JPH01219082A - 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 - Google Patents
斑点模様を有する陶器瓦の製造方法Info
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- JPH01219082A JPH01219082A JP4343588A JP4343588A JPH01219082A JP H01219082 A JPH01219082 A JP H01219082A JP 4343588 A JP4343588 A JP 4343588A JP 4343588 A JP4343588 A JP 4343588A JP H01219082 A JPH01219082 A JP H01219082A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、建築物に用いられる陶器瓦、特にその釉面に
凹凸状の斑点模様を有する陶器瓦の製造方法に関する。
凹凸状の斑点模様を有する陶器瓦の製造方法に関する。
［従来の技術］
近年、建築物及びその内装のデザイン面での進歩はめざ
ましく、例えばタイルにおいても、その釉面に種々の装
飾模様をつけた製品が多く出まわっており、その模１１
１Ｍ出の方法としては、■素地の上に種類、色、粒径、
溶融温度等の異なる鉱物等の着色粒子を撒布し焼成する
もの（特開昭６０−１１８６６１号）、 ■原料粉末に着色された造粒粒子を混合して圧縮成形後
焼成するもの（特開昭５５−４７２６７号）、 ■複数の釉を、斑点状に施釉する等、施釉の方法を具体
的に工夫したもの（特開昭５４−６８８２３号、特開昭
５５−８０７８６号、特開昭６１−２１９９０号）等が
いろいろ知られているが、これらの特許出願公開公報の
記載からもわかるように、複雑な工程を喧ねて所期の模
様を得ているものが多い。
ましく、例えばタイルにおいても、その釉面に種々の装
飾模様をつけた製品が多く出まわっており、その模１１
１Ｍ出の方法としては、■素地の上に種類、色、粒径、
溶融温度等の異なる鉱物等の着色粒子を撒布し焼成する
もの（特開昭６０−１１８６６１号）、 ■原料粉末に着色された造粒粒子を混合して圧縮成形後
焼成するもの（特開昭５５−４７２６７号）、 ■複数の釉を、斑点状に施釉する等、施釉の方法を具体
的に工夫したもの（特開昭５４−６８８２３号、特開昭
５５−８０７８６号、特開昭６１−２１９９０号）等が
いろいろ知られているが、これらの特許出願公開公報の
記載からもわかるように、複雑な工程を喧ねて所期の模
様を得ているものが多い。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、これら装飾タイルの製造技術は、前記のとお
り複雑な工程を重ねる必要があり、能率的でもないので
、他の陶器製品の製造にそのまま応用できるというもの
ではなかった。
り複雑な工程を重ねる必要があり、能率的でもないので
、他の陶器製品の製造にそのまま応用できるというもの
ではなかった。
特に、ｗｊ４２Ｓ瓦については、
（１） その！Ｆｊ造工程における施釉方法がタイル
と違って縦掛の流し掛は方式であるため、砂や塊状の粒
子を接着剤で素地にはりつけたまま上層に釉を施すこと
はよほど強く粒子を接着させておかないと粒子が流れお
ちてしまう。
と違って縦掛の流し掛は方式であるため、砂や塊状の粒
子を接着剤で素地にはりつけたまま上層に釉を施すこと
はよほど強く粒子を接着させておかないと粒子が流れお
ちてしまう。
（２） 素地中に着色粒子を練り込む方法は、ｒＩＪ
器瓦のコスト面への負担が太き（困難である。
器瓦のコスト面への負担が太き（困難である。
（３） 複数の施釉工程を設ける方法は、かなり現実
的ではあるが、上記の如く複雑で、現状の製造工程の修
正を必要とする。
的ではあるが、上記の如く複雑で、現状の製造工程の修
正を必要とする。
このような製法や用途からくる要請や違いからまだすぐ
れた装飾風の実現をみていないというのが現状であるが
、他方でこの瓦については、表面の釉薬のため平滑で艶
があるという装飾効果はあっても、施工中及び施工後は
却ってこれが難点となり、滑り易く危険であり、そのた
