等の光検出素子から成るア
レイである。光検出器28は矢印32で示したように平
面30に沿って動くように取付けられる。
ホログラフ凹面格子24は当業者には周知の基本的ホロ
グラフ技術によって作られる。この技術には格子基板の
凹表面をフォトレジストの層でコーティングすることが
含まれている。次に、フォトレジスト層を間隔をおいた
二つのレーザから放射される二つのレーザ・ビームの交
点に位置させる。
これによりフォトレジスト層内に干渉パターンが生成さ
れる。フォトレジスト層を現像した後、干渉パターンを
基板の表面にエツチングさせる。次に表面をアルミニウ
ム等の反射(reflect+ee mat−eria
l)でコーティングさせる。
本願発明により、先に述べた所定の特性を持つ改良され
た分光計を次の条件が満たされれば可能である。
1、格子の水平焦点曲線は格子の凹表面の曲率中心(c
enter of curvature)を通過する。
この焦点曲線を[第1の水平焦点曲線(ρrimar−
y horizontal focal curve)
 Jと呼ぶ。
2、レーザの焦点が同じ水平焦点曲線上にある。
3、第1の垂直焦点曲線が両方のレーザ焦点曲線と交差
すると共に、第3の点で水平焦点曲線とも交差する。三
つの交点はすべて格子法線fgrating norm
al)の同じ側に存在する。
4、第2の垂直焦点曲線は第1垂直焦点曲線上のすべて
の点の垂直にフォーカスされた像のすべてから構成され
る。
5、点光源の位置は第2垂直焦点曲線と水平焦点曲線と
の交点で決定される。格子法線の反対側に位置する点光
源はレーザの焦点を形成する。
6、像焦点曲線はレーザ点である格子法線と同じ側に、
水平焦点曲線に沿って存在する。
凹面ホログラフ分光計について説明するには、極座標(
R,SX)を使用するのが便利である。
第2図には凹面ホログラフ回折格子24の凹表面25上
に中心を置く座標系の中心34を示す。中心34からの
半径方向の距離は中心34から凹表面25の曲率中心3
6までの距離により正規化され、rRJで始まる複数文
字の記号で定義する。角度は大文字のアルファベットで
記してあり、格子法線38から測定されている。格子法
線38は中心34から曲率中心36を通る線である。座
標系の平面は中心34を含み、格子の中心にある溝の方
向と同一直線上にあるベクトルZに垂直である。
凹面ホログラフ格子は極座標(RA、A)にある点光源
40と成る波長りにおける(RI SB)の像点42と
の関係より説明される。格子の性質は格子面を形成する
ために使用される二つのレーザ焦点44および46の位
置に従っても決定される。第1のレーザ焦点44は(R
CSC)にあり、第2のレーザ焦点46は(RD 、D
)に位置する。角度B。
CSおよびDは正であるが角度Aは負である。
分光計は以下の式(1)から(4)で記述することがで
きる。
(1)   5inD −5inC= L o / d
(2)   s+nA + 5inB = L / d
(1)は溝間隔dが二つのレーザ角度CとDX及びレー
ザ波り。によりどのように決定されるかを示している。
(2)は点光源と像に対する角度AとB1溝間隔d1お
よび波長りの関係を示している。(3)では曲率中心と
任意の点(RXSX)を通る水平焦点曲線をパラメータ
Hで定義している。本発明によれば、点光源と一つの像
点と二つのレーザ点の座標すなわち(A、RA)、(B
、R8)、(C1Ro)、右よび(D、R:)はすべて
パラメータHの共通の値で式(3)を満足する。(4)
より任意の点(R,、X)を通る垂直焦点曲線を二つの
パラメータにとVで定義される。本発明では、一つの像
点と二つのレーザ点との座標がそれぞれKとVとは逆で
ある時、式(4)が成立する。(4)は、Kの符号を変
化させるとKが元の符号で曲線に対し垂直にフォーカス
された像である垂直焦点曲線を表わす。
第3図は格子24を含む、座標系の平面を示す。
はすべて格子24から始まり曲率中心36を交差する。
曲線48.50.52、および54はそれぞれ−0,3
、−〇、5、−〇。7、および−0,9のHの値に対応
する。第3図からHの大きさが大きくなるとより平坦な
焦点曲線を得るが、その傾斜も大きくなる。
垂直焦点曲線はほとんど直線である。事実曲率中心を交
差する曲線は正確に直線である。パラメータVとKとを
変化させることにより、垂直焦点曲線を傾け、曲率中心
からオフセットすることができる。
本発明の目的の一つに平坦な焦点面の分光計を設計する
ことであることより、焦点曲線の屈曲点の位置を知るこ
とが有用である。というのはそこで焦点曲線が最も平坦
