JPH0122130Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0122130Y2 JPH0122130Y2 JP1982186477U JP18647782U JPH0122130Y2 JP H0122130 Y2 JPH0122130 Y2 JP H0122130Y2 JP 1982186477 U JP1982186477 U JP 1982186477U JP 18647782 U JP18647782 U JP 18647782U JP H0122130 Y2 JPH0122130 Y2 JP H0122130Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sampling
- valve
- temperature
- probe
- steam supply
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案はプロセスガスクロマトグラフのサン
プリング装置に関し、特にプローブの内壁面に付
着する堆積物を積極的に除去する機能を持つプロ
セスガスクロマトグラフのサンプリング装置を提
供しようとするものである。
プリング装置に関し、特にプローブの内壁面に付
着する堆積物を積極的に除去する機能を持つプロ
セスガスクロマトグラフのサンプリング装置を提
供しようとするものである。
＜従来技術の説明＞
第１図に従来のガスクロマトグラフのサンプリ
ング装置を示す。図中１０１はプロセス流路を示
す。このプロセス流路１０１を被測定流体が矢印
の方向に流れているものとする。プロセス流路１
０１にはプローブ１０２が挿入され、プローブ１
０２を通じて被測定流体を取出し、サンプリング
ボツクス１０３に導入する。サンプリングボツク
ス１０３の内部にはサンプリングバルブ１０４が
設けられ、このサンプリングバルブ１０４により
所定の時間毎に定量の被測定流体を配管１０５を
通じてガスクロマトグラフ（ここでは特に図示し
ない）に送給する。
ング装置を示す。図中１０１はプロセス流路を示
す。このプロセス流路１０１を被測定流体が矢印
の方向に流れているものとする。プロセス流路１
０１にはプローブ１０２が挿入され、プローブ１
０２を通じて被測定流体を取出し、サンプリング
ボツクス１０３に導入する。サンプリングボツク
ス１０３の内部にはサンプリングバルブ１０４が
設けられ、このサンプリングバルブ１０４により
所定の時間毎に定量の被測定流体を配管１０５を
通じてガスクロマトグラフ（ここでは特に図示し
ない）に送給する。
つまりサンプリングバルブ１０４は通常配管１
０５と１０６を連絡した状態に保持され、配管１
０６からキヤリヤガスが与えられ、このキヤリヤ
ガスがサンプリングバルブ１０４を通じて配管１
０５に出力され、この配管１０５を通じてガスク
ロマトグラフにキヤリヤガスを供給している。
０５と１０６を連絡した状態に保持され、配管１
０６からキヤリヤガスが与えられ、このキヤリヤ
ガスがサンプリングバルブ１０４を通じて配管１
０５に出力され、この配管１０５を通じてガスク
ロマトグラフにキヤリヤガスを供給している。
１０７は計量管を示す。計量管１０７にはプロ
ーブ１０２を通じて取出した被測定流体をセパレ
ータ１０８とフイルタ１０９を介して流し、排気
口１１１から大気に放出されている。
ーブ１０２を通じて取出した被測定流体をセパレ
ータ１０８とフイルタ１０９を介して流し、排気
口１１１から大気に放出されている。
定量の被測定流体をガスクロマトグラフに送給
するにはサンプリングバルブ１０４が切換られ、
計量管１０７が配管１０５と１０６の間に接続さ
れる。従つて計量管１０７を流れていた被測定流
体は配管１０６から与えられるキヤリヤガスの圧
力により計量管１０７に存在する量だけ切出され
て配管１０５を通じてキヤリヤガスによつてガス
クロマトグラフに送られる。
するにはサンプリングバルブ１０４が切換られ、
計量管１０７が配管１０５と１０６の間に接続さ
れる。従つて計量管１０７を流れていた被測定流
体は配管１０６から与えられるキヤリヤガスの圧
力により計量管１０７に存在する量だけ切出され
て配管１０５を通じてキヤリヤガスによつてガス
クロマトグラフに送られる。
このようにサンプリングボツクス１０３をプロ
セス流路１０１の近くに設置する方式をリモート
サンプリング方式と称し、被測定流体の温度が例
えば400℃程度の高温度の場合に採られる方式で
ある。このためサンプリングボツクス１０３には
スチーム供給口１１２が設けられ、このスチーム
供給口１１２を通じて供給されたスチームが配管
１１３を通り、サンプリングボツクス１０３内の
温度と一定温度、例えば180℃程度の一定温度に
保持するようにしている。１１４はその温度を確
認するための温度計を示す。