め作業者の死亡事故が起きる等の欠点がある。
れた装飾風の実現をみていないというのが現状であるが
、他方でこの瓦については、表面の釉薬のため平滑で艶
があるという装飾効果はあっても、施工中及び施工後は
却ってこれが難点となり、滑り易く危険であり、そのた
め作業者の死亡事故が起きる等の欠点がある。
本発明者らは、これらの点に着目しその解決のために鋭
意検討し、初めて凹凸状の斑点模様を有するこの種陶器
瓦の製造方法を確立し、本発明に至ったのである。
意検討し、初めて凹凸状の斑点模様を有するこの種陶器
瓦の製造方法を確立し、本発明に至ったのである。
［問題点を解決するための手段］
すなわち、本発明の方法は、釉の中に１種又は２［以上
の沈澱性のない鉱物粒子を懸濁させ、この粒子を含む釉
を陶器瓦素地の表面に施釉した後焼成することによって
、釉面に前記粒子の斑点模様を有する陶器瓦を製造する
ものである。
の沈澱性のない鉱物粒子を懸濁させ、この粒子を含む釉
を陶器瓦素地の表面に施釉した後焼成することによって
、釉面に前記粒子の斑点模様を有する陶器瓦を製造する
ものである。
まず、釉の中に懸濁させる粒子の選択に当っては、主た
る施釉工程が縦掛けの流し掛は方式であることを考慮し
、釉薬に懸濁した粒子が、使用中及び保存中に分離沈澱
しないような条件を採用することが肝要である。
る施釉工程が縦掛けの流し掛は方式であることを考慮し
、釉薬に懸濁した粒子が、使用中及び保存中に分離沈澱
しないような条件を採用することが肝要である。
しかし、１方で粒子が小さすぎれば釉薬中に沈澱しに（
いとしても、粒径が小さい分だけ焼成後の釉面の斑点は
小さくなって、陶器瓦の様に一定の距離をもったところ
からの外観を要求される製品では、みる側から模様が不
鮮明となり目的とする装飾効果が得られないし、逆に、
大きすぎる粒子は、外観は良くなる筈ではあるが、製造
時の釉薬泥漿の粘度、比重を調整してもなおかつ粒子の
分離、沈澱が起こることから、すぐれた斑点模様が得ら
れなくなるので、タイルの場合等と比べてこの条件の設
定は必ずしも容易ではない。
いとしても、粒径が小さい分だけ焼成後の釉面の斑点は
小さくなって、陶器瓦の様に一定の距離をもったところ
からの外観を要求される製品では、みる側から模様が不
鮮明となり目的とする装飾効果が得られないし、逆に、
大きすぎる粒子は、外観は良くなる筈ではあるが、製造
時の釉薬泥漿の粘度、比重を調整してもなおかつ粒子の
分離、沈澱が起こることから、すぐれた斑点模様が得ら
れなくなるので、タイルの場合等と比べてこの条件の設
定は必ずしも容易ではない。
更に、陶器瓦に用いる一般的な釉は大部分比重が１．３
０〜２．２３であり、また施釉工程において、施釉機内
での釉の滞留、施釉機に直結する釉薬供給補助タンクで
の釉の滞留、そして釉薬の製造場所から施釉施設までの
釉薬圧送バイブライン内の通過等、釉薬中の粒子が沈澱
、堆積し易い状況もあって、結局それらすべての克服が
必要である。
０〜２．２３であり、また施釉工程において、施釉機内
での釉の滞留、施釉機に直結する釉薬供給補助タンクで
の釉の滞留、そして釉薬の製造場所から施釉施設までの
釉薬圧送バイブライン内の通過等、釉薬中の粒子が沈澱
、堆積し易い状況もあって、結局それらすべての克服が
必要である。
以上から本発明においては、比較的大きい粒子で比較的
比重が小さい耐火性粒子として、例えば雲母（合成雲母
、天然雲母）の様な鱗片状の粒子、シラス、軽石のよう
な天然の多孔質鉱物粒子及び合成軽量骨材、合成発泡体
のような合成多孔質粒子等が用いられる。これらは、釉
薬泥漿中に比較的大きな粒子を分散させても沈澱せず、
１０メツシユ〜１２０メツシユのものが用いられる。こ
のように比重の小さい場合はど大きな粒子が使用できる
のである。
比重が小さい耐火性粒子として、例えば雲母（合成雲母
、天然雲母）の様な鱗片状の粒子、シラス、軽石のよう
な天然の多孔質鉱物粒子及び合成軽量骨材、合成発泡体
のような合成多孔質粒子等が用いられる。これらは、釉
薬泥漿中に比較的大きな粒子を分散させても沈澱せず、
１０メツシユ〜１２０メツシユのものが用いられる。こ
のように比重の小さい場合はど大きな粒子が使用できる
のである。
本発明では特に、４０メツシユ〜１２０メツシユのシャ
モット、セルベン（高化１１．０〜１．２＞、４０メツ