になるからである。この点を次の式で定義する。
(5)  RB=3/2(CO8B)、tanB = 
−1/(3H)以下に本発明に寄る分光計の設計プロセ
スを説明する。点光源と検出器との既知の幾何学的状態
と所望の波長分解能とに基き、格子の曲率半径を選定す
る。所望の波長範囲に基き、像平面を走査する角度範囲
に関する近似値を選定する。本発明の実施例では30°
の大きさの角度範囲が実用的であることがわかった。こ
の段階で、格子法線から0°の点光源の角度の近似値を
使用する。選定した角度範囲から、溝間隔dを式(1)
から計算することができる。パラメータHの値を選定す
る。一定の倍率と分散を有する−0.3等の低いHの値
とより平坦な焦点曲線を有する−0.9等高いHの値の
場合とでは交換が生ずる。
一旦Hを選定すれば、像水平焦点曲線が求めら第3のW
収差点と同様に、水平焦点曲線の作動部分、すなわち、
被測定波長の像を含む曲線の部分に重なるように選定す
る。水平焦点曲線の作動部分の中心を(5)で与えられ
る屈曲点にすることが望ましい。
この点で、分光計のパラメータがすべて決まり、点光源
の位置を計算することができる。分度は近似値の代わり
に点光源の角度の計算値を使用して、このプロセスを繰
り返す。
実施例 具体例として、曲率半径が300mmの分光計の設して
最初に25°を選定する。入口スリットがO。
であると最初に仮定して、溝間隔をほぼ1900nmと
計算する。傾斜を有する像フィールドにおける平坦度の
仮定に基いて、Hの値として−0,7を選択する。
二つのレーザ点を屈曲点で角度が挟まれるように(bl
acket)選定するが、これは式(5)により25.
4第2のレーザ角度13.18°を与える。式(3)は
レーザ点の半径方向に正規化された寸法を第1の点につ
いて1.429、第2の点について1.165を与える
二つの点に対して式(4)を連立して解きVを対して、
−0,2336、Kに対して、−0,064を得る。こ
の式から点光源の位置として0.9228 < −=、
 288°)も得ら、乳 れる。ここで、辱;収差点が225mmと 713mm
との波長で像平面に存在することがわかる。中間の点、
1 に第3の!収差点が存在する。
この設計は光線追跡で評価することができる。
直径75nmの格子の場合、200から800mmまで
の波長に対し、点光源の像のスペクトル幅は0.062
から0.071mまでにわたる標準偏差として測定され
た。
直径50nmの格子の場合、収差はもっと小さく、像の
標準偏差は平均0.028mmである。
本出願人は上述の条件から成るわずかなずれがあっても
やはり有用な分光計の設計が得られることを見出した。
たとえば、水平焦点曲線は格子から曲率中心までの距離
の5%より曲率中心に近づかないように修正することが
できる。他の例では、水平焦点曲線上の二つのレーザ点
を交差する垂直焦点曲線が、パラメータVの値を同じと
して、点光源と垂直にフォーカスされた直線焦点曲線か
らパラメータにの差の0.03倍まで変化させることが
できる。これらのずれは本発明に関しては重大ではない
本発明に係る分光計に用いる格子24を作るには、二つ
のレーザを、第1の水平焦点曲線である格子24の凹面
の曲率中心を実質上通過する水平焦点曲線に沿って設置
する。第4図では、格子24の凹面25の曲率中心は点
36である。第1の水平焦点曲線は曲線56である。加
えて二つのレーザを垂直焦点曲線58が第1の水平焦点
曲線を線38で示すように凹表面25の中心での法線ベ
クトルの同じ側にある少くとも三つの点で交差する第1
の水平焦点曲線の部分に沿って設置する。三つの点は水
平焦点曲線が格子から最も離れる法線ベクトル38と同
じ側にあるべきである。第4図の波線で囲んだ部分5の
拡大図である第5図に示すように、垂直焦点曲線38が
第1の水平焦点曲線36と交差する3点は60.62、
および64で示しである。格子24を作るにあたり、二
つのレーザを交差点のうちの二つ、好ましくは外側の二
つの点60と64とに設置する。
分光計lOにホログラフ凹面格子24を使用するときは
、光検出器28を取付ける平面30を第1水平焦点曲線
56と垂直焦点曲線58との三つの交点60.62、お
よび64を交差するように配置する。平面30のこの位
置では、光検出器28は格子24から反射された光26
に対して水平にフォーカスされる。また、第4図および
第5図かられかるように、第1の水平焦点曲線56のこ
の領域では、垂直焦点曲線58は水平焦点曲線56に非
常に近いので、非点収差は非常に小さい。ただし、分光
計lOでは、スリット部材18を矢印20の方向に格子
