JPH01219602A - 大ストローク走査型トンネル顕微鏡 - Google Patents
大ストローク走査型トンネル顕微鏡Info
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- JPH01219602A JPH01219602A JP63044547A JP4454788A JPH01219602A JP H01219602 A JPH01219602 A JP H01219602A JP 63044547 A JP63044547 A JP 63044547A JP 4454788 A JP4454788 A JP 4454788A JP H01219602 A JPH01219602 A JP H01219602A
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- Japan
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- stage
- parallel spring
- spring
- stages
- probe
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- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q10/00—Scanning or positioning arrangements, i.e. arrangements for actively controlling the movement or position of the probe
- G01Q10/04—Fine scanning or positioning
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
- G01B7/003—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring position, not involving coordinate determination
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the object or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/36—Mechanical coupling means
- G02B6/38—Mechanical coupling means having fibre to fibre mating means
- G02B6/3801—Permanent connections, i.e. wherein fibres are kept aligned by mechanical means
- G02B6/3803—Adjustment or alignment devices for alignment prior to splicing
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/86—Scanning probe structure
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
物質表面の形状、極微細組織、表面物性を非接触でかつ
、高分解能で観察できる大ストローク走査型トンネル顕
微鏡に関する。
、高分解能で観察できる大ストローク走査型トンネル顕
微鏡に関する。
従来この種の走査型トンネル顕微鏡は、米国特許第４３
４３９９３号明細書によって公知である。
４３９９３号明細書によって公知である。
走査型トンネル顕微鏡でトンネル電流を検出するために
用いられる探針は圧電素子（ピエゾ素子）のＰＺＴをｘ
ｙｚ方向に直交させたトライボッドと呼ばれる微動機構
を一般的に用いている。すなわち第５図に示すトライボ
ッドでは、探針４５はｘＳｙ、ｚの３軸方向にそれぞれ
配置されたＰＺＴｌｏｌ、１０２．１０３で構成される
アクチュエータを介して基台１０４に固定されている。
用いられる探針は圧電素子（ピエゾ素子）のＰＺＴをｘ
ｙｚ方向に直交させたトライボッドと呼ばれる微動機構
を一般的に用いている。すなわち第５図に示すトライボ
ッドでは、探針４５はｘＳｙ、ｚの３軸方向にそれぞれ
配置されたＰＺＴｌｏｌ、１０２．１０３で構成される
アクチュエータを介して基台１０４に固定されている。
なおアクチュエータは電気エネルギーを供給すると運動
エネルギーに変換する働きをするものである。
エネルギーに変換する働きをするものである。
ｘ、ｙ方向のＰＺＴＩＯＩ、１０２で探針が測定サンプ
ルを走査し、２方向のＰＺＴ１０３でサンプルと探針と
の距離を制御してトンネル電流を得ている。
ルを走査し、２方向のＰＺＴ１０３でサンプルと探針と
の距離を制御してトンネル電流を得ている。
（発明が解決しようとする問題点〕