シユ〜１２０メツシユの珪石、アプライド、熔融アルミ
ナ又はアルミナ（嵩比重１．０〜１．９）、１０メツシ
ユ〜１２０メツシユの軽石、シラス、ＡＬＣ又はイソラ
イト（嵩比重０．３〜０．６）等が好ましい。
モット、セルベン（高化１１．０〜１．２＞、４０メツ
シユ〜１２０メツシユの珪石、アプライド、熔融アルミ
ナ又はアルミナ（嵩比重１．０〜１．９）、１０メツシ
ユ〜１２０メツシユの軽石、シラス、ＡＬＣ又はイソラ
イト（嵩比重０．３〜０．６）等が好ましい。
これらの粒径を１０メツシユ〜１２０メツシユとしたの
は、１０メツシユより粗いと釉の比重及び粘性をそれぞ
れ使用可能な最も高いところまで調整しても、保存中に
釉中の粒子が沈澱してしまうからであり、１２０メツシ
ユより細かいと、製品の斑点模様が外観上不鮮明となり
、目的を達成できないからである。特に、目的からみて
最も好ましいのは６０メツシユより粗いものである。セ
ルベン、アプライド粒子にくらべ、ＡＬＧ、軽石、シラ
ス及びイソライト等の粒子は比重が極めて小さいので、
４０メツシユより粗い比較的大きな粒子でも使用可能で
ある。釉中のこれらの粒子の含有量は、０．４％〜７０
％、好ましくは０．５％〜５０％であり、５％〜２０％
のものが最も望ましい。
は、１０メツシユより粗いと釉の比重及び粘性をそれぞ
れ使用可能な最も高いところまで調整しても、保存中に
釉中の粒子が沈澱してしまうからであり、１２０メツシ
ユより細かいと、製品の斑点模様が外観上不鮮明となり
、目的を達成できないからである。特に、目的からみて
最も好ましいのは６０メツシユより粗いものである。セ
ルベン、アプライド粒子にくらべ、ＡＬＧ、軽石、シラ
ス及びイソライト等の粒子は比重が極めて小さいので、
４０メツシユより粗い比較的大きな粒子でも使用可能で
ある。釉中のこれらの粒子の含有量は、０．４％〜７０
％、好ましくは０．５％〜５０％であり、５％〜２０％
のものが最も望ましい。
次に、本発明においては、原釉薬（粒子を分散させる前
の釉薬）を調合、混線、粉砕して釉薬泥漿を得た後、上
記粒子を添加し攪拌して、軸中に粒子を分散懸濁させる
。
の釉薬）を調合、混線、粉砕して釉薬泥漿を得た後、上
記粒子を添加し攪拌して、軸中に粒子を分散懸濁させる
。
そして、次の施釉工程において、この粒子を含む釉を瓦
の乾燥素地に流し掛け、デイピング、スプレー等の任意
の方法によって施釉するが、本発明は、特に粒子の選択
において厳密な条件を採用しているので、陶器瓦の製造
において通常用いられている縦掛けの流し掛は方式が好
ましく利用できるのである。
の乾燥素地に流し掛け、デイピング、スプレー等の任意
の方法によって施釉するが、本発明は、特に粒子の選択
において厳密な条件を採用しているので、陶器瓦の製造
において通常用いられている縦掛けの流し掛は方式が好
ましく利用できるのである。
この縦掛けの流し掛は施釉方式は、−膜内に尻険部を上
に頭（見付け）部を下にして多少角度の差はあるにして
も立てた状態で尻険の方から頭の方へ向って釉を流化さ
せていく方式である。この尻険部にハンガーをひっかけ
たり、手で持って施釉する。陶器瓦は、−膜内にこの様
な方法で通常１回の施釉のみで乾燥生素地から一回の焼
成で生産されているので、タイル等で使われている転写
、スクリーン印刷、様々な絵付は等の複雑な装飾工程が
組み込めず、単一の釉薬で流紋や窯変を発現させるのが
通常である。
に頭（見付け）部を下にして多少角度の差はあるにして
も立てた状態で尻険の方から頭の方へ向って釉を流化さ
せていく方式である。この尻険部にハンガーをひっかけ
たり、手で持って施釉する。陶器瓦は、−膜内にこの様
な方法で通常１回の施釉のみで乾燥生素地から一回の焼
成で生産されているので、タイル等で使われている転写
、スクリーン印刷、様々な絵付は等の複雑な装飾工程が
組み込めず、単一の釉薬で流紋や窯変を発現させるのが
通常である。
もちろん、タイルの様に平面に素地に寝かせたまま上に
粒子を撒布するなど不可能である。
粒子を撒布するなど不可能である。
最後に、施釉模様付の終った瓦は、通常の焼成工程を経
て製品となるが、縦掛は流し掛は方式で施釉された瓦は
、焼成台車に積まれる時には上、下を入れ替え尻険部を
下にして並べられるのが普通である。これは流し掛けの
