JPH0574554B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0574554B2 JPH0574554B2 JP63043435A JP4343588A JPH0574554B2 JP H0574554 B2 JPH0574554 B2 JP H0574554B2 JP 63043435 A JP63043435 A JP 63043435A JP 4343588 A JP4343588 A JP 4343588A JP H0574554 B2 JPH0574554 B2 JP H0574554B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- particles
- mesh
- specific gravity
- firing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Finishing Walls (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は、建築物に用いられる陶器瓦、特にそ
の釉面に凹凸状の斑点模様を有する陶器瓦の製造
方法に関する。 ［従来の技術］ 近年、建築物及びその内装のデザイン面での進
歩はめざましく、例えばタイルにおいても、その
釉面に種々の装飾模様つけた製品が多く出まわつ
ており、その模様現出の方法としては、素地の
上に種類、色、粒径、溶融温度等の異なる鉱物等
の着色粒子を撒布し焼成するもの（特開昭60−
118661号）、 原料粉末に着色された造粒粒子を混合して圧
縮成形後焼成するもの（特開昭55−47267号）、 複数の釉を、斑点状に施釉する等、施釉の方
法を具体的に工夫したもの（特開昭54−68823
号、特開昭55−80786号、特開昭61−21990号）
等がいろいろ知られているが、これらの特許出
願公開公報の記載からもわかるように、複雑な
工程を重ねて所期の模様を得ているものが多
い。 ［発明が解決しようとする課題］ ところで、これら装飾タイルの製造技術は、前
記のとおり複雑な工程を重ねる必要があり、能率
的でもないので、他の陶器製品の製造にそのまま
応用できるというものではなかつた。 特に、陶器瓦については、 (1) その製造工程における施釉方法がタイルと違
つて縦掛の流し掛け方式であるため、砂や塊状
の粒子を接着剤で素地にはりつけたまま上層に
釉を施すことはよほど強く粒子を接着させてお
かないと粒子が流れおちてしまう。 (2) 素地中に着色粒子を練り込む方法は、陶器瓦
のコスト面への負担が大きく困難である。 (3) 複数の施釉工程を設ける方法は、かなり現実
的ではあるが、上記の如く複雑で、現状の製造
工程の修正を必要とする。 このような製法や用途からくる要請や違いから
まだすぐれた装飾瓦の実現をみていないというの
が現状であるが、他方でこの瓦については、表面
の釉薬のため平滑で艶があるという装飾効果はあ
つても、施工中及び施工後は却つてこれが難点と
なり、滑り易く危険であり、そのため作業者の死
亡事故が起きる等の欠点がある。 本発明者らは、これらの点に着目しその解決の
ために鋭意検討し、初めて凹凸状の斑点模様を有
するこの種陶器瓦の製造方法を確立し、本発明に
至つたのである。 ［課題を解決するための手段］ すなわち、本発明の方法は、予じめ調整された
粘度が15℃で0.45ポイズ〜9.8ポイズの釉の中に、
嵩比重0.3〜1.9、粒径10メツシユ〜120メツシユ
の雲母、ALC、軽石、シラス、イソライト、シ
ヤモツト、セルベン、ムライト、珪石、アプライ
ト及びアルミナよりなる群から選ばれる１種又は
２種以上の沈殿性のない粒子を懸濁させ、この粒
子を含む釉を陶器素地瓦の表面に施釉した後焼成
することによつて、凹凸状の斑点模様を有する陶
器瓦を製造するものである。 まず、釉の中に懸濁させる粒子の選択に当つて
は、主たる施釉工程が縦掛けの流し掛け方式であ
ることを考慮し、釉薬に懸濁した粒子が、使用中
及び保存中に分離沈殿しないような条件を採用す
ることが肝要である。 しかし、１方で粒子が小さすぎれば釉薬中に沈
殿しにくいとしても、粒径が小さい分だけ焼成後