上述の従来技術では探針の走査範囲は圧電素子のストロ
ークそのものに限定されている。これを。
ークそのものに限定されている。これを。
解決する方法として圧電素子の大ストローク化が考えら
れるが、各圧電素子のｘ、ｙ、ｚ方向のゆがみの問題が
生じる。
れるが、各圧電素子のｘ、ｙ、ｚ方向のゆがみの問題が
生じる。
また、探針とサンプルを載置するステージを別々にして
ステージを第６図に示すような平行ばねとてことを利用
してｊ！ ｚ ／ ｊ！ Ｉ＝Ｋ （ｆ ＋ はアクチ
ュエータと支点の距離、２□は平行ばねの大きさ）とに
倍にストロークを拡大する拡大でこの構成にした場合、
固有振動数が低くなってしまう。
ステージを第６図に示すような平行ばねとてことを利用
してｊ！ ｚ ／ ｊ！ Ｉ＝Ｋ （ｆ ＋ はアクチ
ュエータと支点の距離、２□は平行ばねの大きさ）とに
倍にストロークを拡大する拡大でこの構成にした場合、
固有振動数が低くなってしまう。
またアクチュエータのストロークを大きくする構造では
、ヒンジの弾性限度を超えてしまう。
、ヒンジの弾性限度を超えてしまう。
いずれの構造も大ストロークの計測が困難であった。
本発明は上記問題を解決した小形でかつサンプル保持用
ステージの固有振動数を高く保ちながら大ストロークの
測定が可能な走査型トンネル顕微鏡の提供を目的とする
。
ステージの固有振動数を高く保ちながら大ストロークの
測定が可能な走査型トンネル顕微鏡の提供を目的とする
。
上記目的を達成するために本発明では次の構成を採用し
ている。
ている。
探針または測定サンプルを載せるステージの微動走査機
構として、重畳平行ばねとこのばねを駆動するアクチュ
エータで構成される微動走査機構を使用している。
構として、重畳平行ばねとこのばねを駆動するアクチュ
エータで構成される微動走査機構を使用している。
１段の平行ばねで構成されるステージを例に乙って本発
明の詳細な説明する。
明の詳細な説明する。
第２図の平面図において、平行ばねの基部コラム２０と
移動部コラム２１との間にアクチュエータ２２を挿入す
る。ここでアクチュエータとは、電気エネルギーを供給
すると運動エネルギーに変換するもので、例えば、（イ
）圧電電歪素子、（ロ）電磁石、（ハ）ジュール熱によ
る物体の熱膨張を利用したものなどがある。
移動部コラム２１との間にアクチュエータ２２を挿入す
る。ここでアクチュエータとは、電気エネルギーを供給
すると運動エネルギーに変換するもので、例えば、（イ
）圧電電歪素子、（ロ）電磁石、（ハ）ジュール熱によ
る物体の熱膨張を利用したものなどがある。
平行ばねの移動ステージ２３は、基部コラム２０と移動
部コラム２１０間隔をアクチュエータ２２により広げる
ことで移動される構成である。
部コラム２１０間隔をアクチュエータ２２により広げる
ことで移動される構成である。
平行はね移動量ｄは、アクチュエータ２２の移動量δと
アクチュエータの支点からの距離ｌＩ及び平行ばねの大
きさ１２によりｄ＝ Ｃ１ｚ ／１１）δと決まり、全
体でのステージ２３の移動量りは平行ばねの段数をｎと
するとＤ＝（Ｉ！、ｔ／ｉ、）δｎとなり、平行ばねの
てこ比Ｉ！、ｔ／Ｉ！、Ｉが２〜３倍程度であれば分解
能を悪くすることな（ステージを実現することができる
０例えば、この種の平行ばねでは、分解能（制御可能な
最小移動量）はｌｎｍ以下に達し１段の平行ばねでの移
動量は２０〜３０μ園に達するものを実現できる。
アクチュエータの支点からの距離ｌＩ及び平行ばねの大
きさ１２によりｄ＝ Ｃ１ｚ ／１１）δと決まり、全
体でのステージ２３の移動量りは平行ばねの段数をｎと
するとＤ＝（Ｉ！、ｔ／ｉ、）δｎとなり、平行ばねの
てこ比Ｉ！、ｔ／Ｉ！、Ｉが２〜３倍程度であれば分解
能を悪くすることな（ステージを実現することができる
０例えば、この種の平行ばねでは、分解能（制御可能な
最小移動量）はｌｎｍ以下に達し１段の平行ばねでの移
動量は２０〜３０μ園に達するものを実現できる。
〔実施例］
第１図は、上記変位を数倍に拡大した平行ばねを２次元
かつ３段に重ねた場合の重畳平行ばねで構成されるステ
ージの実施例を示す斜視図である。
かつ３段に重ねた場合の重畳平行ばねで構成されるステ
ージの実施例を示す斜視図である。
バルク材にスリットを交互に入れて三重の層とし平行ば
ねステージＳ１、Ｓ２、Ｓ３を構成する。
ねステージＳ１、Ｓ２、Ｓ３を構成する。
すなわち、１段目の平行ばねステージＳ１の移動部２は
２段目の平行ばねステージＳ２の基部３に２段目の平行
ばねステージＳ２の移動部４は３段目の平行ばねステー
ジＳ３の基部５にそれぞれ固定しである。数字１は、１
段目の平行ばねステージＳ１の基部、６は３段目の平行
ばねステージＳ３の移動部である。
２段目の平行ばねステージＳ２の基部３に２段目の平行
ばねステージＳ２の移動部４は３段目の平行ばねステー
ジＳ３の基部５にそれぞれ固定しである。数字１は、１
段目の平行ばねステージＳ１の基部、６は３段目の平行
ばねステージＳ３の移動部である。
この３層を同形状に切欠いて、駆動はアクチュエータ（