に近づけたり離したりして動かすことにより非点収差を
小さくすることができる。このスリット部材18の運動
により垂直焦点曲線58が第1の水平焦点曲線56に近
づいたり離れたりする。従って、垂直焦点曲線58を焦
点曲線56と58との間の°非点収差をほとんどまたは
全く除去するように第1水平焦点曲線58に極めて近づ
けることができる。これにより光検出器28が光源12
から発生するスペクトルと実質上正確にフォーカスされ
る。
垂直焦点曲線58は三つの交点60.62、および64
の領域で第1水平焦点曲56に非常に接近するので、フ
ォーカシングにはスリット部材をごくわずか勤すだけで
よい。光検出器28の素子上の光の強度を測定して、フ
ォーカシングの確認を行う各種の方法が知られている。
好適な一つの技法は本出願人によって同日に出願された
米国特許出願番号第139.884号に記されており、
ここで簡単に説明する。光検出器28の三つの素子の出
力の2階差分をスリット部材18の各位置で求め、2階
差分の値が最高である位置が焦点位置とする。このよう
に、光検出器28のフォーカシングは比較的容易である
光検出器28は交点60.62、および64の領域で平
面30に沿って動かして格子24により回耕された異な
る波長を検出することができ、各波長においてフォーカ
スされることになる。焦点曲線に沿って動き得る一つの
光検出器28を使用する代りに、−連の光検出器を交点
60.62、および64の領域で第1の水平焦点曲線5
6に沿って取付けることができる。ただし、実際上は光
検出器を正確に第1の水平焦点曲線に沿って設置し、す
べての光検出器から信号を得る手段を設けるこ、とは困
難である。従って、平面30に沿って移動可能なアレイ
構成の光検出器28を使用するのがよい。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明の一実施例では光検出器2
8を光源12からの光と容易にフォーカシングすること
ができるホログラフ凹面格子24を備えた分光計lOが
提出される。また、分光器lOは広範囲の波長にわたり
高レベルの光と高分解能を得ることができる。分光計l
Oは凹面格子24を使用しており且つフォーカシングは
スリット部材18をわずかな距離にわたり動かすだけで
行われるから、分光計の小型化が容易となる。なあ、ホ
ログラフ凹面格子でない回折格子でも本発明を容易に実
施できることは明らかである。また平面に沿って移動可
能な多素子光検出器の使用を可能にすることにより、検
出素子を焦点合せした状態を維持すると同時に広範囲の
波長において測定を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図本発明の一実施例である分光計の概略図。 第2図は第1図の凹面格子の座標系を示した図。 第3図は第1図の凹面格子の水平焦点曲線を示した図。 第4図は第1の凹面格子の垂直焦点曲線と第1水平焦点
曲線を示した図。第5図は第4図の部分拡大図。 lO二二元光計 12:光源、 16:レンズ、 18ニスリット部材、24:凹面格子
、28:光検出器、 38二法線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源と前記光源からの光を受ける格子と前記格子
    で回折された光を受光する検出手段より成る分光計にお
    いて、前記検出手段は前記格子の曲率中心を通って延長
    する前記格子の一部分で前記格子の垂直焦点曲線と三つ
    の点において交差する線上に沿って位置し、前記点の二
    つは回折像を形成する二つのレーザー線に位置し、前記
    三つの点は格子の中心に対して法線と同じ側に位置する
    ことを特徴とする分光計。
JP63335703A 1987-12-30 1988-12-29 分光計 Expired - Lifetime JP2760825B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US139,884 1980-04-14
US07/139,884 US4815849A (en) 1987-12-30 1987-12-30 Spectrometer using concave holographic diffraction grating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01213530A true JPH01213530A (ja) 1989-08-28
JP2760825B2 JP2760825B2 (ja) 1998-06-04