際、上になる尻険部には釉がつかないからである（釉が
ついていると瓦本体が焼成中に焼成台車に接着してしま
う。）。
て製品となるが、縦掛は流し掛は方式で施釉された瓦は
、焼成台車に積まれる時には上、下を入れ替え尻険部を
下にして並べられるのが普通である。これは流し掛けの
際、上になる尻険部には釉がつかないからである（釉が
ついていると瓦本体が焼成中に焼成台車に接着してしま
う。）。
焼成温度は、９５０℃〜１２３０℃であり、この焼成に
より、粒子の種類に応じた色が現われ斑点模様となり、
通常粒子のある部分は粒子の粗さに応じて釉の達成面よ
り盛り上がるから、ザラザラした凹凸面となる。数梯の
粒子を併用することによりカラフルな斑点模様をうろこ
ともできる。
より、粒子の種類に応じた色が現われ斑点模様となり、
通常粒子のある部分は粒子の粗さに応じて釉の達成面よ
り盛り上がるから、ザラザラした凹凸面となる。数梯の
粒子を併用することによりカラフルな斑点模様をうろこ
ともできる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を示す。
実施例（１）
（１） フリット、長石、蛙目粘土、珪石、石灰、及
び顔料にＣ，Ｍ、Ｃと水を加え、ボールミル（ｉｉ）
陶磁器片の破砕物であるセルベンをふるい（ｉｉｉ）
ｌｉｌで作成した陶器瓦用釉をボールミルよ柊 り取り出しタンク又はオケに移しかえる。
び顔料にＣ，Ｍ、Ｃと水を加え、ボールミル（ｉｉ）
陶磁器片の破砕物であるセルベンをふるい（ｉｉｉ）
ｌｉｌで作成した陶器瓦用釉をボールミルよ柊 り取り出しタンク又はオケに移しかえる。
この時の釉の比重は１．９４粘度は４．２ポアズであっ
た。
た。
（ｉｖ） この釉に（ｉｉ）で作成したセルベン（嵩
比重１．１５＞を融中の粒子の比率が４％になる様に計
量して添加、攪拌機又は手で充分に攪拌し隘 軸中ヘセルベンの粒子、を分散させる。この粒子は軸中
に４日間保存しても、沈澱をしなかった。
比重１．１５＞を融中の粒子の比率が４％になる様に計
量して添加、攪拌機又は手で充分に攪拌し隘 軸中ヘセルベンの粒子、を分散させる。この粒子は軸中
に４日間保存しても、沈澱をしなかった。
（Ｖ） セルベンの粒子を分散させた釉をタンクより
パイプで陶器瓦用自動施釉機本体へ送り込み、ハンガー
でつるされた陶器瓦素地連続的に流し掛けた。
パイプで陶器瓦用自動施釉機本体へ送り込み、ハンガー
でつるされた陶器瓦素地連続的に流し掛けた。
（ｖｉ） 施釉された陶器瓦素地はハンガーにつるさ
れたまま、釉を乾燥し、自動積み込み機械又は手作業に
て陶器瓦焼成台車に載せてトンネル窯にて１１００℃１
８時間で酸化焼成した。
れたまま、釉を乾燥し、自動積み込み機械又は手作業に
て陶器瓦焼成台車に載せてトンネル窯にて１１００℃１
８時間で酸化焼成した。
（ｖｉｉ）焼成された陶器瓦の表面は鮮明な凹凸状の斑
点模様を有していた。すなわち最初に調製された釉の発
色を残しその中に充分に陶器瓦に溶着したセルベン粒子
が斑点状に含まれていた。
点模様を有していた。すなわち最初に調製された釉の発
色を残しその中に充分に陶器瓦に溶着したセルベン粒子
が斑点状に含まれていた。
実施例（２）〜（２６）
第１表の条件で実施例（１）と同様な方法で実施したと
ころ、同様な斑点模様のある陶器瓦が得られた。
ころ、同様な斑点模様のある陶器瓦が得られた。
比較例（１）〜（６）
第２表の条件で特に釉の比重をできるだけ上げて、実施
例（１）と同様な方法で実施したにもかかわらず、軸中
に粒子が沈殿し、斑点模様のある瓦は得られなかった。
例（１）と同様な方法で実施したにもかかわらず、軸中
に粒子が沈殿し、斑点模様のある瓦は得られなかった。
［発明の効果］
本発明は、以上に述べたような構成をとることにより、
次のようなすぐれた効果があり、極めて有用であるとい
うことができる。
次のようなすぐれた効果があり、極めて有用であるとい
うことができる。
（１） 通常の陶器瓦の製造ラインをそのまま使って
斑点模様を有する陶器瓦が得られる。
斑点模様を有する陶器瓦が得られる。
（２釉面に任意に斑点模様をつけることが可能である。
（３）窯変調の釉薬を炉内雰囲気に影響されずに製造し
供給することができる。
供給することができる。
（４） 得られる製品の釉面はザラザラした凹凸面に