の釉面の斑点は小さくなつて、陶器瓦の様に一定
の距離をもつたところからの外観を要求される製
品では、みる側から模様が不鮮明となり目的とす
る装飾効果が得られないし、逆に、大きすぎる粒
子は、外観は良くなる筈ではあるが、製造時の釉
薬泥漿の粘度、比重を調整してもなおかつ粒子の
分離、沈殿が起こることから、すぐれた斑点模様
が得られなくなるので、タイルの場合等と比べて
この条件の設定は必ずしも容易ではない。 更に、陶器瓦に用いる一般的な釉は大部分比重
が1.30〜2.23であり、また施釉工程において、施
釉機内での釉の滞留、施釉機に直結する釉薬供給
補助タンクでの釉の滞留、そして釉薬の製造場所
から施釉施設までの釉薬圧送パイプライン内の通
過等、釉薬中の粒子が沈殿、堆積し易い状況もあ
つて、結局それらすべての克服が必要である。 以上から本発明においては、比較的大きい粒子
で比較的比重が小さい耐火性粒子として、鱗片状
の雲母（合成雲母、天然雲母）粒子、天然若しく
は合成多孔質のALC、軽石、シラス、イソライ
ト、シヤモツト、セルベン、ムライト、珪石、ア
プライト又はアルミナ粒子が用いられる。このう
ち雲母は、鱗片状であるのみならず粘土類に似た
平面網目状構造をもつた珪酸塩であり、それ自身
が沈殿しにくいものであるが、同時に、釉中に均
一分散させることによつて、一定の嵩比重と粒径
のものであれば、他の粒子の沈殿までも防ぐ効果
がある。なお、これら本発明の粒子は、釉薬泥漿
中に比較的大きな粒子を分散させても沈殿せず、
10メツシユ〜120メツシユのものが用いられる。
このように比重の小さい場合ほど大きな粒子が使
用できるのである。 本発明では特に、40メツシユ〜120メツシユの
シヤモツト、セルベン（嵩比重1.0〜1.2）、40メ
ツシユ〜120メツシユの珪石、アプライト、熔融
アルミナ又はアルミナ（嵩比重1.0〜1.9）、10メ
ツシユ〜120メツシユの軽石、シラス、ALC又は
イソライト（嵩比重6.3〜0.6）等が好ましい。 本発明においては、後記実施例に示すように、
特に15℃で0.45ポイズ〜9.8ポイズの粘度の釉を
用い、更に上記粒子の粒径を10メツシユ〜120メ
ツシユとしたのは、10メツシユより粗いと釉の比
重及び粘性をそれぞれ使用可能な最も高いところ
まで調整しても、保存中に釉中の粒子が沈殿して
しまうからであり、120メツシユより細かいと、
製品の斑点模様が外観上不鮮明となり、目的を達
成できないからである。特に、目的からみて最も
好ましいのは60メツシユより粗いものである。セ
ルベン、アプライト粒子にくらべ、ALC、軽石、
シラス及びイソライト等の粒子は比重が極めて小
さいので、40メツシユより粗い比較的大きな粒子
でも使用可能である。釉中のこれらの粒子の含有
量は、0.4％〜70％、好ましくは0.5％〜50％であ
り、５％〜20％のものが最も望ましい。 次に、本発明においては、原釉薬（粒子を分散
させる前の釉薬）を調合、混練、粉砕して釉薬泥
漿を得た後、上記粒子を添加し攪拌して、釉中に
粒子を分散懸濁させる。 そして、次の施釉工程において、この粒子を含
む釉を瓦の乾燥素地に流し掛け、デイピング、ス
プレー等の任意の方法によつて施釉するが、本発
明は、特に粒子の選択において厳密な条件を採用
しているので、陶器瓦の製造において通常用いら
れている縦掛けの流し掛け方式が好ましく利用で
きるのである。 この縦掛けの流し掛け施釉方式は、一般的に尻
険部を上に頭（見付け）部を下にして多少角度の
差はあるにしても立てた状態で尻険の方から頭の
方へ向つて釉を流化させていく方式である。この
尻険部にハンガーをひつかけたり、手で持つて施
釉する。陶器瓦は、一般的にこの様な方法で通常
１回の施釉のみで乾燥生素地から一回の焼成で生
産されているので、タイル等で使われている転
写、スクリーン印刷、様々な絵付け等の複雑な装
飾工程が組み込めず、単一の釉薬で流紋や窯変を
発現させるのが通常である。 もちろん、タイルの様に平面に素地に寝かせた
まま上に粒子を撒布するなど不可能である。 最後に、施釉模様付の終つた瓦は、通常の焼成
工程を経て製品となるが、縦掛け流し掛け方式で
施釉された瓦は、焼成台車に積まれる時には上、
下を入れ替え尻険部を下にして並べられるのが普