セス流路１０１の近くに設置する方式をリモート
サンプリング方式と称し、被測定流体の温度が例
えば400℃程度の高温度の場合に採られる方式で
ある。このためサンプリングボツクス１０３には
スチーム供給口１１２が設けられ、このスチーム
供給口１１２を通じて供給されたスチームが配管
１１３を通り、サンプリングボツクス１０３内の
温度と一定温度、例えば180℃程度の一定温度に
保持するようにしている。１１４はその温度を確
認するための温度計を示す。
ここでサンプリングボツクス１０３内の温度が
180℃程度に規定される理由はサンプリングボツ
クス１０３内に使用する部品特にサンプリングバ
ルブ１０４の耐熱温度による。
180℃程度に規定される理由はサンプリングボツ
クス１０３内に使用する部品特にサンプリングバ
ルブ１０４の耐熱温度による。
これに対し被測定流体の温度が400℃程度の高
温である場合、この被測定流体を直接サンプリン
グボツクス１０３に導入することはサンプリング
バルブ１０７の耐熱温度により不可能である。こ
のためプローブ１０２の外周にアダプタ１１５を
設け、このアダプタ１１５に例えば150℃〜200℃
程度のスチームを流し、プローブ１０２を介して
取出される被測定流体の温度を低下させてサンプ
リングボツクス１０３に被測定流体を取込むよう
にしている。
温である場合、この被測定流体を直接サンプリン
グボツクス１０３に導入することはサンプリング
バルブ１０７の耐熱温度により不可能である。こ
のためプローブ１０２の外周にアダプタ１１５を
設け、このアダプタ１１５に例えば150℃〜200℃
程度のスチームを流し、プローブ１０２を介して
取出される被測定流体の温度を低下させてサンプ
リングボツクス１０３に被測定流体を取込むよう
にしている。
このようにプローブ１０２において被測定流体
を冷却するものであるため被測定流体に例えば沸
点200℃以上の高沸点が含まれる場合は、プロー
ブ１０２を通過する間にこの高沸点物が液化し、
プローブ１０２の内壁にタール状に付着すること
となる。プローブ１０２の内壁に付着したタール
は逐次堆積し管路を閉塞させるに至る。
を冷却するものであるため被測定流体に例えば沸
点200℃以上の高沸点が含まれる場合は、プロー
ブ１０２を通過する間にこの高沸点物が液化し、
プローブ１０２の内壁にタール状に付着すること
となる。プローブ１０２の内壁に付着したタール
は逐次堆積し管路を閉塞させるに至る。
このため従来はプローブ１０２とサンプリング
ボツクス１０３の間を結ぶ連結管１１６にスチー
ム供給路１１７を接続し、サンプリング動作を終
了する毎に弁１１８を開に制御し、150℃〜180℃
程度の温度を持つスチームS1を連結管１１６に供
給する。連結管１１６に供給されたスチームS1は
プローブ１０２とサンプリングボツクス１０３の
二方向に分岐され各流路を流れて洗浄する。ここ
で特にプローブ１０２側に分岐したスチームS1に
よりプローブ１０２の内壁に付着した堆積物を除
去するものであるが、この堆積物は上記したよう
に高沸点物であるため、ここで供給するスチーム
S1の温度では溶解がむずかしく、有効に除去する
ことができない欠点がある。
ボツクス１０３の間を結ぶ連結管１１６にスチー
ム供給路１１７を接続し、サンプリング動作を終
了する毎に弁１１８を開に制御し、150℃〜180℃
程度の温度を持つスチームS1を連結管１１６に供
給する。連結管１１６に供給されたスチームS1は
プローブ１０２とサンプリングボツクス１０３の
二方向に分岐され各流路を流れて洗浄する。ここ
で特にプローブ１０２側に分岐したスチームS1に
よりプローブ１０２の内壁に付着した堆積物を除
去するものであるが、この堆積物は上記したよう
に高沸点物であるため、ここで供給するスチーム
S1の温度では溶解がむずかしく、有効に除去する
ことができない欠点がある。
つまりスチーム供給路１１７を通じて供給する
スチームS1はサンプリングボツクス１０３側にも
供給され、サンプリングボツクス１０３内の流路
も洗浄する。このためスチームS1の温度はサンプ
リングボツクス１０３内の部品、特にサンプリン
グバルブ１０４の耐熱温度を越える温度にするこ
とはできない。このような理由から洗浄用スチー
ムS1の温度は150℃〜180℃程度に制限され、プロ
ーブ１０２の内壁に付着した堆積物を有効に除去
できない不都合があつた。
スチームS1はサンプリングボツクス１０３側にも
供給され、サンプリングボツクス１０３内の流路
も洗浄する。このためスチームS1の温度はサンプ
リングボツクス１０３内の部品、特にサンプリン
グバルブ１０４の耐熱温度を越える温度にするこ
とはできない。このような理由から洗浄用スチー
ムS1の温度は150℃〜180℃程度に制限され、プロ
ーブ１０２の内壁に付着した堆積物を有効に除去
できない不都合があつた。