仕上がるので施工中及び施工後の漬り止めの効果も期待
できる。
仕上がるので施工中及び施工後の漬り止めの効果も期待
できる。
Claims (1)
- （１）予じめ調製された釉の中に、１種又は２種以上の
沈澱性のない鉱物粒子を懸濁させ、この粒子を含む釉を
陶器素地瓦の表面に施釉した後焼成することを特徴とす
る斑点模様を有する陶器瓦の製造方法。
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|---|---|---|---|
| JP4343588A JPH01219082A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 |
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| JP4343588A JPH01219082A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 |
Publications (2)
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| JPH01219082A true JPH01219082A (ja) | 1989-09-01 |
| JPH0574554B2 JPH0574554B2 (ja) | 1993-10-18 |
Family
ID=12663619
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP4343588A Granted JPH01219082A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01219082A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03261684A (ja) * | 1990-03-10 | 1991-11-21 | Inax Corp | 陶磁器製品の加飾方法 |
| JPH0672754A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-03-15 | Iwafuku Ceramics:Kk | 煉瓦の製造方法 |
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| CN113248286A (zh) * | 2021-07-08 | 2021-08-13 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 可形成斑块状随机结晶效果的釉面砖的制备工艺及其产品 |
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-
1988
- 1988-02-26 JP JP4343588A patent/JPH01219082A/ja active Granted
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| CN113248286A (zh) * | 2021-07-08 | 2021-08-13 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 可形成斑块状随机结晶效果的釉面砖的制备工艺及其产品 |
| CN113248286B (zh) * | 2021-07-08 | 2021-10-12 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 可形成斑块状随机结晶效果的釉面砖的制备工艺及其产品 |
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| Publication number | Publication date |
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| JPH0574554B2 (ja) | 1993-10-18 |
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