Family

ID=22488729

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63335703A Expired - Lifetime JP2760825B2 (ja) 1987-12-30 1988-12-29 分光計

Country Status (5)

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JP (1) JP2760825B2 (ja)
DE (1) DE3888813T2 (ja)
HK (1) HK90694A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07128146A (ja) * 1993-11-04 1995-05-19 Nec Corp 分光計
JP2007292777A (ja) * 2000-11-30 2007-11-08 Tomra Systems Asa 光学的検出デバイス
JP2021507224A (ja) * 2017-12-15 2021-02-22 ホリバ インスツルメンツ インコーポレイテッドHoriba Instruments Incorporated 凹面回折格子分光器の選択的分解能のためのシステム及び方法

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5493393A (en) * 1989-03-17 1996-02-20 The Boeing Company Planar waveguide spectrograph
US5517302A (en) * 1990-01-30 1996-05-14 Stearns; Thornton Multispectral reflectometer
US5262840A (en) * 1990-01-30 1993-11-16 Sequa Corporation Multispectral reflectometer
US5050992A (en) * 1990-04-13 1991-09-24 Hughes Aircraft Company Dispersive holographic spectrometer
WO1992005412A1 (en) * 1990-09-14 1992-04-02 Oplatek Oy Spectrometric construction method of light
US5530565A (en) * 1992-11-30 1996-06-25 Kaiser Optical Systems, Inc. Holographic transmission bandpass filter
US5675411A (en) * 1996-05-10 1997-10-07 General Atomics Broad-band spectrometer with high resolution
GB2360971A (en) * 2000-04-03 2001-10-10 Suisse Electronique Microtech Technique for microstructuring replication moulds
KR20020013061A (ko) * 2000-08-10 2002-02-20 조기환 다중 슬릿을 이용한 분광 측정 방법과 이를 이용한 다중채널 분광기
US7251028B2 (en) * 2005-02-28 2007-07-31 Princeton Lightwave, Inc Scanning spectrum analyzer
FR2907552A1 (fr) * 2006-10-23 2008-04-25 Bernard Pierre Andre Genot Systeme d'analyse spectrophotometrique a detecteur mobile
US7817274B2 (en) * 2007-10-05 2010-10-19 Jingyun Zhang Compact spectrometer
US8345226B2 (en) 2007-11-30 2013-01-01 Jingyun Zhang Spectrometers miniaturized for working with cellular phones and other portable electronic devices
JP5669434B2 (ja) * 2009-05-09 2015-02-12 キヤノン株式会社 回折素子及び回折素子の製造方法及びそれを用いた分光器
US9863756B1 (en) * 2014-10-07 2018-01-09 Kla-Tencor Corporation Line scan spectroscopic white light interferometry for semiconductor inspection and metrology
CA3099449C (en) * 2018-05-11 2022-01-04 National Research Council Of Canada Hybrid laser-induced breakdown spectroscopy system
EP3819613A1 (en) * 2019-11-07 2021-05-12 Hitachi High-Tech Analytical Science GmbH Optical system for spectrometers
NL2034032B1 (en) * 2023-01-27 2024-08-16 Avantes B V Spectrometer with adjustable sensitivity

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2334947A1 (fr) * 1975-12-10 1977-07-08 Instruments Sa Spectographe a champ plan pour un domaine spectral etendu utilisant un reseau holographique concave
DE2651086B2 (de) * 1976-11-09 1978-11-09 Hewlett-Packard Gmbh, 7030 Boeblingen Photometer
FR2396961A2 (fr) * 1977-07-08 1979-02-02 Instruments Sa Spectrographe a champ plan pour un domaine spectral etendu, utilisant un reseau holographique concave
JPS58225321A (ja) * 1982-06-25 1983-12-27 Hitachi Ltd 凹面回折格子分光器
FR2531213A1 (fr) * 1982-07-28 1984-02-03 Centre Nat Rech Scient Procede de focalisation des reseaux de diffraction spheriques holographiques travaillant par reflexion, objectifs dispersifs et spectrometres en faisant application
JP5733562B2 (ja) 2011-01-19 2015-06-10 株式会社リコー 孔版印刷装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07128146A (ja) * 1993-11-04 1995-05-19 Nec Corp 分光計
JP2007292777A (ja) * 2000-11-30 2007-11-08 Tomra Systems Asa 光学的検出デバイス
JP2021507224A (ja) * 2017-12-15 2021-02-22 ホリバ インスツルメンツ インコーポレイテッドHoriba Instruments Incorporated 凹面回折格子分光器の選択的分解能のためのシステム及び方法

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Publication number Publication date
US4815849A (en) 1989-03-28
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DE3888813T2 (de) 1994-09-08
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EP0322654A2 (en) 1989-07-05

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