尚第１図において１１９はゲートバルブを示
し、プローブ１０２が例えば堆積物により閉塞さ
れたような場合はプローブをアダプタ１１５から
引抜きプローブ１０２を引抜いた後にゲートバル
ブ１１９を閉じてプロセス流路１０１と外気とを
遮断するようにしている。また連結管１１６に挿
入したバルブ１２１と１２２はメンテナンス時に
使用するバルブである。
し、プローブ１０２が例えば堆積物により閉塞さ
れたような場合はプローブをアダプタ１１５から
引抜きプローブ１０２を引抜いた後にゲートバル
ブ１１９を閉じてプロセス流路１０１と外気とを
遮断するようにしている。また連結管１１６に挿
入したバルブ１２１と１２２はメンテナンス時に
使用するバルブである。
＜考案の目的＞
この考案はプローブ１０２の内壁に付着する堆
積物を有効に除去することができるガスクロマト
グラフのサンプリング装置を提供しようとするも
のである。
積物を有効に除去することができるガスクロマト
グラフのサンプリング装置を提供しようとするも
のである。
＜考案の実施例＞
第２図はこの考案の一実施例を示す。第２図に
おいて第１図と対応する部分には同一符号を付し
て示す。
おいて第１図と対応する部分には同一符号を付し
て示す。
この第２図に示す実施例では従来と同様にスチ
ームS1によつてプローブ１０２とサンプリングボ
ツクス１０３の流路を洗浄する動作を行なうと共
にスチームS1より温度が高いスチームS2を用意
し、この高温のスチームS2をプローブ１０２側だ
けに流し、この高温度のスチームS2によりプロー
ブ１０２の内壁を洗浄するように構成した場合を
示す。
ームS1によつてプローブ１０２とサンプリングボ
ツクス１０３の流路を洗浄する動作を行なうと共
にスチームS1より温度が高いスチームS2を用意
し、この高温のスチームS2をプローブ１０２側だ
けに流し、この高温度のスチームS2によりプロー
ブ１０２の内壁を洗浄するように構成した場合を
示す。
このためにはスチーム供給路１１７に第２の制
御弁２０１を接続し、この第２の制御弁２０１に
高温度例えば200℃以上のスチームS2の供給管を
接続する。更にスチーム供給路１１７とサンプリ
ングボツクス１０３との間にも制御弁２０２を設
け、制御弁２０１と２０２を互に同期して逆の関
係で開・閉制御するように構成する。よつて制御
弁２０１と２０２及び高温スチームS2によつて、
堆積物を積極的に除去する手段２０３を構成して
いるものとすることができる。
御弁２０１を接続し、この第２の制御弁２０１に
高温度例えば200℃以上のスチームS2の供給管を
接続する。更にスチーム供給路１１７とサンプリ
ングボツクス１０３との間にも制御弁２０２を設
け、制御弁２０１と２０２を互に同期して逆の関
係で開・閉制御するように構成する。よつて制御
弁２０１と２０２及び高温スチームS2によつて、
堆積物を積極的に除去する手段２０３を構成して
いるものとすることができる。
＜考案の動作説明＞
上記した構造において被測定流体を一定量サン
プリングした後に第１洗浄を行なう。この第１洗
浄は制御弁２０２が開いている状態において制御
弁１１８を開に制御する。制御弁１１８が開けら
れることにより150℃〜180℃程度の温度を持つス
チームS1がプローブ１０２とサンプリングボツク
ス１０３に流れ流路を洗浄する。
プリングした後に第１洗浄を行なう。この第１洗
浄は制御弁２０２が開いている状態において制御
弁１１８を開に制御する。制御弁１１８が開けら
れることにより150℃〜180℃程度の温度を持つス
チームS1がプローブ１０２とサンプリングボツク
ス１０３に流れ流路を洗浄する。
次に第２洗浄動作に入る。第２洗浄動作では制
御弁１１８を閉じるのと同時に弁２０２も閉じ、
代つて制御弁２０１を開に制御する。制御弁２０
１が開かれると200℃以上の高温度のスチームS2
がプローブ１０２を通つてプロセス流路１０１に
排出される。
御弁１１８を閉じるのと同時に弁２０２も閉じ、
代つて制御弁２０１を開に制御する。制御弁２０
１が開かれると200℃以上の高温度のスチームS2
がプローブ１０２を通つてプロセス流路１０１に
排出される。
＜考案の効果＞
このように第２洗浄動作時はプローブ１０２だ
けにスチームS2を流すため、そのスチームS2の温
度はサンプリングボツクス１０３内の部品の耐熱
によつて制限されることなく高温度に採ることが
できる。よつてプローブ１０２の内壁に付着した
堆積物を溶解させるだけの温度にすることができ
るため堆積物を有効に除去できる。
けにスチームS2を流すため、そのスチームS2の温
度はサンプリングボツクス１０３内の部品の耐熱
によつて制限されることなく高温度に採ることが
できる。よつてプローブ１０２の内壁に付着した
堆積物を溶解させるだけの温度にすることができ
るため堆積物を有効に除去できる。