ＰＺＴ）を挿入して行なう。まず平行ばねステージＳ３
を変位させる場合、第１図のようにコラムＡ側にアクチ
ュエータ２２を挿入し、平行ばねステージＳ２を変位さ
せるにはコラムＢ側の同様の個所に挿入しく不図示）、
同様に平行ばねステージＳ１についてはコラムＡ側に挿
入し押すようにする。測定する導電性サンプル４０はＹ
軸平行ばねステージＳ３のコラムＢの一部に取り付ける
。平行ばねステージＳ１の基部１からみた平行ばねステ
ージＳ３の移動部６のＹ方向の移動量は１個の平行ばね
の移動量の３倍となり、前述したように１個の平行ばね
での移動量を２０〜３０μ論とすれば６０〜９０μ鴎の
移動量を実現できる。
ＰＺＴ）を挿入して行なう。まず平行ばねステージＳ３
を変位させる場合、第１図のようにコラムＡ側にアクチ
ュエータ２２を挿入し、平行ばねステージＳ２を変位さ
せるにはコラムＢ側の同様の個所に挿入しく不図示）、
同様に平行ばねステージＳ１についてはコラムＡ側に挿
入し押すようにする。測定する導電性サンプル４０はＹ
軸平行ばねステージＳ３のコラムＢの一部に取り付ける
。平行ばねステージＳ１の基部１からみた平行ばねステ
ージＳ３の移動部６のＹ方向の移動量は１個の平行ばね
の移動量の３倍となり、前述したように１個の平行ばね
での移動量を２０〜３０μ論とすれば６０〜９０μ鴎の
移動量を実現できる。
更にこのＹ軸平行ばねを９０°回転してＸ方向に配置し
た平行ばねステージＳ４、Ｓ５、Ｓ６と接続することで
２次元の大ストロークＸ−Ｙステージが構成できる９本
実施例では平行ばねの段数を３段としたが何段でも重ね
合わせが回部でストロークをより大きくとれる。
た平行ばねステージＳ４、Ｓ５、Ｓ６と接続することで
２次元の大ストロークＸ−Ｙステージが構成できる９本
実施例では平行ばねの段数を３段としたが何段でも重ね
合わせが回部でストロークをより大きくとれる。
大きなストロークの走査を行なうにはサンプルがわずか
でも傾斜しているとＺ軸の駆動範囲を越えてしまう、そ
こで、切欠き７．８の各間隔をヒンジ９．１０を回転中
心として弾性変形させて角度調整ができ、平行ばねステ
ージＳ３の移動部６の傾きを変えることができるから、
移動部６のコラムＢ側に載置したサンプル４０と対向し
て配置される探針（不図示）とサンプル４０との直交度
の補正ができる。
でも傾斜しているとＺ軸の駆動範囲を越えてしまう、そ
こで、切欠き７．８の各間隔をヒンジ９．１０を回転中
心として弾性変形させて角度調整ができ、平行ばねステ
ージＳ３の移動部６の傾きを変えることができるから、
移動部６のコラムＢ側に載置したサンプル４０と対向し
て配置される探針（不図示）とサンプル４０との直交度
の補正ができる。
上記角度調整機構の実施病を第１図の側面図である第３
図で説明する。
図で説明する。
基台３０に切欠き３１が形成されヒンジ３２でのみ接続
される。基台３０より右側のステージ部（不図示）を引
張るねじ３３と押しつけるねじ３４の押し引き調整によ
ってヒンジ３２を中心として弾性変形を生ぜしめ角度の
微小調整を行なう。
される。基台３０より右側のステージ部（不図示）を引
張るねじ３３と押しつけるねじ３４の押し引き調整によ
ってヒンジ３２を中心として弾性変形を生ぜしめ角度の
微小調整を行なう。
大ストロークで走査する際にサンプルと探針の直交度が
わずかに傾いている場合探針のＺ軸駆動範囲を越えてし
まい測定不可能になる欠点をこの角度調整機構により解
消できる。
わずかに傾いている場合探針のＺ軸駆動範囲を越えてし
まい測定不可能になる欠点をこの角度調整機構により解
消できる。
探針をサンプルに近づけ両者間に電位差を加えるとトン
ネル電流が流れる。この電流を一定に保つように保身を
制御し、このときの制御量よりサンプルの凹凸などを測
定できる。この制御系は第４図に示す構成であり、第１
図の２次元かつ３段に重ねた重畳平行ばねステージを使
用した大ストローク走査型トンネル顕微鏡の制御系のブ
ロック図である。
ネル電流が流れる。この電流を一定に保つように保身を
制御し、このときの制御量よりサンプルの凹凸などを測
定できる。この制御系は第４図に示す構成であり、第１
図の２次元かつ３段に重ねた重畳平行ばねステージを使
用した大ストローク走査型トンネル顕微鏡の制御系のブ
ロック図である。
重畳平行ばねステージ３１〜Ｓ６で構成されたＸＹステ
ージ側にサンプル４０を載置しサンプル４０にトンネル
電流を流すためのバイア不電源４１を接続する。Ｙ軸平
行ばねステージＳ１〜Ｓ３及びＸ軸平行ばねステージ８
４〜Ｓ６に組み込まれたアクチュエータ（ＰＺＴ）２２
にはステージ駆動に必要な電力が各アクチュエータドラ
イバ４４を通して供給される。ＸＹステージの走査のた
めの制御命令はコンピュータ４２により行なわれる。制
御命令はＤ／Ａ変換器４３を通してＸ軸ステージ、Ｙ軸
ステージそれぞれに出力され増幅されて各軸ステージに
組み込まれたアクチュエータ２２（一部は省略）に供給
されステージを２次元°的に駆動する。
ージ側にサンプル４０を載置しサンプル４０にトンネル