通である。これは流し掛けの際、上になる尻険部
には釉がつかないからである（釉がついていると
瓦本体が焼成中に焼成台車に接着してしまう。）。 焼成温度は、950℃〜1230℃であり、この焼成
により、粒子の種類に応じた色が現われ斑点模様
となり、通常粒子のある部分は粒子の粗さに応じ
て釉の達成面より盛り上がるから、ザラザラした
凹凸面となる。数種の粒子を併用することにより
カラフルな斑点模様をうることもできる。 ［実施例］ 以下、本発明の実施例を示す。 実施例 (1) (i) フリツト、長石、蛙目粘土、珪石、石灰、及
び顔料にＣ，Ｗ，Ｃと水を加え、ボールミルで
粉砕混合して、1100℃で焼成するための陶器瓦
用釉薬を作つた。 (ii) 陶磁器片の破砕物であるセルベンをふるいに
より分級し40メツシユ〜60メツシユの粒度範囲
のセルベン粒子を作つた。 (iii) （）で作成した陶器瓦用釉をボールミルよ
り取り出しタンク又はオケに移しかえた。 この時の釉の比重は1.94粘度は4.2ポアズで
あつた。 (iv) この釉に（）で作成したセルベン（嵩比重
1.15）を釉中の粒子の比率が４％になる様に計
量して添加、攪拌機又は手で充分に攪拌し釉中
へセルベンの粒子を分散させた。この粒子は釉
中に４日間保存しても、沈殿をしなかつた。 (v) セルベンの粒子を分散させた釉をタンクより
パイプで陶器瓦用自動施釉機本体へ送り込み、
ハンガーでつるされた陶器瓦素地連続的に流し
掛けた。 (vi) 施釉された陶器瓦素地はハンガーにつるされ
たまま、釉を乾燥し、自動積み込み機械又は手
作業にて陶器瓦焼成台車に載せてトンネル窯に
て1100℃18時間で酸化焼成した。 (vii) 焼成された陶器瓦の表面は鮮明な凹凸状の斑
点模様を有していた。すなわち最初に調製され
た釉の発色を残しその中に充分に陶器瓦に熔着
したセルベン粒子が斑点状に含まれていた。 実施例 (2)〜(26) 第１表の条件で実施例(1)と同様な方法で実施し
たところ、同様な斑点模様のある陶器瓦が得られ
た。
の釉面に凹凸状の斑点模様を有する陶器瓦の製造
方法に関する。 ［従来の技術］ 近年、建築物及びその内装のデザイン面での進
歩はめざましく、例えばタイルにおいても、その
釉面に種々の装飾模様つけた製品が多く出まわつ
ており、その模様現出の方法としては、素地の
上に種類、色、粒径、溶融温度等の異なる鉱物等
の着色粒子を撒布し焼成するもの（特開昭60−
118661号）、 原料粉末に着色された造粒粒子を混合して圧
縮成形後焼成するもの（特開昭55−47267号）、 複数の釉を、斑点状に施釉する等、施釉の方
法を具体的に工夫したもの（特開昭54−68823
号、特開昭55−80786号、特開昭61−21990号）
等がいろいろ知られているが、これらの特許出
願公開公報の記載からもわかるように、複雑な
工程を重ねて所期の模様を得ているものが多
い。 ［発明が解決しようとする課題］ ところで、これら装飾タイルの製造技術は、前
記のとおり複雑な工程を重ねる必要があり、能率
的でもないので、他の陶器製品の製造にそのまま
応用できるというものではなかつた。 特に、陶器瓦については、 (1) その製造工程における施釉方法がタイルと違
つて縦掛の流し掛け方式であるため、砂や塊状
の粒子を接着剤で素地にはりつけたまま上層に
釉を施すことはよほど強く粒子を接着させてお
かないと粒子が流れおちてしまう。 (2) 素地中に着色粒子を練り込む方法は、陶器瓦
のコスト面への負担が大きく困難である。 (3) 複数の施釉工程を設ける方法は、かなり現実
的ではあるが、上記の如く複雑で、現状の製造
工程の修正を必要とする。 このような製法や用途からくる要請や違いから
まだすぐれた装飾瓦の実現をみていないというの
が現状であるが、他方でこの瓦については、表面
の釉薬のため平滑で艶があるという装飾効果はあ
つても、施工中及び施工後は却つてこれが難点と
なり、滑り易く危険であり、そのため作業者の死
亡事故が起きる等の欠点がある。 本発明者らは、これらの点に着目しその解決の
ために鋭意検討し、初めて凹凸状の斑点模様を有
するこの種陶器瓦の製造方法を確立し、本発明に
至つたのである。 ［課題を解決するための手段］ すなわち、本発明の方法は、予じめ調整された