尚上述した第１洗浄動作と第２洗浄動作はその
順序を逆にしてもよい。
順序を逆にしてもよい。
以上説明したようにこの考案によれば高沸点体
を含む被測定流体を分析するガスクロマトグラフ
において、プローブ１０２の部分の洗浄を有効に
行なうことができる。よつて保守が容易になり、
その効果は実用に供して頗る大である。
を含む被測定流体を分析するガスクロマトグラフ
において、プローブ１０２の部分の洗浄を有効に
行なうことができる。よつて保守が容易になり、
その効果は実用に供して頗る大である。
第１図は従来のプロセスガスクロマトグラフの
サンプリング装置を説明するための系統図、第２
図はこの考案の一実施例を示す系統図である。 １０１：プロセス流路、１０２：プローブ、１
０３：サンプリングボツクス、１０４，１０７：
サンプリングバルブ、１１７：スチーム供給路。
サンプリング装置を説明するための系統図、第２
図はこの考案の一実施例を示す系統図である。 １０１：プロセス流路、１０２：プローブ、１
０３：サンプリングボツクス、１０４，１０７：
サンプリングバルブ、１１７：スチーム供給路。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 プロセス流路１０１に挿入されたプローブ１０
２より高沸点物を含む高温の被測定流体を取出
し、このプローブの外周に設けたアダプタ１１５
に流した低温のスチームで前記被測定流体の温度
を低下させ、連結管１１６を通じ、この被測定流
体を、耐熱温度の低いサンプリングバルブ１０７
を含むサンプリングボツクス１０３に与えるプロ
セスガスクロマトグラフのサンプリング装置にお
いて、 Ａ 前記連結管１１６に接続されたスチーム供給
路１１７と、 Ｂ 非採取状態にあるとき開とされる第１の弁１
１８と、 Ｃ 前記第１の弁１１８を介し前記スチーム供給
路１１７に接続された低温スチーム供給源S1
と、 Ｄ 前記連結管１１６の前記スチーム供給路１１
７との接続箇所と前記サンプリングボツクス１
０３との間に設けられ、非採取状態にあつて前
記サンプリングボツクス１０３が洗浄されてい
るときに開とされる第２の弁２０２と、 Ｅ 非採取状態にあつて前記サンプリングボツク
ス１０３が洗浄される期間以外において開とさ
れる第３の弁２０１と、 Ｆ 前記第３の弁２０１を介し前記スチーム供給
路１１７に接続された高温スチーム供給源S2と を具備してなるプロセスガスクロマトグラフのサ
ンプリング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18647782U JPS5989263U (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | プロセスガスクロマトグラフのサンプリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18647782U JPS5989263U (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | プロセスガスクロマトグラフのサンプリング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5989263U JPS5989263U (ja) | 1984-06-16 |
| JPH0122130Y2 true JPH0122130Y2 (ja) | 1989-06-29 |
Family
ID=30402774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18647782U Granted JPS5989263U (ja) | 1982-12-08 | 1982-12-08 | プロセスガスクロマトグラフのサンプリング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5989263U (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57114853A (en) * | 1981-01-08 | 1982-07-16 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | Sampling device sor process gas chromatography |
-
1982
- 1982-12-08 JP JP18647782U patent/JPS5989263U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5989263U (ja) | 1984-06-16 |
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