電流を流すためのバイア不電源４１を接続する。Ｙ軸平
行ばねステージＳ１〜Ｓ３及びＸ軸平行ばねステージ８
４〜Ｓ６に組み込まれたアクチュエータ（ＰＺＴ）２２
にはステージ駆動に必要な電力が各アクチュエータドラ
イバ４４を通して供給される。ＸＹステージの走査のた
めの制御命令はコンピュータ４２により行なわれる。制
御命令はＤ／Ａ変換器４３を通してＸ軸ステージ、Ｙ軸
ステージそれぞれに出力され増幅されて各軸ステージに
組み込まれたアクチュエータ２２（一部は省略）に供給
されステージを２次元°的に駆動する。
トンネル電流を検出する探針４５はＺ軸微動機構４６に
取付けられている。この微動機構はＺ軸組動機構５２に
取付けられている。
取付けられている。この微動機構はＺ軸組動機構５２に
取付けられている。
先ずコンピュータ４２の制御命令でＺ軸組動機構５２に
よって探針４５がトンネル電流を検出できるように粗い
設定を行ない粗動機構５２をクランプする。次にＸＹス
テージの走査を開始し探針４５とサンプル４０との間に
一定のトンネル電流が流れるようにＺ軸微動機構４６を
制御する。
よって探針４５がトンネル電流を検出できるように粗い
設定を行ない粗動機構５２をクランプする。次にＸＹス
テージの走査を開始し探針４５とサンプル４０との間に
一定のトンネル電流が流れるようにＺ軸微動機構４６を
制御する。
探針４５で検出されるトンネル電流は増幅器４７で増幅
し、設定したトンネル電流に相当する基準電圧４９との
差を誤差増幅器４８で増幅し、駆動回路５０で電力増幅
し、Ｚ軸微動機構４６を駆動する。これによってＺ軸方
向に常に一定のトンネル電流が流れるように制御される
。Ｚ軸微動機構４６の駆動信号はＡ／Ｄ変換器５１でデ
ジタル信号に変換されステージの走査信号に同期してコ
ンピュータ４２に入力される。つまりトンネル電流が一
定に制御されていればＺ軸微動機構４６を駆動する信号
はサンプルの表面形状と一致する。
し、設定したトンネル電流に相当する基準電圧４９との
差を誤差増幅器４８で増幅し、駆動回路５０で電力増幅
し、Ｚ軸微動機構４６を駆動する。これによってＺ軸方
向に常に一定のトンネル電流が流れるように制御される
。Ｚ軸微動機構４６の駆動信号はＡ／Ｄ変換器５１でデ
ジタル信号に変換されステージの走査信号に同期してコ
ンピュータ４２に入力される。つまりトンネル電流が一
定に制御されていればＺ軸微動機構４６を駆動する信号
はサンプルの表面形状と一致する。
したがってサンプルの形状を高精度に測定することがで
きる。
きる。
以上のように本発明では平行ばねを任意の数だけ重畳化
することにより従来の走査型トンネル顕微鏡のストロー
クを大幅にうわまわる走査範囲をもつ大ストローク走査
型トンネル顕微鏡を実現できる。
することにより従来の走査型トンネル顕微鏡のストロー
クを大幅にうわまわる走査範囲をもつ大ストローク走査
型トンネル顕微鏡を実現できる。
なお、トンネル電流の検出にはサンプルと探針間距離を
２ｎｍ以下に設定しなければならないが、Ｚ軸方向に重
畳平行ばねを使用した場合Ｚ軸粗動機構を廃止すること
ができ、両者の接近操作を容易に行なことができる。
２ｎｍ以下に設定しなければならないが、Ｚ軸方向に重
畳平行ばねを使用した場合Ｚ軸粗動機構を廃止すること
ができ、両者の接近操作を容易に行なことができる。
第１図は本発明の係る走査型トンネル顕微鏡に用いる２
次元かつ３段に重ねた重畳形平行ばねで゛構成のステー
ジの斜視図である。第２図は、１段の平行ばねで構成の
ステージの平面図である。第３図は第１図の側面図で角
度調整機構を示す、第４図は第１図の３段に重ねた重畳
平行ばねステージを使用の第ストローク走査型トンネル
顕微鏡の制御系のブロック図である。第５図は従来のト
ライボッド構造の斜視図である。第６図は１段の平行ば
ねで構成したステージの平面図である。 （主要部分の符号の説明） ４０・・・サンプル ４５・・・探針 ３１、Ｓ２．Ｓ３−・・Ｙ軸平行−ばねステージＳ４，
３５．Ｓ６・・・Ｘ軸平行ばねステージ２２・・・アク
チュエータ ３２・・・ヒンジ ３３・・・引張るねじ ３４・・・押すねじ 第２図 第３図 × 第５図
次元かつ３段に重ねた重畳形平行ばねで゛構成のステー
ジの斜視図である。第２図は、１段の平行ばねで構成の
ステージの平面図である。第３図は第１図の側面図で角
度調整機構を示す、第４図は第１図の３段に重ねた重畳
平行ばねステージを使用の第ストローク走査型トンネル
顕微鏡の制御系のブロック図である。第５図は従来のト
ライボッド構造の斜視図である。第６図は１段の平行ば
ねで構成したステージの平面図である。 （主要部分の符号の説明） ４０・・・サンプル ４５・・・探針 ３１、Ｓ２．Ｓ３−・・Ｙ軸平行−ばねステージＳ４，
３５．Ｓ６・・・Ｘ軸平行ばねステージ２２・・・アク
チュエータ ３２・・・ヒンジ ３３・・・引張るねじ ３４・・・押すねじ 第２図 第３図 × 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、探針又は測定サンプルを載せるステージの微動走査