粘度が15℃で0.45ポイズ〜9.8ポイズの釉の中に、
嵩比重0.3〜1.9、粒径10メツシユ〜120メツシユ
の雲母、ALC、軽石、シラス、イソライト、シ
ヤモツト、セルベン、ムライト、珪石、アプライ
ト及びアルミナよりなる群から選ばれる１種又は
２種以上の沈殿性のない粒子を懸濁させ、この粒
子を含む釉を陶器素地瓦の表面に施釉した後焼成
することによつて、凹凸状の斑点模様を有する陶
器瓦を製造するものである。 まず、釉の中に懸濁させる粒子の選択に当つて
は、主たる施釉工程が縦掛けの流し掛け方式であ
ることを考慮し、釉薬に懸濁した粒子が、使用中
及び保存中に分離沈殿しないような条件を採用す
ることが肝要である。 しかし、１方で粒子が小さすぎれば釉薬中に沈
殿しにくいとしても、粒径が小さい分だけ焼成後
の釉面の斑点は小さくなつて、陶器瓦の様に一定
の距離をもつたところからの外観を要求される製
品では、みる側から模様が不鮮明となり目的とす
る装飾効果が得られないし、逆に、大きすぎる粒
子は、外観は良くなる筈ではあるが、製造時の釉
薬泥漿の粘度、比重を調整してもなおかつ粒子の
分離、沈殿が起こることから、すぐれた斑点模様
が得られなくなるので、タイルの場合等と比べて
この条件の設定は必ずしも容易ではない。 更に、陶器瓦に用いる一般的な釉は大部分比重
が1.30〜2.23であり、また施釉工程において、施
釉機内での釉の滞留、施釉機に直結する釉薬供給
補助タンクでの釉の滞留、そして釉薬の製造場所
から施釉施設までの釉薬圧送パイプライン内の通
過等、釉薬中の粒子が沈殿、堆積し易い状況もあ
つて、結局それらすべての克服が必要である。 以上から本発明においては、比較的大きい粒子
で比較的比重が小さい耐火性粒子として、鱗片状
の雲母（合成雲母、天然雲母）粒子、天然若しく
は合成多孔質のALC、軽石、シラス、イソライ
ト、シヤモツト、セルベン、ムライト、珪石、ア
プライト又はアルミナ粒子が用いられる。このう
ち雲母は、鱗片状であるのみならず粘土類に似た
平面網目状構造をもつた珪酸塩であり、それ自身
が沈殿しにくいものであるが、同時に、釉中に均
一分散させることによつて、一定の嵩比重と粒径
のものであれば、他の粒子の沈殿までも防ぐ効果
がある。なお、これら本発明の粒子は、釉薬泥漿
中に比較的大きな粒子を分散させても沈殿せず、
10メツシユ〜120メツシユのものが用いられる。
このように比重の小さい場合ほど大きな粒子が使
用できるのである。 本発明では特に、40メツシユ〜120メツシユの
シヤモツト、セルベン（嵩比重1.0〜1.2）、40メ
ツシユ〜120メツシユの珪石、アプライト、熔融
アルミナ又はアルミナ（嵩比重1.0〜1.9）、10メ
ツシユ〜120メツシユの軽石、シラス、ALC又は
イソライト（嵩比重6.3〜0.6）等が好ましい。 本発明においては、後記実施例に示すように、
特に15℃で0.45ポイズ〜9.8ポイズの粘度の釉を
用い、更に上記粒子の粒径を10メツシユ〜120メ
ツシユとしたのは、10メツシユより粗いと釉の比
重及び粘性をそれぞれ使用可能な最も高いところ
まで調整しても、保存中に釉中の粒子が沈殿して
しまうからであり、120メツシユより細かいと、
製品の斑点模様が外観上不鮮明となり、目的を達
成できないからである。特に、目的からみて最も
好ましいのは60メツシユより粗いものである。セ
ルベン、アプライト粒子にくらべ、ALC、軽石、
シラス及びイソライト等の粒子は比重が極めて小
さいので、40メツシユより粗い比較的大きな粒子
でも使用可能である。釉中のこれらの粒子の含有
量は、0.4％〜70％、好ましくは0.5％〜50％であ
り、５％〜20％のものが最も望ましい。 次に、本発明においては、原釉薬（粒子を分散
させる前の釉薬）を調合、混練、粉砕して釉薬泥
漿を得た後、上記粒子を添加し攪拌して、釉中に
粒子を分散懸濁させる。 そして、次の施釉工程において、この粒子を含
む釉を瓦の乾燥素地に流し掛け、デイピング、ス
プレー等の任意の方法によつて施釉するが、本発
明は、特に粒子の選択において厳密な条件を採用
しているので、陶器瓦の製造において通常用いら
れている縦掛けの流し掛け方式が好ましく利用で
きるのである。 この縦掛けの流し掛け施釉方式は、一般的に尻