機構として、重畳平行ばねと該ばねを駆動するアクチュ
エータとで構成される微動走査機構を使用したことを特
徴とする、大ストローク走査型トンネル顕微鏡。 ２、固定部と重畳平行ばねとの間をヒンジで結合し、前
記固定部と前記平行ばねとの間を閉じるねじと、前記固
定部と前記ばねとの間を広げるねじとを設け、該両ねじ
の回転による押し引き機構によって前記ヒンジを中心に
前記ばねの傾きを微調可能とし、それにより測定サンプ
ルと探針との直交度を補正可能とした請求項１記載の走
査型トンネル顕微鏡。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63044547A JP2577423B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 大ストローク走査型トンネル顕微鏡 |
| US07/512,905 US5051594A (en) | 1988-02-29 | 1990-06-12 | Fine positioning device, as for the stage of a scanning tunneling microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63044547A JP2577423B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 大ストローク走査型トンネル顕微鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01219602A true JPH01219602A (ja) | 1989-09-01 |
| JP2577423B2 JP2577423B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=12694525
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63044547A Expired - Lifetime JP2577423B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 大ストローク走査型トンネル顕微鏡 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5051594A (ja) |
| JP (1) | JP2577423B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03175302A (ja) * | 1989-12-05 | 1991-07-30 | Canon Inc | トンネル電流検出装置 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04235302A (ja) * | 1991-01-11 | 1992-08-24 | Jeol Ltd | トンネル顕微鏡の探針微動機構 |
| US5360974A (en) * | 1992-10-20 | 1994-11-01 | International Business Machines Corp. | Dual quad flexure scanner |
| WO1995025940A2 (en) * | 1994-03-18 | 1995-09-28 | Rank Taylor Hobson Limited | Metrological stylus assembly |
| JP2658930B2 (ja) * | 1994-12-27 | 1997-09-30 | 日本電気株式会社 | 圧電型回転駆動装置 |
| NL1000815C2 (nl) * | 1995-07-14 | 1997-01-15 | Univ Delft Tech | XY-verplaatsingsinrichting. |
| JP3563247B2 (ja) | 1997-10-31 | 2004-09-08 | 日立建機株式会社 | 走査型プローブ顕微鏡 |
| US6407858B1 (en) * | 1998-05-14 | 2002-06-18 | Genetic Microsystems, Inc | Focusing of microscopes and reading of microarrays |
| US20040126895A1 (en) * | 1998-01-13 | 2004-07-01 | James W. Overbeck | Depositing fluid specimens on substrates, resulting ordered arrays, techniques for analysis of deposited arrays |
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