険部を上に頭（見付け）部を下にして多少角度の
差はあるにしても立てた状態で尻険の方から頭の
方へ向つて釉を流化させていく方式である。この
尻険部にハンガーをひつかけたり、手で持つて施
釉する。陶器瓦は、一般的にこの様な方法で通常
１回の施釉のみで乾燥生素地から一回の焼成で生
産されているので、タイル等で使われている転
写、スクリーン印刷、様々な絵付け等の複雑な装
飾工程が組み込めず、単一の釉薬で流紋や窯変を
発現させるのが通常である。 もちろん、タイルの様に平面に素地に寝かせた
まま上に粒子を撒布するなど不可能である。 最後に、施釉模様付の終つた瓦は、通常の焼成
工程を経て製品となるが、縦掛け流し掛け方式で
施釉された瓦は、焼成台車に積まれる時には上、
下を入れ替え尻険部を下にして並べられるのが普
通である。これは流し掛けの際、上になる尻険部
には釉がつかないからである（釉がついていると
瓦本体が焼成中に焼成台車に接着してしまう。）。 焼成温度は、950℃〜1230℃であり、この焼成
により、粒子の種類に応じた色が現われ斑点模様
となり、通常粒子のある部分は粒子の粗さに応じ
て釉の達成面より盛り上がるから、ザラザラした
凹凸面となる。数種の粒子を併用することにより
カラフルな斑点模様をうることもできる。 ［実施例］ 以下、本発明の実施例を示す。 実施例 (1) (i) フリツト、長石、蛙目粘土、珪石、石灰、及
び顔料にＣ，Ｗ，Ｃと水を加え、ボールミルで
粉砕混合して、1100℃で焼成するための陶器瓦
用釉薬を作つた。 (ii) 陶磁器片の破砕物であるセルベンをふるいに
より分級し40メツシユ〜60メツシユの粒度範囲
のセルベン粒子を作つた。 (iii) （）で作成した陶器瓦用釉をボールミルよ
り取り出しタンク又はオケに移しかえた。 この時の釉の比重は1.94粘度は4.2ポアズで
あつた。 (iv) この釉に（）で作成したセルベン（嵩比重
1.15）を釉中の粒子の比率が４％になる様に計
量して添加、攪拌機又は手で充分に攪拌し釉中
へセルベンの粒子を分散させた。この粒子は釉
中に４日間保存しても、沈殿をしなかつた。 (v) セルベンの粒子を分散させた釉をタンクより
パイプで陶器瓦用自動施釉機本体へ送り込み、
ハンガーでつるされた陶器瓦素地連続的に流し
掛けた。 (vi) 施釉された陶器瓦素地はハンガーにつるされ
たまま、釉を乾燥し、自動積み込み機械又は手
作業にて陶器瓦焼成台車に載せてトンネル窯に
て1100℃18時間で酸化焼成した。 (vii) 焼成された陶器瓦の表面は鮮明な凹凸状の斑
点模様を有していた。すなわち最初に調製され
た釉の発色を残しその中に充分に陶器瓦に熔着
したセルベン粒子が斑点状に含まれていた。 実施例 (2)〜(26) 第１表の条件で実施例(1)と同様な方法で実施し
たところ、同様な斑点模様のある陶器瓦が得られ
た。
【表】
【表】
比較例 (1)〜(6)
第２表の条件で特に釉の比重をできるだけ上げ
て、実施例(1)と同様な方法で実施したにもかかわ
らず、釉中に粒子が沈殿し、斑点模様のある瓦は
得られなかつた。
て、実施例(1)と同様な方法で実施したにもかかわ
らず、釉中に粒子が沈殿し、斑点模様のある瓦は
得られなかつた。
【表】
【表】
［発明の効果］
本発明は、以上に述べたような構成をとること
により、次のようなすぐれた効果があり、極めて
有用であるということができる。 (1) 通常の陶器瓦の製造ラインをそのまま使つて
斑点模様を有する陶器瓦が得られる。 (2) 釉面に任意に斑点模様をつけることが可能で
ある。 (3) 窯変調の釉薬を炉内雰囲気に影響されずに製
造し供給することができる。 (4) 得られる製品の釉面はザラザラした凹凸面に
仕上がるので施工中及び施工後の滑り止めの効
果も期待できる。
により、次のようなすぐれた効果があり、極めて
有用であるということができる。 (1) 通常の陶器瓦の製造ラインをそのまま使つて
斑点模様を有する陶器瓦が得られる。 (2) 釉面に任意に斑点模様をつけることが可能で
ある。 (3) 窯変調の釉薬を炉内雰囲気に影響されずに製
造し供給することができる。 (4) 得られる製品の釉面はザラザラした凹凸面に
仕上がるので施工中及び施工後の滑り止めの効
果も期待できる。
Claims (1)
- １ 予じめ調整された粘度が15℃で0.45ポイズ〜
9.8ポイズの釉の中に、嵩比重0.3〜1.9、粒径10メ
ツシユ〜120メツシユの雲母、ALC、軽石、シラ
ス、イソライト、シヤモツト、セルベン、ムライ
ト、珪石、アプライト及びアルミナよりなる群か
ら選ばれる１種又は２種以上の沈殿性のない粒子
を懸濁させ、この粒子を含む釉を陶器素地瓦の表
面に施釉した後焼成することを特徴とする凹凸状
の斑点模様を有する陶器瓦の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4343588A JPH01219082A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4343588A JPH01219082A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01219082A JPH01219082A (ja) | 1989-09-01 |
| JPH0574554B2 true JPH0574554B2 (ja) | 1993-10-18 |
Family
ID=12663619
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4343588A Granted JPH01219082A (ja) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | 斑点模様を有する陶器瓦の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01219082A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07108830B2 (ja) * | 1990-03-10 | 1995-11-22 | 株式会社イナックス | 陶磁器製品の加飾方法 |
| JP2599669B2 (ja) * | 1992-07-08 | 1997-04-09 | 株式会社岩福セラミックス | 煉瓦の製造方法 |
| CN105016780B (zh) * | 2014-04-28 | 2017-02-08 | 佛山市纳来建材有限公司 | 一种干粒釉仿岩石瓷砖生产工艺 |
| CN107417304A (zh) * | 2017-08-18 | 2017-12-01 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 一种砖面立体感强的干粒砖的制备工艺 |
| CN113248286B (zh) * | 2021-07-08 | 2021-10-12 | 佛山市东鹏陶瓷有限公司 | 可形成斑块状随机结晶效果的釉面砖的制备工艺及其产品 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5722187A (en) * | 1980-07-12 | 1982-02-05 | Matsushita Electric Works Ltd | Manufacture of ceramic product with spot pattern |
| JPS6012818A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-23 | Hitachi Ltd | 多相クロツク発生回路 |
| JPS6012818U (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-28 | 日本マランツ株式会社 | ヘツド反転機構 |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP4343588A patent/JPH01219082A/ja active Granted
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| JPH01219082A (ja) | 1989-09-01 |
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